光学技术专利
一种具有光学衍射层析成像功能的激光加工系统[发明专利]
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专利名称：一种具有光学衍射层析成像功能的激光加工系统专利类型：发明专利
发明人：贾宝华,姚涛
申请号：CN202010876885.7
申请日：20200827
公开号：CN112008237A
公开日：
20201201
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种具有光学衍射层析成像功能的激光加工系统，包括：集一体化设置的成像光路和加工光路；所述成像光路用于对待加工器件进行光学衍射层析成像；所述加工光路用于对所述待加工器件进行加工处理。
并且，介绍了具体的光路结构，该激光加工系统在对待加工器件进行加工的过程中，在不需要对待加工器件进行移位的情况下，还可以对待加工器件进行实时成像，也就是说，在一套激光加工系统中就可以同时实现对待加工器件的激光加工处理和成像处理。
申请人：伊诺福科光学技术有限公司
地址：澳大利亚维多利亚州博文北费迪南德大道38号
国籍：AU
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：李晓光
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基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述随着现代光学技术的日益发展，光学元件在各个领域中的应用越来越广泛，而光学元件表面质量对其性能和精度有着至关重要的影响。
传统的光学元件抛光方法一般使用研磨、抛光材料、气雾抛光等手段，这些方法不仅效率低、成本高，而且可能会对元件表面造成一定的伤害。
为了解决这些问题，磁流变抛光法应运而生。
本文将对基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术进行综述。
磁流变性材料又称磁流变液，是一种可以随着磁场强度变化而改变粘度的材料。
利用磁流变效应可以实现在磁场作用下松散的粘合剂或清洗剂与光学元件表面之间产生接触力，从而实现光学元件表面的抛光。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光技术是利用磁流变性材料产生摩擦力来实现抛光的。
下面介绍几种基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。
2. 磁流变复合抛光技术：该专利通过采用组合的方式，将磁流变液体与其他微粒材料（如氧化铝、碳化硅等）混合使用，在磁场的作用下，实现了对光学元件表面的抛光。
这种方法可以有效地规避单一磁流变液体对光学元件表面的轻微划痕，同时又能够维持磁流变液体的流动性，提高抛光效率和表面光洁度。
3. 磁流变加热（冷却）抛光法：该专利通过在磁流变液体中加入热敏性材料，利用材料在高温条件下产生凝胶状态，使磁流变液体具有更高的粘度，在磁场的作用下加热至一定温度下，实现对光学元件表面的抛光。
同时该专利还提出了将光学元件表面冷却至一定温度下进行抛光的方法，来实现更高的表面平整度和光洁度。
4. 磁流变抛光测控实时反馈系统：该专利提出了一种基于磁流变抛光的实时测控反馈系统，用于控制抛光机构的磁场强度和位置，以实现光学元件表面的实时抛光过程监控和调整。
系统采用了高精度的传感器和信号处理器来实现对光学元件表面形貌、表面粗糙度等参数的实时监测和调整，提高了抛光精度和效率。
总之，基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术具有抛光精度高、效率高、环保等优点，为光学元件制造提供了一种新的解决方案。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述磁流变抛光（MRF）是一种基于磁流变流体的技术，用于光学元件的抛光和表面改善。
它以其高效、精确和可控的特点，成为光学加工中不可或缺的一种手段。
本文将对磁流变抛光法的相关专利技术进行综述。
磁流变抛光法的原理是利用磁流变流体的流变特性实现对光学元件表面的精密抛光。
磁流变流体是一种可以根据外加磁场的强度和方向改变其流变特性的流体。
当磁场施加到磁流变流体上时，它的黏度和流动性会发生变化，从而可以实现对光学元件表面的精细抛光。
这种抛光方法既可用于玻璃、陶瓷等硬质材料的抛光，也可以用于软性材料的抛光。
磁流变抛光法的专利技术主要包括以下几个方面：1. 磁流变流体的制备技术：磁流变流体是磁流变抛光法的核心。
专利技术中涉及了磁流变流体的成分、比例和制备方法等。
