反常霍尔效应知识交流

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霍尔效应知识点总结

霍尔效应知识点总结

霍尔效应知识点总结霍尔效应的产生原理是由洛伦兹力和电子在导体中的漂移速度共同作用所致。

当导体中有电流流过时,电子会受到磁场的洛伦兹力的作用,从而受到一个横向的力,在导体的横向两侧就会产生电场,导致电子在这个电场中受到一个侧向的压力,从而在横向产生电压差。

霍尔效应广泛应用于磁场测量、传感器、电流测量等领域,具有重要的实际意义。

以下是我们对霍尔效应的知识点进行总结:1. 霍尔效应的基本原理1.1 洛伦兹力1.2 电子在导体中的漂移速度1.3 产生横向电场1.4 侧向的压力1.5 横向电压差2. 霍尔元件的结构和工作原理2.1 P型霍尔元件和N型霍尔元件的结构2.2 霍尔元件的工作原理3. 霍尔效应的应用3.1 传感器3.2 电流测量仪3.3 磁场测量仪3.4 医疗设备4. 霍尔效应在传感器中的应用4.1 霍尔开关4.2 霍尔角度传感器4.3 霍尔速度传感器4.4 霍尔电流传感器4.5 霍尔磁场传感器5. 霍尔效应的实验观测5.1 实验装置5.2 实验过程5.3 实验结果6. 霍尔效应与其他效应的比较6.1 霍尔效应和热电效应6.2 霍尔效应和伏安效应7. 霍尔效应的研究现状7.1 霍尔效应的数值模拟研究7.2 霍尔效应的材料研究7.3 霍尔效应的应用研究7.4 霍尔效应的理论分析8. 霍尔效应的发展前景8.1 传感器技术的发展8.2 电子材料的发展8.3 磁场测量技术的发展8.4 医疗设备的发展以上就是对霍尔效应知识点的总结,希望对大家能有所帮助。

霍尔效应作为一种重要的物理现象,不仅在理论研究方面具有重要意义,而且在实际应用中也有着广泛的用途和发展前景。

相信随着科学技术的不断进步,对霍尔效应的研究和应用也会更加深入和广泛。

高三霍尔效应相关知识点

高三霍尔效应相关知识点

高三霍尔效应相关知识点霍尔效应(Hall Effect)是指当电流通过金属或半导体导体时,垂直于电流方向施加一个横向磁场,会在导体两侧产生一种垂直于电流和磁场方向的电压差。

