实验二 晶体管的伏安特性及温度特性

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二极管电学特性和温度特性

二极管电学特性和温度特性

绘制含有三条曲线的二极管正向特性如下:
66.767 2.6
80.733 2.8
2. 测绘二极管的反向特性: U(V) 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 I 16.90 18.60 19.80 21.80 22.60 23.70
U(V) 7.0 8.0 9.0 10.0 11.0 12.0 I 24.80 25.40 26.30 27.20 27.80 28.20 绘制二极管反向特性如下图所示:
半导体二极管的伏安特性及温度特性测绘
【实验目的】
1、 学习伏安法测量电阻的正确接线方法; 2、 掌握测量半导体二极管的正、反特性电表内接与外接的方法和意 义; 3、 通过作P-N结的伏安特性曲线,学会正确的作图方法,特别是坐标轴 比例的正确选取。
【实验原理】 半导体二极管的伏安特性:
对于某种电子元件,在温度不变的情况下,若改变其加在两端的电 压值U大小,电流值I也会随之而变化。以电压U为横坐标,电流I为纵坐 标,可得到一条曲线,此即这种电子元件的“伏安特性曲线”。对于通 常的金属导体而言,伏安特性曲线是一条直线,这一类元件我们称之 为“线性元件”。还有就是像我们实验中用到的半导体二极管一样,其
U(V) 1.8
2
2.2
2.4 2.6
2.8
I(mA) 数字式 16.88 仪表
19.88
23.20 27.00 31.90 37.20
I(mA) 磁电式 32.55 40.00 46.30 58.50 68.50 82.60 仪表 实验用的指针式电压表所用挡的内阻:,而此时采用的是电流表外接 法,修正方法如下:
2、 测绘二极管的反向特性: 电源15V,保护电阻2KΩ,采用指针式电压表,不要超过管子的最大反 向电压值,只要电流突变为较大即可,并且注意控制电流在80以内,

晶体管共射极接法的伏安特性曲线

晶体管共射极接法的伏安特性曲线

i 饱和区 4 C / mA
a. UCE ≤ UBE
3
b. IC<βIB
2
c. UCE 增大Байду номын сангаас IC 增大。
1 (2) 截止区
a. UBE<死区电压
0
b. IB ≈ 0 c. IC ≈ 0
24 截止区
iB= 100 μA
80 60
40 20 0
6 8 uCE / V
模拟电子技术
2. 晶体管及放大电路基础
硅管0.7 V 锗管0.3V
(3) 锗管的 ICBO 比硅管大
模拟电子技术
谢 谢!
模拟电子技术
2. 晶体管及放大电路基础
2.1 晶体管
2.1.1 晶体管的结构 2.1.2 晶体管的放大状态及工作原理 2.1.3 晶体管共射极接法的伏安特性曲线
模拟电子技术
2. 晶体管及放大电路基础
2.1.3 晶体管共射极接法的伏安特性曲线
三极管共射极接法
iB
uBE
iC
iE
uCE
共射极输入特性
iB μA
2. 晶体管及放大电路基础
NPN管与PNP型管的区别
NPN管电路
iB
iC
uBE
iE
uCE
PNP管电路
iB
iC
uBE
iE
uCE
iB、uBE、iC、 iE 、uCE 的极性二者相反
模拟电子技术
2. 晶体管及放大电路基础
硅管与锗管的区别: (1) 死区电压约为
硅管0.5 V 锗管0.1V
(2) 导通压降|uBE|
(3) 放大区
i 饱和区 4 C / mA
iB= 100 μA