一些专利技术提出了采用特定的胶体颗粒和稳定剂来制备高性能的磁流变流体。
2. 磁流变抛光机械装置：磁流变抛光需要一定的机械装置来施加磁场和控制磁流变流体的流动。
专利技术中提出了各种不同的磁流变抛光机械装置，如采用永磁体或电磁铁制造的磁极等。
3. 光学元件的抛光方法：磁流变抛光法可以用于不同类型的光学元件的抛光，如透镜、棱镜、反射镜等。
专利技术中介绍了不同的抛光方法，包括逐点抛光、逐面抛光、全表面抛光等。
这些方法在实际加工中可以根据元件的形状和要求进行选择。
4. 磁流变抛光工艺参数的优化：专利技术中还涉及了磁流变抛光的工艺参数的优化方法。
这些参数包括磁场强度、磁场方向、磁流变流体流量和压力等。
通过优化这些参数，可以实现对光学元件表面的高效、精确抛光。
磁流变抛光法的专利技术不仅应用于光学元件的抛光，还可以用于其他领域的表面改善。
磁流变抛光法可以用于金属材料的抛光、半导体材料的抛光和微机电系统(MEMS)器件的抛光等。
这些应用拓宽了磁流变抛光法的应用领域，也促进了磁流变抛光技术的持续发展和改进。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述磁流变抛光是一种采用磁流变液体作为磨料，在磁场作用下，通过改变磁场的强度和方向，实现对光学元件表面进行高效抛光的方法。
磁流变抛光技术在光学元件的制备过程中具有很大的潜力，并且在实际应用中已取得了显著的成果和效益。
本文将对基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术进行综述。
磁流变抛光技术的基本原理是利用磁场控制磁流变液体中磨料的分布和流动状态，从而实现对光学元件表面的抛光。
磁流变制动原理是通过施加磁场改变磁流变液体中磨料的粘度，从而实现对磨料的控制。
当施加磁场时，磁流变液体中的磨料会由于磁场的作用形成聚集区，实现对光学元件表面的高效抛光。
磁流变抛光技术在光学元件制备过程中具有很多优势。
磁流变抛光技术可以实现对光学元件表面的全面抛光，不仅可以去除表面的划痕和瑕疵，还可以改善表面的光洁度和平滑度，提高光学元件的质量。
磁流变抛光技术具有高效、快速的特点，可以在短时间内完成对光学元件的抛光，提高制造效率。
磁流变抛光技术还可以实现对光学元件的局部精密抛光，可以根据光学元件表面的不同要求进行定制化抛光，提高抛光的精度和一致性。
磁流变抛光技术已经得到了广泛的应用，并且在实际应用中取得了显著的成果。
我们可以在专利数据库中找到大量关于基于磁流变抛光法的光学元件抛光的专利技术。
这些专利技术涉及到了光学元件的种类、抛光方法和磁流变液体的配方等方面的内容。
一种基于磁流变抛光法的激光器光学元件抛光方法专利（专利号：CN110526314A）公开了一种基于磁流变抛光法的激光器光学元件抛光方法，该方法包括以下步骤：将磁流变液体倒入抛光设备中；将光学元件放置在磨盘上；施加磁场使磁流变液体产生磁流变效应；在磁场作用下，通过磨盘对光学元件进行抛光。
该方法可以实现对激光器光学元件表面的高效抛光，提高光学元件的质量和整体性能。
可见光红外光学系统的制作方法 专利
可见光红外光学系统的制作方法专利【导语】可见光红外光学系统在众多领域都有广泛应用，如天文学、遥感探测、军事观察等。
这类系统的制作方法涉及到精密的工艺和专利技术。
以下将详细介绍一种可见光红外光学系统的制作方法，供大家参考。
【正文】一、可见光红外光学系统的定义可见光红外光学系统是一种能够同时探测可见光和红外光的光学系统。
它通常由光学镜头、探测器、信号处理单元等部分组成。
二、制作方法1.设计光学系统根据应用需求，设计合适的光学系统。
光学系统应包括以下部分：（1）可见光通道：采用高折射率玻璃材料，设计为反射式或折射式光学系统。
（2）红外通道：采用低折射率玻璃材料，设计为反射式光学系统。
2.制造光学元件根据设计图纸，采用以下方法制造光学元件：（1）熔融石英铸造法：用于制造可见光和红外光学元件。
（2）金刚石车削法：用于制造高精度非球面光学元件。
（3）光学镀膜技术：在光学元件表面镀上一层或多层光学薄膜，以满足特定波长范围内的光学性能要求。
3.组装光学系统将制造好的光学元件按照设计要求组装成光学系统。
具体步骤如下：（1）清洁光学元件表面，确保无尘、无污染。
（2）采用光学粘合剂或机械固定方式，将光学元件组装成一体。
（3）调整光学系统，使其满足预定的光学性能指标。
4.调试与检测（1）对光学系统进行调试，确保其在可见光和红外波段都能正常工作。
（2）利用光学检测设备，如干涉仪、光栅光谱仪等，对光学系统进行性能检测。
（3）根据检测结果，对光学系统进行调整，直至满足应用要求。
