大功率半导体激光器件最新发展现状分析

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年全球半导体行业发展现状及技术创新分析

年全球半导体行业发展现状及技术创新分析

年全球半导体行业发展现状及技术创新分析在当今科技飞速发展的时代,半导体行业作为现代电子信息技术的基石,其重要性不言而喻。

从智能手机、电脑到汽车、智能家居,半导体几乎无处不在,深刻影响着人们的生活和全球经济的发展。

近年来,全球半导体行业一直保持着较高的增长态势。

市场需求的不断扩大是推动其发展的主要动力之一。

随着 5G 通信技术的普及,对于高性能芯片的需求大幅增加,以支持更快的数据传输速度和更低的延迟。

同时,人工智能、大数据、物联网等新兴技术的崛起,也促使半导体行业不断创新和升级。

在制造工艺方面,半导体行业正朝着更小的制程节点迈进。

先进的制程工艺能够在单位面积上集成更多的晶体管,从而提高芯片的性能和降低功耗。

目前,台积电、三星等行业巨头已经在 5nm、3nm 等制程工艺上取得了重要突破,并逐步实现量产。

然而,随着制程的不断缩小,技术难度和成本也在急剧上升,这对半导体企业的研发能力和资金投入提出了更高的要求。

技术创新是半导体行业发展的核心驱动力。

在芯片设计领域,架构创新成为了提升性能的关键。

例如,多核架构、异构计算等技术的应用,使得芯片能够更好地应对复杂的计算任务。

此外,新材料的研究和应用也为半导体行业带来了新的机遇。

例如,石墨烯、碳化硅等新型半导体材料具有优异的电学性能和热性能,有望在未来取代传统的硅材料,进一步提升芯片的性能和可靠性。

全球半导体行业的竞争格局也在不断演变。

美国在半导体设计和软件方面具有强大的优势,英特尔、高通等公司在全球市场占据重要地位。

韩国和中国台湾地区在半导体制造领域表现出色,三星和台积电是全球领先的晶圆代工厂商。

中国大陆的半导体产业近年来发展迅速,在政策支持和资金投入的推动下,不断缩小与国际先进水平的差距。

但在高端芯片制造、关键设备和材料等方面,仍面临着一定的挑战。

在市场应用方面,消费电子依然是半导体行业的主要应用领域。

智能手机、平板电脑等产品的更新换代,对芯片的性能和功能提出了更高的要求。

激光器行业发展概况与市场趋势分析

激光器行业发展概况与市场趋势分析

激光器行业发展概况与市场趋势分析一、激光产业链分析激光具有单色性好、亮度高、方向性好等特点,广泛应用于军用和民用领域。

在民用领域,激光加工工艺在机械、汽车、航空、钢铁、造船、电子等大型制造业产业中正在逐步替代传统加工工艺,在军事领域,激光能量武器成为各国重点支持和发展的新概念武器。

随着中国激光行业的不断升级,激光产业以形成了较为完整的产业链,上游为激光晶体、光学镜片、各类激光器、数控系统等,中游为激光切割机、激光焊接机等激光设备,下游则为材料加工、电子信息等应用行业。

激光器位于激光产业链的中游,是激光的发生装置,主要由泵浦源、增益介质、谐振腔三大核心功能部件组成。

泵浦源为激光器提供光源,增益介质吸收泵浦源提供的能量后将光放大,谐振腔为泵浦光源与增益介质之间的回路,振腔振荡选模输出激光。

二、全球激光器市场规模2018年,全球激光器市场规模约为137.5亿美元,2009年至2018年年均复合增速为11.14%。

现阶段,得益于激光器产品特性的突出优势以及广泛的应用领域,全球激光器市场处于稳步增长的态势,市场容量逐渐扩大,未来有巨大增长空间。

材料加工、通信和光存储市场占全球激光器下游需求约44.8%、27.8%,为最主要应用。

2018年应用于材料加工、通信和光储存的激光器销售收入分别为61.6亿美元和38.2亿美元,分别占全球激光器收入的44.8%和27.8%。

其余科研和军事、医疗和美容、仪表和传感器、其他市场收入分别为12.8亿美元、10.3亿美元、10.2亿美元和4.4亿美元,分别占全球激光器收入的9.3%、7.5%、7.4%和3.2%。

