材料制备方法
材料的制备方法课件
材料的制备方法
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电弧蒸发装置
工作原理：
在电弧蒸发壮装置中，使 用欲蒸发的材料制成放电 的电极。在薄膜沉积时， 依靠调节真空室内电极间 距的方法来点燃电弧，而 瞬间的高温电弧将使电极 端部产生蒸发从而实现物 质的沉积。控制电弧的点 燃次数或时间就可以沉积 出一定厚度的薄膜
材料的制备方法
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激光蒸发装置
无论在稀薄气体、金属蒸气或大气中，当电源功率较大，能提供足 够大的电流（几安到几十安），使气体击穿，发出强烈光辉，产生 高温（几千到上万度），这种气体自持放电的形式就是弧光放电。
通常产生弧光放电的方法是使两电极接触后随即分开，因短路发热， 使阴极表面温度陡增，产生热电子发射 。热电子发射使碰撞电离及 阴极的二次电子发射急剧增加，从而使两极间的气体具有良好的导 电性。弧光放电的特征是电压不高，电流增大的两极间电压反而下 降，有强烈光辉。
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射频溅射装置
特点： •交流电源的频率低于50kHz，通常使用频率区 间为5-30kHz •适用于各种金属和非金属材料的溅射
材料的制备方法
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磁控溅射装置
溅射法的缺点： •溅射方法沉积薄膜的沉积速率较低 •溅射所需要的工作气压较高，否则电子的平均 自由程太长，放电现象不易维持
磁控溅射的特点：
按照物质的结晶状态来划分：
• 单晶态 • 多晶态 • 非晶态
按照物质的尺寸来划分：
• 体材料 • 薄膜材料
材料的制备方法
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单晶材料的制备方法
• 直拉法 • 区熔法 • 布里奇曼法
材料的制备方法
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多晶材料的制备方法
熔炼（合金） 电弧，感应线圈，激光束
烧结（氧化物）
材料的可控制备方法
材料的可控制备方法一、引言材料的可控制备是指通过一定的方法和技术，使得材料的结构、形貌、尺寸等特征可以被精确地控制和调控，以满足不同应用领域对材料性能的需求。
随着科技的进步和人们对材料性能要求的不断提高，材料的可控制备方法也日益成为研究的热点和难点。
二、自下而上的可控制备方法自下而上的可控制备方法是指通过原子、分子或纳米尺度的组装，逐步构建材料的结构和特征。
其中最常见的方法是溶液法、气相法和固相法。
1. 溶液法溶液法是指通过将材料的原子、分子或纳米颗粒溶解在溶剂中，然后通过控制溶剂的蒸发或加热等方式，使溶液中的材料逐渐沉淀并形成所需的结构。
溶液法具有操作简单、成本低廉、适用范围广等优点，可以制备出各种形貌和结构的材料。
2. 气相法气相法是指通过将材料的原子或分子蒸发，并在一定的条件下使其在气相中发生反应或沉积，最终形成所需的结构。
气相法主要包括化学气相沉积法、物理气相沉积法和热蒸发法等。
气相法能够制备出高纯度、高质量的材料，并且具有较好的可控性。
3. 固相法固相法是指通过将材料的原料混合并在一定的温度条件下反应，最终形成所需的结构。
固相法可以通过控制原料的配比、反应温度和时间等参数，实现对材料结构和性能的精确控制。
固相法适用于制备高温材料和复杂结构材料。
三、自上而下的可控制备方法自上而下的可控制备方法是指通过对材料进行加工和处理，逐步调控其结构和特征。
其中最常见的方法是光刻、电子束曝光和激光刻蚀等。