三、专利技术本制作方法涉及以下专利技术：1.光学设计方法：采用优化算法，实现可见光和红外光的高效耦合。
2.光学元件制造技术：采用金刚石车削法制造高精度非球面光学元件。
3.光学镀膜技术：研发适用于可见光和红外波段的光学薄膜。
4.光学系统调试与检测技术：确保光学系统在可见光和红外波段具有优异性能。
四、应用领域本可见光红外光学系统制作方法可应用于以下领域：1.天文观测：用于探测宇宙中的可见光和红外辐射。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
磁流变抛光（MRF）技术是一种利用磁流变液体对光学元件进行抛光的方法。
该方法在光学制造领域具有广泛的应用，可以用于抛光各种形状和材料的光学元件，如透镜、棱镜、平板等。
本文将综述基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。
目前，磁流变抛光技术在光学元件抛光领域已经形成了一系列的专利技术。
这些专利
技术涉及到磁流变液体的制备方法、磁流变液体与光学元件的接触方式、磁流变液体的应
用压力控制等方面。
下面将分别介绍几个代表性的专利案例。
专利案例一：一种基于磁流变抛光法的平板光学元件抛光装置及方法。
该专利技术提
出了一种用于平板光学元件抛光的装置和方法。
该装置包括磁流变液体供给装置、磁场装
置和支撑平台等组件。
该方法通过控制磁流变液体的流动和磁场的作用，实现对平板光学
元件表面的抛光。
除了上述专利案例，还存在很多其他基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。
这
些技术在提高光学元件制造效率、减小表面光学散射等方面具有重要的应用价值。
磁流变
抛光技术在实际应用中还存在一些需要解决的问题，如磁流变液体的稳定性、磁场的加工
精度等。
对于这些问题的解决将进一步推动磁流变抛光技术在光学制造领域的应用。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述随着光电子科技的迅猛发展，光学元件的制造技术也在不断向前发展。
在光学元件的制造过程中，抛光是一个非常重要的工艺步骤，影响着光学元件的表面质量、形状精度和光学性能。
传统的光学元件抛光方法存在着一定的局限性，而磁流变抛光法则是一种新型的抛光技术，其基于磁流变效应，可以实现对光学元件的高效抛光。
本文将从磁流变抛光技术的基本原理、应用现状以及相关专利技术进行综述，以期为相关领域的研究提供一定的参考和借鉴。
一、磁流变抛光技术的基本原理磁流变效应是指在磁场的作用下，磁流变材料的流变应力发生变化的效应。
磁流变材料是一类特殊的材料，当它处于磁场中时，可以通过改变磁场的强度和方向来控制其流变应力的大小和方向。
磁流变材料具有较高的灵活性和可调节性，因此在光学元件抛光中引入磁流变材料可以实现对抛光过程的精确控制。
磁流变抛光技术主要包括以下几个步骤：首先是将磁流变材料与磨削磨粉混合物混合，形成磨削液；然后将光学元件与磨削液放置在磁场中进行抛光，通过改变磁场的强度和方向来调节磁流变材料的流变应力，从而控制抛光过程中磨损的形态和速度；最后是清洗和表面处理，以获得最终的光学元件。
磁流变抛光技术的核心在于对磁流变材料的流变特性进行精确控制，在磁场的调节下实现对光学元件表面的高效抛光。
这种技术不仅可以有效减小表面的粗糙度，提高光学元件的光学性能，而且可以实现对光学元件形状的精确修整，满足不同光学器件对表面质量和形状精度的要求。
目前，磁流变抛光技术已在光学元件制造领域得到了较为广泛的应用。
以抛光镜片为例，磁流变抛光技术可以用于调整镜片的表面形貌、提高其光学性能，使得镜片在激光器、望远镜、测量仪器等领域具有更为优越的应用价值。
磁流变抛光技术还可用于对光学晶体的表面进行抛光。
晶体制品由于材料本身的特殊性，通常具有较强的吸湿性和易溶性，采用传统的抛光方法往往难以获得理想的抛光效果，而磁流变抛光技术的可控性可以在一定程度上解决这一难题，使得晶体表面的抛光更为精细。
光学频率梳专利技术简述
光学频率梳专利技术简述0 前言光频梳的出现是超快光学与精密光谱学完美结合的产物，早在上世纪70年代，德国科学家T. W. H？覿nsch等人就提出了光频梳的概念，他们应用锁模染料激光器进行光谱学研究，发现该脉冲激光器能够共振激发出钠离子4d能级跃迁的精密谱线，进而验证锁模激光器的纵模是由一系列窄带频率梳齿所构成。
在此后的三十年里，基于超短脉冲的激光物理技术与基于窄线宽激光器的激光光谱学技术向着似乎不相关联的两个学科方向发展。
光频梳是一种由众多分立、频率间隔严格相等的频谱所组成的宽带光谱光源，它类似于一把剂量频率的尺子，因此也被成为光学频率尺。