工业激光器为激光器主要应用领域,2018年占激光器总市场规模的36.77%。

2013-2018年全球各类工业激光器的销售收入持续增长,2018年达50.58亿美元,同比增长4.18%,占全球激光器行业比例从2013年的27.74%增长至36.77%。

工业激光器主要用于切割、金属焊接、打标、半导体、金属精加工等领域其中,其中,材料加工中的切割领域占据全球工业激光器约1/3的市场需求。

半导体技术的现状与发展趋势

半导体技术的现状与发展趋势

半导体技术的现状与发展趋势近年来,随着新能源、智能制造、云计算、人工智能等新技术的快速普及,对电子信息产品的需求量不断增多,而半导体技术就是这些新技术的基石之一。

半导体技术主要包括晶体管、集成电路、ASIC、MEMS、LED等多个领域,涵盖了通信、计算、存储、制造、照明、医疗等多个领域,具有广泛的应用和市场。

半导体技术的现状中国半导体产业已迈入快速发展的新阶段,全球半导体产业的格局也在不断地重构,主要包括以下几个方面:一、应用领域不断扩大目前,半导体产业的应用领域已从计算机和通信领域扩展到了汽车、家电、航空、医疗等多个领域。

在智能手机普及的背景下,移动互联网和物联网快速发展,对半导体的需求量持续增加。

智能汽车、人工智能和5G等新技术快速发展,也将催生半导体市场的不断扩大。

二、技术升级带动创新发展半导体技术的升级换代,催生了许多新的创新和技术突破。

目前,半导体产业的技术发展向着芯片微型化、智能化、安全化、节能化、工艺复杂化等方向快速发展。

同时,新的材料、工艺、器件结构的不断涌现,也在推进行业的技术革新。

三、国产成果不断涌现中国的半导体产业已经从跟随者转变为追赶者,目前在技术和市场方面都取得了很大的进展。

2019年底,中国的8英寸晶圆厂数量已经增加到了15家,国际其他地区的8英寸晶圆产能有望继续向中国转移。

在半导体材料、设备、器件、技术等方面,国产成果不断涌现,为中国半导体产业的快速发展提供了坚实的支撑。

半导体技术的发展趋势未来,半导体市场仍然会发生深刻的变化,主要趋势可能包括以下几个方面:一、先进制程不断普及目前,20纳米、16纳米和10纳米以下的制程已经逐渐成为半导体产业的主流,而7纳米的制程已经进入了量产的阶段。

未来,半导体行业将持续推进往纳米级别的晶圆制程技术,为智能制造、新能源、5G等新技术的应用提供更加完善的解决方案。

二、人工智能产业的推动人工智能是目前半导体产业的主要推动力之一。

在目前半导体领域最火热的人工智能芯片领域,华为、海思、寒武纪、云天励飞等国内企业已经推出了多款产品。

半导体激光器的最新进展及其应用现状

半导体激光器的最新进展及其应用现状

文章编号 10042924X (2001)0320279205半导体激光器的最新进展及其应用现状王 德,李学千(长春光学精密机械学院,吉林长春 130022)摘要:简述了半导体激光器的现状,详细介绍了半导体激光器在激光雷达、激光测距、激光引信、激光制导跟踪、激光瞄准和告警、激光模拟、激光通信和光纤通信、光纤陀螺以及国民经济等各个领域中的应用。

关 键 词:半导体激光器;军事应用中图分类号:T N248.4 文献标识码:A1 引 言 自1962年世界上第一台半导体激光器发明问世以来,半导体激光器发生了巨大的变化,极大地推动了其他科学技术的发展,被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一,近十几年来,半导体激光器的发展更为迅速,已成为世界上发展最快的一门激光技术。

半导体激光器从最初的低温(77K )下运转发展到室温下连续工作,由小功率型向高功率型转变,输出功率由几mW 提高到kW 级(阵列器件)。

激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子阱(单、多量子阱)等270余种形式。

制作方法从扩散法发展到液相外延(LPE )、气相外延(VPE )、分子束外延(M BE )、金属有机化合物气相淀积(MOC VD )、化学束外延(C BE )以及它们的各种结合型等多种工艺。

