集成电路专用：超纯水设备技术资料
超纯水设备应用于高端电子工业分析
超纯水设备应用于高端电子工业分析超纯水指的是不含杂质的H2O。
从学术角度讲，纯水又名高纯水，是指化学纯度极高的水，其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域，但其对水质纯度要求相当高，所以一般应用最高端的电子工业。
1、超纯水设备反渗透是一种物理现象，当两种含有不同浓度盐类的水，如用一张半渗透性的薄膜分开就会发现，含盐量少的一边的水分会透过膜渗到含盐量高的水中，而所含的盐分并不渗透，这样，逐渐把两边的含盐浓度融和到均等为止。
这个过程称为自然渗透。
反渗透就是一种在压力驱动下，借助于半透膜的选择截留作用将溶液中的溶质与溶剂分开的分离方法。
反渗透超纯水设备是将原水经过石英砂过滤器、颗粒活性碳过滤器、精密过滤器等,再通过泵加压,利用孔径为1/10000μm(相当于大肠杆菌大小的1/6000,病毒的1/300)的反渗透膜(RO膜),使较高浓度的水变为低浓度水,同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离，从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准,产出至清至纯的水,是人体及时补充优质水份的最佳选择.由于RO反渗透技术生产的水纯净度是目前人类掌握的一切制水技术中最高的,洁净度几乎达到100%,所以人们称这种产水机器为反渗透纯净水机。
反渗透设备应用膜分离技术，能有效地去除水中的带电离子、无机物、胶体微粒、细菌及有机物质等。
是高纯水制备、苦咸水脱盐和废水处理工艺中的最佳设备。
2、系统组成一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。
预处理系统一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。
其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。
预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。
反渗透装置主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。
其主要作用是去除水中的杂质，使产水水质满足使用要求。
后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。
超纯水系统工艺及其施工
超纯水系统工艺及其施工摘要：超纯水主要用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩11模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。
此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。
本文将介绍超纯水制备的基本工艺，将特别分析水处理的不同阶段所运用的管道材质，并根据实际情况对超纯水的管道安装技术作了详细阐述。
关键词：超纯水；制造工艺；施工引言在现代科技不断完善和发展的条件下，超纯水技术正在不断进步，在对相关精细化工及电子芯片进行研究和生产的同时，超纯水在精细化工及电子工业中应用正逐渐扩大，其专业性和系统性也在逐步完善。
超纯水在精细化工及集成电路的生产中要符合严格的要求、遵循相应的标准，这样才能实现精细化工产品的标准化及集成电路的密集化。
在生产中，所用到的原材料要达到较高纯度的要求，所用气体以及化学成分也要遵循高纯度生产的严格标准，此外，高纯水的重要性也是相关企业重视的一个重点和关键。
一、超纯水制造工艺超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。
在有些半导体厂中，也有用混床代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定。
1、预处理部分预处理的作用是对原水进行粗加工，提供符合RO进水要求的给水。
其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SDI≤5；去除游离氯等氧化性物质；去除部分有机物；降低LSI，避免碳酸盐结垢。
在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。
而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下：（1）传统的预处理过程中SDI 值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行；而超滤装置的出水SDI值比较稳定（≤1），能够有效地保证一级反渗透系统的运行。
（2）传统的预处理方式占地面积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地面积小，节约了基建费用。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
超纯水系统参数
