第二章 cadence ic5141教程版图部分

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ic5141使用教程

ic5141使用教程
计库建好后,就可以开始画电路原理图,具体过程如下。 (1)建立设计原理图:在 CIW 中选菜单项 FileNewCellview ,出现“Create New File”对话框,如图 1.2 所示填写、选择相应的选项,点击 OK 按钮,进入 原理图编辑器 virtuoso schematic editor 界面。
图 1.17
编辑后 inv 的 symbol
保存并退出 symbol 的编辑界面, 同样退出原理图编辑器。 至此原理图的输入 完成。
5.创建仿真电路图
完成电路原理图的输入之后, 为了对设计进行仿真和性能分析, 需要建立一 个仿真平台,将电源、各种激励信号输入待测的电路 inv,然后采用仿真器进行 分析。 (1) 建立设计原理图: 在命令解释器窗口 CIW 中选菜单项 FileNewCellview , 出现“Create New File”对话框,如图 1.18 所示填写、选择相应的选项,点击 OK 按钮,进入原理图编辑器 virtuoso schematic editor 界面。 (同前述电路原理图 输入时的操作一样) 。
仍然是按照图 1.19 的内容填写表项,点击 Hide 按钮,在原理图编辑其中就 会出现编辑过的 inv 的 symbol, 直接摆放即可。 同样的操作添加 vdd 和 gnd 符号, 注意这里采用的是 analogLIb 库中的元件 (在测试电路图中除待测电路 dut 之外, 其余器件均来自 analogLib) 。添加电源和地选符号项选择列表如下图 1.20、1.21 所示。
图 1.14
inv 原理图
4.创建 symbol
完成原理图之后,为便于进行仿真,需要进行 symbol 的创建。 (1)生成符号图:在原理图编辑窗口,点击菜单项 DesignCreate Cellview From Cellview,出现 symbol 生成选项表(图 1.15 上部分) ,点击 OK 按钮出现 图 1.15 下部分。

cadence_ic5141usr6安装说明

cadence_ic5141usr6安装说明

c@dence_i_c5141和mm$im61的安装过程和配置方法。

系统的考虑,按照道理来说应该是所有的linux系统都能安装运行i_c5141的,只不过因为各个linux组件实现不完全统一,所以在安装i_c5141的时候会出现各种问题,但是只要你有相关linux系统的知识,对于linux一些基本设计理念比较熟悉的话,应该都是可以通过调整系统来安装运行i_c5141的。

安装i_c5141的过程实际上就是一个根据c@dence给出的错误信息进行debug的过程,你把所有的bug都解决了,软件也就自然能运行了。

现在已知可以运行i_c5141的系统rehl,centos,suse,ubuntu还有archlinux。

推荐使用的系统是rehl或是centos,这两个应该是兼容性最好的,当然下面的安装过程还是以archlinux为例来讲解的。

1 确认所用linux系统的tar版本在1.14以下,否则不能正常解压安装包。

2 下载安装包,包括:Update_IC50.46.006_lnx86_1of4.tarUpdate_IC50.46.006_lnx86_2of4.tarUpdate_IC50.46.006_lnx86_3of4.tarUpdate_IC50.46.006_lnx86_4of4.tarCadence.Base.IC5141.Lnx86.3CDs[.ck].rar,---这个是5141的三个base包合成一个了。

Base_MMSIM61_lnx86_1of2.tarBase_MMSIM61_lnx86_2of2.tar用tar xvf filename全部解压缩,将得到的update包放在一个文件夹内,如/ic/IC50.46.006_lnx86.Update,base包会解压到另一个文件夹,如/ic/base_5141,将mm_sim的cd1和cd2放在另一个文件夹内,如/ic/mm_sim。

关于Cadenceic5141的安装

关于Cadenceic5141的安装

关于Cadenceic5141的安装关于Cadenceic5141的安装2008-04-17版权声明:转载时请以超链接形式标明文章原始出处和作者信息及本声明/logs/19205304.html[绝对原创]经过一个多星期的反复摸索和实验,在无数次的重装与删除之后,本先生终于把万恶的Cadence塞到了笔记本里(洒花庆祝一下)。