半导体激光器的应用覆盖了整个光电子学领域,已成为当今光电子科学的核心技术。

由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制及价格低廉等优点,使得它目前在军事领域中应用非常广泛,它作为一种很有潜力的光源,已受到各国军方的高度重视。

以美国为例,美国国防部、宇航局、各军兵种以及国家实验室等20多个部门都在为武器装备研制高功率半导体激光器,使得美国在这一领域处于世界领先地位[122]。

近年来,高功率半导体激光器阵列器件也得到了飞速的发展,已推出产品有连续输出功率5W 、10W 、15W 、20W 和30W 的激光器阵列。

脉冲工作的激光器,峰值输出功率50W 、120W 、1500W 、和4800W 的阵列也已经商品化。

半导体技术的发展现状与趋势

半导体技术的发展现状与趋势

半导体技术的发展现状与趋势半导体技术是当今世界上最具前景和发展潜力的技术之一,其在电子、通信、能源、医疗等领域都有着广泛的应用。

随着移动互联网、人工智能、物联网等新兴技术的兴起,半导体技术的发展也呈现出日新月异的趋势。

本文将对半导体技术的发展现状和趋势进行深入探讨,分析其在各个领域的应用和未来的发展方向。

一、半导体技术的发展现状半导体技术是一种以半导体材料为基础的电子器件制造技术,其最早的应用可以追溯到20世纪50年代,自那时起,半导体技术就开始不断地发展和进步。

目前,半导体技术已经成为现代电子工业的核心技术,其在微处理器、存储器、传感器、光电子器件、功率器件等领域都有广泛的应用。

1.微处理器微处理器是半导体技术的重要应用领域之一,它是现代电子设备的核心部件,其性能直接关系到整个设备的运行速度和稳定性。

当前,微处理器的制造技术已经进入到纳米级别,其性能和功耗方面都有了显著的提升。

随着人工智能、大数据等新兴技术的兴起,微处理器的需求也在不断增加,为了满足这些需求,半导体技术在微处理器领域的研发也在持续不断地进行着。

2.存储器存储器是另一个重要的半导体技术应用领域,其在电子设备中主要用于存储数据和程序。

当前,随着移动互联网、云计算等新兴技术的迅速发展,对存储器的需求也在不断增加。

为了提高存储器的容量和速度,半导体技术在存储器领域的研发也在进行着,目前,固态硬盘已经代替了传统的机械硬盘成为了主流产品。

3.传感器传感器是半导体技术在物联网、智能制造等领域的重要应用之一,它可以将各种信号转换为电信号,并通过电路进行处理,最终输出所需的信息。

随着物联网和智能制造的兴起,传感器的需求也在不断增加,为了满足这些需求,半导体技术在传感器领域的研发也在持续不断地进行着。

4.光电子器件光电子器件是半导体技术在光通信、光存储等领域的重要应用之一,它可以将电信号转换为光信号,并通过光纤进行传输。

当前,随着5G技术的逐步成熟和光纤网络的不断建设,对光电子器件的需求也在不断增加。

千瓦-万瓦级半导体激光器的发展现状与挑战

千瓦-万瓦级半导体激光器的发展现状与挑战

科研领域
激光光谱学
用于研究物质的分子结构和化学性质,具有高精度和高灵敏度。
激光雷达
用于大气探测、环境监测等领域,可实现远程、快速和高分辨率的测量。
04
千瓦-万瓦级半导体激光器面临的挑