晶体管的伏安特性及主要电参数

晶体管的伏安特性及主要电参数

晶体管的伏安特性及主要电参数晶体管是一种半导体元件,其具有非线性伏安特性。

在晶体管中,电流与电压之间的关系不是简单的线性关系,而是由晶体管的结构和材料特性所决定的复杂关系。

晶体管的主要电参数包括饱和电流、增益和输出电阻等。

晶体管的伏安特性是指晶体管输入电流与输出电压之间的关系。

晶体管一般有三个电极,即发射极(Emitter)、基极(Base)和集电极(Collector)。

当输入电流施加在基极时,会导致发射极-基极结区域的电流增加,从而导致集电极-基极结区域的电流也增加。

因此,晶体管的输出电压与输入电流之间存在着非线性关系。

晶体管的伏安特性可分为直流伏安特性和交流伏安特性。

直流伏安特性是指基极电压为直流电压时,发射极和集电极之间的电流与电压之间的关系。

交流伏安特性则是指基极电压为交流电压时,晶体管的输出电流与输出电压之间的关系。

晶体管的主要电参数包括:1.饱和电流:即基极电压较低时,当发射极-基极结区域的电流最大时的电流值。

饱和电流决定了晶体管的最大电流承受能力。

2.增益:即晶体管的电流放大能力。

晶体管的增益指的是集电极电流与发射极电流之间的比值,一般用hFE表示。

3.输出电阻:即集电极与发射极之间的总电阻。

输出电阻决定了晶体管的输出电压与输出电流之间的关系。

晶体管的主要电参数对于电路的设计和应用具有重要意义。

例如,在放大电路中,通过选择合适的晶体管,可以实现对输入信号的放大;而在开关电路中,通过控制晶体管的饱和电流,可以实现对开关状态的控制。

总之,晶体管的伏安特性及主要电参数对于理解晶体管的工作原理和应用具有重要意义,它们为电路的设计和分析提供了基础和参考。

光电二三极管特性测试实验报告

光电二三极管特性测试实验报告

光敏二极管特性测试实验一、实验目的1.学习光电器件的光电特性、伏安特性的测试方法;2.掌握光电器件的工作原理、适用范围和应用基础。

二、实验内容1、光电二极管暗电流测试实验2、光电二极管光电流测试实验3、光电二极管伏安特性测试实验4、光电二极管光电特性测试实验5、光电二极管时间特性测试实验6、光电二极管光谱特性测试实验7、光电三极管光电流测试实验8、光电三极管伏安特性测试实验9、光电三极管光电特性测试实验10、光电三极管时间特性测试实验11、光电三极管光谱特性测试实验三、实验仪器1、光电二三极管综合实验仪 1个2、光通路组件 1套3、光照度计 1个4、电源线 1根5、2#迭插头对(红色,50cm) 10根6、2#迭插头对(黑色,50cm) 10根7、三相电源线 1根8、实验指导书 1本四、实验原理1、概述随着光电子技术的发发展,光电检测在灵敏度、光谱响应范围及频率我等技术方面要求越来越高,为此,近年来出现了许多性能优良的光伏检测器,如硅锗光电二极管、PIN光电二极管和雪崩光电二极管(APD)等。

光敏晶体管通常指光电二极管和光电三极管,通常又称光敏二极管和三敏三极管。

光敏二极管的种类很多,就材料来分,有锗、硅制作的光敏二极管,也有III-V族化合物及其他化合物制作的二极管。

从结构我来分,有PN结、PIN结、异质结、肖特基势垒及点接触型等。

从对光的响应来分,有用于紫外光、红外光等种类。

不同种类的光敏二极管,具胡不同的光电特性和检测性能。

例如,锗光敏二极管与硅光敏二极管相比,它在红外光区域有很大的灵敏度,如图所示。

这是由于锗材料的禁带宽度较硅小,它的本征吸收限处于红外区域,因此在近红外光区域应用;再一方面,锗光敏二极管有较大的电流输出,但它比硅光敏二极管有较大的反向暗电流,因此,它的噪声较大。

又如,PIN型或雪崩型光敏二极管与扩散型PN结光敏二极管相比具有很短的时间响应。

因此,在使用光敏二极管进要了解其类型及性能是非常重要的。

pn结的伏安特性与温度特性测量(精)

pn结的伏安特性与温度特性测量(精)

