晶体缺陷

晶体缺陷
晶体缺陷

一、概述

1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不规则性及不完整性。种类:点缺陷、线缺陷、面缺陷。

1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下降。原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度下降。

2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。原因是晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。

3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,非晶态晶体等。

二、点缺陷

3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺陷或零维缺陷。分类:空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。

4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。

5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑克尔空位。

6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原子浓度远小于空位浓度。

7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。

8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位导致两者同时消失,此过程成为复合。

9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。

三、线缺陷

10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。主要为各类位错。

11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。分类:刃位错、螺位错、混合型位错。

12、刃型位错特点:a) 刃型位错有一个多余半原子面。正刃型位错和负刃型位错只有相对意义,无本质区别。

b) 位错线不一定为直线,但滑移面必定是位错线和滑移矢量确定的平面,滑移面唯一。

c) 刃型位错周围点阵发生弹性畸变,既有切应变,又有正应变。能引起材料体积变化。

d) 刃型位错位错线垂直于柏氏矢量,垂直于滑移方向,垂直于滑移矢量。位错线移动方向平行于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 刃型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

13、螺型位错特点:

a) 螺型位错无额外半个原子面,原子错排是呈轴对称的。右螺型位错和左螺型位错有本质区别。

b) 螺型位错线一定是直线,但滑移面不唯一,凡是包含螺型位错线的(原子密排)平面都可以作为他的滑移面。

c) 螺型位错周围点阵发生弹性畸变,只有平行于位错线的切应变,没有正应变。不会引起材料体积变化。

d) 螺型位错位错线平行于柏氏矢量,平行于滑移方向,平行于滑移矢量,位错线的移动方向垂直于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 螺型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

14、混合型位错:滑移矢量既不平行也不垂直于位错线,而与位错线相交成任意角度,这种位错称为混合位错。特点:a) 混合型位错位错线既不平行也不垂直于滑移矢量,每一段混合型位错均包含刃型位错分量和螺型位错分量(可以有纯刃型位错环,没有纯螺型位错环)。

b) 混合型位错是已滑移区和未滑移区的分界线。

c) 混合型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

15、柏氏矢量的确定:

1) 首先选定位错线的正向,一般选择出纸面方向为正向。

2) 在实际晶体中,从任一原子出发,围绕位错(避开位错线附近的严重畸变区)以一定的步数作一右旋闭合回路MNOPQ(称为柏氏回路)。

3) 在完整晶体中按同样的方向和步数作相同的回路,该回路并不封闭,由终点Q向起点M引一矢量b,使该回路闭合,这个矢量b就是实际晶体中位错的柏氏矢量。

16、右手法则:右手的拇指、食指、中指构成直角

坐标体系,食指指向位错线方向,中指指向柏氏矢量方向,则拇指指向多余半原子面方向,规定若拇指向上为正刃型位错,反之为负刃型位错。

17、规定柏氏矢量b与位错线同向平行者为右螺型位错,反向平行者为左螺型位错;通常用拇指代表螺旋的前进方向,而以其余四指代表螺旋的旋转方向。凡符合右手法则的称为右螺型位错,符合左手法则的称为左螺型位错。

19、柏氏矢量性质:1) 一条位错线只有一个柏氏矢量,一个位错环只有一个柏氏矢量(柏氏矢量守恒性)。2) 多个位错相遇时指向同一结点或离开同一结点,他们的b之和为零。3) 晶体中的位错或自由封闭或终止于晶体表面或晶界处,不能在晶体中中断(称为位错的连续性)。

20、刃位错运动:1) 滑移:刃位错滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向一致,正刃负刃方向相反。滑移只涉及靠近位错的一部分原子,故刃位错滑移所需的切应力很小。位错沿滑移面滑过整个晶体时会在晶体表面沿柏氏矢量方向产生一个宽度为柏氏矢量大小的台阶。

2)攀移:刃位错在垂直于滑移面方向上的运动成为攀移。多余半原子面向上运动称为正攀移,多余半原子面向下运动称为负攀移。

21、螺位错运动:1) 滑移:螺型位错的滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向垂直,左螺右螺方向相反。其他特点同刃位错滑移。

2) 交滑移:对于螺位错,所有包含位错线的晶面都可能成为其滑移面,当螺位错在某一晶面上运动受阻时就可能原滑移面上转移到与之相交的另一滑移面上继续滑移,此过程称为交滑移。如交滑移后的位错再转回和原滑移面平行的晶面上继续滑移,则称为双交滑移(交滑移滑移面改变,滑移方向不变!!!)。

22、混合型位错的滑移:方向与外加切应力τ及柏氏矢量b呈一定角度,晶体的滑移方向外加切应力τ及柏氏矢量b的方向一致。

23、林位错:当一位错在某一滑移面上运动时,会与穿过滑移面的其他位错交割,其他位错就是称为林位错。

24、位错很难全长同时运动,尤其在遇到阻碍的情况下,可能其中一部分首先滑移,若由此位错线上形成的曲折线段在位错的滑移面上,则称该曲折线段为扭折,若该曲折线段垂直于位错的滑移面,则称为割阶。位错间交割也可形成割阶或扭折,刃型位错攀移可产生割阶。

25、小结:

1) 运动位错交割后,每根位错线上都可能产生一个扭折或割阶,其大小和方向取决于另一位错的伯氏矢量,但是具有原位错线的柏氏矢量。

2) 所有的割阶都是刃型位错,而扭折可能是刃型也可能是螺型。

3) 扭折与原位错线在同一滑移面上,可随主位错线一道运动,几乎不产生阻力,而且在线张力作用下易于消失。

4) 割阶与原位错线不在同一滑移面,故除非割阶产生攀移,否则割阶就不能随主位错线一道运动,成为位错运动的障碍,通常称此为割阶硬化。

5) 刃型位错运动时,割阶滑移方向与原位错滑移方向相同,能与原位错一起运动,但割阶的滑移面并不一定是晶体的最密排面,割阶段所受到的晶格阻力较大。相比较而言,而螺型位错的割阶阻力则小的多

26、带割阶螺型位错的运动:(位错交割产生许多割阶,异号割阶反向运动相互抵消,最后剩下同号割阶,同号割阶相互排斥保持一定距离,最后在位错线上留下许多不可动割阶)按割阶高度的不同可分为三种情况:①割阶高度为1~2个原子间距,位错可以把割阶拖着走,留下一排点缺陷(空位或间隙原子);②割阶高度约在二十个原子间距以上,它们可以各自独立的在各自的滑移面上滑移,并以割阶为轴,在滑移面上旋转(单边弗朗克-瑞德位错源);③割阶高度介于上述两种时,位错与割阶连接点被拉长,形成两条符号相反的刃型位错线(称为位错偶),位错偶长度达到一定值时会与原位错脱离形成位错环。原位错恢复到带割阶的原来状态。

28、单位为错:柏氏矢量等于单位点阵矢量的位错。全位错:柏氏矢量等于点阵矢量或其整数倍的位错。全位错滑移后晶体原子排列方式不变。

面心立方晶体典型单位位错:a2<110>

29、不全位错:柏氏矢量不等于点阵矢量或其整数倍的位错。不全位错滑移后原子排列方式改变。

面心立方晶体中典型不全位错:肖克莱不全位错、弗兰克不全位错、压杆位错等。

若堆垛层错只在原子面部分区域存在,则层错与完整晶体的交界处就存在不全位错。

原子面上抽去或插入半个原子面,靠近半原子面处点阵畸变较大,远离半原子面处由于原子是垂直升高或落下,仍处于密排位置,故没有畸变,畸变处原子组成不全位错。不全位错特点:

1) 不全位错四周不全是完整结构,有一部分层错;

2) 不全位错的柏氏回路必须从层错开始,最后穿过回路;

3) 不全位错的柏氏矢量不是完整的最小点阵矢量;

4) 不全位错的柏氏矢量也有守恒性。

27、位错增殖:弗朗克-瑞德位错源、单边弗朗克-瑞德位错源、双交滑移增殖机制、空位片塌陷增殖机制、位错攀移增殖机制、绕过机制。

30、位错反应:位错分界和合并的合称。需要满两个条件:

1) 几何条件:b i 为反应各位错柏氏矢量,b k 为反应后各位错柏氏矢量:∑b i =∑b k 。

2) 能量条件:位错反应必须是个能量降低过程:∑|b i |2>∑| b k |2。

31、堆垛层错:实际晶体结构中密排面的正常堆垛顺序被破坏的情况称为堆垛层错,简称层错(面心立方晶体最密排面堆垛顺序ABC )。分为抽出型层错和插入型层错,一个插入型层错相当于两个抽出型层错。 32、堆垛层错能:形成层错时几乎不产生点阵畸变,但层错破坏了晶体的完整性和正常的周期性,使电子发生反常的衍射效应,使晶体能量增加,这部分增加的能量称为堆垛层错能。层错能高,出现层错的概率小。

33、肖克莱不全位错特点:

在{111}面上;柏氏矢量a 6<112>;

柏氏矢量与半原子面在位错线左和右无关; 可以是纯刃型纯螺型也可以是混合型;

可动位错,可以在其所在{111}面上滑移,滑移结果是使层错面扩大或缩小,但即便纯螺型位错也不能交滑移;纯刃型肖克莱不全位错也不可以攀移,因为不全位错有确定的层错相连,若进行攀移,势必脱离层错面,故不可能进行。 34、弗兰克不全位错特点:

1),都垂直于{111}晶面;柏氏矢量a 3<111>; 2),柏氏矢量与半原子面在位错线左和右有关; 3),抽出型层错—负弗兰克不全位错;4),插入型层错—正弗兰克不全位错;5),纯刃型位错;固定位错,不能在滑移面上滑移,否则会使其脱离层错,但可以通过点缺陷运动进行攀移,使层错面扩大或缩小;

35、汤普森四面体:在面心立方单位晶胞内

由D (0,0,0)、A (12,12,0)、B (12,0,12)、C (0,12,12)四个点为顶点的由四个{111}面组成的棱边平行于<110>方向的四面体。以α、β、γ、δ代表A 、B 、C 、D 点对面的中心

2)由图可见:

A )四面体的4个面即为4个可能滑移面:

)111(),111(),111(),111(面。

B )四面体的6个棱边代表12个晶向,即为面心立方晶体中全位错12个可能的伯氏矢量。

C )每个面的顶点与其中心的连线代表24个

><1126

1

型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中可能的24个肖克利不全位错的伯氏矢量。

D )4个顶点到它所对的三角形中点的连线代表8个

><1113

1

型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中可能有的8个弗兰克不全位错的伯氏矢量。

E )4个面中心相连即γδβδβγαδαγαβ,,,,,为

><11061

是压杆位错的一种。

36、把一个全位错分解为两个不全位错,中间夹着一个堆垛层错的组态称为扩展为错。层错能高,扩展位错宽度小。

37、面心立方晶体中能量最低的单位为错是处于{111}晶面上的柏氏矢量为a 2<110>的单位为错。 38、罗曼-柯垂尔(Lomer-Cottrell )位错,面角位错,压杆位错

面缺陷:在一个方向上尺寸很小,另外两个方向上扩展很大的晶体缺陷,也称为二维缺陷。包括:晶界、亚晶界、孪晶界、相界和堆垛层错等。 40、表面能:由于晶体表面原子少于晶体内部、成分偏聚等因素,导致晶体表层原子间结合键与晶体内部不同,表层原子会偏离平衡位置,造成点阵畸变并影响到邻近几个原子层,使其能量升高,将晶体表面单位面积自由能的增加称为表面能γ。当晶体以最密排面作为表面时晶体能量最低。

41、晶界:属于同一固相但位向不同的晶粒之间的界面。晶粒直径0.015~0.025mm,亚晶粒0.001mm 。根据位向差θ的大小可将晶界分为: 1)小角度晶界——相邻晶粒的位向差小于10°晶界。小角晶界可分为对称倾斜晶界(由一列平行的刃型位错构成),不对称倾斜晶界(两组柏氏矢量相互垂直的刃型位错构成),扭转晶界(相互交叉的螺型位错组成),重合晶界。

小角晶界可以看成是两部分晶体绕某一转轴旋转一定角度形成的,倾斜晶界可以看成是转轴在晶界内,扭转晶界可以看成是转轴垂直于晶界,实际晶体中的小角晶界转轴既不平行也不垂直于晶界。

亚晶界:位向稍有差异的相邻亚晶粒间的界面,亚晶界均属小角度晶界,一般小于2°。 2)大角度晶界——相邻晶粒的位向差大于10°晶界,多晶体中90%以上的晶界属于此类,位相差大多为30°~40°。纯金属中大角晶界宽度不超过3个原子间距,可以用重合位置点阵模型描述。但该模型不能描述两晶粒处于任意位相差的晶界结构。

重合位置点阵:两晶粒点阵彼此通过晶界向对方延伸,其中一些原子将出现彼此有规律的相互重合。这些原子重合位置形成一个新的比原来晶体点阵大的新点阵,称为重合位置点阵。

42、晶界能:境界原子排列不规则有畸变从而使系统自由能升高,将形成单位面积的晶界时系统自由能变化定义为晶界能。等于界面区单位面积的能量减去无晶界时该区单位面积的能量。小角晶界能来

源于位错能,大小与位相差有关;大角晶界晶界能

与晶粒位相差无关。

位错能:形成位错所需的能量和将位错排成特定组态所做的功,位错密度决定位相差,故小角晶界能

与位相差有关。

43、晶界特性:1) 晶界处点阵畸变大,存在晶界能。2) 晶界处原子排列不规则,常温下对位错运动其阻碍作用,使塑性变形抗力增大,宏观表现为晶界处

强度硬度较高。晶粒越细材料强度越高,此即为细晶强化。高温下境界存在一定黏滞性,易使相邻晶

粒产生相对滑动。3) 晶界处原子动能大、缺陷多,晶界处原子扩散速度快;4) 晶界处为相变优先形核位置,晶粒越细,形核率越高。5) 由于存在成分偏析和内吸附,晶界处杂质原子富集,晶界熔点较低。6) 由于晶界处能量高、原子处于不稳定状态以及晶界杂质原子富集,境界的腐蚀速度较快。