这一现象是由美国物理学家愛德溫·赫爾(Edwin Hall)于1879年发现并命名的,由此得名。

霍尔效应是电磁学中的重要现象,深入了解和掌握霍尔效应对于理解和应用许多电子器件至关重要。

在高三物理学习中,涉及到的一些相关知识点如下:1. 霍尔效应的基本原理霍尔效应的基本原理是基于洛伦兹力和电荷守恒定律。

当电流通过金属或半导体导体时,载流子受到磁场力的作用,从而在导体的一侧产生电荷的堆积,进而形成电压差。

该电压差即为霍尔电压。

2. 霍尔效应的数学表达式霍尔效应的数学表达式是霍尔电压与电流、磁场强度以及导体的几何尺寸相关的方程。

一般而言,霍尔电压与电流成正比,与磁场强度和导体宽度成正比,与导体长度成反比。

3. 霍尔系数的定义和意义霍尔系数是衡量材料对霍尔效应响应程度的物理量。

它表示单位面积的导体在单位磁感应强度和单位电流下所产生的霍尔电压。

不同材料的霍尔系数不同,可以通过霍尔效应实验测量得到。

4. 霍尔效应在传感器中的应用霍尔效应广泛应用于各种传感器中,如磁场传感器、电流传感器等。

由于霍尔效应对磁场和电流的响应非常敏感,因此可以利用霍尔传感器来测量磁场强度或电流大小。

霍尔传感器具有结构简单、体积小、响应速度快等特点。

5. 霍尔效应在半导体中的应用霍尔效应在半导体材料中也有重要应用,如霍尔元件、霍尔开关等。

霍尔元件可以用来检测磁场的强度和方向,进而实现磁测控制。

霍尔开关则可以实现非接触式的电流控制和传输。

6. 霍尔效应对材料性质的研究通过对材料中的霍尔效应进行研究,可以了解材料的导电性质、载流子类型、电荷密度等。

因此,霍尔效应也被用来进行材料性质的分析和表征。

7. 霍尔效应的发展和应用前景随着科技的进步和电子器件的发展,对霍尔效应的研究不断深入,应用领域也不断扩大。

反常霍尔效应原理

反常霍尔效应原理

反常霍尔效应原理
反常霍尔效应是一种在材料中存在的特殊霍尔效应,与经典霍尔效应有所不同。

经典霍尔效应是指在一个导电材料中,当施加电场使电流流动时,垂直于电流和电场方向的方向上会产生横向电压差,这就是霍尔效应。

而反常霍尔效应是指在某些特殊材料中,当施加电场时,除了横向电压差外,还会出现沿电流方向产生的纵向电压差。

反常霍尔效应的原理可以用来解释一些材料的电输运特性。

在某些特殊的材料中,电子的自旋和运动方向会产生有一定关联。

当施加电场时,由于自旋和运动方向的关联性,电子的自旋会产生额外的作用力,进而影响电子的运动轨迹。

这种额外的作用力会导致沿电流方向产生纵向电压差。

根据反常霍尔效应的定义,反常霍尔系数与材料的电导率和磁性有关。

反常霍尔效应的发现为材料科学和电子学领域提供了新的研究方向。

通过研究反常霍尔效应,可以深入了解材料的电子结构和运动机制,并为新型电子器件的设计和制备提供理论基础。

此外,反常霍尔效应在一些磁性材料中的应用已经取得了一定的成功,如磁存储器件和磁传感器等。

总之,反常霍尔效应是一种特殊的霍尔效应,与经典霍尔效应有所不同。

它的发现为材料科学和电子学领域提供了新的研究方向,也为新型电子器件的设计和制备提供了理论基础。

分数量子反常霍尔效应

分数量子反常霍尔效应

分数量子反常霍尔效应分数量子反常霍尔效应(FQHE)是凝聚态物理学中的一个重要研究课题。

它是指在二维电子气系统中,在极低温度和极强磁场条件下,电子的行为出现反常现象,呈现出一些奇特的量子行为。

本文将介绍分数量子反常霍尔效应的基本概念、原理和实验观测,并探讨其在凝聚态物理学和量子信息科学中的应用前景。