在参考了网上无数大牛门的安装心得之后,决定写下此文。

一来为以后重装(呸呸呸……不吉利)留下技术参考,二来为和本先生一样的菜鸟抛砖引玉。

我的失败就是你们的经验啊,上帝啊,我不入地狱谁入地狱。

阿拉真主,阿弥陀佛…… 废话说完了,进入正题。

Cadence软件很好用,但安装起来很麻烦,所以在决定安装之前,需要做以下几件事情。

第一,下载安装文件。

IC5141一共是七张盘。

包括3张Base 和4张Update。

本先生只下到三张Base,Update没有找到。

如果谁有希望提供一下哈。

基本安装用Base就可以了,Update有当然更好,不过没有也基本不影响使用。

另外还要准备好license文件。

各大论坛都有,自己找吧,这里就不提供了。

如果找不到链接的本人提供一个地方,去上交BBS的微电子版块找找看,那里有一个内部的FTP,下载速度很快的,差不多300K/s,两个小时可以下完的。

IC5141和IC610的版本都有,还有MMSIM610,教育网的同志们可以去下。

具体地址就不提供了,我也忘记了。

第二,安装Linux。

现在Linux的版本很多,麻烦各位挑的时候别太随意。

本人在这里吃了很大的亏。

一般来说,版本越新的安装的难度就越大。

具体原因是这样的。

Linux的进程机制分两种。

Linuxthreads和NPTL,其中早期的Linux支持前者,随着内核的升级,目前版本的Linux都已经放弃了对Linuxthreads的支持,转为采用NPTL。

很不幸的是,IC5141采用了比较保守的原则,只支持Linuxthreads,所以一定要在支持Linuxthreads的Linux内核下才能够运行。

cadence教程IC设计工具原理

cadence教程IC设计工具原理

15
EDA概述
CADENCE
• 软核IP(soft IP)是用可综合的硬件描述语言描述的 RTL级电路功能块,不涉及用与什么工艺相关的电路 和电路元件实现这些描述。 • 优点:设计周期短,设计投入少,不涉及物理实现, 为后续设计留有很大发挥空间,增大了IP的灵活性和 适应性。 • 缺点:会有一定比例的后续工序无法适应软核IP设计, 从而造成一定程度的软核IP修正,在性能上有较大的 不可预知性。
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EDA概述
CADENCE
• EDA技术特征:
(1)硬件采用工作站和PC机。 (2)具有IP模块化芯核的设计和可重复利用功能。 (3)EDA技术采用高级硬件描述语言描述硬件结构、参 数和功能,具有系统级仿真和综合能力。
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EDA概述
CADENCE
• EDA工具一般由两部分组成:
逻辑工具 物理工具
CADENCE
IC设计工具原理
(Cadence应用)
哈尔滨工程大学微电子学专业
1
第一章 IC设计基础
CADENCE
• 集成电路设计就是根据电路功能和性能 的要求,在正确选择系统配置、电路形 式、器件结构、工艺方案和设计规则的 情况下,尽量减小芯片面积,降低设计 成本,缩短设计周期以保全全局优化, 设计出满足要求的集成电路。其最终的 输出是掩模版图,通过制版和工艺流片 得到所需的集成电路。
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IC设计基础
CADENCE
• 典型的实际分层次设计流程:
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IC设计基础
CADENCE
• 分层次设计流程主要适用于数字系统设 计,模拟IC设计基本上是手工设计。 • 即便是数字IC设计,也需要较多的人工 干预。
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IC设计基础

第一章 cadence ic5141教程schematic及其仿真

第一章 cadence ic5141教程schematic及其仿真
Open 菜单项打开相应的 Open File 窗口,如图 1-2-3 所示。 在 Library Name 中选择库名,在 Cell Names 中选择需要打开的单元名。Mode 项可以选 择打开方式——可编辑状态或者只读状态。
图 1-2-3 Open File 窗口 Exit 项退出 Cadence 软件包。 二.Tools 菜单 在 Tools 菜单下,主要的菜单项有 Library Manager、Library Path Editor 等。 Library Manager 项打开的是库管理器(Library Manager)窗口,如图 1-2-4 所示。
cadence cdsSPICE 的使用说明
第一章. Cadence cdsSPICE 的使用说明
Cadence cdsSPICE 也是众多使用 SPICE 内核的电路模拟软件之一。因此他在使用 上会有部分同我们平时所用到的 PSPICE 相同。这里我将侧重讲一下它的一些特殊用法。
§ 1-1 进入 Cadence 软件包
图 1-3-1 Composer-Schematic Editing 窗口 选择 Add/Component 菜单,打开相应添加元件的窗口,如图 1-3-2 所示。点击 Browse, 会弹出 library manager 窗口,一些常用的元器件都在 Analoglib 库中。 View Name 一般选择 symbol,instance Names 不用自己填,系统会自己加上去 。添加完元件后需设定元件的模型 名称(如果必须的话)以及一些参数的值,特别是 mos 管和三极管,一定要填 model name,
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cadence cdsSPICE 的使用说明 i——在光标处插入正文; x——删除光标处的字符; :wq——存盘退出; 要记著一点,在插入态处,不能打入指令,必需先按〈Esc〉键,返回指令态。假若户不知 身处何态,也可以按〈Esc〉键,不管处于何态,都会返回指令态其它的一些命令请读者自己参 阅有关的书籍。