44、孪晶界:两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶面构成镜面对称的位向关系,这两个晶

体就称为"孪晶"(按产生原因不同分为形变孪晶、

生长孪晶、退火孪晶等,层错能高不易产生孪晶),此公共晶面就称孪晶面,孪晶界可分为两类:共格

孪晶界(孪晶界即为孪晶面,面上原子同时处于两

个晶体点阵结点上是无畸变完全共格晶面,界面能

约为普通界面能十分之一)和非共格孪晶界(孪晶

界上只有部分原子为两部分晶体共有,原子错排相

对较为严重,界面能约为普通界面能二分之一)。45、相界:具有不同结构的两相之间的分界面;相界面可分为共格相界、半共格相界和非共格相界三

种类型,相界能(由弹性畸变能和化学交互作用能

两部分组成,共格相界界面能主要为弹性畸变能,非共格相界由于界面上原子化学键数目种类变化很大,界面能主要为化学交互作用能)都大于孪晶界

且依次递增。

1) 共格相界:界面上原子同时位于两相晶格结点上,界面上原子为两者共有。理想的共格相界不存在,

因为即便两相晶体结构相同,点阵常数也不可能完

全相同,相界附近必然产生一定弹性畸变。

2) 半共格相界:相界处两相晶面间距差距较大,相界上不可能达到一一对应,界面上将产生一些位错

以降低弹性应变能。

3) 非共格相界:原子排列差别很大,类似于大角晶界。

4) 错配度δ:位错间距D:其中aα、aβ分别为相界面两侧α、β相点阵常数,且aα>aβ。

当δ很小,D很大时:α、β两相趋于在相界上共格;δ很大,D很小时:α、β两相在相界上完全失配;δ<0.05,两相可以构成完全共格界面,δ>0.25易形成非共格界面,δ介于0.005和0.25之间时形成办公个界面。四、晶体缺陷理论的应用

46、固溶强化:溶质原子会在晶体中产生应力

场,此应力场与位错应力场相遇并产生相互作用,增大了位错运动所需的力,宏观表现为晶体得到了强化。包括:弹性交互作用、化学交互作用、电化学交互作用、几何交互作用。

1) 弹性交互作用:溶质原子特别是间隙原子聚集于位错附近形成原子云,称为柯氏气团,产生的弹性畸变应力场与位错相互作用对位错起“钉扎”作用,位错拖着气团运动变得困难,宏观表现为晶体的到了强化。

屈服现象解释:柯氏气团钉扎位错使位错运动变得困难,宏观表现为晶体的到了强化,外力达到一定值以后位错挣脱其图案的束缚,此时位错运动变得容易,位错滑移相同距离所需外力减小。时效处理后重新加载,溶质原子重新通过扩散作用在位错附近形成气团,晶体又出现屈服现象。

2) 化学交互作用:面心立方晶体结构中,{111}面上的滑移位错分解为两个不全位错从而形成扩展位错,两个不全位错之间隔着一层层错,其晶体结构变为密排六方结构,该结构具有两层原子的厚度和10和原子间距的宽度。该结构靠层错便面能抵抗不全位错之间斥力以保持平衡。由于同种原子对不同晶体有不同的化学氏,所以溶质原子在密排六方结构中和面心立方结构中浓度不同,这种不均匀分布能引起晶体强化。溶质原子和为错的这种交互作用称为铃木气团,铃木气团属于化学交互作用。3) 电化学交互作用:两种溶质原子溶解于同一种溶剂中,它们错配度相同原子价不同,它们对溶剂的强化效果不同,表明溶质原子与位错之间存在电化学交互作用。

4) 几何交互作用:位错与溶质原子的交互作用与溶质原子的几何位置有关,这种交互作用称为几何交互作用。

47、第二项粒子强化:第二项粒子阻碍位错运动从而使晶体得到强化。分为沉淀强化和弥散强化两类。通常,以粒子本身变形特性来区分第二项粒子强化机制,分为可变形粒子强化和不可变形粒子强化。强化效果随粒子体积分数增大而提高。时效处理时应在粒子平均尺寸达到峰强度对应的尺寸(对于可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果提高;对于不可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果减弱,二者的强化效果随粒子尺寸变化曲线的交点即为峰强度对应的尺寸,提高沉淀相体积分数可提高峰强度)前,使沉淀相粒子大量充分形核并达到要求的体积分数。

根据质点大小、性质、质点与基体联系不同,位错与质点相遇时分为三种情况:位错通过质点(切割机制);位错绕过质点(绕过机制),增加表面积、表面能,同时也是位错环增殖机制;位错堆积于质点前,使质点产生裂缝。

1) 可变形粒子强化:第二相粒子为可变形微粒时,位错将切过粒子使之与基体一起变形。强化效果主要取决于粒子性能以及粒子与基体的联系,粒子尺寸影响较小。粒子本身强度提高、粒子尺寸增大均可提高强化效果。

强化机理:A. 位错切过粒子时,粒子产生宽度为b 的表面台阶,由于出现了新的表面积,使总的界面能升高。B. 当粒子是有序结钩时,则位错切过粒子时会打乱滑移面上下的有序排列,产生反相畴界,引起能量的升高。C. 由于第二相粒子与基体的晶体点阵不同或至少是点阵常数不同,故当位错切过粒子时必然在其滑移面上引起原子的错排,需要额外做功,给位错运动带来困难。D. 由于粒子与基体的比体积差别,而且沉淀粒子与母相之间保持共格(Coherent)或半共格结合,故在粒子周围产生弹性应力场,此应力场与位错会产生交互作用,对位错运动有用阻碍。E. 由于基体与粒子中的滑移面取向不一致,则位错切过后会产生割阶,割阶存在会阻碍整个位错线的运动。F. 由于粒子的层错能与基体不同,当扩展位错通过后,其宽度会发生变化,引起能量升高。

2) 不可变形粒子强化:工业上应用的合金采用第二相粒子强化手段进行强化时,大多利用中间相粒子作为第二相,即利用不可变形粒子强化,强化效果主要取决于粒子尺寸及弥散度。第二相粒子尺寸过小过于弥散和第二相粒子尺寸间距过大都会使强化效果减弱。

原因:质点成分结构不同于基体引起体积改变并形成应力场,局部应力场对位错有阻碍作用前提是位错可以沿质点应力场弯曲(从而得到最小的位能)。实际晶体中,位错弯曲所能达到的尖锐程度有一定限制,因此质点尺寸非常小非常弥散时,位错只能跨过他们,不会引起硬化或得不到最大强化;质点尺寸、间距过大时,位错线沿质点应力场弯曲所需切应力τ=G b2r变小,引起软化,b为位错柏氏矢量,r为质点曲率半径。质点间距l=r时,位错线所能达到的曲率恰好与质点间距相等,位错收到的阻碍等于它所面临的质点应力场作用的算数总和,合金大道最大强化。此时,质点间距为20~100(25~50)个原子间距。

注:第二相质点与周围基体结合使基体处于弹性应力状态,从而可能使质点有效尺寸远大于实际尺寸;位错绕过第二相质点在质点周围留下位错环,使质点有限尺寸变大而质点间距变小从而加快合金加工硬化速率;

指点本身的性质对合金的强度和韧性也将起到显著作用。

48、细晶强化:用细化晶粒增加晶界提高警惕强度的方法称为细晶强化。

形变穿越晶界方式:位错很难穿过晶界传播到下一个晶粒,位错在晶界处塞积并引起应力集中在临近晶粒内触发位错源使其开动。- 10 –

细晶强化:一方面由于晶界的存在,变形晶粒在晶界处受阻,每一晶粒内滑移带都终止于晶界附近,;另一方面,由于各晶粒存在相位差,为了协调变形,要求每个晶粒必须进行多滑移,多滑移印发位错的相互交割。以上两者使金属材料强度大幅提高。

细晶强化同时提高塑性韧性:

塑性:外力相同,细小的晶粒晶粒内部和晶界处应变相差较小,变形均匀,相对而言因为应力集中引发的开裂机会较少,从而使材料变形之前能承受较大的变形量,进而得到较大的伸长率和断面收缩率。

韧性:细晶粒金属中;裂纹不易产生也不易扩展,因而在断裂过程中吸收了更多的能量,即表现出较高的韧性。

49、加工硬化:随着塑性变形量增加,位错相互缠结,位错运动变得困难,宏观变现为金属强度升高,此现象被称为加工硬化。

作用:推迟材料断裂的发生。

1) 单晶体加工硬化:初始滑移系数目多,加工硬化率高。分为三个阶段:

第Ⅰ阶段:又称易滑移阶段,加工硬化很低。原因:没有次滑移系上的滑移干扰主滑移系上的位错运动,故位错源开动较为容易。

第Ⅱ阶段:又称线性硬化阶段,加工硬化迅速增加。原因:主滑移系和次滑移系上都产生滑移,形成几种新的点阵无规则性,如林位错、割阶等阻碍位错运动。

第Ⅲ阶段:又称抛物线硬化阶段,特点是加工硬化

率有所降低。原因:在第Ⅱ阶段被阻挡的位错再足

够高的应力或温度下可以借助某种过程而运动。比

如螺位错的交滑移、通过双交滑移的返回原滑移面

的螺型位错与符号相反的位错相互吸引而导致互毁。第Ⅲ阶段强烈依赖于温度,层错能高低也对应力-

应变曲线形貌其重要作用,eg.除非在低温下进行试验,否则铝的第Ⅱ阶段很难被发现。

2) 多晶体的加工硬化:多晶体加工硬化的特点,主要受出现晶界这一点影响。晶界对塑性变形的作用,一是对晶内滑移的障碍作用,另一是为不致在晶界

上出现裂纹,就不得不在小变形时局部地方产生多

滑移。加工硬化的位错组织具有与单晶体大致相同

的图像。原始的位错与次滑移的位错交互作用,可

以产生偶极位错和位错环,发生局部位错缠结区,

并逐步发展成为亚晶界的三维网络。亚晶胞的尺寸

随着应变的增加而减小。

50、晶体缺陷理论在超级钢与新一代钢铁材料中的应用:超细晶是新一代钢铁材料的技术核心。钢铁结构材料约占钢铁材料的90%,强韧化是结构材料的基本发展方向,超细晶可以达到强韧化的目的。总

结强化钢铁材料的途径有:

1) 通过合金元素和间隙元素原子溶解于基体组织

产生固溶强化,他是点缺陷的强化作用;

2) 通过加工变形增加位错密度造成钢材承载时位

错运动困难(位错强化),他是线缺陷的强化作用;3) 通过晶粒细化使位错穿过晶界受阻产生细晶强化,他是面缺陷的强化作用;

4) 通过第二相[一般为Mx(C,N)y析出相或弥散相]使位错发生弓弯(奥罗万机制)和受阻产生析出强化。

五、固态相变理论

51、固态金属三种基本变化:(1)晶体结构的变化;

(2)化学成分的变化;(3)有序程度的变化。

固态相变与结晶相同点在于相变驱动力都是新旧两

相自由能之差,都包含形核长大两个过程。不同点:1) 相变阻力大:产生新界面导致界面能升高;新旧相体积不同引起弹性畸变能增加。此外,固态相变

中原子扩散变得更加困难。

2) 新相-母相界面上原子的排列易保持一定的匹配:共格界面、半共格界面、非共格界面。;

3) 新相和母相之间存在一定的晶体学位相关系(为减少界面能)一般而言,新旧两相界面为共格半共

格界面时,新相母相必然存在一定位相关系,如果

两相之间没有确定位相关系,界面一定是非共格界面;

4) 新相习惯于在母相的一定晶面上形成,新相往往以特定晶向在母相的特定晶面上形成,这种现象称为惯习现象,这个晶面称为惯习面,晶向称为惯习方向;

5) 母相中晶体缺陷对新相形核起促进作用;

6) 易出现过渡相。

52、相变得基本类型:

1) 按相变能否获得平衡组织分为:平衡相变和不平衡相变

2) 按相变中形核长大特点分为:扩散型相变(依赖原子长距离扩散,珠光体转变,同素异构转变、固溶体中多型性转变、脱溶转变、共析转变、包析转变、调幅分解、有序化转变),半扩散型相变(部分依赖于切变转变,部分依赖于短距离扩散,块状转变、贝氏体相变),非扩散型相变(通过类似塑性变形中的滑移和孪生那样,通过切边和扭转进行的,也称切变型相变,相界面共格。原子相邻关系、化学成分不变,如马氏体相变、低温进行的纯金属如钛锆、锂、钴的同素异构转变)

3) 按热力学分类:一级相变新相化学位=母相化学位,新相体积≠母相体积,新相熵值≠母相熵值;二级相变新相母相化学位、体积及熵值均相等,但热容、膨胀系数及压缩系数不相等

53、除调幅分解以外,绝大多数固态相变都是通过形核长大过程完成的。

晶胚:母相基体的某些微小区域内产生的形成晶核必须的成分和结构。晶胚进一步长大能降低系统的自由能,从而成为新相的晶核。

均匀形核:新相晶核在母相基体内无任何择优取向任意分布的形核方式称为均匀形核。均匀形核所需形核功较大,要求过冷度较大。

非均匀形核:若新相晶核在母相基体内某些区域择优不均匀分布,则称为不均匀形核母相中各种点线面缺陷处能量较高,为非均匀形核创造了条件。固态相变几乎全部为非均匀形核。

54、晶核长大:实质是新相和母相界面相母相方向推移,固态相变类型(eg.扩散型相变和非扩散

型相变)、晶核的界面结构结构影响长大机制。

55、脱溶转变:当固溶体因温度变化等原因呈过饱和状态时,将自发的发生分解过程,其所包含的过饱和溶质原子通过扩散转变为新相析出,此过程称为脱溶。由于固态中原子扩散困难,温度高的情况下发生平衡脱溶,温度较低时脱溶产物以亚稳态过渡相形式存在;快冷(称为淬火或固溶处理)情况下不分解,在一定条件下(沉淀或时效)生成亚稳的过渡相。Al-4.5%-Cu室温下平衡相为α固溶体和CuAl2金属间化合物(θ相),将合金加热至540℃得到单相α固溶体,快冷至室温得到单相过饱和α固溶体(此过程称为固溶处理),此时为亚稳状态,加热到100~200℃保温(时效处理),过饱和α固溶体将发生脱溶分解,随保温时间的延长形成不同类型的过渡相:G.P.Ⅰ区→G.P.Ⅱ区(θ″)→θ′→θ(即CuAl2)顺序逐步完成的。

56、脱溶转变分类:连续脱溶(连续沉淀)、不连续脱溶(不连续沉淀)两类,连续脱溶又分为均匀脱溶和不均匀脱溶(局部脱溶)。

均匀脱溶:连续脱溶时,新相晶核在母相何处同时发生、随机生成,母相浓度随之连续变化,但母相晶粒外形及位相不变,脱溶相(沉淀相)均匀分布于基体的脱溶转变。如脱溶相优先析出于局部位置如晶界、孪晶界等处,则为不均匀脱溶。

不连续脱溶:从过饱和基体中以胞状形式同时析出α、β两相,其中α是成分略有改变的基体相,β相是脱溶新相,两者一层片状相间分布的脱溶转变。均匀脱溶对性能有利,对材料起到明显的强化作用,称为时效强化或沉淀强化。