我们来了解一下霍尔效应。

霍尔效应是指当电流通过金属或半导体材料中的导电层时,垂直于电流方向施加一个磁场,会在材料的侧边产生电势差。

这个电势差称为霍尔电压,它与电流和磁场的关系可以用霍尔系数来描述。

一般情况下,霍尔系数是一个常数,但在特殊情况下,比如在极低温度和极强磁场下,电子的行为出现反常现象,即分数量子反常霍尔效应。

分数量子反常霍尔效应最早是由诺贝尔物理学奖得主克劳斯·冯·克利兹因斯基和罗伯特·拉夫勒共同发现的。

他们在1982年的实验中观察到,当二维电子气系统的电子数目在某些特定的分数值上时,霍尔电阻会出现明显的间断。

这些分数值称为分数量子霍尔态,它们与电子之间的强关联性有关。

这种强关联性是量子力学的结果,不能用经典物理学的概念来解释。

分数量子反常霍尔效应的出现与电子的量子态紧密相关。

在经典的霍尔效应中,电子在磁场中的运动是连续的,而在分数量子反常霍尔效应中,电子的运动变得离散化,只能在特定的量子态中存在。

这些量子态具有特殊的分数电荷和统计特性,可以用任意子来描述。

任意子是一种介于费米子和玻色子之间的粒子,具有特殊的统计行为。

它们的出现为研究强关联系统提供了一个重要的实验平台。

分数量子反常霍尔效应的研究不仅对理解凝聚态物理学中的强关联现象具有重要意义,还有潜在的应用前景。

由于分数量子反常霍尔效应的电子具有特殊的统计特性,可以用来构建量子比特和量子计算系统。

这对于发展量子信息科学和量子计算技术具有重要意义。

目前,科学家们已经在实验室中成功地制备出了分数量子反常霍尔效应的样品,并进行了一系列的实验观测。

最新反常霍尔效应专业知识讲座

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1.4反常霍尔效应的应用
常规霍尔效应有着广泛的应用,如确定半导体的导电类型,测 定载流子浓度和迁移率,以及制造霍尔传感器等等。
而反常霍尔效应则是探究和表征铁磁材料中巡游电子输运 特性的重要手段和工具之一.它的测量技术被广泛应用于许多 领域,最重要的应用是在新兴的自旋电子学方面.例如,在III-V族 半导体中掺入磁性锰原子,从而实现材料铁磁性与半导体性的 人工联姻,促进了稀磁半导体(DMS)材料的诞生。
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图2 根据螺旋散射可以得到霍尔电阻率ρxy与ρ成正比,即ρxy∝ρ, 而且
霍尔电阻率ρxy还依赖于散射势的类型和作用距离.
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1.1常规仿霍。尔文档效如应有(不o当rd之in处a,ry请H联a系ll本e人ff或e网ct站) 删除。
1879年,Edwin Hall本人发现了霍尔效应,即处在磁场 中的非磁性金属或半导体薄片中的载流子受到洛伦兹力的 影响偏向一边,导致一个可测量的霍尔电压。
根据经验, ρxy=R0B +4πRsM, (2) 其中Rs称为反常霍尔系数。
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正常霍尔效应ρxy=R0B
图1 霍尔电阻率ρxy与磁场大小的关系曲线示意图
图1给过一个拐点后线性缓慢增加,直至 饱和.显然,这不能简单用磁场的洛伦兹力来解释.因而,通常人 们称这种现象为反常霍尔效应(anomalous Hall effect).