IC5141完整安装过程

IC5141完整安装过程

******************前序******************************************Red Hat Enterprise Linux Server 5不支持安装IC5141,需要安装IC610或者更高版本,所以这里采用的是Red hat Enterprise 4。

下面是建立的两个linux下的用户,后面这个xue是自己建立的用户,用于安装后仿软件.因为要改变环境变量,所以还是自己建立一个用户比较好,不要用root用户.超级账户:root 密码111111普通用户:xue 密码111111linux命令大全http://linux.chinaitlab。

com/special/linuxcom/(1)adduser xue (在系统中增加xue用户)(2) passwd xue (为xue用户设置密码,记住该密码)解压缩tar文件tar –xvzf [文件名]或者直接右键extract创建文件夹的桌面快捷方式ln -s /mnt/hgfs/xpshare/ /root/Desktop/关机shutdown -h now 重启rebootLinux设置在原窗口下打开子窗口选择File Browser然后edit-Preferences钩上*********************************************************************安装虚拟机:直接点击安装文件安装。

虚拟机软件的安装省略,非常简单,跟普通软件安装一样。

(有一点要注意:64位的WIN7系统要选择典型安装,不要全部安装,否则安装不成功)安装red hat 4:选择New Virtual Machine选择Linux,版本Red Hat Enterprise Linux 4选择第一个a single file 在虚拟机界面上选择菜单栏的VM,点击这个菜单底下的Settings,会出现如下图。

关于IC5141版图操作中GuardRing的创建

关于IC5141版图操作中GuardRing的创建
?techId tech ?name "pgr1" ?layer list("ACTIVE" "drawing") ?width 0.800000 ?choppable nil
?endType "flush" ?beginExt 0.000000 ?endExt 0.000000 ?justification "center" ?offset 0.000000 ?offsetSubPath list( list(
问题依次解决。 版图界面,点击菜单上的“Create”---->“Multipart Path”,不要急着开始画 path,按一下“F3”,打开关于 “Multipart Path”设置的界面。
这个界面中,东西比较多,其他的不讲,就针对我们目前的问题,给出解决办法。 点击“Save Template...”按钮
这个其实是一个 skill 语言编写的简单“guardring”模板文件,内容也十分简单易懂。
下面继续讲解如何在关闭 icfb 后,下次启动,能够继续使用当前设置好的“guardring”模板。 在自己的根目录下,一般都有一个“.cdsinit”的隐藏文件,打开,加上一句: load “~/csmc05.mpp.templates.il” 保存退出,这样,下次重启 icfb 的时候,就会自动的加载这个模板文件,也就是说可以直接使用,而不至 于每次都去重新设置一遍。
此界面中输入框中,已经默认填写了一个文件名(~/csmc05.mpp.templates.il),表示将保存当前“pgr1”的 “guardring”到一个路径为“/home/user/”,名称为“csmc05.mpp.templates.il”的文件中。 这个具体的路径和文件名称都是可以自由输入的,其实目的就是保存一个模板文件。 本文就不设置其他,默认设置完毕,点击"OK"就可以了。 切换到自己的根目录下,可以看到生成了一个名称为“csmc05.mpp.templates.il”的文件。打开这个文件, 内容如下: prog((tech techLibName techFileName)