57、共析转变:一个固相冷却到共析温度时同时析出两个固相的转变(γ→α+β)。共析组织通常由交替生长的αβ片层构成。珠光体转变为共析转变。

58、调幅分解:又称增幅分解或拐点分解,其特点是新相的形成不经形核-长大,而是通过自发的成分涨落,浓度振幅不断增加,固溶体最终自发地分解成结构相同而成分不同的非均匀固溶体的过程。属上坡扩散。特点:1.无形核过程。2.两个新相结构相同,成分不同。3.相变推动力是化学位变化,是典型的上坡扩散。4.拐点分解自发的脱溶转变,不需要形核,通过溶质的上坡扩散形成结构相同成分呈周期性波动的纳米尺度共格微畴。

59、非扩散型相变——马氏体转变:新相生长不是通过扩散,而是通过类似于塑性变形中的滑移孪生,产生切边和转动而进行的,因此此类相变也称非扩散型相变为切变型相变。马氏体为亚稳相。

60、马氏体相变特点:

1) 马氏体相变具有无扩散性(表现为转变前后成分不变、马氏体转变可以再极低温度下快速进行);

2) 马氏体转变是共格切变式转变,马氏体转变时表面出现浮凸现象;3) 马氏体转变前后,新相与母相之间有一定的晶体学位相关系;

4) 马氏体转变往往沿奥氏体的一定晶面(惯习面)形成;

5) 马氏体高速长大;

6) 马氏体转变是在Ms~Mf温度范围内的连续降温

中形成的;

7) 有的马氏体转变具有可逆性;

8) 马氏体转变不完全,存在残余奥氏体。

61、不同合金中马氏体形貌形貌结构不同。碳质量分数小于0.6%时淬火组织以板条马氏体为主,有少量片状马氏体;碳质量分数为0.6%~1%时为两类马氏体混合组织;碳质量分数大于1%基本上是片状马氏体。此外还有ε马氏体、带状马氏体等。

低碳钢中马氏体呈板条装,成束分布于原奥氏体晶粒内,同一束马氏体板条大致平行分布,束与束之间有不同位相,板条内亚结构为高密度位错,平行的马氏体板条之间时小角晶界,不同位相的马氏体束之间时大角晶界。马氏体板条长轴为<111>。

<111>M∥<110>γ(含义:马氏体<111>M平行于母相奥氏体<110>γ晶向)。

高碳马氏体呈片状,各片之间具有不同位相,且大小不一,小片分布于大片之间,大片为先形成马氏体。片状马氏体内部亚结构为微孪晶,即一个马氏体片被一条中脊线分为位相略有差异的两个孪晶面。中脊面对应的母相奥氏体的晶面指数称为片状马氏体的惯析面,碳质量分数为0.6%~1.4%的片状马氏体具有{225}γ惯析面,碳质量分数高于1.4%的碳素钢及Fe-Ni合金等片状马氏体具有{259}γ惯析面。

62、上贝氏体:550℃-350℃间形成,光学显微组织呈羽毛状,组织特征:成束分布,平行排列的铁素体之间夹杂着断续分布的短杆状渗碳体,样品表面产生集群的条状浮凸;

下贝氏体:335℃-Ms之间形成,光学显微组织呈针状,组织特征:针叶状的铁素体片上分布着与针叶长轴成55-60°的渗碳体薄片(既强又韧)。样品表面产生多向分布针状浮凸。

63、贝氏体转变特点:

1) 有一定孕育期,孕育期长短与钢种及温度有关;

2) 贝氏体转变是一个形核和长大过程;

3) 铁原子发生自扩散并按共格切变式转变;

4) 碳原子靠原子扩散形成碳化物;

5) 贝氏体转变是在一定温度范围内进行(共析钢

550℃-Ms);

6) 新相与母相保持着一定的晶体学关系,也有惯习

面;

7) 贝氏体转变也具有不完全性。

64、晶体缺陷与固态相变理论的综合应用:

1) 在超细晶粒钢中的应用:①形变诱导铁素体相变

(DIET)技术;②弛豫析出控制相变(PCC)技术;

③针状铁素体组织细化技术;④形变强化相变工艺。

2) 在钢的形变热处理及控制轧制和控制冷却工艺

中的应用。

3) 在微合金钢中的应用。

4) 在TRIP钢(形变诱发马氏体相变钢)中的应用。

5) 在细晶超塑性中的应用。

6) 在抗震耐火钢中的应用;在铝锂合金中的应用;

在镁合金材料中的应用;在钛合金中的应用。

65、微量合金元素对钢的组织性能影响如下:

1),改变钢的相变温度、相变时间,从而影响相变

产物的组织和性能

2),细化晶粒强化。在高温时抑制奥氏体晶粒长大,

从而获得细小的铁素体晶粒,明显提高钢的强韧性。

3)沉淀强化。微合金元素最重要的特性是易形成MC、

MN、M(C、N)等第二相粒子(M代表微合金元素如钛、

铌、钒、锆等),高度弥散均匀分布,强化效果显著。

4)改变钢中夹杂物的形态、大小、数量和分布。

5)加入微合金元素,严格控制珠光体的体积分数,

可获得少珠光体钢、无珠光体钢乃至无间隙固溶体

钢。

必须指出,上述方法都采用控制轧制、控制冷

却和控制沉淀,因为它是微合金化低碳高强度钢获

得高韧性的基础。

一、概述

1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不

规则性及不完整性。种类:点缺陷、线缺陷、面缺

陷。

1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下

降。原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子

间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度

下降。

2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。原因是

晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠

结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。

3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无

缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另

一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,

非晶态晶体等。

二、点缺陷

3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子

尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺陷或零维缺陷。分类:空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。

4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。

5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑克尔空位。

6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原子浓度远小于空位浓度。

7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。

8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位导致两者同时消失,此过程成为复合。

9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。

三、线缺陷

10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。主要为各类位错。

11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。分类:刃位错、螺位错、混合型位错。

12、刃型位错特点:

a) 刃型位错有一个多余半原子面。正刃型位错和负刃型位错只有相对意义,无本质区别。

b) 位错线不一定为直线,但滑移面必定是位错线和滑移矢量确定的平面,滑移面唯一。

c) 刃型位错周围点阵发生弹性畸变,既有切应变,又有正应变。能引起材料体积变化。

d) 刃型位错位错线垂直于柏氏矢量,垂直于滑移方向,垂直于滑移矢量。位错线移动方向平行于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 刃型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

13、螺型位错特点:

a) 螺型位错无额外半个原子面,原子错排是呈轴对称的。右螺型位错和左螺型位错有本质区别。

b) 螺型位错线一定是直线,但滑移面不唯一,凡是包含螺型位错线的(原子密排)平面都可以作为他的滑移面。

c) 螺型位错周围点阵发生弹性畸变,只有平行于位错线的切应变,没有正应变。不会引起材料体积变化。

d) 螺型位错位错线平行于柏氏矢量,平行于滑移方向,平行于滑移矢量,位错线的移动方向垂直于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 螺型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

14、混合型位错:滑移矢量既不平行也不垂直于位错线,而与位错线相交成任意角度,这种位错称为混合位错。特点:a) 混合型位错位错线既不平行也不垂直于滑移矢量,每一段混合型位错均包含刃型位错分量和螺型位错分量(可以有纯刃型位错环,没有纯螺型位错环)。

b) 混合型位错是已滑移区和未滑移区的分界线。

c) 混合型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

15、柏氏矢量的确定:

1) 首先选定位错线的正向,一般选择出纸面方向为正向。

2) 在实际晶体中,从任一原子出发,围绕位错(避开位错线附近的严重畸变区)以一定的步数作一右旋闭合回路MNOPQ(称为柏氏回路)。

3) 在完整晶体中按同样的方向和步数作相同的回路,该回路并不封闭,由终点Q向起点M引一矢量b,使该回路闭合,这个矢量b就是实际晶体中位错的柏氏矢量。

16、右手法则:右手的拇指、食指、中指构成直角坐标体系,食指指向位错线方向,中指指向柏氏矢量方向,则拇指指向多余半原子面方向,规定若拇指向上为正刃型位错,反之为负刃型位错。

17、规定柏氏矢量b与位错线同向平行者为右螺型位错,反向平行者为左螺型位错;通常用拇指代表螺旋的前进方向,而以其余四指代表螺旋的旋转方向。凡符合右手法则的称为右螺型位错,符合左手法则的称为左螺型位错。

19、柏氏矢量性质:1) 一条位错线只有一个柏氏矢量,一个位错环只有一个柏氏矢量(柏氏矢量守恒性)。2) 多个位错相遇时指向同一结点或离开同一结点,他们的b之和为零。3) 晶体中的位错或自由封闭或终止于晶体表面或晶界处,不能在晶体中中断(称为位错的连续性)。

20、刃位错运动:1) 滑移:刃位错滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向一致,正刃负刃方向相反。滑移只涉及靠近位错的一部分原子,故刃位错滑移所需的切应力很小。位错沿滑移面滑过整个晶

体时会在晶体表面沿柏氏矢量方向产生一个宽度为柏氏矢量大小的台阶。

2)攀移:刃位错在垂直于滑移面方向上的运动成为攀移。多余半原子面向上运动称为正攀移,多余半原子面向下运动称为负攀移。

21、螺位错运动:1) 滑移:螺型位错的滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向垂直,左螺右螺方向相反。其他特点同刃位错滑移。

2) 交滑移:对于螺位错,所有包含位错线的晶面都可能成为其滑移面,当螺位错在某一晶面上运动受阻时就可能原滑移面上转移到与之相交的另一滑移面上继续滑移,此过程称为交滑移。如交滑移后的位错再转回和原滑移面平行的晶面上继续滑移,则称为双交滑移(交滑移滑移面改变,滑移方向不变!!!)。

22、混合型位错的滑移:方向与外加切应力τ及柏氏矢量b呈一定角度,晶体的滑移方向外加切应力τ及柏氏矢量b的方向一致。

23、林位错:当一位错在某一滑移面上运动时,会与穿过滑移面的其他位错交割,其他位错就是称为林位错。

24、位错很难全长同时运动,尤其在遇到阻碍的情况下,可能其中一部分首先滑移,若由此位错线上形成的曲折线段在位错的滑移面上,则称该曲折线段为扭折,若该曲折线段垂直于位错的滑移面,则称为割阶。位错间交割也可形成割阶或扭折,刃型位错攀移可产生割阶。

25、小结:

1) 运动位错交割后,每根位错线上都可能产生一个扭折或割阶,其大小和方向取决于另一位错的伯氏矢量,但是具有原位错线的柏氏矢量。

2) 所有的割阶都是刃型位错,而扭折可能是刃型也可能是螺型。

3) 扭折与原位错线在同一滑移面上,可随主位错线一道运动,几乎不产生阻力,而且在线张力作用下易于消失。

4) 割阶与原位错线不在同一滑移面,故除非割阶产生攀移,否则割阶就不能随主位错线一道运动,成为位错运动的障碍,通常称此为割阶硬化。

5) 刃型位错运动时,割阶滑移方向与原位错滑移方向相同,能与原位错一起运动,但割阶的滑移面并不一定是晶体的最密排面,割阶段所受到的晶格阻力较大。相比较而言,而螺型位错的割阶阻力则小的多

26、带割阶螺型位错的运动:(位错交割产生许多割阶,异号割阶反向运动相互抵消,最后剩下同号割阶,同号割阶相互排斥保持一定距离,最后在位错线上留下许多不可动割阶)按割阶高度的不同可分为三种情况:①割阶高度为1~2个原子间距,位错可以把割阶拖着走,留下一排点缺陷(空位或间隙原子);②割阶高度约在二十个原子间距以上,它们可以各自独立的在各自的滑移面上滑移,并以割阶为轴,在滑移面上旋转(单边弗朗克-瑞德位错源);③割阶高度介于上述两种时,位错与割阶连接点被拉长,形成两条符号相反的刃型位错线(称为位错偶),位错偶长度达到一定值时会与原位错脱离形成位错环。原位错恢复到带割阶的原来状态。

28、单位为错:柏氏矢量等于单位点阵矢量的位错。全位错:柏氏矢量等于点阵矢量或其整数倍的位错。全位错滑移后晶体原子排列方式不变。

面心立方晶体典型单位位错:a2<110>

29、不全位错:柏氏矢量不等于点阵矢量或其整数倍的位错。不全位错滑移后原子排列方式改变。

面心立方晶体中典型不全位错:肖克莱不全位错、弗兰克不全位错、压杆位错等。

若堆垛层错只在原子面部分区域存在,则层错与完整晶体的交界处就存在不全位错。

原子面上抽去或插入半个原子面,靠近半原子面处点阵畸变较大,远离半原子面处由于原子是垂直升高或落下,仍处于密排位置,故没有畸变,畸变处原子组成不全位错。不全位错特点:

1) 不全位错四周不全是完整结构,有一部分层错;

2) 不全位错的柏氏回路必须从层错开始,最后穿过回路;

3) 不全位错的柏氏矢量不是完整的最小点阵矢量;

4) 不全位错的柏氏矢量也有守恒性。

27、位错增殖:弗朗克-瑞德位错源、单边弗朗克-瑞德位错源、双交滑移增殖机制、空位片塌陷增殖机制、位错攀移增殖机制、绕过机制。

30、位错反应:位错分界和合并的合称。需要满两个条件:

1) 几何条件:b i为反应各位错柏氏矢量,b k为反应后各位错柏氏矢量:∑b i=∑b k。

2) 能量条件:位错反应必须是个能量降低过程:∑|b i|2>∑| b k|2。

31、堆垛层错:实际晶体结构中密排面的正常堆垛顺序被破坏的情况称为堆垛层错,简称层错(面心立方晶体最密排面堆垛顺序ABC)。分为抽出型层错和插入型层错,一个插入型层错相当于两个抽出型层错。

32、堆垛层错能:形成层错时几乎不产生点阵畸变,但层错破坏了晶体的完整性和正常的周期性,使电子发生反常的衍射效应,使晶体能量增加,这部分增加的能量称为堆垛层错能。层错能高,出现层错的概率小。

33、肖克莱不全位错特点:

在{111}面上;柏氏矢量a6<112>;

柏氏矢量与半原子面在位错线左和右无关;

可以是纯刃型纯螺型也可以是混合型;

可动位错,可以在其所在{111}面上滑移,滑移结果是使层错面扩大或缩小,但即便纯螺型位错也不能交滑移;纯刃型肖克莱不全位错也不可以攀移,因为不全位错有确定的层错相连,若进行攀移,势必脱离层错面,故不可能进行。

34、弗兰克不全位错特点:

1),都垂直于{111}晶面;柏氏矢量a3<111>;

2),柏氏矢量与半原子面在位错线左和右有关;