量子反常霍尔效应原理

量子反常霍尔效应原理

量子反常霍尔效应原理量子反常霍尔效应是一种量子力学效应,描述了在二维电子气体中的电流输运现象。

它是在1980年代初由德国物理学家Klitzing等人发现的,并因此获得了1985年的诺贝尔物理学奖。

量子反常霍尔效应的原理可以通过以下方式来解释。

首先,我们需要了解霍尔效应。

在一个强磁场下,当电流通过一个二维导体时,电子将受到洛伦兹力的作用,使得电子在导体内部发生偏转。

由于电子在导体内部的偏转,会产生一个电势差,这个电势差被称为霍尔电压。

根据霍尔效应的经典理论,霍尔电压与电流和磁场的乘积成正比。

然而,在量子反常霍尔效应中,电子的行为与经典理论有所不同。

在低温和强磁场的条件下,电子的行为将受到量子力学的影响。

量子反常霍尔效应的关键在于电子的能级结构。

当电子在二维导体中运动时,由于量子力学的约束,电子的能级将发生分立的变化。

这种分立的能级结构导致了电子在导体中的运动方式发生了变化。

具体来说,当温度接近绝对零度时,电子的能级将填满导体的能带。

在强磁场下,电子的能级将分裂成称为朗道能级的离散能带。

每个朗道能级上的电子都有着特定的能量和动量。

当外加电场作用于导体时,电子将在朗道能级之间发生跃迁,从而导致电流的形成。

而量子反常霍尔效应的反常之处在于,在强磁场下,电子的朗道能级之间的跃迁不是连续的,而是以量子的方式进行。

这意味着电子的运动将被量子化,只有特定的跃迁方式才能发生。

在这种情况下,电流的输运不再遵循经典的霍尔效应规律,而是出现了一种新的效应。

量子反常霍尔效应的发现对于研究低维量子系统和凝聚态物理学有着重要的意义。

它不仅提供了对电子行为的新认识,也为开发新型的电子器件和量子计算提供了新的思路。

例如,量子反常霍尔效应可以用于制备高精度的电阻标准,以及用于实现量子比特的量子逻辑门操作。

量子反常霍尔效应是一种描述二维电子气体中电流输运的量子力学效应。

它通过量子化的能级结构和电子的量子跃迁,导致电流的输运方式与经典的霍尔效应有所不同。

量子反常霍尔效应

量子反常霍尔效应

量子反常霍尔效应引言量子反常霍尔效应(Quantum Anomalous Hall Effect,QAHE)是一种在拓扑绝缘体中观察到的量子效应。

它在1988年由德国科学家克劳斯·冯·克利茨宣布,并在2013年由另外两位科学家丹尼尔·莞和斯图尔特·帕克金斯顿进一步证明。

QAHE是霍尔效应的一种变体,它具有独特的量子性质,对于电子学领域的发展具有重要意义。

量子反常霍尔效应的概念QAHE是在拓扑绝缘体中观察到的一种特殊的霍尔效应。

霍尔效应是一种电阻与磁场之间关系的现象,QAHE利用拓扑绝缘体的特殊性质使得霍尔效应在没有外加磁场的情况下也能发生。

在拓扑绝缘体中,电子的运动受到拓扑性质的限制。

与传统的绝缘体和导体不同,拓扑绝缘体的电子在材料内部具有不同的拓扑电荷,这些电荷会导致电子在材料表面产生特殊的运动方式。

QAHE的关键是在拓扑绝缘体中产生一个带隙,这个带隙对电子的运动具有限制。

拓扑绝缘体中的电子在能带结构中填满一个能级后,会进入一个带隙的无能态。

同时,电子也会被局域化在材料的边界上,形成了一种特殊的边界态。

QAHE的重要性QAHE具有以下几个重要的特点,使得它在电子学领域的发展中具有重要意义。

高度精确的电导量子化在QAHE中,电阻的大小具有量子化的特性。

这意味着,当外加的电压变化很小的时候,电流的变化也只能在某个特定的整数倍上。

这种电导量子化具有极高的精确度,可以用来作为标准,用于电流的可靠测量。

零磁场效应与传统的霍尔效应不同,QAHE在没有外加磁场的情况下也能发生。

这使得它在实际应用中更加便利,不需要额外的磁场源。

同时,这也使得QAHE可以在低温条件下观察到,而传统的霍尔效应需要较高的温度。

拓扑保护的边界态QAHE中的边界态是由于拓扑性质而形成的,它具有一些特殊的性质。

这些边界态是拓扑保护的,意味着它们对于外界的扰动具有较高的鲁棒性。

这使得边界态可以用来进行低能量的信息传输和储存。

反常霍尔效应和量子反常霍尔效应

反常霍尔效应和量子反常霍尔效应

反常霍尔效应和量子反常霍尔效应
反常霍尔效应和量子反常霍尔效应是固态物理中两个重要的现象,两者结合了磁场效应、电子运动以及晶格结构等多种因素,对于开展材料物理研究有着重要的意义。

一、反常霍尔效应
反常霍尔效应即指在磁场中,电导率发生非线性变化的现象,通常被分为两种类型:
1. 非金属中的反常霍尔效应:非金属材料中的反常霍尔效应又被称为“正常”反常霍尔效应,表现为沿磁场方向的电流密度不随电场强度而呈线性变化,其导电机理是由于能带弯曲所致。

2. 金属中的反常霍尔效应:金属中的反常霍尔效应表现为在磁场中产生自旋反转,以此影响自由电子的运动轨迹,导致电子在材料内部形成电荷积累,从而产生反常霍尔电势。

这种自旋反转同时也会导致自旋集体行为的出现,反常霍尔现象因此往往被认为是自旋流产生效应的一种。

二、量子反常霍尔效应
量子反常霍尔效应是在二维强磁场下,电导率呈现分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数分子分母的分数变化,即在化学势谷的外围区域形成能带。

量子反常霍尔效应是由于较低维度信仰张量的几何性质使其在磁场下的行为不同于其在零磁场下的行为而产生的。

这种现象在半导体材料中尤其常见,能够广泛应用于电子输运,物理学和开发新型电子器件。

总之,反常霍尔效应和量子反常霍尔效应是国内外物理研究中的
热点,其发现为我们的科学技术进步创新注入了源源不断的动力,也为我们认识自然规律和科学本质提供了新的方向和思路。