1. 光刻光刻是一种通过光敏物质的光化学反应，将图案转移到材料表面的方法。
光刻主要包括选择性光刻和全局光刻两种方式，可以实现对材料的微米和纳米尺度结构的精确控制。
光刻方法广泛应用于集成电路、光电子器件等领域。
2. 电子束曝光电子束曝光是一种利用电子束对材料进行曝光，形成所需结构的方法。
电子束曝光具有较高的分辨率和精度，可以制备出纳米尺度的结构。
电子束曝光广泛应用于纳米加工、纳米模具制备等领域。
3. 激光刻蚀激光刻蚀是一种利用激光对材料进行刻蚀，形成所需结构的方法。
化学工程揭秘新型材料的合成方法
化学工程揭秘新型材料的合成方法为了满足不断变化的社会需求，科学家们在化学工程领域不断探索并研究新的材料合成方法。
这些新型材料在各个领域中发挥着重要作用，如电子、能源、环保等。
本文将揭秘一些新型材料的合成方法，介绍其制备工艺及应用。
一、聚合物材料合成方法1.原位聚合法原位聚合法是一种常见的合成聚合物材料的方法。
它通过在化学反应中加入单体，使其在反应过程中逐渐聚合形成聚合物。
这种方法的特点是简单易行，适用于大规模生产。
例如，聚乙烯和聚丙烯就是通过原位聚合法合成的。
2.溶液聚合法溶液聚合法是将单体溶解在溶剂中，加入引发剂或光引发剂，通过引发剂的作用使单体逐渐聚合形成聚合物。
这种方法的优点是能够控制聚合物的分子量和分子结构，制备出具有特定性能的材料。
举例来说，聚酯和聚酚等材料常采用溶液聚合法合成。
二、无机材料合成方法1.沉积法沉积法是一种通过在底物上逐渐沉积材料的方法。
它包括化学气相沉积、物理气相沉积、溶液沉积等多种形式。
这种方法适用于制备薄膜、纳米颗粒等材料。
例如，气相沉积法常用于制备硅薄膜和二氧化钛薄膜。
2.溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是将溶胶与凝胶逐渐转化为固体材料的过程。
溶胶指由溶剂中分散的颗粒或分子组成的胶体体系，凝胶则是指由溶液中形成的三维网状结构的凝胶体系。
这种方法适用于制备陶瓷材料、气凝胶等。
铝氧凝胶就是通过溶胶-凝胶法制备的。
三、纳米材料合成方法1.气相法气相法是通过在气相条件下进行反应合成纳米材料的方法。
它包括气相沉积、气相凝胶法等。
这种方法可以制备出高纯度、均匀分散的纳米材料。
氧化铝纳米颗粒常使用气相法进行合成。
2.凝胶法凝胶法是通过溶胶凝胶过程制备纳米材料的方法。
采用这种方法可以控制纳米颗粒的尺寸和形貌，制备出具有特殊性能的纳米材料。
二氧化硅纳米颗粒常采用凝胶法进行制备。
新型材料的合成方法多种多样，不同的材料类型适用于不同的合成方法。
随着科技的发展，更多新型材料的合成方法将被不断探索和发展。
高分子材料制备方法
高分子材料制备方法
高分子材料制备方法有很多种，以下是常见的几种方法：
1. 添加聚合法：通过将单体加入反应体系中，在适当的温度和反应条件下进行聚合反应，来制备高分子材料。
常见的添加聚合法有自由基聚合法、阴离子聚合法、阳离子聚合法、共聚法等。
2. 缩聚法：通过合成可溶性低聚物和聚合物，然后通过化学反应或物理处理将其聚合成高分子材料。
常见的缩聚法有聚酯缩聚法、聚酰胺缩聚法、聚酰胺缩聚法等。
3. 乳液聚合法：将单体与表面活性剂、乳化剂等混合形成乳液，并通过反应引发剂或共聚催化剂进行聚合反应，得到乳液聚合物。
乳液聚合法具有操作简便、能够得到高纯度、高分子量聚合物等优点。
4. 溶液聚合法：将单体溶解在溶剂中，添加引发剂或催化剂，然后通过聚合反应得到高分子溶液。
常见的溶液聚合法有溶液聚合法、聚合溶胶-凝胶法等。
5. 辐射聚合法：通过辐射源（如光、电子束、离子束等）照射单体或预聚合体，使其发生聚合反应。
辐射聚合法具有反应速度快、操作简单等优点。
6. 其他方法：还有一些其他制备方法，如发泡法、交联法、剪切聚合法、纺丝