高功率输出的稳定性和可靠性问题
总结词
高功率输出的稳定性和可靠性问题是千 瓦-万瓦级半导体激光器面临的主要挑战 之一。
千瓦-万瓦级半导体激光 器的发展现状与挑战
• 千瓦-万瓦级半导体激光器概述 • 千瓦-万瓦级半导体激光器的技术发展 • 千瓦-万瓦级半导体激光器的应用领域 • 千瓦-万瓦级半导体激光器面临的挑战 • 未来展望与研究方向
01
千瓦-万瓦级半导体激光器概述
定义与特点
定义
千瓦-万瓦级半导体激光器是指输 出功率在千瓦至万瓦级别的半导 体激光器。
光束质量是衡量激光器性能的重要指标之一,改善光束质量对于 提高激光器的应用效果具有重要意义。
采用光学整形技术对激光光束进行整形,以改善其光束质量。通 过使用各种光学元件,如透镜、反射镜等,对光束进行聚焦、发 散、整形等操作,以达到所需的光束形状和质量。
另外,采用模式选择技术也能够改善光束质量,通过控制激光器 的谐振腔结构,选择特定模式的光束输出,以提高其质量和稳定 性。
高效耦合技术
高效耦合技术是指将半导体激光器的输出光束高效地耦合到光纤或其他 光学元件中,以提高光能的传输效率。
采用特殊的透镜和反射镜组合,对激光光束进行聚焦和准直,使其能够 与光纤或其他光学元件实现高效的耦合。
另外,优化光纤端面和激光器光束的匹配程度也是提高耦合效率的关键 因素。通过选择合适的光纤端面结构和加工工艺,能够实现高效率的光 纤耦合。
详细描述

中国激光产业上游市场发展趋势

中国激光产业上游市场发展趋势

中国激光产业上游市场发展趋势激光产业上游为各种光学材料和光学器件,中游为激光器,分为高功率和中低功率,下游为应用在各个领域的激光设备以及相应的服务产业。

我国激光产业链产值规模超过1000亿元,激光器元件及激光器占比约20%,激光装备占比约42%。

光纤激光器产业链上游为光学部件、数控系统、电学材料等核心器件和材料,例如:半导体泵浦源、特种光纤、光纤耦合器、激光功率合束器、声光调制器、光纤隔离器、激光功率传输光缆组件等。

目前相应器件主要由海外巨头掌握,如CristalLaser、RaicolCrystals、II-IV等。

一、激光器高功率激光器海外公司仍占据主导地位,中低功率已逐步完成国产化。

目前,我国光纤激光器行业处于快速成长阶段,普通低功率光纤激光器技术门槛较低,国产低功率光纤激光器的市场占有率已超过97%;中功率光纤激光器市场,国产化率快速提升,国内企业市场份额已经从2013年的17%提升至2017年的54%;高功率光纤激光器由于其技术门槛较高,企业竞争主要围绕创新能力、研发实力、核心材料和器件产业链整合能力展开,目前该市场仍以欧美知名光纤激光器企业为主导,产品价格和附加值相对较高,国产产品已实现部分销售,国内企业市场份额从2013年的1%提升至2017年的9%。

国产光纤激光器在逐步实现由依赖进口向自研、替代进口到出口的转变。

激光器领域IPG一家独大。

在各类激光器中,光纤激光器逐步取代CO2激光器成为主流激光光源。

光纤激光器的市场具有较高的技术壁垒,海外主要光纤激光器企有IPG、Coherent、Trumpf、nLight等,其中IPG公司为全球最大的光纤激光器生产企业。

国内主要光纤激光器企业有锐科激光、创鑫激光、杰普特等,其全球市占率分别为8.0%、3.9%、3.7%。

国已成为激光器最大消费市场,发展迅速。

中国激光产业市场起步较晚,但随着中国装备制造业的迅猛发展,近年来,中国激光产业获得了飞速的发展。

半导体发展现状和前景分析

半导体发展现状和前景分析

半导体发展现状和前景分析近年来,半导体行业一直处于快速发展的阶段,成为支撑现代信息技术发展的关键。

本文将对半导体行业的现状和未来发展前景进行深入分析。

一、半导体市场现状1. 全球市场规模目前,全球半导体市场规模庞大,年销售额超过数千亿美元。

主要分布在美国、日本、韩国、中国等国家和地区。

2. 主要厂商半导体行业的主要厂商包括英特尔、三星、台积电等知名公司,它们在全球市场中占据重要份额。

3. 技术发展随着科技进步,半导体技术也在不断创新,尤其是在芯片制造工艺、集成度和功耗控制方面取得显著进展。

二、半导体行业面临的挑战1. 供应链短缺近年来,全球半导体行业面临供应链短缺的挑战,影响一些产品的生产和交付。

2. 技术壁垒由于半导体制造技术的复杂性和高昂的成本,新进入者面临较高的技术壁垒。

3. 市场竞争半导体行业竞争激烈,各大厂商争夺市场份额,加剧了行业内的竞争压力。

三、半导体行业的发展前景1. 5G、人工智能和物联网推动需求增长随着5G网络、人工智能和物联网等新技术的快速发展,对半导体的需求将持续增长,为行业带来更多发展机遇。