cadence5141安装与指令说明

cadence5141安装与指令说明

cadence5141安装与指令说明cadence 5141 安装在linux下安装cadence(设定安装文件放在windows下d盘,为hda5)1切换用户到超级用户:(以下均省略提示符,隔行表示直接输入的字符)Su /切换用户,缺省为超级用户,若是切换普通用户在su后空格加用户名888888 /超级用户密码cd / /至系统根目录2 在系统根目录下建立一个安装目录,如edamkdir eda /建立安装目录文件chmod –R 755 eda /更改文件属性使之能够被普通用户使用chown -R b704:b704 eda /具体释放权限给某个用户3 创建挂载点和执行安装的临时文件cd /mntmkdir evol 挂载d盘的文件夹.起引导作用,不是实际存储mkdir cdrom /用于挂载iso文件,类似光驱mkdir temp4 挂载文件mount /dev/hda5 /mnt/evol /将windows下的硬盘d挂载到本地挂载点cd /mnt/evoldircp -r ic5141 /mnt/temp /将安装文件放置在临时文件夹cd /mnt/tempdircd ic5141dirmount -o loop cd1.iso /mnt/cdrom /挂载iso文件到光驱cd /cd /mnt/cdromdir.setup.sh /执行安装文件5 根据提示进行安装,基本上选择默认设置即可:须注意三点选择安装内容的时候,选a 即全选提示安装信息置放在哪时.选择4(anolog catalog,而不选择默认的2-email)最后确定安装的路径的时候输入以下信息/eda/ic51,自动会提示在eda下创建ic51文件安装进行过程中加入新的iso文件时另开终端执行,安装结束即执行了100%时,选择q退出即可,不需理会其他选项.6 安装结束,在安装ic5141的目录下即/eda/ic51 下新建一个文件夹license,然后将license.dat拷贝到此目录下,具体文件放在mnt/temp/ic5141/lic_setings/license(这一步可以直接在文件系统里拷贝)7 将文件/eda/ic51/tools.lnx86重命名,命令为:(cd /eda/ic51)ln -s tools.lnx86 tools8 将配置文件.bashrc 和.cdsinit文件拷贝到个人用户的根目录下具体配置文件放在/mnt/temp/ic5141/lic_setings 个人用户根目录/home/b704cd /mnt/temp/ic5141/lic_setingscp .bashrc /home/b704cp .cdsinit /home/b7049 用vi命令打开.bashrc 文件,把安装路径修改成与安装路径相一致并保存: /eda/ic51vi /home/b704/.bashrc (最好先进入子目录cd /home/b704) 将修改好的.bashrc 文件写入内存source .bashrc10 运行icfb&, 没用问题即可使用.将u盘挂载在linux下的命令是:mkdir /mnt/usbmount -t vfat/dev/sda1/mnt/usb当出现没有读写权限的文件,需要释放权限的话,比如是/home/b704/m 文件夹下的文件有如下问题时chown -R b704:b704/home/b704/m使用Cadence需要加入Library的问题:以使用chrt库为例先将chrt的库文件拷贝到/home/b704/chrt 下这一步可以直接进行文件夹一级的操作,不用使用命令格式运行icfb& 在菜单选项处的tool里选择Library manager->进入新一级的窗口编辑框选择edit ->Library path 又进入一级窗口编辑框选择edit->add Library. 出现一个路径选择窗口chrt chrt _basic 在此添加chrt chrt_dig_basic命令说明用户切换命令su 默认设置为超级用户root,需要以密码进入;若进入普通用户的话:su用户名进入文件命令cd 如:cd/mnt/evol 返回上一次进入的目录路径:cd --返回到root 根目录:cd创建文件命令用mkdir直接创建全路径,如mkdir /mnt/temp/usb 或者是先进入cd /mnt/temp 再创建目录mkdir usb显示文件命令有两种形式ls/mnt/temp 这种方式并没有改变提示符所显示的目录路径cd /mnt/temp 进入目录路径再现是目录文件:dir文件拷贝命令cp –r 源文件路径目录文件路径如cp -r /mnt/evol/ic5141 /mnt/temp 若拷贝的仅仅是文件不用添加-r选项.重命名命令ln –s 源文件目的文件这个命令的重命名是新建一个文件,对源文件的东西进行复制,并不会对源文件做任何处理,即源文件仍然不错修改的存在删除文件命令rm 目的文件rm -r 目的目录root下的mnt目录文件是专门为挂载外来文件的,常用于挂载如windows操作系统下的硬盘,usb 接口等:将u盘挂载再linux下的命令是:mkdir /mnt/usbmount -t vfat/dev/sda1 /mnt/usb挂载windows下的硬盘mount/dev/hda5 /mnt/evol (如d盘) 挂载镜像文件iso文件mount –o loop **.iso /mnt/cdrom当出现没有读写权限的文件,需要释放权限的话,比如是/home/b704/m 文件夹下的文件有如上问题时chmod -R 755 /home/b704/m /更改文件属性使之能够被普通用户使用chown -R b704:b704 /home/b704/m /具体释放权限给某个用户vi命令时可以对文件进行编辑的命令.通常这种被操作不是文件夹,而是个可编译的文件.修改用户进口令Passwd注意创建用户必须是以root用户名进入才可以执行Useradd 用户名Passwd 用户名输入密码并予以确认.清楚当前屏幕信息Clear。