法等。
需要根据具体的高分子材料的性质和用途来选择适合的制备方法。
制备材料的方法有哪些
制备材料的方法有哪些制备材料的方法是指通过不同的工艺和技术手段来获得所需材料的过程。
下面将介绍几种常见的制备材料的方法。
1. 熔融法：将原料加热至熔点，使之熔化后，再通过冷却使其凝固形成所需材料。
这种方法适用于金属、陶瓷等高熔点物质的制备。
例如，熔化高纯度金属，将其倒入模具中进行冷却后，可以制备出金属块、片等。
2. 溶液法：将固体物质溶解于适当溶剂中，形成溶液，通过溶液的浓缩、结晶、沉淀等操作，使所需物质重新沉淀出来。
溶液法适用于很多无机物和有机物的制备。
例如，制备硫酸铜，将铜粉与硫酸反应，得到溶液后可以通过结晶使硫酸铜重新生成。
3. 气相沉积法：通过气体中的反应物质在合适的条件下发生化学反应，沉积在基底表面，形成所需材料。
气相沉积法常用于制备薄膜材料，例如化学气相沉积法可以制备出具有特殊性质的二氧化硅膜。
4. 沉淀法：通过在溶液中加入适当的试剂，使反应物质发生沉淀反应，从而得到所需材料。
沉淀法常用于制备金属氧化物、金属碳酸盐等材料。
例如，制备氢氧化铝，先将铝盐溶解在水中，然后加入氢氧化钠，铝阳离子于碱性条件下与氢氧化物离子发生沉淀反应，从而沉淀得到氢氧化铝。
5. 水热法：将反应物溶解于水或有机溶剂中，在高温高压条件下进行反应，然后快速降温使溶液冷却，形成所需材料。
水热法常用于制备金属氧化物、金属硫化物等材料。
例如，制备纳米颗粒，先将金属盐溶解在水中，然后在高温高压条件下进行反应，最后通过快速降温使溶液冷却，纳米颗粒便能沉淀出来。
6. 碳化法：将碳源与需要制备的元素放在一起，通过高温处理使其相互反应生成所需材料。
碳化法常用于制备陶瓷材料。
例如，制备碳化硅，将高纯度碳与二氧化硅混合，置于高温炉中加热，碳与硅发生反应形成碳化硅。
7. 导体法：通过在材料中加入一定比例的导体，通过电流通过导体来使材料自身发生反应或电解溶液，从而得到所需材料。
导体法常用于电解法制备金属材料。
例如，用氯化钠溶液电解可得到氯气和金属钠。
功能材料的制备和表征
功能材料的制备和表征随着科技的发展，功能材料在人类社会中的作用越来越重要。
功能材料是指在特定条件下具有特定功能的材料，例如具有导电性、光学性、磁性、生物相容性等等。
本文将介绍功能材料的制备和表征。
一、功能材料的制备功能材料的制备方法有多种，包括化学合成法、物理法、生物法等等。
其中，化学合成法是最常用的一种方法，常用于制备无机或有机小分子。
1. 化学合成法化学合成法是利用化学反应在反应溶液中合成材料的方法。
常用的合成法有溶胶-凝胶法、水热法、气相沉积法等等。
溶胶-凝胶法又可分为溶胶法和凝胶法两种。
溶胶法是将精细的氧化物粉末悬浮在水或有机溶剂中，经过初步处理后形成胶体分散液。
凝胶法是将精细粉末悬浮在水中，通过调节pH值和加入某些物质形成凝胶。
这种方法制备的材料具有较大的比表面积和孔隙度，具有较好的吸附性、催化性和光学性能。
水热法是将高度饱和溶液加热至较高的温度，在高温高压下经历多道物理化学反应过程，最终沉淀出所需的材料。
这种方法制备的材料具有晶体形态良好、分散度高、表面积大等优点。
气相沉积法是通过化学气相沉积、热分解、沉淀、物理气相沉积等方法，将固体、液体或气体前体物质转化为薄膜、粒子、线条等形态的材料。
这种方法可制备出较好的单晶薄膜和纳米颗粒等。
2. 物理法物理法主要是利用物理手段对材料进行制备，包括热处理、溅射、蒸发、溶液法等等。
这种方法常用于制备金属或氧化物等材料。
热处理就是将材料加热至一定温度，使其在化学成分和晶体结构上发生改变。
溅射是将靶材料置于真空先生的氩气中，通过放电将靶材料中的原子、分子抛出，沉积在试样表面形成薄膜。
蒸发是将易揮发的前体物质加热至高温，再使其冷凝成薄膜或粉末。