PN结的伏安特性与温度特性测量半导体PN结的物理特性是物理学和电子学的重要基础内容之一。

使用本实验的仪器用物理实验方法,测量PN结扩散电流与电压关系,证明此关系遵循指数分布规律,并较精确地测出玻尔兹曼常数(物理学重要常数之一),使学生学会测量弱电流的一种新方法。

本实验的仪器同时提供干井变温恒温器和铂金电阻测温U与热力学温度T关系,求得该传感器的灵敏度,并电桥,测量PN结结电压be近似求得0K时硅材料的禁带宽度。

【实验目的】1、在室温时,测量PN结扩散电流与结电压关系,通过数据处理证明此关系遵循指数分布规律。

2、在不同温度条件下,测量玻尔兹曼常数。

3、学习用运算放大器组成I-V变换器测量10-6A至10-8A的弱电流。

U与温度关系,求出结电压随温度变化的灵敏度。

4、测量PN结结电压be5、计算在0K时半导体(硅)材料的禁带宽度。

6、学会用铂电阻测量温度的实验方法和直流电桥测电阻的方法。

【实验仪器】FD-PN-4型PN结物理特性综合实验仪(如下图),TIP31c型三极管(带三根引线)一只,长连接导线11根(6黑5红),手枪式连接导线10根,3DG6(基极与集电极已短接,有二根引线)一只,铂电阻一只。

【实验原理】1、PN 结伏安特性及玻尔兹曼常数测量由半导体物理学可知,PN 结的正向电流-电压关系满足:[]1/0-=KT eU e I I (1)式(1)中I 是通过PN 结的正向电流,I 0是反向饱和电流,在温度恒定是为常数,T 是热力学温度,e 是电子的电荷量,U 为PN 结正向压降。

由于在常温(300K)时,kT /e ≈0.026v ,而PN 结正向压降约为十分之几伏,则KT eU e />>1,(1)式括号内-1项完全可以忽略,于是有:KT eU e I I /0= (2)也即PN 结正向电流随正向电压按指数规律变化。

若测得PN 结I-U 关系值,则利用(1)式可以求出e /kT 。

晶体管伏安特性与开关特性图文说明

晶体管伏安特性与开关特性图文说明

晶体管伏安特性与开关特性图文说明1. 晶体管伏安特性曲线⑴输入特性曲线输入特性曲线是指当集电极与发射极之间电压U CE 为常数时, 输入回路中加在晶体管基极与发射极之间的发射结电压u BE 和基极电流i B 之间的关系曲线,如图2.7所示。

用函数关系式表示为:常数==CE BE B u u f i |)(⑵输出特性曲线输出特性曲线是在基极电流i B 一定的情况下,晶体管的集电极输出回路中,集电极与发射极之间的管压降u CE 和集电极电流i C 之间的关系曲线,如图2.8所示。

用函数式表示为常数==B CE C i u f i |)(图2.7 晶体管的输入特性曲线 图2.7输出特性曲线①截止区习惯上把i B ≤0的区域称为截止区,即i B =0的输出特性曲线和横坐标轴之间的区域。

若要使i B ≤0,晶体管的发射结就必须在死区以内或反偏,为了使晶体管能够可靠截止,通常给晶体管的发射结加反偏电压。

②放大区在这个区域内,发射结正偏,集电结反偏i C 与i B 之间满足电流分配关系i C =βi B +I CEO , 输出特性曲线近似为水平线。

③饱和区如果发射结正偏时,出现管压降u CE <0.7V (对于硅管来说),也就是u CB <0 的情况,称晶体管进入饱和区。

所以饱和区的发射结和集电结均处于正偏状态。

饱和区中的i B 对i C 的影响较小,放大区的β也不再适用于饱和区。

2.晶体管的开关特性从上述可知,当U C >U B >U E 时,三极管集的电极电流与基极电流成C B I I β=关系,而且调整RX1电阻(集电极电阻),使U CE 从0-5V 变化,此时的I C 值已最大。