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第二章.Virtuoso Editing的使用简介全文将用一个贯穿始终的例子来说明如何绘制版图。

这个例子绘制的是一个最简单的非门的版图。

§ 2-1 建立版图文件使用library manager。

首先,建立一个新的库myLib,关于建立库的步骤,在前文介绍cdsSpice时已经说得很清楚了,就不再赘述。

与前面有些不同的地方是:由于我们要建立的是一个版图文件,因此我们在technology file选项中必须选择compile a new tech file,或是attach to an exsiting tech file。

这里由于我们要新建一个tech file,因此选择前者。

这时会弹出load tech file的对话框,如图2-1-1所示。

图2-1-1在ASCII Technology File中填入csmc1o0.tf即可。

接着就可以建立名为inv的cell了。

为了完备起见,读者可以先建立inv的schematic view和symbol view(具体步骤前面已经介绍,其中pmos长6u,宽为0.6u。

nmos长为3u,宽为0.6u。

model 仍然选择hj3p和hj3n)。

然后建立其layout view,其步骤为:在tool中选择virtuoso-layout,然后点击ok。

§ 2-2绘制inverter掩膜版图的一些准备工作首先,在library manager中打开inv这个cell的layout view。

即打开了virtuoso editing窗图2-2-1 virtuoso editing窗口口,如图2-2-1所示。

版图视窗打开后,掩模版图窗口显现。

视窗由三部分组成:Icon menu , menu banner ,status banner.Icon menu(图标菜单)缺省时位于版图图框的左边,列出了一些最常用的命令的图标,要查看图标所代表的指令,只需要将鼠标滑动到想要查看的图标上,图标下方即会显示出相应的指令。

menu banner(菜单栏),包含了编辑版图所需要的各项指令,并按相应的类别分组。

几个常用的指令及相应的快捷键列举如下:Zoom In -------放大 (z)Zoom out by 2------- 缩小2倍(Z)Save ------- 保存编辑(f2) Delete ------- 删除编辑(Del)Undo ------- 取消编辑(u)Redo -------恢复编辑 (U)Move ------- 移动(m)Stretch ------- 伸缩(s)Rectangle -------编辑矩形图形(r)Polygon ------- 编辑多边形图形(P)Path ------- 编辑布线路径(p) Copy -------复制编辑 (c) status banner(状态显示栏),位于menu banner的上方,显示的是坐标、当前编辑指令等状态信息。

在版图视窗外的左侧还有一个层选择窗口(Layer and Selection Window LSW)。

LSW视图的功能:1)可选择所编辑图形所在的层;2)可选择哪些层可供编辑;3)可选择哪些层可以看到。

由于我们所需的部分版图层次在初始LSW中并不存在,因此下一步要做的是:建立我们自己的工艺库所需的版图层次及其显示属性。

为了简单起见,以下仅列出绘制我们这个版图所需的最少版图层次。

层次名称说明Nwell N阱Active 有源区Pselect P型注入掩膜Nselect N型注入掩膜Contact 引线孔,连接金属与多晶硅/有源区Metal1 第一层金属,用于水平布线,如电源和地Via 通孔,连接metal1和metal2Metal2 第二层金属,用于垂直布线,如信号源的I/O口Text 标签Poly 多晶硅,做mos的栅下图是修改后的LSW。

图2-2-2 LSW如何来修改LSW中的层次呢?以下就是步骤:1.切换至CIW窗口,在technology file的下拉菜单中选择最后一项edit layers出现如图窗口图2-2-3 edit layers2.在technology library中选择库mylib,先使用delete 功能去除不需要的层次。