2. 绿色半导体技术未来,绿色环保将成为半导体行业发展的重要方向,推动绿色半导体技术的研究和应用。

3. 国家政策支持各国政府纷纷出台支持半导体产业发展的政策,为行业提供更多政策支持和资金保障。

结语综上所述,半导体行业在技术创新、市场需求和政策支持的推动下,有望迎来更加辉煌的发展前景。

随着全球信息技术的不断发展,半导体将继续扮演着重要的角色,推动科技进步和社会发展。

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大功率半导体激光器件最新发展现状分析1 引言半导体激光器由于具有体积小、重量轻、效率高等众多优点,诞生伊始一直是激光领域的关注焦点,广泛应用于工业、军事、医疗、通信等众多领域。

但是由于自身量子阱波导结构的限制,半导体激光器的输出光束质量与固体激光器、CO2激光器等传统激光器相比较差,阻碍了其应用领域的拓展。

近年来,随着半导体材料外延生长技术、半导体激光波导结构优化技术、腔面钝化技术、高稳定性封装技术、高效散热技术的飞速发展,特别是在直接半导体激光工业加工应用以及大功率光纤激光器抽运需求的推动下,具有大功率、高光束质量的半导体激光器飞速发展,为获得高质量、高性能的直接半导体激光加工设备以及高性能大功率光纤激光抽运源提供了光源基础。

2 大功率半导体激光器件最新进展作为半导体激光系统集成的基本单元,不同结构与种类的半导体激光器件的性能提升直接推动了半导体激光器系统的发展,其中最为主要的是半导体激光器件输出光束发散角的降低以及输出功率的不断增加。

2.1 大功率半导体激光器件远场发散角控制根据光束质量的定义,以激光光束的光参数乘积(BPP)作为光束质量的衡量指标,激光光束的远场发散角与BPP成正比,因此半导体激光器高功率输出条件下远场发散角控制直接决定器件的光束质量。

从整体上看,半导体激光器波导结构导致其远场光束严重不对称。

快轴方向可认为是基模输出,光束质量好,但发散角大,快轴发散角的压缩可有效降低快轴准直镜的孔径要求。

慢轴方向为多模输出,光束质量差,该方向发散角的减小直接提高器件光束质量,是高光束半导体激光器研究领域关注的焦点。

在快轴发散角控制方面,如何兼顾快轴发散角和电光效率的问题一直是该领域研究热点,尽管多家研究机构相续获得快轴发散角仅为3o,甚至1o的器件,但是基于功率、光电效率及制备成本考虑,短期内难以推广实用。

2010年初,德国费迪南德-伯恩研究所(Ferdinand-Braun-Inst itu te)的P. Crump等通过采用大光腔、低限制因子的方法获得了30o快轴发散角(95%能量范围),光电转换效率为55%,基本达到实用化器件标准。

而目前商用高功率半导体激光器件的快轴发散角也由原来的80o左右(95%能量范围)降低到50o以下,大幅度降低了对快轴准直镜的数值孔径要求。

在慢轴发散角控制方面,最近研究表明,除器件自身结构外,驱动电流密度与热效应共同影响半导体激光器慢轴发散角的大小,即长腔长单元器件的慢轴发散角最易控制,而在阵列器件中,随着填充因子的增大,发光单元之间热串扰的加剧会导致慢轴发散角的增大。

2009年,瑞士Bookham公司制备获得的5 mm腔长,9XX nm波段10 W商用器件,成功将慢轴发散角(95%能量范围)由原来的10o~12o降低到7o左右;同年,德国Osram公司、美国相干公司制备阵列器件慢轴发散角(95%能量范围)也达7o水平。