即:当U C >U B >U E 时,集电极电流I C 最大值。

所谓晶体管的开关特性是指,当U C >U B >U E 时,集电极到发射极相当于有大电流流过,U CE =0V ,电源电压全部作用于集电极电阻上;当U C >U B =U E 时(或U C >U E >U B )时,集电极无电流流过,即I C =0A ,相当于晶体管的集电极与发射极断开,U CE 等于电源电压。

非线性元件伏安特性的测量实验报告-基本模板

非线性元件伏安特性的测量实验报告-基本模板

非线性元件伏安特性的测量实验报告-基本模板.docx非线性元件伏安特性的测量实验报告一、实验目的1. 掌握伏安特性测量的基本原理和方法;2. 了解非线性元件的基本特性和使用条件;3. 通过实验观察非线性元件的伏安特性,探究其非线性特性。

二、实验仪器1. 直流稳压电源;2. 电流表、电压表;3. 变阻器;4. 二极管;5. 晶体管等元件。

三、实验原理1. 二极管伏安特性二极管是一种具有非线性电性质的半导体元件,其伏安特性呈现出一定的折线性。

正向电压增加,二极管导通电流增加,其电压降逐渐减小,最终趋近于一个稳定的干接触电压;反向电压增加,二极管截止,几乎无表观电流。

因此,在二极管正向伏安特性曲线上,一段电压范围内表现为导通状态,称为“正导区”;另一段电压范围内表现为截止状态,称为“反向截止区”。

2. 晶体管伏安特性晶体管是一种受控的半导体放大器,其伏安特性是非线性的。

晶体管的输出电流与输入电压及偏置电压有关,而晶体管的输入电阻和输出电阻受到偏置电压的影响,具有较大的变化。

因此,晶体管的伏安特性存在多种类型,如单调式、双调式、S 型等,具有一定的特征。

四、实验步骤1. 准备实验仪器和元件。

2. 组装实验电路,如图所示。

3. 调节直流稳压电源的输出电压为所需电压,如0.1V、0.2V 等。

4. 用电压表测量二极管正反向电压,用电流表测量二极管正向电流。

5. 记录实验数据,绘制二极管正向伏安特性曲线,观察其特性,并测量二极管的大量反向电压。

6. 更换为晶体管等元件重复上述步骤,观察不同类型晶体管的伏安特性曲线,分析其性质。

五、实验结果与分析二极管、晶体管伏安特性曲线如下图所示:通过二极管、晶体管的伏安特性曲线可以看出,二极管在正向电压范围内,其电流随电压增加而增加,直到饱和状态,形成正向电流;而在反向电压范围内,其发生突变,极性反转,电流几乎为0;晶体管的伏安特性曲线则显示出不同类型晶体管的特征,如单调式晶体管的特征为输出电流与输入电压成正比,输出VS输入为线性,而双调式晶体管的电流输出与偏置电压存在双簇,输出与输入有一定的非线性关系。

第二章-晶体管

第二章-晶体管

(1)共基直流放大系数 IC
IE
(2)共基交流放大系数
IC
I E
由于ICBO、ICEO 很小,因此 在以后的计算中,不必区分。
二、极间反向电流
1 ICBO
发射极开路时,集电极—基极间的反向电流,称为集 电极反向饱和电流。
2 ICEO
基极开路时,集电极—发射极间的反向电流,称为集 电极穿透电流。
T
( 0.5 ~ 1) / C
2.3.2 晶体管的主要参数 一、电流放大系数
1.共射电流放大系数
(1) 共射直流放大系数 反映静态时集电极电流与基极电流之比。
(2) 共射交流放大系数 反映动态时的电流放大特性。
由于ICBO、ICEO 很小,因此 在以后的计算中,不必区分。
2. 共基电流放大系数
a. 受控特性:iC 受iB的控制
uCE=uBE 4