然后点击add添加必需的层次,add打开如下图的窗口:图2-2-4其中,layer name中填入所需添加的层的名称。

Abbv是层次名称缩写。

Number是系统给层次的内部编号,系统保留128-256的数字作为其默认层次的编号而将1-127留给开发者创造新层次。

Purpose是所添加层次的功用,如果是绘图层次,一般选择drawing。

Priority是层次在LSW中的排序位置。

其余的选项一般保持默认值。

在右边是图层的显示属性。

可以直接套用其中某些层次的显示属性。

也可以点击edit resources自己编辑显示属性。

如图2-2-5所示(这个窗口还可以在LSW中调出)编辑方法很简单,读者可以自己推敲,就不再赘述。

上述工作完毕后就得到我们所需的层次。

接着我们就可以开始绘制版图了。

§ 2-3 绘制版图一.画pmos的版图(新建一个名为pmos的cell)1.画出有源区在LSW中,点击active(dg),注意这时LSW顶部显示active字样,说明active层为当前所选层次。

然后点击icon menu中的rectangle icon,在vituoso editing窗口中画一个宽为 3.6u,长为6u的矩形。

这里我们为了定标,必须得用到标尺。

点击misc/ruler即可得到。

清除标尺点击misc/clear ruler。

如果你在绘制时出错,点击需要去除的部分,然后点击delete icon。

2.画栅在LSW中,点击poly(dg),画矩形。

与有源区的位置关系如下图:0.6u6u(gate width)1.5u3.6u图2-2-5 display resource editor3.画整个pmos为了表明我们画的是pmos管,我们必须在刚才图形的基础上添加一个pselect层,这一层将覆盖整个有源区0.6u。

接着,我们还要在整个管子外围画上nwell,它覆盖有源区1.8u。

如下图所示:pselect1.8unwell4.衬底连接pmos的衬底(nwell)必须连接到vdd。

首先,画一个1.2u乘1.2u的active矩形;然后在这个矩形的边上包围一层nselect层(覆盖active0。

6u)。

最后将nwell的矩形拉长,完成后如下图所示:nselectactivepselect这样一个pmos的版图就大致完成了。

接着我们要给这个管子布线。

二.布线pmos管必须连接到输入信号源和电源上,因此我们必须在原图基础上布金属线。

1.首先我们要完成有源区(源区和漏区)的连接。

在源区和漏区上用contact(dg)层分别画三个矩形,尺寸为0.6乘0.6。

注意:contact间距为1.5u。

2.用metal1(dg)层画两个矩形,他们分别覆盖源区和漏区上的contact,覆盖长度为0.3u。

3.为完成衬底连接,我们必须在衬底的有源区中间添加一个contact。

这个contact每边都被active覆盖0.3u。

4.画用于电源的金属连线,宽度为3u。

将其放置在pmos版图的最上方。

布线完毕后的版图如下图所示:图2-3-1 pmos版图通过以上步骤我们完成了pmos的版图绘制。

接下来我们将绘制出nmos的版图。

三.画nmos的版图绘制nmos管的步骤同pmos管基本相同(新建一个名为nmos的cell)。

无非是某些参数变化一下。

下面给出nmos管的图形及一些参数,具体绘制步骤就不再赘述。

图2-3-2nmos四.完成整个非门的绘制及绘制输入、输出1.新建一个cell(inv)。

将上面完成的两个版图拷贝到其中,并以多晶硅为基准将两图对齐。

然后,我们可以将任意一个版图的多晶硅延长和另外一个的多晶硅相交。

2.输入:为了与外部电路连接,我们需要用到metal2。

但poly和metal2不能直接相连,因此我们必须得借助metal1完成连接。

具体步骤是:a.在两mos管之间画一个0.6乘0.6的contactb.在这个contact上覆盖poly,过覆盖0.3uc.在这个contact的左边画一个0.6乘0.6的via,然后在其上覆盖metal2(dg),过覆盖0.3ud.用metal1连接via和contact,过覆盖为0.3u从下图中可以看得更清楚:metal13.连起来(任意延长一个的metal1,与另一个相交)。

然后在其上放置一个via,接着在via上放置metal2。

五.作标签1.在LSW中选择层次text(d3),点击create/label,在弹出窗口中的label name中填入vdd!并将它放置在版图中相应的位置上。

2.按同样的方法创制gnd!、A和Out的标签。

完成后整个的版图如下:图2-3-4 非门的版图至此,我们已经完成了整个非门的版图的绘制。

下一步将进行DRC检查,以检查版图在绘制时是否有同设计规则不符的地方。

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