溶液法是将材料溶解在溶液中，然后在反应溶液中形成沉淀。
3. 生物法生物法主要是利用生物体制备材料，包括蚕丝蛋白、蛤田酸、DNA等等。
这种方法具有绿色环保、易操作、制备成本低等优点。
二、功能材料的表征功能材料制备完成后，需要对其进行表征。
材料制备方法范文
材料制备方法范文一、溶剂热法溶剂热法是指将反应物溶解在合适的溶剂中，在一定的温度和压力下进行反应，形成所需的材料。
该方法适用于制备纳米颗粒、纳米薄膜等材料。
以制备纳米颗粒为例，具体操作步骤如下：1.准备所需的反应物和溶剂。
将反应物和溶剂称量并放入反应容器中。
2.加热反应容器。
将反应容器放入加热装置中，升高温度至反应温度。
3.反应。
在一定时间内保持反应温度，使反应进行。
可以通过搅拌或超声辅助反应。
4.冷却。
待反应完成后，将反应容器取出，并在室温下冷却至制备物形成。
5.分离和洗涤。
将制备物分离出来，并用适当的溶剂进行洗涤，去除残余物。
6.干燥。
将洗涤后的制备物进行干燥，得到所需的纳米颗粒。
二、气相沉积法气相沉积法是指通过蒸发或气化的方式将反应物输送至反应区域，然后在一定的温度和气氛下进行反应，最终得到所需的材料。
该方法适用于制备薄膜、纳米线等材料。
以制备薄膜为例，具体操作步骤如下：1.准备反应器。
选择适当的反应器，并预先清洗，确保无杂质。
2.装入反应物。
将反应物放入反应器的蒸发源中。
3.创建气流。
通过控制压力和气体流量，使反应物气化形成气流，经过反应室。
4.反应。
在特定的温度和气氛下，使气流中的反应物在基片上沉积形成薄膜。
5.冷却。
待反应完成后，停止反应，使反应室冷却至室温。
6.取出制备物。
将基片从反应器中取出，得到所需的材料薄膜。
三、溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是指通过先将反应物溶解在适当的溶剂中形成溶胶，然后通过固化凝胶来制备材料。
该方法适用于制备陶瓷材料、复合材料等。
以制备陶瓷材料为例，具体操作步骤如下：1.准备溶解液。
将所需的反应物溶解在适当的溶剂中，形成溶解液。
2.调整溶解液pH值。
根据所需的陶瓷材料类型，调整溶解液的pH值。
3.沉淀形成凝胶。
通过加入适当的沉淀剂或调整温度等方式，使溶解液中的反应物发生沉淀反应，形成凝胶。
4.干燥和固化。
将得到的凝胶进行干燥，去除溶剂，并在适当的温度下进行固化，得到固体材料。
发现新型材料的制备方法
发现新型材料的制备方法新型材料的制备是推动材料科学和工程领域不断发展和进步的关键之一、通过发现和开发新的材料，可以满足不同领域的需求和应用，例如能源存储、电子器件、医学和环境保护等。
下面将介绍几种常用的发现新型材料的制备方法：1. 经验模板法（Template synthesis）经验模板法是一种常见的制备具有特定结构的新型材料的方法。
它利用一种已知的模板物质，通过沉积或化学反应在模板上生成所需的材料。
例如，在纳米粒子制备时，可以使用金属颗粒作为模板，通过还原反应或其他方法在其表面生成纳米尺寸的材料。
2. 溶胶-凝胶法（Sol-gel method）溶胶-凝胶法是一种制备材料的常用方法，它使用预聚合物或金属盐等溶液来制备胶体或溶胶，然后通过凝胶化和热处理来形成所需的材料。
这种方法可以制备多种材料，包括陶瓷、玻璃和纳米材料等。
3. 化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition, CVD）化学气相沉积法是一种通过气相反应在材料表面沉积薄膜或纳米结构的方法。
主要包括热CVD和等离子体增强CVD等。
这种方法可以制备具有高质量和高纯度的材料，广泛应用于微电子和光电子器件的制备。
4. 生物合成法（Biological synthesis）生物合成法是一种使用生物体或其酶来制备材料的方法。