3),抽出型层错—负弗兰克不全位错;4),插入型层错—正弗兰克不全位错;5),纯刃型位错;固定位错,不能在滑移面上滑移,否则会使其脱离层错,但可以通过点缺陷运动进行攀移,使层错面扩大或缩小;

35、汤普森四面体:在面心立方单位晶胞内由D(0,0,0)、A(12,12,0)、B(12,0,12)、C(0,12,12)四个点为顶点的由四个{111}面组成的棱边平行于<110>方向的四面体。以α、β、γ、δ代表A、B、C、D点对面的中心

2)由图可见:

A)四面体的4个面即为4个可能滑移面:

面。

B)四面体的6个棱边代表12个晶向,即为面心立方晶体中全位错12个可能的伯氏矢量。

C)每个面的顶点与其中心的连线代表24个型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中可

能的24个肖克利不全位错的伯氏矢量。

D)4个顶点到它所对的三角形中点的连线代表8个型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中

可能有的8个弗兰克不全位错的伯氏矢量。

E)4个面中心相连即为是压杆位错的一种。

36、把一个全位错分解为两个不全位错,中间夹着一个堆垛层错的组态称为扩展为错。层错能高,扩展位错宽度小。

37、面心立方晶体中能量最低的单位为错是处于{111}晶面上的柏氏矢量为a2<110>的单位为错。

38、罗曼-柯垂尔(Lomer-Cottrell)位错,面角位错,压杆位错

面缺陷:在一个方向上尺寸很小,另外两个方向上扩展很大的晶体缺陷,也称为二维缺陷。包括:晶界、亚晶界、孪晶界、相界和堆垛层错等。

40、表面能:由于晶体表面原子少于晶体内部、成分偏聚等因素,导致晶体表层原子间结合键与晶体内部不同,表层原子会偏离平衡位置,造成点阵畸

变并影响到邻近几个原子层,使其能量升高,将晶

体表面单位面积自由能的增加称为表面能γ。当晶

体以最密排面作为表面时晶体能量最低。

41、晶界:属于同一固相但位向不同的晶粒之间的界面。晶粒直径0.015~0.025mm,亚晶粒0.001mm。

根据位向差θ的大小可将晶界分为:

1)小角度晶界——相邻晶粒的位向差小于10°晶界。小角晶界可分为对称倾斜晶界(由一列平行的刃型

位错构成),不对称倾斜晶界(两组柏氏矢量相互

垂直的刃型位错构成),扭转晶界(相互交叉的螺

型位错组成),重合晶界。

小角晶界可以看成是两部分晶体绕某一转轴旋转一

定角度形成的,倾斜晶界可以看成是转轴在晶界内,扭转晶界可以看成是转轴垂直于晶界,实际晶体中

的小角晶界转轴既不平行也不垂直于晶界。

亚晶界:位向稍有差异的相邻亚晶粒间的界面,亚

晶界均属小角度晶界,一般小于2°。

2)大角度晶界——相邻晶粒的位向差大于10°晶界,多晶体中90%以上的晶界属于此类,位相差大多为30°~40°。纯金属中大角晶界宽度不超过3个原子间距,可以用重合位置点阵模型描述。但该模型不

能描述两晶粒处于任意位相差的晶界结构。

重合位置点阵:两晶粒点阵彼此通过晶界向对方延伸,其中一些原子将出现彼此有规律的相互重合。

这些原子重合位置形成一个新的比原来晶体点阵大

的新点阵,称为重合位置点阵。

42、晶界能:境界原子排列不规则有畸变从而使系统自由能升高,将形成单位面积的晶界时系统自由

能变化定义为晶界能。等于界面区单位面积的能量

减去无晶界时该区单位面积的能量。小角晶界能来

源于位错能,大小与位相差有关;大角晶界晶界能

与晶粒位相差无关。

位错能:形成位错所需的能量和将位错排成特定组态所做的功,位错密度决定位相差,故小角晶界能

与位相差有关。

43、晶界特性:1) 晶界处点阵畸变大,存在晶界能。2) 晶界处原子排列不规则,常温下对位错运动其阻碍作用,使塑性变形抗力增大,宏观表现为晶界处

强度硬度较高。晶粒越细材料强度越高,此即为细

晶强化。高温下境界存在一定黏滞性,易使相邻晶

粒产生相对滑动。3) 晶界处原子动能大、缺陷多,晶界处原子扩散速度快;4) 晶界处为相变优先形核位置,晶粒越细,形核率越高。5) 由于存在成分偏析和内吸附,晶界处杂质原子富集,晶界熔点较低。6) 由于晶界处能量高、原子处于不稳定状态以及晶界杂质原子富集,境界的腐蚀速度较快。

44、孪晶界:两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶面构成镜面对称的位向关系,这两个晶

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<110

6

1

体就称为"孪晶"(按产生原因不同分为形变孪晶、

生长孪晶、退火孪晶等,层错能高不易产生孪晶),此公共晶面就称孪晶面,孪晶界可分为两类:共格孪晶界(孪晶界即为孪晶面,面上原子同时处于两

个晶体点阵结点上是无畸变完全共格晶面,界面能

约为普通界面能十分之一)和非共格孪晶界(孪晶

界上只有部分原子为两部分晶体共有,原子错排相

对较为严重,界面能约为普通界面能二分之一)。45、相界:具有不同结构的两相之间的分界面;相界面可分为共格相界、半共格相界和非共格相界三

种类型,相界能(由弹性畸变能和化学交互作用能

两部分组成,共格相界界面能主要为弹性畸变能,

非共格相界由于界面上原子化学键数目种类变化很大,界面能主要为化学交互作用能)都大于孪晶界

且依次递增。

1) 共格相界:界面上原子同时位于两相晶格结点上,界面上原子为两者共有。理想的共格相界不存在,

因为即便两相晶体结构相同,点阵常数也不可能完

全相同,相界附近必然产生一定弹性畸变。

2) 半共格相界:相界处两相晶面间距差距较大,相界上不可能达到一一对应,界面上将产生一些位错

以降低弹性应变能。

3) 非共格相界:原子排列差别很大,类似于大角晶界。

4) 错配度δ:位错间距D:其中aα、aβ分别为相界面两侧α、β相点阵常数,且aα>aβ。

当δ很小,D很大时:α、β两相趋于在相界上共格;δ很大,D很小时:α、β两相在相界上完全失配;δ<0.05,两相可以构成完全共格界面,δ>0.25易形成非共格界面,δ介于0.005和0.25之间时形成办公个界面。

四、晶体缺陷理论的应用

46、固溶强化:溶质原子会在晶体中产生应力

场,此应力场与位错应力场相遇并产生相互作用,

增大了位错运动所需的力,宏观表现为晶体得到了

强化。包括:弹性交互作用、化学交互作用、电化

学交互作用、几何交互作用。

1) 弹性交互作用:溶质原子特别是间隙原子聚集于位错附近形成原子云,称为柯氏气团,产生的弹性

畸变应力场与位错相互作用对位错起“钉扎”作用,位错拖着气团运动变得困难,宏观表现为晶体的到

了强化。

屈服现象解释:柯氏气团钉扎位错使位错运动变得困难,宏观表现为晶体的到了强化,外力达到一定

值以后位错挣脱其图案的束缚,此时位错运动变得

容易,位错滑移相同距离所需外力减小。时效处理

后重新加载,溶质原子重新通过扩散作用在位错附

近形成气团,晶体又出现屈服现象。

2) 化学交互作用:面心立方晶体结构中,{111}面上的滑移位错分解为两个不全位错从而形成扩展位错,两个不全位错之间隔着一层层错,其晶体结构变为密排六方结构,该结构具有两层原子的厚度和10和原子间距的宽度。该结构靠层错便面能抵抗不全位错之间斥力以保持平衡。由于同种原子对不同晶体有不同的化学氏,所以溶质原子在密排六方结构中和面心立方结构中浓度不同,这种不均匀分布能引起晶体强化。溶质原子和为错的这种交互作用称为铃木气团,铃木气团属于化学交互作用。3) 电化学交互作用:两种溶质原子溶解于同一种溶剂中,它们错配度相同原子价不同,它们对溶剂的强化效果不同,表明溶质原子与位错之间存在电化学交互作用。

4) 几何交互作用:位错与溶质原子的交互作用与溶质原子的几何位置有关,这种交互作用称为几何交互作用。

47、第二项粒子强化:第二项粒子阻碍位错运动从而使晶体得到强化。分为沉淀强化和弥散强化两类。通常,以粒子本身变形特性来区分第二项粒子强化机制,分为可变形粒子强化和不可变形粒子强化。强化效果随粒子体积分数增大而提高。时效处理时应在粒子平均尺寸达到峰强度对应的尺寸(对于可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果提高;对于不可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果减弱,二者的强化效果随粒子尺寸变化曲线的交点即为峰强度对应的尺寸,提高沉淀相体积分数可提高峰强度)前,使沉淀相粒子大量充分形核并达到要求的体积分数。

根据质点大小、性质、质点与基体联系不同,位错与质点相遇时分为三种情况:位错通过质点(切割机制);位错绕过质点(绕过机制),增加表面积、表面能,同时也是位错环增殖机制;位错堆积于质点前,使质点产生裂缝。

1) 可变形粒子强化:第二相粒子为可变形微粒时,位错将切过粒子使之与基体一起变形。强化效果主要取决于粒子性能以及粒子与基体的联系,粒子尺寸影响较小。粒子本身强度提高、粒子尺寸增大均可提高强化效果。

强化机理:A. 位错切过粒子时,粒子产生宽度为b 的表面台阶,由于出现了新的表面积,使总的界面能升高。B. 当粒子是有序结钩时,则位错切过粒子时会打乱滑移面上下的有序排列,产生反相畴界,引起能量的升高。C. 由于第二相粒子与基体的晶体点阵不同或至少是点阵常数不同,故当位错切过粒子时必然在其滑移面上引起原子的错排,需要额外做功,给位错运动带来困难。D. 由于粒子与基体的比体积差别,而且沉淀粒子与母相之间保持共格

(Coherent)或半共格结合,故在粒子周围产生弹性应力场,此应力场与位错会产生交互作用,对位错运动有用阻碍。E. 由于基体与粒子中的滑移面取向不一致,则位错切过后会产生割阶,割阶存在会阻碍整个位错线的运动。F. 由于粒子的层错能与基体不同,当扩展位错通过后,其宽度会发生变化,引起能量升高。

2) 不可变形粒子强化:工业上应用的合金采用第二相粒子强化手段进行强化时,大多利用中间相粒子作为第二相,即利用不可变形粒子强化,强化效果主要取决于粒子尺寸及弥散度。第二相粒子尺寸过小过于弥散和第二相粒子尺寸间距过大都会使强化效果减弱。

原因:质点成分结构不同于基体引起体积改变并形成应力场,局部应力场对位错有阻碍作用前提是位错可以沿质点应力场弯曲(从而得到最小的位能)。实际晶体中,位错弯曲所能达到的尖锐程度有一定限制,因此质点尺寸非常小非常弥散时,位错只能跨过他们,不会引起硬化或得不到最大强化;质点尺寸、间距过大时,位错线沿质点应力场弯曲所需切应力τ=G b2r变小,引起软化,b为位错柏氏矢量,r为质点曲率半径。质点间距l=r时,位错线所能达到的曲率恰好与质点间距相等,位错收到的阻碍等于它所面临的质点应力场作用的算数总和,合金大道最大强化。此时,质点间距为20~100(25~50)个原子间距。

注:第二相质点与周围基体结合使基体处于弹性应力状态,从而可能使质点有效尺寸远大于实际尺寸;位错绕过第二相质点在质点周围留下位错环,使质点有限尺寸变大而质点间距变小从而加快合金加工硬化速率;

指点本身的性质对合金的强度和韧性也将起到显著作用。

48、细晶强化:用细化晶粒增加晶界提高警惕强度的方法称为细晶强化。

形变穿越晶界方式:位错很难穿过晶界传播到下一个晶粒,位错在晶界处塞积并引起应力集中在临近晶粒内触发位错源使其开动。- 10 –

细晶强化:一方面由于晶界的存在,变形晶粒在晶界处受阻,每一晶粒内滑移带都终止于晶界附近,;另一方面,由于各晶粒存在相位差,为了协调变形,要求每个晶粒必须进行多滑移,多滑移印发位错的相互交割。以上两者使金属材料强度大幅提高。

细晶强化同时提高塑性韧性:

塑性:外力相同,细小的晶粒晶粒内部和晶界处应变相差较小,变形均匀,相对而言因为应力集中引发的开裂机会较少,从而使材料变形之前能承受较大的变形量,进而得到较大的伸长率和断面收缩率。

韧性:细晶粒金属中;裂纹不易产生也不易扩展,因而在断裂过程中吸收了更多的能量,即表现出较高的韧性。

49、加工硬化:随着塑性变形量增加,位错相互缠结,位错运动变得困难,宏观变现为金属强度升高,此现象被称为加工硬化。

作用:推迟材料断裂的发生。

1) 单晶体加工硬化:初始滑移系数目多,加工硬化率高。分为三个阶段:

第Ⅰ阶段:又称易滑移阶段,加工硬化很低。原因:没有次滑移系上的滑移干扰主滑移系上的位错运动,故位错源开动较为容易。

第Ⅱ阶段:又称线性硬化阶段,加工硬化迅速增加。原因:主滑移系和次滑移系上都产生滑移,形成几种新的点阵无规则性,如林位错、割阶等阻碍位错运动。

第Ⅲ阶段:又称抛物线硬化阶段,特点是加工硬化率有所降低。原因:在第Ⅱ阶段被阻挡的位错再足够高的应力或温度下可以借助某种过程而运动。比如螺位错的交滑移、通过双交滑移的返回原滑移面的螺型位错与符号相反的位错相互吸引而导致互毁。第Ⅲ阶段强烈依赖于温度,层错能高低也对应力-

应变曲线形貌其重要作用,eg.除非在低温下进行试验,否则铝的第Ⅱ阶段很难被发现。

2) 多晶体的加工硬化:多晶体加工硬化的特点,主要受出现晶界这一点影响。晶界对塑性变形的作用,一是对晶内滑移的障碍作用,另一是为不致在晶界上出现裂纹,就不得不在小变形时局部地方产生多滑移。加工硬化的位错组织具有与单晶体大致相同的图像。原始的位错与次滑移的位错交互作用,可以产生偶极位错和位错环,发生局部位错缠结区,并逐步发展成为亚晶界的三维网络。亚晶胞的尺寸随着应变的增加而减小。

50、晶体缺陷理论在超级钢与新一代钢铁材料中的应用:超细晶是新一代钢铁材料的技术核心。钢铁结构材料约占钢铁材料的90%,强韧化是结构材料的

基本发展方向,超细晶可以达到强韧化的目的。总

结强化钢铁材料的途径有:

1) 通过合金元素和间隙元素原子溶解于基体组织

产生固溶强化,他是点缺陷的强化作用;

2) 通过加工变形增加位错密度造成钢材承载时位

错运动困难(位错强化),他是线缺陷的强化作用;3) 通过晶粒细化使位错穿过晶界受阻产生细晶强化,他是面缺陷的强化作用;

4) 通过第二相[一般为Mx(C,N)y析出相或弥散相]使位错发生弓弯(奥罗万机制)和受阻产生析出强化。

五、固态相变理论

51、固态金属三种基本变化:(1)晶体结构的变化;

(2)化学成分的变化;(3)有序程度的变化。

固态相变与结晶相同点在于相变驱动力都是新旧两

相自由能之差,都包含形核长大两个过程。不同点:1) 相变阻力大:产生新界面导致界面能升高;新旧相体积不同引起弹性畸变能增加。此外,固态相变

中原子扩散变得更加困难。

2) 新相-母相界面上原子的排列易保持一定的匹配:共格界面、半共格界面、非共格界面。;

3) 新相和母相之间存在一定的晶体学位相关系(为减少界面能)一般而言,新旧两相界面为共格半共

格界面时,新相母相必然存在一定位相关系,如果

两相之间没有确定位相关系,界面一定是非共格界面;

4) 新相习惯于在母相的一定晶面上形成,新相往往以特定晶向在母相的特定晶面上形成,这种现象称

为惯习现象,这个晶面称为惯习面,晶向称为惯习

方向;

5) 母相中晶体缺陷对新相形核起促进作用;

6) 易出现过渡相。

52、相变得基本类型:

1) 按相变能否获得平衡组织分为:平衡相变和不平衡相变

2) 按相变中形核长大特点分为:扩散型相变(依赖原子长距离扩散,珠光体转变,同素异构转变、

固溶体中多型性转变、脱溶转变、共析转变、包析

转变、调幅分解、有序化转变),半扩散型相变(部分依赖于切变转变,部分依赖于短距离扩散,块状

转变、贝氏体相变),非扩散型相变(通过类似塑性变形中的滑移和孪生那样,通过切边和扭转进行的,也称切变型相变,相界面共格。原子相邻关系、化学成分不变,如马氏体相变、低温进行的纯金属如钛锆、锂、钴的同素异构转变)

3) 按热力学分类:一级相变新相化学位=母相化学位,新相体积≠母相体积,新相熵值≠母相熵值;二级相变新相母相化学位、体积及熵值均相等,但热容、膨胀系数及压缩系数不相等

53、除调幅分解以外,绝大多数固态相变都是通过形核长大过程完成的。

晶胚:母相基体的某些微小区域内产生的形成晶核必须的成分和结构。晶胚进一步长大能降低系统的自由能,从而成为新相的晶核。

均匀形核:新相晶核在母相基体内无任何择优取向任意分布的形核方式称为均匀形核。均匀形核所需形核功较大,要求过冷度较大。

非均匀形核:若新相晶核在母相基体内某些区域择优不均匀分布,则称为不均匀形核母相中各种点线面缺陷处能量较高,为非均匀形核创造了条件。固态相变几乎全部为非均匀形核。

54、晶核长大:实质是新相和母相界面相母相方向推移,固态相变类型(eg.扩散型相变和非扩散

型相变)、晶核的界面结构结构影响长大机制。55、脱溶转变:当固溶体因温度变化等原因呈过饱和状态时,将自发的发生分解过程,其所包含的过饱和溶质原子通过扩散转变为新相析出,此过程称为脱溶。由于固态中原子扩散困难,温度高的情况下发生平衡脱溶,温度较低时脱溶产物以亚稳态过渡相形式存在;快冷(称为淬火或固溶处理)情况下不分解,在一定条件下(沉淀或时效)生成亚稳的过渡相。Al-4.5%-Cu室温下平衡相为α固溶体和CuAl2金属间化合物(θ相),将合金加热至540℃得到单相α固溶体,快冷至室温得到单相过饱和α固溶体(此过程称为固溶处理),此时为亚稳状态,加热到100~200℃保温(时效处理),过饱和α固溶体将发生脱溶分解,随保温时间的延长形成不同类型的过渡相:G.P.Ⅰ区→G.P.Ⅱ区(θ″)→θ′→θ(即CuAl2)顺序逐步完成的。

56、脱溶转变分类:连续脱溶(连续沉淀)、不连续脱溶(不连续沉淀)两类,连续脱溶又分为均匀脱溶和不均匀脱溶(局部脱溶)。

均匀脱溶:连续脱溶时,新相晶核在母相何处同时发生、随机生成,母相浓度随之连续变化,但母相晶粒外形及位相不变,脱溶相(沉淀相)均匀分布于基体的脱溶转变。如脱溶相优先析出于局部位置如晶界、孪晶界等处,则为不均匀脱溶。

不连续脱溶:从过饱和基体中以胞状形式同时析出α、β两相,其中α是成分略有改变的基体相,β相是脱溶新相,两者一层片状相间分布的脱溶转变。均匀脱溶对性能有利,对材料起到明显的强化作用,称为时效强化或沉淀强化。

57、共析转变:一个固相冷却到共析温度时同时析出两个固相的转变(γ→α+β)。共析组织通常由交替生长的αβ片层构成。珠光体转变为共析转变。

58、调幅分解:又称增幅分解或拐点分解,其特点是新相的形成不经形核-长大,而是通过自发的成分涨落,浓度振幅不断增加,固溶体最终自发地分解成结构相同而成分不同的非均匀固溶体的过程。属上坡扩散。特点:1.无形核过程。2.两个新相结构相同,成分不同。3.相变推动力是化学位变化,是典型的上坡扩散。4.拐点分解自发的脱溶转变,不需要形核,通过溶质的上坡扩散形成结构相同成分呈周期性波动的纳米尺度共格微畴。

59、非扩散型相变——马氏体转变:新相生长不是通过扩散,而是通过类似于塑性变形中的滑移孪生,产生切边和转动而进行的,因此此类相变也称非扩散型相变为切变型相变。马氏体为亚稳相。

60、马氏体相变特点:

1) 马氏体相变具有无扩散性(表现为转变前后成分不变、马氏体转变可以再极低温度下快速进行);

2) 马氏体转变是共格切变式转变,马氏体转变时表面出现浮凸现象;

3) 马氏体转变前后,新相与母相之间有一定的晶体学位相关系;

4) 马氏体转变往往沿奥氏体的一定晶面(惯习面)形成;

5) 马氏体高速长大;

6) 马氏体转变是在Ms~Mf温度范围内的连续降温中形成的;

7) 有的马氏体转变具有可逆性;

8) 马氏体转变不完全,存在残余奥氏体。

61、不同合金中马氏体形貌形貌结构不同。碳质量分数小于0.6%时淬火组织以板条马氏体为主,有少量片状马氏体;碳质量分数为0.6%~1%时为两类马氏体混合组织;碳质量分数大于1%基本上是片状马氏体。此外还有ε马氏体、带状马氏体等。

低碳钢中马氏体呈板条装,成束分布于原奥氏体晶粒内,同一束马氏体板条大致平行分布,束与束之间有不同位相,板条内亚结构为高密度位错,平行的马氏体板条之间时小角晶界,不同位相的马氏体束之间时大角晶界。马氏体板条长轴为<111>。

<111>M∥<110>γ(含义:马氏体<111>M平行于母相奥氏体<110>γ晶向)。

高碳马氏体呈片状,各片之间具有不同位相,且大小不一,小片分布于大片之间,大片为先形成马氏体。片状马氏体内部亚结构为微孪晶,即一个马氏体片被一条中脊线分为位相略有差异的两个孪晶面。中脊面对应的母相奥氏体的晶面指数称为片状马氏体的惯析面,碳质量分数为0.6%~1.4%的片状马氏体具有{225}γ惯析面,碳质量分数高于1.4%的碳素钢及Fe-Ni合金等片状马氏体具有{259}γ惯析面。

62、上贝氏体:550℃-350℃间形成,光学显微组织呈羽毛状,组织特征:成束分布,平行排列的铁素体之间夹杂着断续分布的短杆状渗碳体,样品表面产生集群的条状浮凸;

下贝氏体:335℃-Ms之间形成,光学显微组织呈针状,组织特征:针叶状的铁素体片上分布着与针叶长轴成55-60°的渗碳体薄片(既强又韧)。样品表面产生多向分布针状浮凸。

63、贝氏体转变特点:

1) 有一定孕育期,孕育期长短与钢种及温度有关;

2) 贝氏体转变是一个形核和长大过程;

3) 铁原子发生自扩散并按共格切变式转变;

4) 碳原子靠原子扩散形成碳化物;

5) 贝氏体转变是在一定温度范围内进行(共析钢550℃-Ms);

6) 新相与母相保持着一定的晶体学关系,也有惯习面;

7) 贝氏体转变也具有不完全性。

64、晶体缺陷与固态相变理论的综合应用:

1) 在超细晶粒钢中的应用:①形变诱导铁素体相变(DIET)技术;②弛豫析出控制相变(PCC)技术;

③针状铁素体组织细化技术;④形变强化相变工艺。

2) 在钢的形变热处理及控制轧制和控制冷却工艺

中的应用。

3) 在微合金钢中的应用。

4) 在TRIP钢(形变诱发马氏体相变钢)中的应用。

5) 在细晶超塑性中的应用。

6) 在抗震耐火钢中的应用;在铝锂合金中的应用;在镁合金材料中的应用;在钛合金中的应用。

65、微量合金元素对钢的组织性能影响如下:

1),改变钢的相变温度、相变时间,从而影响相变

产物的组织和性能

2),细化晶粒强化。在高温时抑制奥氏体晶粒长大,

从而获得细小的铁素体晶粒,明显提高钢的强韧性。

6)沉淀强化。微合金元素最重要的特性是易形成MC、

MN、M(C、N)等第二相粒子(M代表微合金元素如钛、

铌、钒、锆等),高度弥散均匀分布,强化效果显著。

7)改变钢中夹杂物的形态、大小、数量和分布。

8)加入微合金元素,严格控制珠光体的体积分数,

可获得少珠光体钢、无珠光体钢乃至无间隙固溶体

钢。

必须指出,上述方法都采用控制轧制、控制冷

却和控制沉淀,因为它是微合金化低碳高强度钢获

得高韧性的基础。

一、概述

1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不

规则性及不完整性。种类:点缺陷、线缺陷、面缺

陷。

1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下

降。原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子

间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度

下降。

2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。原因是

晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠

结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。

3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无

缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另

一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,

非晶态晶体等。

二、点缺陷

3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子

尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域

内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺

陷或零维缺陷。分类:空位、间隙原子、杂质原子、

溶质原子。

4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常

结点位置使晶体内形成的空位。

5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙

形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑

克尔空位。

6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体

表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。

间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原

子浓度远小于空位浓度。

7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能

粒子辐照可得到过饱和点缺陷。

8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位

导致两者同时消失,此过程成为复合。

9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增

加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。

三、线缺陷

10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。主要为各类位错。

11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。分类:刃位错、螺位错、混合型位错。

12、刃型位错特点:

a) 刃型位错有一个多余半原子面。正刃型位错和负刃型位错只有相对意义,无本质区别。

b) 位错线不一定为直线,但滑移面必定是位错线和滑移矢量确定的平面,滑移面唯一。

c) 刃型位错周围点阵发生弹性畸变,既有切应变,又有正应变。能引起材料体积变化。

d) 刃型位错位错线垂直于柏氏矢量,垂直于滑移方向,垂直于滑移矢量。位错线移动方向平行于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 刃型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

13、螺型位错特点:

a) 螺型位错无额外半个原子面,原子错排是呈轴对称的。右螺型位错和左螺型位错有本质区别。

b) 螺型位错线一定是直线,但滑移面不唯一,凡是包含螺型位错线的(原子密排)平面都可以作为他的滑移面。

c) 螺型位错周围点阵发生弹性畸变,只有平行于位错线的切应变,没有正应变。不会引起材料体积变化。

d) 螺型位错位错线平行于柏氏矢量,平行于滑移方向,平行于滑移矢量,位错线的移动方向垂直于晶体滑移方向。

e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。

f) 螺型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

14、混合型位错:滑移矢量既不平行也不垂直于位错线,而与位错线相交成任意角度,这种位错称为混合位错。特点:a) 混合型位错位错线既不平行也不垂直于滑移矢量,每一段混合型位错均包含刃型位错分量和螺型位错分量(可以有纯刃型位错环,没有纯螺型位错环)。

b) 混合型位错是已滑移区和未滑移区的分界线。c) 混合型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。

15、柏氏矢量的确定:

1) 首先选定位错线的正向,一般选择出纸面方向为正向。

2) 在实际晶体中,从任一原子出发,围绕位错(避开位错线附近的严重畸变区)以一定的步数作一右旋闭合回路MNOPQ(称为柏氏回路)。

3) 在完整晶体中按同样的方向和步数作相同的回路,该回路并不封闭,由终点Q向起点M引一矢量b,使该回路闭合,这个矢量b就是实际晶体中位错的柏氏矢量。

16、右手法则:右手的拇指、食指、中指构成直角坐标体系,食指指向位错线方向,中指指向柏氏矢量方向,则拇指指向多余半原子面方向,规定若拇指向上为正刃型位错,反之为负刃型位错。

17、规定柏氏矢量b与位错线同向平行者为右螺型位错,反向平行者为左螺型位错;通常用拇指代表螺旋的前进方向,而以其余四指代表螺旋的旋转方向。凡符合右手法则的称为右螺型位错,符合左手法则的称为左螺型位错。

19、柏氏矢量性质:1) 一条位错线只有一个柏氏矢量,一个位错环只有一个柏氏矢量(柏氏矢量守恒性)。2) 多个位错相遇时指向同一结点或离开同一结点,他们的b之和为零。3) 晶体中的位错或自由封闭或终止于晶体表面或晶界处,不能在晶体中中断(称为位错的连续性)。

20、刃位错运动:1) 滑移:刃位错滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向一致,正刃负刃方向相反。滑移只涉及靠近位错的一部分原子,故刃位错滑移所需的切应力很小。位错沿滑移面滑过整个晶体时会在晶体表面沿柏氏矢量方向产生一个宽度为柏氏矢量大小的台阶。

2)攀移:刃位错在垂直于滑移面方向上的运动成为攀移。多余半原子面向上运动称为正攀移,多余半原子面向下运动称为负攀移。

21、螺位错运动:1) 滑移:螺型位错的滑移方向与外加切应力τ及柏氏矢量b的方向垂直,左螺右螺方向相反。其他特点同刃位错滑移。

2) 交滑移:对于螺位错,所有包含位错线的晶面都可能成为其滑移面,当螺位错在某一晶面上运动受阻时就可能原滑移面上转移到与之相交的另一滑移面上继续滑移,此过程称为交滑移。如交滑移后的位错再转回和原滑移面平行的晶面上继续滑移,则称为双交滑移(交滑移滑移面改变,滑移方向不变!!!)。