IB=40μ A
iC iB
饱 和3
30μ A

大 20μ A
iC iB
2

10μ A
1
b. 恒流特性:当 iB 恒定时,
0
uCE 变化对 iC 的影响很小
0μ A iB=-ICBO
5
10
15
uCE/V
截止区
即iC主要由iB决定,与输出环路的外电路无关。
iC主要由uCE决定 uCE ↑→ iC ↑
iC /mA
=80μA =60μA =40μA
=20μA
25℃
uCE /V
(3)当uCE增加到使集电结反偏电压较大时,运动 到集电结的电子基本上都可以被集电区收集,
此后uCE再增加,电流也没有明显得增加,特 性曲线几乎平行于与uCE轴
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实验二晶体二极管的伏安特性及其温度特性实验目的:1.了解晶体二极管伏安特性曲线及其与温度的关系。

2.掌握V j~T,I r~T以及伏安特性与温度之间关系的测量方法。

3.掌握用图示仪测量各类晶体二极管的特性曲线及各项参数的测量方法。

4.了解晶体管特性图示仪的基本工作原理及使用方法。

一实验原理在同一块P型(或N型)硅半导体中,用扩散或合金方法将其中一部分掺入施主杂质(磷、镓)或受主杂质(硼、铝)使之由P型转变成为N型(或由N型转变成为P 型)半导体,在P型区和N型区的交界处就形成了P—N结,如图一所示。

(a)图一PN结的形成图在P型半导体与N型半导体组合成为P—N结后,在P—N结的交界上就出现了电子和空穴的浓度差;N型区的电子浓度比较高,而P型区的空穴浓度比较高,电子和空穴都要从浓度高的地方向浓度低的地方扩散。

因此有一些电子要从N型区向P型区扩散,也有一些空穴要从P型区向N型区扩散,电子和空穴都是带电的,它们扩散的结果就使P型和N型区中原来的电中性条件破坏了:在P—N结交界面附近,P型一边失去了带正电的空穴和接受了带负电的电子,因而带了负电。

N型一边失去了带负电的电子和接受了带正电的空穴,因而带了正电。

由于正负电荷之间的相互吸引,这些电荷将集中分布在P—N结的交界面附近,形成空间电荷区。

在出现空间电荷以后,电于正负电荷之间的相互作用,在空间电荷区中形成了一个内建电场,其方向是从带正电的N型区指向带负电的P型区的,如图一(b)所示。

在电场出现以后,电子和空穴除了由于浓度不同继续作扩散运动外,还要在电场作用下作漂移运动。

根据电场方向和电子空穴带电符号容易看出,这个电场将使空穴从N向P区漂移,使电子从P区向N区漂移,其作用正好与扩散运动相反,当漂移运动与扩散运动相等时,载流子的扩散作用与漂移作用完全抵消,N区和P区的空间电荷不再继续增多,这就达到P-N结的平衡状态。

在平衡状态状态,内建电位差实际上就是不同半导体接触时的接触电位差。

89由晶体管原理分析可知,对于一个具体的P —N 结,在一定温度下的平衡P —N 结接触电位差V B 可由下式算出:2ln iba B n N N q kT V式中:k 为玻尔兹曼常数,T 为温度,N a 和N b 为受主杂质浓度和施主杂质浓度,n i 为本征载流子浓度。

由上分析可知,P —N 结的势垒区中有内建电场,在这个电场作用下,电子和空穴都被排斥到两边去了,势垒中载流子极少而绝大部分是不能移动的杂质离子,因此P —N 结的势垒区是一个高阻区(又称耗尽层或阻挡层)。

势垒区的高度就等于qV B 。

(一)P —N 结的正向特性P —N 结加正向电压V ,即P 型一边接正,N 型一边接负。

如图二。

这个电压与平衡P —N 结的原来的内建电势差V B 的方向正好相反,势垒高度将由V B 减少为(V B -V ),这样就打破了扩散运动和漂移运动的动态平衡,空间电荷区中载流子的扩散作用,将大于漂移作用,N 区的电子不断扩散至P 区,P 区的空穴不断扩散到N 区,扩散至P 区的电子将在势垒边界处积累起来。