通过调节生物体的生长环境或向其添加特定的基质，可以使其合成出具有特定结构和性质的材料。
例如，利用微生物可以合成金属纳米颗粒，这种方法具有环境友好、低成本等优点。
5. 机械合金化法（Mechanical Alloying, MA）机械合金化法是一种通过机械合金化设备，例如球磨机，将多种材料在高能的冲击和剪切力下混合并反应的方法。
这种方法可以制备出具有均匀分散相和高强度的合金材料。
6. 物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition, PVD）物理气相沉积法是一种通过在真空条件下将固体材料蒸发或溅射到衬底表面形成薄膜的方法。
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高活性氧化镁的制备与应用The preparation and application of highly active magnesium oxideZhao xian tang（College of Science and Metallurgical Engineering，Wuhan University of Science and Technology，Hubei,，Wuhan,，430081)摘要：本文论述了高活性氧化镁的特性、制备方法、活性测定及活性影响因素，主要就制备方法进行探讨，了解熟悉高活性氧化镁的生产过程，思考寻求制备更好的高活性氧化镁。
关键词：高活性氧化镁制备Abstract：This paper discusses the characteristics of the high-activity magnesium oxide, preparation methods, determination of activity and active factors affecting, which mainly discusses the preparation methods, in order to familiar with the production process of highly active magnesium oxide and think for the preparation of highly active magnesium oxide.Keywords: high-activity magnesium oxide preparation method引言活性氧化镁的比外表积较大，是制备高功用精密无机材料、电子元件、油墨、有害气体吸附剂的重要质料。
这种氧化镁因为其颗粒微细化，外表原子与体相原子数的份额较大而具有极高的化学活性和物理吸附才能。
因为具有杰出的烧结功能，可制成高细密的细晶陶瓷或多功用性氧化镁薄膜，一起具有高活性和高分散性，容易与高聚物或其他资料复合。
高活性氧化镁是一种新型精细无机材料，一般都是纳米微粒的集合体，粒径大小在1~2000nm之间[1]，吸附碘值在120mg/g以上的氧化镁，由于其颗粒细微化，由于其颗粒微细化，表面原子与体相原子数的比例较大而具有极高的化学活性和物理吸附能力，由于大量表面原子和表面缺陷的存在，表面原子的扩散速度很高，因此具有良好的烧结性能，还具有不同于本体材料的热、光、电、力学和化学等特殊功能。
随着科学技术和国民经济的发展，高活性氧化镁的应用将越来越广泛。
氧化镁的活性活性是决定氧化镁功能的重要物理化学性质。
对于活性的概念国内外学者有着不同的认识。
Txacow认为氧化镁的活性是其促进化学的或物理化学的反应能力[2]。
Baker证明活性氧化镁粒子是由很小的微晶集合体组成的[3]。
而有的资料则认为，活性氧化镁为非等轴晶系方镁石，由于品格存在着点阵缺陷和位错而形成具有较高的表面能的α-MgO[4]。