22、混合型位错的滑移:方向与外加切应力τ及柏氏矢量b呈一定角度,晶体的滑移方向外加切应力τ

及柏氏矢量b的方向一致。

23、林位错:当一位错在某一滑移面上运动时,会与穿过滑移面的其他位错交割,其他位错就是称为林位错。

24、位错很难全长同时运动,尤其在遇到阻碍的情况下,可能其中一部分首先滑移,若由此位错线上形成的曲折线段在位错的滑移面上,则称该曲折线段为扭折,若该曲折线段垂直于位错的滑移面,则称为割阶。位错间交割也可形成割阶或扭折,刃型位错攀移可产生割阶。

25、小结:

1) 运动位错交割后,每根位错线上都可能产生一个扭折或割阶,其大小和方向取决于另一位错的伯氏矢量,但是具有原位错线的柏氏矢量。

2) 所有的割阶都是刃型位错,而扭折可能是刃型也可能是螺型。

3) 扭折与原位错线在同一滑移面上,可随主位错线一道运动,几乎不产生阻力,而且在线张力作用下易于消失。

4) 割阶与原位错线不在同一滑移面,故除非割阶产生攀移,否则割阶就不能随主位错线一道运动,成为位错运动的障碍,通常称此为割阶硬化。

5) 刃型位错运动时,割阶滑移方向与原位错滑移方向相同,能与原位错一起运动,但割阶的滑移面并不一定是晶体的最密排面,割阶段所受到的晶格阻力较大。相比较而言,而螺型位错的割阶阻力则小的多

26、带割阶螺型位错的运动:(位错交割产生许多割阶,异号割阶反向运动相互抵消,最后剩下同号割阶,同号割阶相互排斥保持一定距离,最后在位错线上留下许多不可动割阶)按割阶高度的不同可分为三种情况:①割阶高度为1~2个原子间距,位错可以把割阶拖着走,留下一排点缺陷(空位或间隙原子);②割阶高度约在二十个原子间距以上,它们可以各自独立的在各自的滑移面上滑移,并以割阶为轴,在滑移面上旋转(单边弗朗克-瑞德位错源);③割阶高度介于上述两种时,位错与割阶连接点被拉长,形成两条符号相反的刃型位错线(称为位错偶),位错偶长度达到一定值时会与原位错脱离形成位错环。原位错恢复到带割阶的原来状态。

28、单位为错:柏氏矢量等于单位点阵矢量的位错。全位错:柏氏矢量等于点阵矢量或其整数倍的位错。全位错滑移后晶体原子排列方式不变。

面心立方晶体典型单位位错:a2<110>

29、不全位错:柏氏矢量不等于点阵矢量或其整数倍的位错。不全位错滑移后原子排列方式改变。

面心立方晶体中典型不全位错:肖克莱不全位错、弗兰克不全位错、压杆位错等。

若堆垛层错只在原子面部分区域存在,则层错与完整晶体的交界处就存在不全位错。

原子面上抽去或插入半个原子面,靠近半原子面处点阵畸变较大,远离半原子面处由于原子是垂直升高或落下,仍处于密排位置,故没有畸变,畸变处原子组成不全位错。不全位错特点:

1) 不全位错四周不全是完整结构,有一部分层错;

2) 不全位错的柏氏回路必须从层错开始,最后穿过回路;

3) 不全位错的柏氏矢量不是完整的最小点阵矢量;

4) 不全位错的柏氏矢量也有守恒性。

27、位错增殖:弗朗克-瑞德位错源、单边弗朗克-瑞德位错源、双交滑移增殖机制、空位片塌陷增殖机制、位错攀移增殖机制、绕过机制。

30、位错反应:位错分界和合并的合称。需要满两个条件:

1) 几何条件:b i为反应各位错柏氏矢量,b k为反应后各位错柏氏矢量:∑b i=∑b k。

2) 能量条件:位错反应必须是个能量降低过程:∑|b i|2>∑| b k|2。

31、堆垛层错:实际晶体结构中密排面的正常堆垛顺序被破坏的情况称为堆垛层错,简称层错(面心立方晶体最密排面堆垛顺序ABC)。分为抽出型层错和插入型层错,一个插入型层错相当于两个抽出型层错。

32、堆垛层错能:形成层错时几乎不产生点阵畸变,但层错破坏了晶体的完整性和正常的周期性,使电子发生反常的衍射效应,使晶体能量增加,这部分增加的能量称为堆垛层错能。层错能高,出现层错的概率小。

33、肖克莱不全位错特点:

在{111}面上;柏氏矢量a6<112>;

柏氏矢量与半原子面在位错线左和右无关;

可以是纯刃型纯螺型也可以是混合型;

可动位错,可以在其所在{111}面上滑移,滑移结果是使层错面扩大或缩小,但即便纯螺型位错也不能交滑移;纯刃型肖克莱不全位错也不可以攀移,因为不全位错有确定的层错相连,若进行攀移,势必脱离层错面,故不可能进行。

34、弗兰克不全位错特点:

1),都垂直于{111}晶面;柏氏矢量a3<111>;

2),柏氏矢量与半原子面在位错线左和右有关;

3),抽出型层错—负弗兰克不全位错;4),插入型层错—正弗兰克不全位错;5),纯刃型位错;固定位错,不能在滑移面上滑移,否则会使其脱离层错,但可以通过点缺陷运动进行攀移,使层错面扩大或缩小;

35、汤普森四面体:在面心立方单位晶胞内由D(0,0,0)、A(12,12,0)、B(12,0,12)、C(0,12,12)四个点为顶点的由四个{111}面组成的棱边平行于<110>方向的四面体。以α、β、γ、

δ代表A、B、C、D点对面的中心

2)由图可见:

A)四面体的4个面即为4个可能滑移面:

面。

B)四面体的6个棱边代表12个晶向,即为面心立方晶体中全位错12个可能的伯氏矢量。

C)每个面的顶点与其中心的连线代表24个型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中可

能的24个肖克利不全位错的伯氏矢量。

D)4个顶点到它所对的三角形中点的连线代表8个型的滑移矢量,它们相当于面心立方晶体中

可能有的8个弗兰克不全位错的伯氏矢量。

E)4个面中心相连即为是压杆位错的一种。

36、把一个全位错分解为两个不全位错,中间夹着

一个堆垛层错的组态称为扩展为错。层错能高,扩展位错宽度小。

37、面心立方晶体中能量最低的单位为错是处于{111}晶面上的柏氏矢量为a2<110>的单位为错。

38、罗曼-柯垂尔(Lomer-Cottrell)位错,面角位错,压杆位错

面缺陷:在一个方向上尺寸很小,另外两个方向上扩展很大的晶体缺陷,也称为二维缺陷。包括:晶界、亚晶界、孪晶界、相界和堆垛层错等。

40、表面能:由于晶体表面原子少于晶体内部、成分偏聚等因素,导致晶体表层原子间结合键与晶体

内部不同,表层原子会偏离平衡位置,造成点阵畸

变并影响到邻近几个原子层,使其能量升高,将晶

体表面单位面积自由能的增加称为表面能γ。当晶

体以最密排面作为表面时晶体能量最低。

41、晶界:属于同一固相但位向不同的晶粒之间的界面。晶粒直径0.015~0.025mm,亚晶粒0.001mm。

根据位向差θ的大小可将晶界分为:

1)小角度晶界——相邻晶粒的位向差小于10°晶界。小角晶界可分为对称倾斜晶界(由一列平行的刃型

位错构成),不对称倾斜晶界(两组柏氏矢量相互

垂直的刃型位错构成),扭转晶界(相互交叉的螺

型位错组成),重合晶界。

小角晶界可以看成是两部分晶体绕某一转轴旋转一

定角度形成的,倾斜晶界可以看成是转轴在晶界内,扭转晶界可以看成是转轴垂直于晶界,实际晶体中

的小角晶界转轴既不平行也不垂直于晶界。

亚晶界:位向稍有差异的相邻亚晶粒间的界面,亚

晶界均属小角度晶界,一般小于2°。2)大角度晶界——相邻晶粒的位向差大于10°晶界,多晶体中90%以上的晶界属于此类,位相差大多为30°~40°。纯金属中大角晶界宽度不超过3个原子间距,可以用重合位置点阵模型描述。但该模型不

能描述两晶粒处于任意位相差的晶界结构。

重合位置点阵:两晶粒点阵彼此通过晶界向对方延伸,其中一些原子将出现彼此有规律的相互重合。

这些原子重合位置形成一个新的比原来晶体点阵大

的新点阵,称为重合位置点阵。

42、晶界能:境界原子排列不规则有畸变从而使系统自由能升高,将形成单位面积的晶界时系统自由

能变化定义为晶界能。等于界面区单位面积的能量

减去无晶界时该区单位面积的能量。小角晶界能来

源于位错能,大小与位相差有关;大角晶界晶界能

与晶粒位相差无关。

位错能:形成位错所需的能量和将位错排成特定组态所做的功,位错密度决定位相差,故小角晶界能

与位相差有关。

43、晶界特性:1) 晶界处点阵畸变大,存在晶界能。2) 晶界处原子排列不规则,常温下对位错运动其阻碍作用,使塑性变形抗力增大,宏观表现为晶界处

强度硬度较高。晶粒越细材料强度越高,此即为细

晶强化。高温下境界存在一定黏滞性,易使相邻晶

粒产生相对滑动。3) 晶界处原子动能大、缺陷多,晶界处原子扩散速度快;4) 晶界处为相变优先形核位置,晶粒越细,形核率越高。5) 由于存在成分偏析和内吸附,晶界处杂质原子富集,晶界熔点较低。6) 由于晶界处能量高、原子处于不稳定状态以及晶界杂质原子富集,境界的腐蚀速度较快。

44、孪晶界:两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶面构成镜面对称的位向关系,这两个晶

体就称为"孪晶"(按产生原因不同分为形变孪晶、

生长孪晶、退火孪晶等,层错能高不易产生孪晶),此公共晶面就称孪晶面,孪晶界可分为两类:共格

孪晶界(孪晶界即为孪晶面,面上原子同时处于两

个晶体点阵结点上是无畸变完全共格晶面,界面能

约为普通界面能十分之一)和非共格孪晶界(孪晶

界上只有部分原子为两部分晶体共有,原子错排相

对较为严重,界面能约为普通界面能二分之一)。45、相界:具有不同结构的两相之间的分界面;相界面可分为共格相界、半共格相界和非共格相界三

种类型,相界能(由弹性畸变能和化学交互作用能

两部分组成,共格相界界面能主要为弹性畸变能,

非共格相界由于界面上原子化学键数目种类变化很大,界面能主要为化学交互作用能)都大于孪晶界

且依次递增。

1) 共格相界:界面上原子同时位于两相晶格结点上,界面上原子为两者共有。理想的共格相界不存在,

因为即便两相晶体结构相同,点阵常数也不可能完

)1

11

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γδ

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βγ

αδ

αγ

αβ,

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,

,

>

<110

6

1

全相同,相界附近必然产生一定弹性畸变。

2) 半共格相界:相界处两相晶面间距差距较大,相界上不可能达到一一对应,界面上将产生一些位错以降低弹性应变能。

3) 非共格相界:原子排列差别很大,类似于大角晶界。

4) 错配度δ:位错间距D:其中aα、aβ分别为相界面两侧α、β相点阵常数,且aα>aβ。

当δ很小,D很大时:α、β两相趋于在相界上共格;δ很大,D很小时:α、β两相在相界上完全失配;δ<0.05,两相可以构成完全共格界面,δ>0.25易形成非共格界面,δ介于0.005和0.25之间时形成办公个界面。

四、晶体缺陷理论的应用

46、固溶强化:溶质原子会在晶体中产生应力

场,此应力场与位错应力场相遇并产生相互作用,增大了位错运动所需的力,宏观表现为晶体得到了强化。包括:弹性交互作用、化学交互作用、电化学交互作用、几何交互作用。

1) 弹性交互作用:溶质原子特别是间隙原子聚集于位错附近形成原子云,称为柯氏气团,产生的弹性畸变应力场与位错相互作用对位错起“钉扎”作用,位错拖着气团运动变得困难,宏观表现为晶体的到了强化。

屈服现象解释:柯氏气团钉扎位错使位错运动变得困难,宏观表现为晶体的到了强化,外力达到一定值以后位错挣脱其图案的束缚,此时位错运动变得容易,位错滑移相同距离所需外力减小。时效处理后重新加载,溶质原子重新通过扩散作用在位错附近形成气团,晶体又出现屈服现象。

2) 化学交互作用:面心立方晶体结构中,{111}面上的滑移位错分解为两个不全位错从而形成扩展位错,两个不全位错之间隔着一层层错,其晶体结构变为密排六方结构,该结构具有两层原子的厚度和10和原子间距的宽度。该结构靠层错便面能抵抗不全位错之间斥力以保持平衡。由于同种原子对不同晶体有不同的化学氏,所以溶质原子在密排六方结构中和面心立方结构中浓度不同,这种不均匀分布能引起晶体强化。溶质原子和为错的这种交互作用称为铃木气团,铃木气团属于化学交互作用。3) 电化学交互作用:两种溶质原子溶解于同一种溶剂中,它们错配度相同原子价不同,它们对溶剂的强化效果不同,表明溶质原子与位错之间存在电化学交互作用。

4) 几何交互作用:位错与溶质原子的交互作用与溶质原子的几何位置有关,这种交互作用称为几何交互作用。47、第二项粒子强化:第二项粒子阻碍位错运动从而使晶体得到强化。分为沉淀强化和弥散强化两类。通常,以粒子本身变形特性来区分第二项粒子强化机制,分为可变形粒子强化和不可变形粒子强化。强化效果随粒子体积分数增大而提高。时效处理时应在粒子平均尺寸达到峰强度对应的尺寸(对于可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果提高;对于不可变形粒子强化,粒子尺寸增大强化效果减弱,二者的强化效果随粒子尺寸变化曲线的交点即为峰强度对应的尺寸,提高沉淀相体积分数可提高峰强度)前,使沉淀相粒子大量充分形核并达到要求的体积分数。

根据质点大小、性质、质点与基体联系不同,位错与质点相遇时分为三种情况:位错通过质点(切割机制);位错绕过质点(绕过机制),增加表面积、表面能,同时也是位错环增殖机制;位错堆积于质点前,使质点产生裂缝。

1) 可变形粒子强化:第二相粒子为可变形微粒时,位错将切过粒子使之与基体一起变形。强化效果主要取决于粒子性能以及粒子与基体的联系,粒子尺寸影响较小。粒子本身强度提高、粒子尺寸增大均可提高强化效果。