2.2 半导体激光标准厘米阵列发展现状标准厘米阵列是为了获得高功率输出而在慢轴方向尺度为1 cm的衬底上横向并联集成多个半导体激光单元器件而获得的半导体激光器件,长期以来一直是大功率半导体激光器中最常用的高功率器件形式。

伴随着高质量、低缺陷半导体材料外延生长技术及腔面钝化技术的提高,现有CM Bar的腔长由原来的0.6~1.0 mm增大到2.0~5.0mm,使得CM Bar输出功率大幅度提高。

2008年初,美国光谱物理公司Hanxuan Li等制备的5 mm腔长,填充因子为83%的半导体激光阵列,利用双面微通道热沉冷却,在中心波长分别为808 nm,940 nm,980 nm处获得800 W/bar,1010W/bar,950 W/bar的当前实验室最高CM Bar连续功率输出水平。

此外,德国的JENOPTIK公司、瑞士的Oclaro公司等多家半导体激光供应商也相续制备获得千瓦级半导体激光阵列,其中Oclaro公司的J. Müller等更是明确指出,在现有技术条件下制备获得1.5kW/bar阵列器件已不成问题。

与此同时,具有高光束质量的低填充因子CM Bar的功率也不断提高,表1为德国Limo公司获得具有不同填充因子CM Bar的BPP比较, 由表1结果发现横向尺寸一定的半导体激光阵列器件,在发散角相同的情况下,填充因子与BPP成正比,即填充因子越低,其光参数乘积越小,光束质量越好。

目前,9XX nm波段20%填充因子CM Bar连续输出功率最高可达180 W/bar,快慢轴光束质量对称化后光参数乘积可达5.9 mm?mrad,商用器件可长期稳定工作在80W以上;2.5%填充因子CM Bar连续输出功率可达50 W/bar,快慢轴光束质量对称化后光参数乘积可达2.1mm?mrad,目前这种器件还处于研发中,需要进一步提高其稳定的输出功率。

然而,伴随着CM Bar功率的不断提高和高光束质量要求下填充因子逐渐减小,一系列新的问题也随之产生,特别是与之配套的低压大电流恒流电源的高成本问题以及微通道热沉散热寿命短的问题逐渐显现。

分析众多超高功率CM Bar文献可以发现,多数功率测试均受制于电源最大电流的限制,而非CM Bar自身出射功率极限,而在工程运用中,数伏电压数百安电流的组合也会产生众多实际问题。

另一方面,超高功率CM Bar和具有高光束质量的低填充因子CM Bar所产生的高热流密度必须采用微通道热沉散热,而现有水冷微通道热沉的散热极限无疑也成为了CM Bar功率及光束质量进一步提高的最大障碍。

近期针对CM Bar散热问题开发的双面微通道冷却技术对热阻的降低作用有限,就目前看来缺乏与CM Bar功率提升相适应的可持续发展性。

此外,不可忽视的是,微通道热沉相对较短的寿命一直是目前大功率半导体激光器的寿命瓶颈。

而其他新型高效散热技术如相变冷却、喷雾冷却以及微热管技术由于其性能特点、成本以及结构兼容性问题在短期内难以真正实用于CM Bar散热领域。

鉴于以上两方面的限制,近一两年来,各大研究机构及高功率半导体供应商并不再一味追求提高CM Bar的输出功率,而是逐渐将发展重点转移到具有大功率、高光束质量的半导体激光单元器件和短阵列器件研制领域。

2.3 大功率半导体激光单元器件发展现状与CM Bar相比,半导体激光单元器件具有独立的电、热工作环境,避免了发光单元之间的热串扰,使其在寿命、光束质量方面与CM Bar相比具有明显优势。

此外单元器件驱动电流低、多个串联工作大幅度降低了对驱动电源的要求。

同时单元器件的发热量相对较低,可直接采用传导热沉散热,避免了微通道热沉引入的寿命短的问题。

而且独立的热工作环境使其可高功率密度工作,目前单元器件的有源区光功率线密度可达200 mW/μm以上,同时具有较窄的光谱宽度,而CM Bar有源区光功率线密度仅为50~85 mW/μm左右。