氧化镁的活性即是指氧化镁参与化学或物理化学反应过程的能力。
氧化镁活性的实质是MgO雏晶表面价键的不饱和性引起的，晶格的畸变和晶格的缺陷，加剧了这种键的不饱和性[5]。
因此，氧化镁的活性是氧化镁的一种本质属性，而活性的差异主要来源于氧化镁雏晶的大小以及不完整结构等因素。
如果氧化镁晶体的结构松弛，晶格畸变、缺陷较多，则表面就会形成一定数量带有不同极性的基团。
这种基团是一种不饱和价键，易于进行物理化学反应，宏观上表现为氧化镁的活性好。
反之，氧化镁晶粒较大，结构紧密，晶格完整，其活性较低。
因此，制备活性氧化镁的关键就是令生成的氧化镁晶体拥有松弛的结构，存在较多的品格畸变和缺陷。
菱镁矿和水镁石是生产氧化镁的主要原料，许多科学工作者对这两种原料的分解机理进行了研究。
2.高活性氧化镁的制备超细高活性氧化镁由于其独特的物理化学性质及应用要求，而有独特的制备方法。
目前，现有文献中关于制备超细氧化镁的文献较多，但关于制备高活性氧化镁的文献很少。
超细氧化镁和高活性氧化镁有一定的关联，一般来说超细氧化镁的活性比普通粒径的氧化镁高，但超细氧化镁并不一定都是高活性的，所以可依据的文献较少。
超细氧化镁制备的方法按反应物料的状态可分为三大类：气相法、液相法和固相法，其中液相法是最重要的一种制备方法。
2.1煅烧菱镁矿法将菱镁矿原料破碎、磨细后，在700℃～900℃下煅烧并保温一定时长，即可得到纯度不高的一般工业活性氧化镁。
王佩玲等利用这种方法，在650℃～700℃的煅烧温度下得到吸碘值为84.3mg/g的氧化镁[6]。
于景坤等利用煅烧菱镁矿法，以菱镁矿为原料经煅烧得到苛性氧化镁，然后将其消化制得氢氧化镁，通过煅烧该前驱体制备活性较高的苛性氧化镁，考察了氢氧化镁的煅烧制度对产物氧化镁性质的影响，并研究了活性氧化镁微观结构与其活性之间的关系。
2.1.1.实验原料菱镁矿是碳酸盐矿物，分子式为MgCO3，理论上含MgO，47．82％，CO2，52．18％。
矿物结构有结晶形与无定形两种。
结晶形菱镁矿属于六方晶系，具有玻璃光泽，而无定形菱镁矿则没有光泽，并成角质断口。
一般菱镁矿多为白色或淡黄色，由于常含有碳酸钙、碳酸铁、碳酸锰、二氧化硅等杂质，因此其颜色也呈现一定变化，如橙黄色、灰色和褐色等。
菱镁矿的硬度约为3.5~4.5，比重2.8~3.1。
2.1.2 前驱体氢氧化镁的制备根据热重分析结果与资料数据[7]定菱镁矿的煅烧制度为：将菱镁矿在850℃下煅烧，保温2小时得到苛性氧化镁。
再将其球磨4小时后，依次过80目、l 50目、200目标准筛，然后把粒度小于200目的氧化镁粉末投入80℃～200℃的水中进行水化。
待完全水化后，将氢氧化镁泥浆依次过320目，500目标准筛，接着再把滤液烘干，即得到块状氢氧化镁。
将其磨细后，作为制备氧化镁的原料。
上述工艺流程如下；菱镁矿→煅烧(850℃×2h) →细磨→筛分(200目) →水化→筛分(500目) →烘干→氢氧化镁(块状) →细磨→氢氧化镁粉末2.1.3制备方法利用热重分析仪测定氢氧化镁的分解温度，以确定合适的活性氧化镁的制备条件。
通过两个方案改变煅烧温度、保温时间、起始煅烧温度、料层厚度等方式，找到制备高活性氧化镁的最佳条件，并考察不同制备条件对氧化镁活性和微观结构的影响。
方案一：以刚玉坩埚取料层厚度为60mm的氢氧化镁，置于重烧炉内，于不同煅烧制度下制取氧化镁。
煅烧温度分别为：450℃、500℃、550℃、600℃，保温时间1h、1.5h、2h。
方案二：以刚玉坩埚取料层厚度为12ram的氢氧化镁，置于重烧炉内，于不同温度下开始升温，升温速度为l0℃/main，保温时间为1h，制取氧化镁。
煅烧温度范围为300℃～900℃，起始温度分别为20℃、200℃以及已确定的煅烧温度(即爆烧)。