然后这些少数载流子电子由于浓度梯度向P 区纵深方向扩散,在扩散过程中不断与空穴复合。

电子电流逐渐转化为空穴电流,经过一个电子扩散长度的距离后,电子基本上全部与空穴复合完毕。

N 区扩散至P 区的电子电流完全转化为P 区的空穴电流。

同样,扩散至N 区的空穴也在势垒边界处积累起来。

然后这些少数载流子空穴由于浓度梯度向N 区纵深方向扩散,在扩散过程中不断与电子复合,空穴电流逐渐转化为电子电流,经过一个空穴扩散长度的距离后,空穴基本上全部与电子复合完毕,P 区扩散至N 区的空穴电流完全转化为N 区的电子电流,如图三所示。

而总电流为空穴电流和电子电流之和。

显然,随着正向电压的增加,势垒高度将进一步降低,爬过势垒从N 区向P 区运动的电子和从P 区向N 区运动的空穴迅速增多,从而使P —N 结的正向电流迅速增大,因此在正向电压作用下,通过P —N 结的电流很大,表现出小电阻的特性。

这就10 是二极管的正向特性,如图4所示。

根据晶体管原理分析可知:在忽略势垒区复合及小注入),(nO n pO p n P P n <<∆<<∆条件下,得到P —N 结正向电流公式:)1)((00-+=kT qvPP n n n p e L Dp L D n Aq I (1) 其中:A~二极管P-N 结面积,0p n ~P 区平衡少数载流子,n D ~电子扩散系数, n L ~电子扩散长度. 0n p ~N 区平衡少数载流子, p D ~空穴扩散系数,p L ~空穴扩散长度。

由式(1)可知,当P —N 结处于正向偏置时(即v>0时),e q v / KT >>1,则式(1)可改写为:kT qvPP n n n p e L Dp L D n Aq I )(00+= (2) 根据2i n =n n0 p n0 , 2i n =p p0 n n0代入上式则:kTqvPP n i n n p i e L D n n L D p n Aq I )..(0202+= (3)公式(3)中许多因素,如D 、n i 和e qv /KT 等,都是与温度有关的,但它们随温度变化的激烈程度却很不相同,其中决定作用的要算21n 和e qv /KT 两项,故P —N 结正向电流I 与结正向压降V j 的关系为:I ∝2i n kTqv j e/ (4)式中, n i 为本征载流子浓度,它和禁带宽度qv g 及温度T 的关系为:1132T n i ∝kTqv g e/- (5)于是I 和温度关系为: I ∝T 3kTv v q j g e/)(-- (6)在I 不变条件下,对T 求微商。

化简最后得到:)3(qkTV V dTdv jg j +--= (7)从式(7)可见,结正向压降V j 越小,它的温度系数越大,以硅为例, V g =1.2 伏,V j =0.65 伏,T=3000K ,k=k ev 05/1063.8-⨯代入,则)/(2]0001.00016.0[0k mv dTdv j-≈+-=就是说,在室温附近温度每升高一度,V j 就减少2毫伏,如果温度升高100℃,V j 就减少0.3伏,其变化规律如图五所示。

实际测量中,把被测二极管放入恒温装置中,固定二极管正向电流I 为某一值(最好取小电流1~2毫安),然后在不同恒温状态下用直流数字电压表或长余辉示波器测量其二极管的正向压降V j 。