强化机理:A. 位错切过粒子时,粒子产生宽度为b 的表面台阶,由于出现了新的表面积,使总的界面能升高。B. 当粒子是有序结钩时,则位错切过粒子时会打乱滑移面上下的有序排列,产生反相畴界,引起能量的升高。C. 由于第二相粒子与基体的晶体点阵不同或至少是点阵常数不同,故当位错切过粒子时必然在其滑移面上引起原子的错排,需要额外做功,给位错运动带来困难。D. 由于粒子与基体的比体积差别,而且沉淀粒子与母相之间保持共格(Coherent)或半共格结合,故在粒子周围产生弹性应力场,此应力场与位错会产生交互作用,对位错运动有用阻碍。E. 由于基体与粒子中的滑移面取向不一致,则位错切过后会产生割阶,割阶存在会阻碍整个位错线的运动。F. 由于粒子的层错能与基体不同,当扩展位错通过后,其宽度会发生变化,引起能量升高。

2) 不可变形粒子强化:工业上应用的合金采用第二相粒子强化手段进行强化时,大多利用中间相粒子作为第二相,即利用不可变形粒子强化,强化效果主要取决于粒子尺寸及弥散度。第二相粒子尺寸过小过于弥散和第二相粒子尺寸间距过大都会使强化效果减弱。

浅谈晶体缺陷及其应用

浅谈晶体缺陷及其应用 1103011036 周康粉体一班 摘要:晶体缺陷对晶体的力学性能既有有利的方面,也有不利的方面。少量晶体缺陷对于晶体的物理性能能够产生重要影响,所以可以根据不同的晶体缺陷,开发利用其产生的影响,充分发挥可能产生的作用,研究并制备具有不同性能的材料,以适应人们不同的实际需要和时代的发展需求。 关键词:晶体缺陷; 性能; 铁磁性; 电阻; 半导体材料;杂质 引言:在讨论晶体结构时,我们认为晶体的结构是三维空间内周期有序的,其内部质点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具有重要的理论研究意义和实际应用价值。所有的天然和人工晶体都不是理想的完整晶体,它们的许多性质往往并不决定于原子的规则排列,而决定于不规则排列的晶体缺陷。 晶体缺陷对晶体生长、晶体的力学性能、电学性能、磁学性能和光学性能等均有着极大影响,在生产上和科研中都非常重要,是固体物理、固体化学、材料科学等领域的重要基础内容。研究晶体缺陷因此具有了尤其重要的意义。本文着重对晶体缺陷及其对晶体的影响和应用进行阐述。 1.晶体缺陷的定义和分类 1.1 晶体缺陷的定义 在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置上,也就是平衡位置上。1926 年弗仑克尔l首先指出,在任一温度

下,实际晶体的原子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷. 1.2 晶体缺陷的分类 1.2.1、按缺陷的几何形态分类可分为四类:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷。 1.点缺陷(零维缺陷):缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,即三维方向上缺陷的尺寸都很小。包括:空位(vacancy)、间隙原子(interstitial particle)、异类原子(foreign particle)。 点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。2..线缺陷(一维缺陷):指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。 3.面缺陷:面缺陷又称为二维缺陷,是指在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。如晶界、相界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。 固体材料中最基本和最重要的晶体缺陷是点缺陷,包括本征缺陷和杂质缺陷等。 1.2.2、按缺陷产生的原因分类: 热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷、其它原因(如电荷缺陷,辐照缺陷等)。

浅谈镁合金晶粒细化的方法和意义

浅谈镁合金晶粒细化的方法和意义 重庆大学材料科学与工程学院材料科学专业 摘要 简述了镁合金的工程运用现状和细化晶粒的益处;以镁合金晶粒细化方法为主线,对镁合金在熔体阶段的过热处理、添加变质剂、物理场法、动态晶粒细化和快速凝固法,以及镁合金固态阶段的锻造、挤压、轧制和剧烈塑性变形等细化晶粒的方法进行了总结。同时,归纳了镁合金细化晶粒的意义。 关键词 镁合金 晶粒细化 熔体 固态形变 1 背景介绍 纯镁是银白色金属,熔点651℃,密度为1.74×103kg/m3,是最轻的工程金属[1]。镁合金具有密度低、比强度高、比刚度高、减振和抗冲击性能好等优点,而且还具有较好的尺寸稳定性和机械加工性能及低廉的铸造成本。在汽车、电子、通信、航空航天、国防和3C 等行业都拥有广泛的应用前景。但是镁合金密排六方的晶体结构特点,决定了在室温条件下独立滑移系少,导致室温塑性低、变形加工困难和变形容易开裂等阻碍了镁合金材料的广泛应用。其次,镁合金强度偏低,无法应用于受力较大的工程环境,也成为镁合金大规模运用的一大瓶颈。所有提高镁合金的室温塑性变形能力和强度有利于镁合金工程应用的普及和推广[2~5]。 细化晶粒是唯一可以提高金属构件强度的同时,又提高塑性的方法。根据Hall-petch 公式21 0s -+=d k y σσ,材料的强度随着晶粒尺寸的减小而增大。镁合金具有很大的系数k y ,所 有,细化晶粒能够显著的提高镁合金的强度[6]。而且,由于有细小均匀晶粒的材料发生塑性变形时,各晶粒分担一定的变形量,使变形更加均匀,位错在晶界处塞积少,应力集中小,材料开裂的倾向减小,从而提高材料的塑性。 2 晶粒细化方法 目前用于工程和科研中有很多细化镁合金晶粒的方法,笔者综合相关论文报道将镁合金晶粒细化分为两个阶段细化:熔体阶段细化和固态形变处理细化。 2.1 熔体阶段细化 2.1.1 过热处理法 过热处理是浇注前将熔体温度升高并保持一段时间后再降温至浇注温度进行浇注的工艺过程。过热处理细化晶粒的机制是过热处理过程中形成了可以作为非均质结晶核心[7]。目前广泛认同的观点是Fe 等元素在镁熔体中的溶解的随温度变化很显著,随着温度的降低,Fe 在镁中溶解度急剧降低,在过热的熔体降温时,过热难容的铁将从液相中先析出,在凝固过程中成为α-Mg 的异质形核基底。过热处理在一定程度上可以细化晶粒,但是也存在很多缺陷。例如,将熔体加热到高温镁合金熔体会因大量溶解气体和杂质而质量下降,从而降低合金的综合性能,所以,过热处理法在工业上应用很少。 2.1.2 添加变质剂 添加变质剂可以改善合金的铸造性能和加工性能,使铸件组织细小均匀,因而提高合金的强度和塑性。加入的变质剂必须满足6点:①高温下化学成分不变,在熔体中有足够的稳定性,

晶体缺陷习题教(学)案答案解析

晶体缺陷习题与答案 1 解释以下基本概念 肖脱基空位、弗仑克尔空位、刃型位错、螺型位错、混合位错、柏氏矢量、位错密度、位错的滑移、位错的攀移、弗兰克—瑞德源、派—纳力、单位位错、不全位错、堆垛层错、汤普森四面体、位错反应、扩展位错、表面能、界面能、对称倾侧晶界、重合位置点阵、共格界面、失配度、非共格界面、内吸附。 2 指出图中各段位错的性质,并说明刃型位错部分的多余半原子面。 3 如图,某晶体的滑移面上有一柏氏矢量为b 的位错环,并受到一均匀切应力τ。(1)分析该位错环各段位错的结构类型。(2)求各段位错线所受的力的大小及方向。(3)在τ的作用下,该位错环将如何运动?(4)在τ的作用下,若使此位错环在晶体中稳定不动,其最小半径应为多大? 4 面心立方晶体中,在(111)面上的单位位错]101[2a b =,在(111)面上分解为两个肖克莱 不全位错,请写出该位错反应,并证明所形成的扩展位错的宽度由下式给出πγ242Gb s d ≈ (G 切 变模量,γ层错能)。 5 已知单位位错]011[2a 能与肖克莱不全位错]112[6a 相结合形成弗兰克不全位错,试说

明:(1)新生成的弗兰克不全位错的柏氏矢量。(2)判定此位错反应能否进行?(3)这个位错为什么称固定位错? 6 判定下列位错反应能否进行?若能进行,试在晶胞上作出矢量图。 (1)]001[]111[]111[22a a a →+ (2)]211[]112[]110[662a a a +→ (3)]111[]111[]112[263a a a →+ 7 试分析在(111)面上运动的柏氏矢量为]101[2a b =的螺位错受阻时,能否通过交滑移转 移到(111),(111),(111)面中的某个面上继续运动?为什么? 8 根据晶粒的位向差及其结构特点,晶界有哪些类型?有何特点属性? 9 直接观察铝试样,在晶粒内部位错密度为5×1013/m 2,如果亚晶间的角度为5o ,试估算界面上的位错间距(铝的晶格常数a=2.8×10-10m)。 1. 设铜中空位周围原子的振动频率为1013s -1,⊿Em 为0.15γTM 10-18J ,exp(⊿Sm/k)约为1,试计算在700K 和室温(27℃)时空位的迁移频率。 2. Nb 的晶体结构为bcc ,其晶格常数为0.3294nm ,密度为8.57g/cm 3,试求每106Nb 中所含空位数目。 3. Pt 的晶体结构为fcc ,其晶格常数为0.39231nm ,密度为21.45g/cm 3,试计算空位所占的格子之比例。 4. 若fcc 的Cu 中每500个原子会失去一个原子,其晶格常数为0.36153nm ,试求铜的密度。 5. 若H 原子正好能填入a-Fe 的间隙位置,而如果每200个铁原子伴随着一个H 原子,试求理论的和平均的密度与致密度(已知a-Fe a=0.286nm ,r Fe =0.1241nm , r H =0.036nm)。

谈谈对石材缺陷的看法

谈谈对石材缺陷的看法 晏辉 (佳廉石材集团,顺德528313) 提要:此文简要介绍了石材裂纹、色斑等天然缺陷及其质量要求,并就装修中供需双方如何评价天然问题进行了探讨,以求抛砖引玉。 随着石材在室内外装修中的日益受宠,石材生产厂家、石材供应商同石材需求方的矛盾与经济纠纷不断增多。轻则损失几万元,重则损失数十万元甚至数百万元。尤为严重的是造成石材需求方大楼装修工程的停工待料,影响大楼整个装修工程的施工进度和大楼的按期开业,这种经济损失更是无法用金钱来估价。最后的结局是石材生产厂家,石材供应商与石材需求方之间对簿公堂,弄得两败俱伤,劳民伤财,严重影响了双方各自的正常生产和经营秩序。这种石材生产加工和经营中出现的不正常经济现象,究其原因大多是由于石材的天然而引起的纠纷。如果双方之间本着互相让利,求同存异的观点出发,这种问题的解决就好办得多了。 由于石材这种物质不同于任何其它装修材料,有着独有的特殊性。众所周知,石材是经过亿万年以上各种地质作用而形成的,其形成后的外在特征是很难通过事后的方法来补救。尽管目前各种石材表面修补技术不断诞生,但其修补后的效果毕竟还是很难取代石材天然艳丽的外观效果。又由于石材的生产厂家,石材供应商,同石材需求方在对石材特性上理解的不同,这就注定了两者之间必然产生纷争。 在石材日常生产加工中,常见的石材外观的缺陷有以下几种: 裂纹:岩石中存在的细小裂隙。有明裂隙、暗裂之分。明裂是指那些裂纹明显,石材未加工前从石材荒料外表面就能看出裂纹线且裂纹线延伸较长的那类裂纹。暗裂是指那些裂纹不明显,石标未加工前从石材荒料外表面很难辨别出裂纹线且裂纹线延伸较短的那类裂纹。裂纹的产生有天然的,也有可能是因为开采石材所采取的开采方法不合理所造成的。石材裂纹普遍存在于那些米黄类的石材(如旧米黄,莎安娜米黄,西班牙米黄)及大花白,雅士白等白色类的石材中,此外像紫罗红,啡网纹等也有,从众多的生产厂家的反映看,石材裂纹较普遍存在于大理石中。 色斑(色胆):与石材表面基本颜色不一样的斑状物质或异样物质。色斑在石材中表现为无色、浅黄色、黄色的透明晶体状物;黑色、绿色、白色、锈斑状物质。石材色斑(色胆)较普遍存在于大花白,爵士白,雅士白等白色类的石材,以及西班牙米黄、紫罗红、珊瑚红、啡网纹、紫彩麻、幻彩红、啡珠麻等色类的石材中。 黄斑(锈斑):与石材表面基本颜色不一致的黄色斑状物,原生于石材的表面。黄斑在大花白、大花绿中较为常见,某些花岗石中也有存在。 色线:与石材表面颜色花纹不一样的条纹状,条带状物质。在石材加工中常见的表现为红色或白色的晶体线。 砂眼:天然形成的具有一定深度的凹坑,直径在2mm以下,石材砂眼较普遍存在于金花米黄、金米黄、香槟红、银线米黄以及砂石类的石材中。 孔洞:天然形成的具有一定深度的凹坑,直径在2mm以上。石材孔洞较普遍存在于西班牙米黄、啡网纹,尤以啡网纹表现最为突出。 霉斑:天然形成的绿色或暗绿色霉状物质。霉斑较普遍存在于紫罗红、银线米黄、旧米黄类的石材中。 色差:在石材的表面所呈现出的与石材基本颜色不一致的另一类颜色,同石材基本颜色在人眼中所产生的视觉差别。色差较普遍存在于米黄类(尤以西班牙米黄、旧米黄最为突出)、紫罗红、大花绿这类石材中。 考虑到石材天然存在着以上所提到石材缺陷,国家建材局颁发了天然大理石,花岗石行业标准。