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正常霍尔效应ρxy=R0B
图1 霍尔电阻率ρxy与磁场大小的关系曲线示意图
图1给出了横向霍尔电阻率ρxy与磁场大小B的关系曲线。 ρxy先随B迅速线性增加,经过一个拐点后线性缓慢增加,直至 饱和.显然,这不能简单用磁场的洛伦兹力来解释.因而,通常人 们称这种现象为反常霍尔效应(anomalous Hall effect).
自本征和非本征机制的微观表达式。
反常霍尔效应机制的研究还有待于取得进一步突 破,完善的理论(特别是结合第一性原理计算的理论)的 建立在目前还是一个具有挑战性的任务.
三、AHE实验的研究和进展
AHE实验的研究者主要关注与pxy和pxx之间的 函数关系。但是不同元素的结论并不一致。
人们讨论实验数据的思路大体上可以分为四 类:
1.4反常霍尔效应的应用
常规霍尔效应有着广泛的应用,如确定半导体的导电类型,测 定载流子浓度和迁移率,以及制造霍尔传感器等等。
而反常霍尔效应则是探究和表征铁磁材料中巡游电子输运 特性的重要手段和工具之一.它的测量技术被广泛应用于许多 领域,最重要的应用是在新兴的自旋电子学方面.例如,在III-V族 半导体中掺入磁性锰原子,从而实现材料铁磁性与半导体性的 人工联姻,促进了稀磁半导体(DMS)材料的诞生。
1.3反常霍尔效应的特征
(1)通常Rs大于R0至少一个量级以上 (2)强烈地依赖于温度 (3)在铁磁性金属中,即使没有外加磁场B,仅有
x方向的电场E时,也会出现横向霍尔电压VH
现在看来,AHE是一种对称破缺的现象, 这一点上铁磁材料和非磁材料有很大区别:铁 磁材料在没有外加磁场时就有自发时间反演不 对称。所以其机理上不一样是正常的,完全一 样倒是有些奇怪。
温下的实验值相差不多,对Ni的偏差稍大。
2006年, shigeki Onoda等人从Berry phase出发同时考虑本 征机制和 skew scattering,得出了大范围内,随电导率变化反
常霍尔电导率的变化趋势。后经实验观察大量材料中的AHE符 合这一趋势。
2008年N.A.sinitsyn[18]从考虑 Berry phase的波包动力学出 发,把得到的新现象跟半经典理论结合起来,同时得到了来
*这一领域的发展和研究相对完善,我们重点关注反常霍尔效应
1.2反常霍尔效应
在铁磁性(FM)的金属材料样品里,横向电阻率ρxy的大小除 了包括(1)式中的常规项外,还另外增加了与样品的磁化强度M 大小有关的反常项,当样品达到饱和磁化强度Ms时,它就变成了 常数.
根据经验, ρxy=R0B +4πRsM, (2) 其中Rs称为反常霍尔系数。
反常霍尔效应
1.1常规霍尔效应(ordinary Hall effect)
1879年,Edwin Hall本人发现了霍尔效应,即处在磁场 中的非磁性金属或半导体薄片中的载流子受到洛伦兹力的 影响偏向一边,导致一个可测量的霍尔电压。
横向霍尔电阻率ρxy(依赖于外加磁场的大小): ρxy=R0B(R0称为常规霍尔系数) (1)
1972年,A.Fert在超纯的Ni中掺入百万分之几 浓度的其他杂质才观察到了一次方关系[21]。 如下图:
3.3 一次方项和二次方项的混合
后来,人们认为Side jump机制可以被间接的看做KLanomalous velocity的特殊表现,其中的外加电场换成了杂质势引起的电场。
根据边跳机制可以得到霍尔电阻率ρxy与ρ成 二次方关系,即
ρxy∝ρ2
这似乎可以成功地解释在铁、镍和铁镍合 金中实验观察到的ρxy与总电阻平方ρ2成线性 关系的现象.边跳机制模型与具体散射势的形 式无关
(1)pxy∽p
2 xx
(2)pxy∽p xx
(3)一次方项和二次方项的混合
(4)指数在变化
3.1
pxy∽p
2 xx
(1)pxy∽p xx2, 以Fe为代表。 右图铁的实验结果 不论是变温还是变化掺杂 Fe的pxy和p xx之间 基本是一个二次幂函数 的关系。
3.2 pxy∽p xx(skew scattering的表现)
二、 反常霍尔效应的理论研究
2.1 Karplus和Luttinger本征机制
1954年, Karplus和Luttinger从理论上详细研究了自旋-轨道耦 合作用对自旋极化巡游电子的输运影响,第一次提出了反常霍
尔效应的内禀机制.
他们完全忽略杂质、声子等散射,把外加电场作为微扰动展 开,推导出在包含自旋-轨道耦合相互作用的理想晶体能带中运 动的载流子,存在一个正比于贝里曲率的反常速度.正是由于这 个反常速度的存在,在外加电场下,同时考虑到上自旋与下自旋 的电子占据数不相等,导致电子将会有个净的横向电流,产生反 常霍尔效应。
2.4贝里相位在AHE中的体现
2004年,Yugui yao(中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家 实验室)等人将 Berry Phase的AHE理论跟第一性原理结合起来 ,对布里渊区里的 Berry curvature积分,历史上首次从理论得
出了本征机制造成的AHE的大小,对Fe和Co,这一数值都与室
图2
根据螺旋散射可以得到霍尔电阻率ρxy与ρ成正比,即ρxy∝ρ, 而且 霍尔电阻率ρxy还依赖于散射势的类型和作用距离.
2.3 Berger的side jump机制
1972年,Berger提出了另一个非本征的机制,同样是由于散 射中自旋轨道耦合的影响,特定自旋的载流子在经历与杂质 散射后其质心位置向某个特定的方向偏移了一点 (side jump) 。其示意图如下:
2.2 Smit的skew scattering理论
Smit批驳了Karplus和Luttinger的观点,认为在真实的材料中 总是存在缺陷或者杂质, 提出了螺旋散射(skew scattering)机制, 认为对于固定自旋方向的电子,由于自旋-轨道耦合相互作用, 电子受到杂质的散射是不对称的,结果定向运动的电子偏离原 来的方向,形成横向的电荷积累,它的直观物理图像如图2所示. 螺旋散射主要由被散射的载流子偏离原来路径方向的角度θH( 也称为自发霍尔角)来表征:θH=ρxy/ρ.
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