此法的优点是原料便宜易得、流程短、工艺简单、生产成本低，缺点是所得氧化镁的活性不高。
2.2水菱镁矿法水菱镁矿(3MgCO3·Mg(OH)2·3H2O)属于天然碱式碳酸镁。
将其在450℃～800℃下动态焙烧，可制得碘吸附值为80-120mg/g的中档活性氧化镁[8]。
2.3碳酸化法[9-10]此法的原理是：将白云石或菱镁矿经过高温煅烧，得到粗制的氧化镁，再经过消化、过滤、碳酸化等步骤，除去杂质，得到碳酸氢镁溶液，将碳酸氢镁溶液热解，得到碱式碳酸镁沉淀，再将此沉淀干燥、低温煅烧、粉碎，制得高活性氧化镁。
该法特点是流程长，设备庞大，但原料便宜易得，生产成本较低。
工业生产中广泛采用该法。
其基本原理反应如下：MgCO3˙nCaCO3= MgO + nCaO+(n+1) CO2↑(2-1) MgO+H2O=Mg(OH)2(2-2) CaO+H2O=Ca(OH)2(2-3) Ca(OH)2+CO2= CaCO3↓+H2O (2-4) Mg(OH)2+CO2= Mg(H CO3)2(2-5) Mg(H CO3)2+H2O= MgCaO3˙3H2O+CO2↑(2-6)5 MgCaO3˙3H2O= 4MgCaO3˙Mg(OH)2˙4 H2O+CO2↑+10H2O (2-7)4MgCaO3˙Mg(OH)2˙4 H2O=MgO+4CO2↑+5H2O (2-8) 碳化法从白云石中提取碳酸镁及氧化镁是英国H.G Patterson 于1841年首先使用的。
又称为Patterson法，经改进后就是加压碳化法，并在工业上沿用至今。
但由于该工艺流程长、制备过程复杂、设备投资大，使活性氧化镁的生产成本较高。
2. 4沉淀法[11 ]又称卤水白云石灰法。
此法是以优质石灰石或白云石为沉淀剂。
将其煅烧后生成CaO、MgO，再经加水消化后得Ca(OH)2或Ca(OH)2与Mg(OH)2的混合灰浆，海水经脱碳塔除去CO2后与Ca(OH)2在反应槽内进行反应，生成的Mg(OH)2经过沉降、洗涤、过滤，脱水后得到Mg(OH)2滤饼，再经轻烧后得到活性MgO。
因为它采用成本很低的石灰石或白云石作原料，适宜于从海水(Mg2+浓度低)中提取氧化镁，但要制出符合要求的氢氧化镁并不容易。
首先，海(卤)水、石灰石和白云石均含有杂质；其次，海水或卤水直接与石灰乳起反应生成的Mg(OH)2胶状沉淀很细，沉降速度很慢，带下较多杂质。
该法优点是工艺较为简单。
缺点是能耗及生产成本较高，建厂受到原料产地限制。
2. 5 酸解法[12-13 ]也有称为碳酸氢铵法的。
此法是将菱苦土等含镁矿石粉碎后，用硫酸溶解，生成硫酸镁溶液，经过精制，与碳酸氢铵反应生成碳酸氢镁或碳酸镁，经过分离、热解得到碱式碳酸镁，再经干燥、低温煅烧、粉碎制得高活性氧化镁。
碳酸铵法的沉淀反应原理大致如下[14]：2NH4HCO3+MgCl2= Mg(HCO3)2+2NHCl (2-9) Mg(HCO3)2+2 H2O= MgCaO3˙3H2O↓+CO2↑(2-10) MgCaO3˙3H2O= MgO+CO2↑+3H2O↑（2-11）MgCaO3+H2SO4=MgSO4 +CO2↑+H2O↑（2-12）5MgSO4+5(NH4) +6H2O = Mg CaO3˙Mg(OH)2˙5H2O+CO2↑+5(NH4)2 SO4 (2-13) Mg CaO3˙Mg(OH)2˙5H2O=5 MgO+4CO2↑+6H2O↑（2-14）该法工艺较为简单，操作方便，产品质量高，建厂不受原料产地的限制，但生产成本较高。
2. 6微波辐射法山西的薛循升等报道了以Mg(OH)2为原料，通过加入添加剂，用微波辐射的方式，制备出碘吸附值大于170 mg/g 的高活性氧化镁。
此法制得的氧化镁视比容较低。
该法优点是微波分解Mg(OH)2时间短，效率高，节能高效，易于控制，工艺先进。