实验装置如图六所示。

(二)P-N 结反向特性P-N 结加反向电压,即P 型一边接负,N 型一边接正,如图七所示。

这个电压与平衡P —N 结中原来的内建电势差V B 方向相同,因此加上反向电压后,势垒中电场将增大。

由于受12 反向P —N 结势垒中强电场作用,势垒边缘的少数载流子都被电场拉走,使得势垒两边扩散区中少数载流子浓度低于平衡时浓度。

此时,扩散区中发生的是复台的逆过程,在N 型一边扩散区中产生的空穴扩散到势垒区,受强电场作用拉入P 型区,与那里扩散区产生的空穴会合在一起向负电极运动。

电子的运动情况也完全类似,P 型一边扩散区中产生的电子扩散到势垒区受强电场作用,漂移过势垒区与N 型一边扩散区中产生的电子会合在一起向正电极运动。

电子电流与空穴电流在势垒区扩散区互相接替转换。

组成由N 到P 的反向电流。

由于从N 区抽出的空穴及从P 区抽出的电子都是少数载流子,势垒两边界处的少数载流子浓度不需用多大的反向电压已经降为零。

电压再大也只不过为零而已,也就是说,少数载流子浓度不随反向电压而变,而反向电流的大小就决定于势垒边界的少数载流子浓度,这个梯度不大,且不随升加电压而变,因此P —N 结的反向电流是一个数值很小且不随外加反向电压而变化的电流;反向的P —N 结表现为一个很大的电阻,如图四所示。

在反向电压时,电压V 是一个较大的负数,即V<O ,也就是∣V ∣>>qkT,这样就有1/<<kTqv e。

则式(1)改写成:I=Aq(+n n p L D n 0)0PP n L Dp (8) 负号表示电流方向与正向时相反,也就是反向电流r I 。

r I =Aq(+n n p L D n 0)0PP n L Dp (9) (9)式表明:P —N 结反向电流在满足qkTV >>时,电流应该与电压无关,也就是常说的反向饱和电流。

实践证明,对于硅P —N 结的反向电流,理论与实际之间存在着偏离,主要表现为实际测量得到的硅P —N 结反向电流要比由式(9)计算所得的理论值大1000倍左右,同时还发现,硅P —N 结的反向电流时常随反向电压有缓慢的增加,总是不会真正完全饱和。

研究证明;产生上述偏离的原因主要在于对实际的硅P —N 结来说,构成其反向电流除了有扩散区中的扩散电流外,还有势垒产生电流和表面漏电流。

这后两项电流在原先的理论计算中被忽略了。

其中表面漏电流(I S )是同工艺有关,基本不随温度变化。

理论可以证明,势垒产生电流为I g =qA δτ3in (10) 式中,δ~势垒区在反向电压时的宽度,随反向电压增加而变宽,因此反向电流也随反向电压有缓慢的增加。

13式(10)中τ、i n 都与温度有关,i n 与温度关系为: n i KT E g e 2/-∝ 则:I g KTE g e 2/-∝因此硅P —N 结的反向电流随温度按KTE g e2/-规律增加。

在实际测量中,把被测二极管置于恒温装置中,固定二极管反向电压V 为某一数值,然后在不同恒温状态下用微安表测量其二极管反向电流I r ,实验装置示意图如图8所示。

最后根据测试数据,作出 I r ~T 关系曲线。

同样,保持I r 不变可作出V j ~T 关系曲线。

图8 I r ~T 关系曲线测量原理图(三)击穿电压的温度系数温度系数是指温度升高1℃,电压变化的百分数,随着温度升高电压增加称为正温度系数,否则称为负温度系数。

晶体三极管的bc 结的反向击穿属于雪崩击穿机构,其击穿电压具有正的温度系数,其数值为0.1%/℃,对一般应用没有很大影响。

晶体三极管eb 结的击穿电压兼有雪崩击穿和隧道击穿,两种击穿的温度系数具有相反的符号。

因此eb 结击穿电压随温度变化较小, 在击穿电压为5伏左右时,接近于零温度系数。

在击穿电压高于5伏时,有一定的正温度系数,它的数值小,每度只有几微伏,仅在eb 结作为基准稳压时才需考虑;一般情况下可以忽略。

实验设备:1.501超级恒温器,接触水银温度计; 2.电压表、直流稳压电源; 4.JT-1晶体管特性图示仪; 5.实验板、样管板。

实验步骤:预热:打开恒温器的电源和加热电源,旋转接触水银温度计的端帽,调节设定温度到50℃,开启泵开关。

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