超纯水系统参数1. 工作条件1.1环境温度：5-35℃1.2 相对湿度：20%-80%1.3 电源：AC220V±10%, 50HZ2 主要用途2.1 玻璃器皿的最后冲洗，化学/生化试剂配制2.2 分析试剂及药品配制、稀释2.3 精密分析仪器用水(HPLC,IC,AA,TOC,MS等等)2.4动植物细胞培养，分子生物学研究等。
3. 技术规格3.1 本系统以分析级纯水作为进水，连续生产超纯水3.2 超纯水流速：50ml-2000ml/min，流速可调3.3超纯水产水水质：3.3.1 电阻率：18.2 MΩ.cm@25℃，电导率0.055 μS/cm @25℃3.3.2总有机碳含量(TOC) ≤5 ppb (μg/L)3.3.3细菌：＜0.1 cfu/ml；3.3.4热原：＜0.001 EU/ml3.4 配置外置超滤柱，便于更换，无需清洗，避免污染，生产无热原、无DNA酶、无RNA酶的超纯水3.5可选配脚踏开关，将脚踏开关与取水器的底座连接实现脚踏式取水，避免取水交叉污染3.6主机含液晶显示屏有中文操作界面,实时显示出水关键信息3.7 系统具有可自动检测,自动维护提示及自动报警等功能.3.8 耗材具有RFID芯片识别功能,保证系统安全.*3.9 自动记录一整年水质资料,出水水质符合NCCLS﹑ASTM` CAP要求; 整机符合 GLP要求,可直接与PC机或打印机相连。
全系统可检并可附追溯至NIST的仪表校验证明书(ISO9001/ISO14001).3.10 系统内置高精度电阻率检测仪，电极常数低至0.01cm-1，温度灵敏度高达0.1℃*3.11 内置独立集成式TOC检测仪，包含0.5ml石英样品池、185/254nm双波长紫外灯、钛电极、电磁阀及温度补偿单元，检测范围: 1-999 ppb3.12可配置多个与主机分离的远程取水器，可控流速及定量取水，取水器可调高度和角度适合大部分的实验室器皿取水。
半导体机能水
半导体机能水
半导体机能水是一种具有卓越纯度的超纯水，其电阻率高达18MΩ*cm以上，甚至接近18.3MΩ*cm的极限值（在25℃时）。
这种水经过了多道处理工序，每一道工序都是为了确保水的纯度。
预处理阶段，通过砂滤、活性炭过滤等手段，初步去除水中的悬浮物、胶体和有机物。
接下来是复床和混床处理，这两个阶段通过离子交换树脂的吸附作用，将水中的阴阳离子几乎完全去除，使得水的电导率极低。
最后是抛光处理，使用特殊的方法进一步降低水的电导率，使其达到超纯水的标准。
半导体机能水的纯度极高，几乎不含任何杂质，因此它在电子制造领域具有不可替代的作用。
在硅片、半导体材料、晶元材料的清洗过程中，只有高纯度的水才能确保清洗效果，避免因杂质残留而导致的性能下降或成品率降低。
此外，半导体机能水还广泛应用于芯片生产过程中的化学处理环节。
在芯片生产线上，几乎每一个工艺步骤都需要用到超纯水。
这是因为超纯水能够提供稳定、可靠的清洗和化学反应条件，确保芯片的品质和性能。
总之，半导体机能水作为电子制造中的重要资源，其高纯度、低杂质的特点对于保证电子产品的性能和成品率具有至关重要的作用。
为了满足半导体行业对水质日益严格的要求，必须采用先进的超纯水设备来制备高品质的半导体机能水。
纯水处理设备技术资料
纯水处理设备技术资料1.水利用率≥60%，脱盐率≥ 99%。
2.产水水质：产水量≥500L/H，处理方式单级＋消毒，纯水电导率≤15μs/cm（25℃），细菌总数：≤10CFU/100ml。
3.以城市自来水为水源直接制备纯化水，单级纯化水的水质符合WS310-2016清洗用纯化水电导率≤15us/cm(25℃)，以及符合WS507-2016清洗用水的标准菌落总数≤10CFU/100mL的规定。
4.系统封闭式全自动运行，采用预处理+RO膜处理技术，预处理系统自动冲洗及再生运行，反渗主机具有自动脉冲冲洗功能；具有低压、无水以及过热保护等功能。
5.系统采用全自动运行控制系统，无需专人看管，主机一体化设计，占地面积小，有效节约空间。
6.系统具备耗材寿命智能管理、更换提醒功能，具备故障报警及故障分析提示功能；具备实时显示运行参数、压力、流量、水质等功能。
7.供水系统采用恒压供水技术，供水同时受水箱液位或低压控制的双重控制，以实现整个系统的平衡、稳定运行和对水泵的保护。
8.纯水储水及管道采用无残留式消毒、灭菌，无二次污染，独立的循环管道确保全面消毒,维护末端用水水质。
9.控制方式：采用全自动控制、在线显示电导率等参数。
10.预处理系统由机械过滤器、软化过滤器、保安过滤器组成，罐体采用内衬ABS外绕FRP的树脂罐，阀体为全自动控制阀。
11.机械过滤器：滤料为石英砂、优质果壳炭，软化过滤器：滤料为001x7型离子树脂，保安过滤器采用不锈钢材质。
12.反渗透系统：处理方式单级，高压泵要求材质304不锈钢，丝口或法兰连接，膜元件要求；脱盐率≥99%、膜片类型为：芳香族聚酰胺复合膜。
13.纯水供水系统由不锈钢储水箱及纯水泵等组成，纯水泵要求流量：≥2m³/H，丝口连接，水箱材质为不锈钢，佩带液位感应装置。
14.管路要求系统管道高压部分304不锈钢，低压部分优质U-PVC。
15.消毒系统：破坏细菌生存环境，细菌无法生存。
RO纯净水生产设备技术参数介绍
RO纯净水生产设备技术参数介绍RO纯净水处理设备采用当代最先进、节能有效的膜分离技术，纯净水设备其原理是在高于溶液渗透压的作用下，使其他物质不能透过半透膜而将其它物质和水分离开来。
反渗透膜的膜孔径非常小，因此反渗透设备能够有效地去除水中的溶解盐类、胶体、微生物、有机物等，纯净水设备可以生产纯水、高纯水，以满足不同行业、不同需求的用户。