基本原理是：脉冲激光器的输出在时域上为一系列等间隔的超短脉冲，脉冲宽度一般为几到几十飞秒，重复频率为MHz到GHz，由一系列等间隔光谱线组成的光梳，每个梳齿之间的间隔等于飞秒激光器的重复频率。
锁模激光器的输出脉冲可以看作是能量高度集中的波包，而且激光器锁定的纵模越多，脉冲宽度越窄。
由于激光腔内存在色散，导致载波在腔内往返一次后不能重现它与包络间原有的相对位相关系，因此相邻两个脉冲的载波与包络之间呈现相对位相差ΔΦ。
这个相移在频域上就对应于理想频梳的频率漂移δ=ΔΦfr/2π，根据频率梳的原理，每个梳齿对应的频率可以表示为：fn=nfr+δ。
1 专利统计分析1.1 全球和中国专利申请量趋势1990年之前，光频梳领域的专利申请量还比较少，美国国家标准技术研究院（NIST）的霍尔教授J. L. Hall和德国马普量子光学所（MPQ）的亨施教授T. W. H？覿nsch于2021年被授予了的诺贝尔物理学奖章，而逐渐开启了对光频梳的研究，全球专利申请量大幅增长，并呈现迅猛的递增趋势，上世纪90年代末，基于飞秒掺钛蓝宝石的激光频率梳的提出和实现使光频梳发生了革命性进展。
1.2 全球主要申请人及申请人分布区域国内光频梳的研究略晚于国际水平，约从2021年起申请量呈稳健递增模式，分析原因，因早起飞秒激光领域在国内发展并不是很成熟，近几年开始，国内的高校、研究所及相关企业的申请量日渐增多，在产生方法和应用领域上也逐渐多样化，到目前为止，我国有关光频梳领域的申请量已经居于世界前位，约占37%，其次是美国的18%和日本的16%。
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光学技术专利
随着科技的不断发展，光学技术已经成为重要的研究方向。
在光学
技术的研究中，专利的数量和质量是衡量创新效果的重要标准。
本文
将介绍光学技术专利的概念、分类和专利检索方法，并论述如何保护
和利用光学技术专利。
一、光学技术专利的概念
光学技术专利是指涉及光的传播、控制及其他与光有关的技术领域，通过专利权的方式来保护某种创新成果的一种法律制度。
一般来说，
将专利分为三个部分：专利权人、专利技术和专利范围。
其中，专利权人指持有该专利权的个人、机构或企业；专利技术则
是指专利的创新点，它应当具备新颖性、创造性和实用性。
新颖性指
技术方案的内容具有创造性，不能是以往的技术或是常识能够想到的；创造性则是指技术方案对于专业领域的技术问题进行了解决或是做出
了创新性的改进；实用性则是指技术方案可以在实际操作中得到应用。
专利范围是指专利权人所享有的专利权力所及的范围。
对于光学技
术专利来说，这个范围可能非常广泛，涵盖了光学器件、系统、成像、测量、材料等方面。
二、光学技术专利的分类
根据专利技术的不同，光学技术专利可以分为以下几类：
1. 光学元器件及其组成
此类光学技术专利主要涉及到光学分束器、光栅以及纤维光学元件等。
2. 光学系统
此类光学技术专利主要涉及到望远镜、显微镜、光学成像系统等。
3. 光学成像
此类光学技术专利主要涉及到照相机、摄影镜头、图像传感器等。
4. 光学测量
此类光学技术专利主要涉及到大气光学、光学测距、激光雷达等。
5. 光学材料
此类光学技术专利主要涉及到用于光学器件的材料，例如单晶和玻璃等。
三、光学技术专利的检索方法
光学技术专利的检索方法一般分为以下几种：
1. 专利检索工具
专利检索工具主要包括专利检索网络、专利图书馆等。
通过这些工具，可以快速地检索到相关专利信息。
2. 关键词检索
可以通过输入关键词，从专利数据库中检索相关专利信息。
3. IPC分类号检索
IPC分类号是国际专利分类系统，可以将专利按照技术领域进行分类。
使用IPC分类号检索可以更加精确地找到相关专利信息。
4. 检索语法
检索语法是专门用于专利检索的语法。
通过使用检索语法，可以更加精确地检索到相关的专利信息。
四、保护和利用保护和利用光学技术专利，是对创新成果的保障和表彰。
光学技术专利的保护和利用可以通过以下几种方式：
1. 申请专利
通过申请专利来保护自己的光学技术创新成果。
申请专利可以在保护技术的同时，获得商业优势和其他利益。
2. 鉴定设计
通过专业的鉴定机构对自己的光学技术进行鉴定和评估，可以提高知识产权的整体价值和可靠度，增强在对外沟通中的说服力。
3. 授权许可
将自己的光学技术转让给其他企业或个人，可以获得一定的授权费收入，也可以通过授权许可来推广自己的技术。
4. 专利侵权维权
在光学技术领域，专利的侵权现象时有发生。
在此情况下，可以通过专利侵权维权来维护自己的权益。
总之，光学技术专利是衡量光学技术创新成果的重要标准之一。
通过专利的申请、保护和利用，可以保障自己的知识产权，提高技术的竞争力。