特别是独立的热、电工作环境大幅度降低了器件的失效几率,在高稳定性金锡焊料封装技术的支撑下,商用高功率单元器件寿命均达10万小时以上,远高于CM Bar的寿命,有效降低了器件的使用成本。

基于上述优点,单元器件大有逐渐替代CM Bar成为高功率、高光束质量半导体激光主流器件的趋势。

在此背景下,单元器件近年来得到了迅速发展,尤其在高功率光纤激光器对高亮度半导体激光光纤耦合抽运模块需求推动下,与105 μm/125 μm多模尾纤匹配的,发光单元条宽为90~100 μm的单元器件在功率和光束质量方面均大幅度提升。

目前,多个研究小组制备该结构9XX nm波段单元器件连续输出功率均达20~25 W/emi tter水平;同结构8XX nm波段器件连续输出功率也超过了12W/emitter。

而在商用器件方面,IPG公司、Oclaro公司、JDSU 公司等多个大功率半导体激光器件供应商制备90~100 μm条宽9XX nm波段单元器件均能连续稳定工作在10W/emitter以上,多个单管合成可获得100 W以上的光纤耦合输出。

2.4 大功率半导体激光短阵列器件发展现状尽管半导体激光单元器件功率提高很快,但单个器件输出功率较CM Bar仍有较大差距,为了满足不同功率运用需求,一种新型大功率半导体激光器件—半导体激光短阵列得以出现并迅速发展。

短阵列器件是在同一芯片衬底上集成数个单元器件而获得,它实际是CM Bar与单元器件在结构上的折衷优化,驱动电流、寿命以及腔面输出光功率密度、光谱宽度等指标均介于CM Bar和单元器件两者之间,兼顾了CM Bar与单元器件各自优点。

同样是考虑到高光束质量及与光纤激光器抽运源的需求,短阵列器件的发展主要集中在100 μm条宽的低填充因子器件方面。

2009年,德国Osram与DILAS公司合作利用包含5个100 μm条宽、4 mm 腔长980 nm发光单元的短阵列器件(填充因子10%)获得连续输出功率大于80 W,光电转换效率高于60%,其内部发光单元功率16W/emitter,接近了单元器件的光功率密度水平,值得一提的是该器件在寿命测试中展现出了类似单元器件的寿命特性,当短阵列器件内部单个发光单元失效后,整个器件并未烧毁而仅表现为功率下降。

鉴于短阵列器件优良的功率及寿命特性,目前正迅速推广应用于高光束质量大功率半导体激光器及光纤耦合输出抽运模块中,目前该类以100 μm发光单元为基础的9 XX nm波段商用器件可长期稳定在8 W/emitter,而808 nm器件也达5 W/emitter水平。

表1 不同结构CM Bar光参数乘积3 大功率高光束质量半导体激光器发展现状半导体激光器件功率的增大与发散角的降低促进了大功率半导体激光器光束质量的迅速提高,直接体现在光纤激光器抽运源用单波长、光纤耦合输出半导体激光模块尾纤直径的减小以及出纤功率的不断增大。

目前,该类单波长光纤耦合输出半导体激光模块根据其内部采用的半导体激光器件类型及其封装形式不同可分为以下几种具体形式。

3.1 半导体激光单元器件集成光纤耦合输出在出纤功率要求不高的情况下,利用单管半导体激光器件可直接耦合进入光纤获得激光输出(如图1),该结构具有体积小、成本低、寿命长、技术成熟等优点,目前国外多家半导体激光器供应商均达到8~10W/module水平。

该领域国内以北京凯普林光电技术公司较为领先,单模块出纤功率与国外水平基本相当。

图1 单个单元器件直接光纤耦合输出模块在出纤功率要求较高的情况下,利用多个经快轴准直镜(F AC)准直的单元器件所发出的光束,在快轴方向上紧密排列,经偏振合束,然后聚焦耦合进光纤。

2009年,美国Nlight 公司利用该结构集成14个单元器件获得了NA=0.15,105 μm芯径光纤单模块输出100 W(如图2),耦合效率71%。

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