RO反渗透设备简介：RO(Reverse Osmosis)反渗透技术是利用压力表差为动力的膜分离过滤技术，源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究，后逐渐转化为民用，目前已广泛运用于科研、医药、食品、饮料、海水淡化等领域。
纯净水生产设备产品一般性的自来水经过RO膜过滤后的纯水电导率5μs/cm(RO膜过滤后出水电导=进水电导×除盐率，一般进口反渗透膜脱盐率都能达到99%以上，5年内运行能保证97%以上。
对出水电导要求比较高的，可以采用2级反渗透，再经过简单的处理，水电导能小于1μs/cm), 符合国家实验室三级用水标准。
再经过原子级离子交换柱循环过滤，出水电阻率可以达到18.2M .cm，超过国家实验室一级用水标准(GB682—92)。
反渗透纯水设备主要工艺流程说明1.原水罐 (可选)储存原水，用于沉淀水中的大泥沙颗粒及其它可沉淀物质。
同时缓冲原水管中水压不稳定对水处理系统造成的冲击。
(如水压过低或过高引起的压力传感的反应)。
2.原水泵恒定系统供水压力，稳定供水量。
3.多介质过滤器采用多次过滤层的过滤器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20um以上的物质，可选用手动阀门控制或者全自动控制器进行反冲洗、正冲洗等一系列操作。
保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。
4.活性炭过滤器系统采用果壳活性炭过滤器，活性炭不但可吸附电解质离子，还可进行离子交换吸附。
经活性炭吸附还可使高锰酸钾耗氧量(COD)由15mg/L(O2)降至2～7mg/L(O2)，此外，由于吸附作用使表面被吸附复制的浓度增加，因而还起到催化作用、去除水中的色素、异味、大量生化有机物、降低水的余氯值及农药污染物和除去水中的三卤化物(THM)以及其它的污染物。
半导体工业超纯水的技术指标及其制备概述
半导体工业超纯水来自自来水，但由于我国自来水规定 无 TOC 标 准 ，所 代 表 的 有 机 物 含 量 指 标 为 CODmn，限 值 为 3ppm。而且，自来水常规 TOC 多在 1ppm~3ppm 之间。因此， 处理 TOC 过程需多级工艺来达到目标水质。目前，可供选择 的工艺包括：UF、ACF、EDI 以及 RO 等。采用这些工艺进行前 端处理后，就可将 TOC 值降低至 10ppb~30ppb 以内。此后，经 TOC-UV 灯的处理就可将 TOC 值控制在 1ppb 以下，进而达到 半导体工业使用超纯水的水质要求，最终助力超导体芯片的 生产制造。
3 半导体工业超纯水的技术指标要求
半导体工业中的超纯水（Ultrapure water），又名 UP 水，其 除了水分子外，几乎没有其他杂质。这就意味着超纯水没有 病毒、细菌以及含氯二噁英等有机物质，是电阻率为 18（MΩ× cm）的水。在生产制造半导体工业时，电子元器件对超纯水使 用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度 上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。然而，超 纯水生产过程，只要微粒子、电阻率、TOC 以及气泡其中一个 指标出现略微差异，就会使半导体元器件生产的合格率下降。 为此，制备技术人员应严格按照 ITRS 浸没式超纯水制备要求 进行生产控制。然而，掌握这一制备技术的生产厂家多是国 外企业，自主研发还有很长一段路要走。相关建设者应从现 有研究成果基础上，对制备技术进行不断优化，进而落实现代 化经济建设背景下全面发展进程[1]。
关键词：半导体工业；超纯水；技术指标；制备技术
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ1 引言
半导体工业，作为全世界范围内综合国力的体现形式之 一，其具有研发成本高、技术要求高等特点。想要以最低成本 获取最高价值，在借鉴先进技术的同时，需从技术指标要求入 手来对超纯水制备技术运用效果进行优化调整，进而达到高 精度使用控制预期。
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集成电路专用：超纯水设备技术资料
10T/H集成电路用超纯水设备概述
10T/H集成电路用超纯水设备就是每小时生产10吨纯水的水处理设备，该设备是用在集成电路行业的生产用水处理设备。
该超纯水设备根据用水的要求不同，也会采用不同的运行原理。
超纯水设备都能够有效的去除水中的杂质、细菌、热源等有害物质，保证出水水质符合国家规定的卫生标准，符合企业的时候生产需要。
10T/H集成电路用超纯水设备的优势特点
1、连续运行，产品水水质稳定。
2、容易实现全自动控制。
3、无须用酸碱再生。
4、不会因再生而停机。
5、节省了再生用水及再生污水处理设施。
6、产水率高(可达95%)。
7、无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施。
8、占地面积小。
9、使用安全可靠，避免工人接触酸碱。
10、降低运行及维护成本。
11、设备单元模块化，可灵活的组合各种流量的净水设施。
12、安装简单、费用低廉。
技术资料来源于南宁超纯水设备工程公司
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