晶体缺陷

一、概述 1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不规则性及不完整性。种类:点缺陷、线缺陷、面缺陷。 1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下降。原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度下降。 2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。原因是晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。 3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,非晶态晶体等。 二、点缺陷 3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺陷或零维缺陷。分类:空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。 4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。 5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑克尔空位。 6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原子浓度远小于空位浓度。 7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。 8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位导致两者同时消失,此过程成为复合。 9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。 三、线缺陷 10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。主要为各类位错。 11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。分类:刃位错、螺位错、混合型位错。 12、刃型位错特点:a) 刃型位错有一个多余半原子面。正刃型位错和负刃型位错只有相对意义,无本质区别。 b) 位错线不一定为直线,但滑移面必定是位错线和滑移矢量确定的平面,滑移面唯一。 c) 刃型位错周围点阵发生弹性畸变,既有切应变,又有正应变。能引起材料体积变化。 d) 刃型位错位错线垂直于柏氏矢量,垂直于滑移方向,垂直于滑移矢量。位错线移动方向平行于晶体滑移方向。 e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。 f) 刃型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。 13、螺型位错特点: a) 螺型位错无额外半个原子面,原子错排是呈轴对称的。右螺型位错和左螺型位错有本质区别。 b) 螺型位错线一定是直线,但滑移面不唯一,凡是包含螺型位错线的(原子密排)平面都可以作为他的滑移面。 c) 螺型位错周围点阵发生弹性畸变,只有平行于位错线的切应变,没有正应变。不会引起材料体积变化。 d) 螺型位错位错线平行于柏氏矢量,平行于滑移方向,平行于滑移矢量,位错线的移动方向垂直于晶体滑移方向。 e) 刃型位错属于线缺陷,位错线可以理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。 f) 螺型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。 14、混合型位错:滑移矢量既不平行也不垂直于位错线,而与位错线相交成任意角度,这种位错称为混合位错。特点:a) 混合型位错位错线既不平行也不垂直于滑移矢量,每一段混合型位错均包含刃型位错分量和螺型位错分量(可以有纯刃型位错环,没有纯螺型位错环)。 b) 混合型位错是已滑移区和未滑移区的分界线。 c) 混合型位错位错线不能终止于晶体内部,只能露头晶体表面或晶界。 15、柏氏矢量的确定: 1) 首先选定位错线的正向,一般选择出纸面方向为正向。 2) 在实际晶体中,从任一原子出发,围绕位错(避开位错线附近的严重畸变区)以一定的步数作一右旋闭合回路MNOPQ(称为柏氏回路)。 3) 在完整晶体中按同样的方向和步数作相同的回路,该回路并不封闭,由终点Q向起点M引一矢量b,使该回路闭合,这个矢量b就是实际晶体中位错的柏氏矢量。 16、右手法则:右手的拇指、食指、中指构成直角

晶体结构缺陷

第三章晶体结构缺陷 【例3-1】写出MgO形成肖特基缺陷的反应方程式。 【解】 MgO形成肖特基缺陷时,表面的Mg2+和O2-离子迁到表面新位置上,在晶体内部留下空位,用方程式表示为: ????该方程式中的表面位置与新表面位置无本质区别,故可以从方程两边消掉,以零O(naught)代表无缺陷状态,则肖特基缺陷方程式可简化为: 【例3-2】写出AgBr形成弗伦克尔缺陷的反应方程式。 【解】AgBr中半径小的Ag+离子进入晶格间隙,在其格点上留下空位,方程式为: 【提示】一般规律:当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗伦克尔缺陷。 【例3-3】写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程式。 【解】首先以正离子为基准,Na+离子占据Y3+位置,该位置带有2个单位负电荷,同时,引入的1个F-离子位于基质晶体中F-离子的位置上。按照位置关系,基质YF3中正负离子格点数之比为1/3,现在只引入了1个F-离子,所以还有2个F-离子位置空着。反应方程式为:可以验证该方程式符合上述3个原则。 ????再以负离子为基准,假设引入3个F-离子位于基质中的F-离子位置上,与此同时,引入了3个Na+离子。根据基质晶体中的位置关系,只能有1个Na+离子占据Y3+离子位置,其余2个Na+位于晶格间隙,方程式为:

????此方程亦满足上述3个原则。当然,也可以写出其他形式的缺陷反应方程式,但上述2个方程所代表的缺陷是最可能出现的。 【例3-4】写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程式。 【解】以正离子为基准,缺陷反应方程式为: ????以负离子为基准,则缺陷反应方程式为: ????这也是2个典型的缺陷反应方程式,与后边将要介绍的固溶体类型相对应。 【提示】通过上述2个实例,可以得出2条基本规律: ????(1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷。为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。 ????(2)高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷。为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。 【例3-5】 TiO2在还原气氛下失去部分氧,生成非化学计量化合物TiO2-x,写出缺陷反应方程式。 【解】非化学计量缺陷的形成与浓度取决于气氛性质及其分压大小,即在一定气氛性质和压力下到达平衡。该过程的缺陷反应可用 或 方程式表示,晶体中的氧以电中性的氧分子的形式从TiO2中逸出,同时在晶体中产生带正电荷的氧空位和与其符号相反的带负电荷的来保持电中性,方程两边总有效电荷都等于零。可以看成是Ti4+被还原为Ti3+,三价Ti占据了四价Ti的位置,因而带一个单位有效负电荷。而二个Ti3+替代了二个Ti4+,

晶体缺陷

对晶体缺陷的统计热力学研究指出,在任何高于0K温度下,每一种固体化合物均存在着组成在一定范围变动的单一物相。现代晶体结构理论和实验更证明非整比化合物的存在是很普遍的现象。所有固体都有产生点缺陷的热力学趋向,这时因为缺陷的出现能使固体由有序结构变为无序,从而使嫡值增加,有缺陷的固体样品的Gibbs自由能来自嫡和熔两方面的贡献(G=H-TS),由于嫡是体系无序度的量度,因而任何实际固体(其中总有一些原子不处在它们应该出现的位置上)的嫡值都高于理想晶体。这就是说,缺陷对固体Gibbs自由能的贡献为负项。缺陷的形成通常是吸热过程(因而缺陷固体的H值较高);但只要T>0, Gibbs自由能在缺陷的某一浓度下将会出现极小值,即缺陷会自发形成,而且温度升高时,G的极小值向缺陷浓度更高的方向移动。这就意味着温度升高有利于缺陷的形成。 crystal defects 实际晶体中原子偏离理想的周期性排列的区域称作 。晶体缺陷在晶体中所占的总体积很小,也就是说,实际晶体中的绝大部分区域,原子排列于周期性位置上。因此,晶体缺陷是近完整晶体中的不完整性。但晶体缺陷对固体的许多结构敏感的物理量(如引起形变的临界切应力、扩散系数等)有极大的影响,晶体缺陷的研究对材料的强度、热处理等问题的研究有很重要的作用。 晶体缺陷分为:①点缺陷,包括空位、自填隙原子、代位原子、异类填隙原子等;②线缺陷,如位错;③面缺陷,如堆垛层错、孪晶界、反相畴界等,面缺陷还可以包括晶体表面、晶界和相界面(见界面)。 点缺陷图1[点缺陷的示意]是点缺陷的示意图,表示各种点缺陷的形式。热平衡状态下点缺陷浓度遵从统计物理规律 =exp(-/)这里[kg2]是玻耳兹曼常数;[kg2]是绝对温度;是点缺陷形成能。常用金属铁、铜、铝等的室温平衡空位浓度很小,接近熔点时的空位浓度约为10。自填隙原子形成能是空位形成能的3~4倍,其平衡浓度极小。代位原子和异类填隙

浅谈粗晶材料及其超声检测技术

浅谈粗晶材料及其超声检测技术 安东石油技术(集团)有限公司陈先富 [摘要]本文介绍了几种常见粗晶材料的组织结构特点,理论上分析了粗晶材料晶粒度对超声检测的影响,总结了粗晶材料的现有超声检测方法。 超声检测是常规无损检测方法之一。与其他方法相比,超声检测具有灵敏度高、穿透力强、指向性好、检测速度快、成本低等优点,因此在机械制造、冶金、航空航天、石油化工、铁路运输等众多工业领域中得到了广泛应用。然而,当被检测材料的微观结构(如钢中的晶粒和铸铁中的石墨片)较大时,会造成严重的材料噪声和声波衰减,致使超声检测的高灵敏度、强穿透力等优越性严重下降。因此,提高强散射材料缺陷检出能力和信噪比是无损检测领域中的重要研究课题。 粗晶材料是超声探伤中经常遇到的强散射材料,其对超声检测能力的影响是由材料本身组织特点决定的。 1.几种常见粗晶材料 ⑴奥氏体不锈钢 工业生产中,通过向钢中添加镍、锰、氮等奥氏体化合金元素,抑制奥氏体转化温度,使常温下奥氏体相呈稳定状态,以获得奥氏体不锈钢。奥氏体钢冷却时不经过相变,常温下的晶粒就是高温时的粗大奥氏体晶粒。这使奥氏体不锈钢对超声的散射很大,散射信号作为噪声,在探伤仪屏幕上呈现草状回波,同时散射使衰减增大,缺陷信号强度大大降低。另外,奥氏体钢的热处理(如固溶处理)并不能改变其奥氏体组织,无法细化晶粒。因此,奥氏体不锈钢铸件都是粗晶粒的,很难进行超声探伤[1]。 ⑵灰铸铁 灰铸铁中含碳量高(大于2.11%),材料内部含有大量片状石墨。若进行超声检测,这些片状石墨和粗大晶粒会造成非常显著的散射回波和信号衰减,因此,通常灰铸铁件很难采用超声探伤[2]。 ⑶粗晶钛合金 相比粗晶奥氏体不锈钢和铸铁件,粗晶钛合金的晶粒要细些,晶粒度通常要小几个级别。但由于钛合金往往用在飞机发动机等重要部件中,要求检出缺陷的尺寸小,对超声检测的灵敏度要求很高。 可以看出:粗晶材料所含晶粒是影响超声检测的主要因素。 2.材料晶粒度对超声检测的影响 材料晶粒度对超声检测的影响表现在散射和衰减两个方面。 超声无损检测对象,通常是多晶体金属材料,其内部由大量随机分布的晶粒和晶界间夹杂物组成。超声信号进入材料内部,会在各种界面发生散射。 超声波散射与材料晶粒平均直径有关,当晶粒平均直径-d与波长λ的比值小 于0.1时,散射现象微弱,对超声检测不会造成大的影响;而当比值大于0.1时,散射现象将显著增强,超声检测的信噪比降低灵敏度下降。另外,超声波的散射还与材料各向异性程度、超声波频率等因素有关。在瑞利散射区,散射系数

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=,6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r 查表知Li r + +=0.68>0.301,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -),a=4.665;(3)ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙 28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg 2[SiO 4],K[AISi 3O 8],CaMg[Si 2O 6], Mg 3[Si 4O 10](OH)2,Ca 2Al[AlSiO 7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca 2Mg 5[Si 4O 11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg 2[Si 4O 10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O 键要比链5的Ca-O 、Mg-O 键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个 [SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。

声子晶体在机械振动和噪声中的应用浅析剖析

本科生设计(论文) 论文题目:声子晶体在机械振动和噪声中的应用浅析姓名: 学院:海洋港口学院 专业:12机械制造及其自动化(港口)(师范)学号: 指导教师:丁红星

声子晶体在机械振动和噪声中的应用浅析 一、绪论 1.1课题背景 现代社会对噪声防治和处理的各种要求,促进了当代噪声控制工程技术的迅猛发展。工程中对噪声进行处理最常用而有效的技术措施就是安装适当的隔声材料。因此,对隔声材料进行开发研究具有十分重要的意义。 声子晶体是一种新型隔声材料,存在弹性波禁带,落在禁带范围内的弹性波在声子晶体中传播时会强烈的衰减,其衰减程度远远大于质量密度定理的预测值。因此声子晶体在噪声与振动的控制方面有着巨大的潜力。本文以声子晶体在中低频隔声的实际应用为切入点,针对布拉格散(Bragg)射型声子晶体和局域共振声子晶体,系统地研究其禁带的产生以及影响禁带特性的各种因素,通过有限元仿真与实验验证完成声子晶体在隔声功能上的应用尝试。 声子晶体复合材料的自身特性决定了其带隙影响因素的多样性,因此有必要对其带隙的影响因素进行全面的研究分析,通过对各个参数对带隙的影响情况的分析来判断声子晶体在中低频范围内隔声应用的可行性,为下一步的仿真计算和实验验证中声子晶体各参数的选择提供理论依据。 传统的隔声材料种类繁多,从定义上讲所有的对声波有阻隔作用的材料都可以称为隔声材料,实际的隔声工程实施中经常采用的隔声材料有各种金属板、石膏板、木板以及复合板材。由于它们大多都属于均匀介质结构,其隔声量都遵循质量密度定理,即材料的隔声性能与面密度有关,面密度增加一倍隔声量将会增大 6 分贝。因此要获得较好的隔声效果就必须要增加隔声材料的密度。然而在实际的应用当中,增加隔声材料密度会带来施工成本以及施工难度的急剧增大,这也限制了传统隔声材料的应用范围。因此工程应用当中对新型轻质隔声材料的需求非常迫切。 声子晶体材料是近几十年研究状况非常热门的一种新型功能性隔声材料,其本质是

半导体论文

浅谈半导体材料 半导体材料的发展与器件紧密相关。1941年用多晶硅材料制成检波器,是半导体材料应用的开始,1948~1950年用切克劳斯基法成功的拉出了锗单晶,并用它制成了世界上第一个具有放大性能的锗晶体三极管。1951年用四氯化硅锌还原法制出了多硅晶,1952年用直拉法成功拉出世界上第一根硅单晶,同年制出了硅结型晶体管,从而大大推进了半导体材料的广泛应用和半导体器件的飞速发展。 一.半导体材料的分类: 半导体材料是导电能力介于导体与绝缘体之间的物质。半导体材料是一类具有半导体性能、可用来制作半导体器件和集成电的电子材料,电阻率约在1mΩ·cm~1GΩ·cm范围内。 半导体材料可按化学组成来分,再将结构与性能比较特殊的非晶态与液态半导体单独列为一类。按照这样分类方法可将半导体材料分为元素半导体、化合物半导体、有机半导体、固溶体半导体和非晶态与液态半导体。元素半导体大约有十几种,处于ⅢA族—ⅦA族的金属元素与非金属元素交界处,如Ge,Si,Se,Te等;化合物半导体分为二元化合物半导体和多元化合物半导体;有机半导体分为有机分子晶体、有机分子络合物、和高分子聚合物,一般指具有半导体性质的碳-碳双键有机化合物,电导率为10-10~102Ω·cm。固溶体半导体是由两个或多个晶格结构类似的元素化合物相融合而成,有二元系和三元系之分,如ⅣA-ⅣA组成的Ge-Si固溶体,ⅤA-ⅤA组成的Bi-Sb固溶体。原子排列短程有序、长程无序的半导体成为非晶态半导体,主要有非晶硅、非晶锗等。 二.半导体材料的制备工艺: 不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求,包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。 所有的半导体材料都需要对原料进行提纯,要求的纯度在6个“9”以上,最高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类,一类是不改变材料的化学组成进行提纯,称为物理提纯;另一类是把元素先变成化合物进行提纯,再将提纯后的化合物还原成元素,称为化学提纯。物理提纯的方法有真空蒸发、区域精制、拉晶提纯等,使用最多的是区域精制。化学提纯的主要方法有电解、络合、萃取、精

晶体结构和晶体缺陷

第一部分晶体结构和晶体缺陷 1.原子的负电性的定义和物理意义是什么? 2.共价键的定义和特点是什么? 3.金刚石结构为什么要提出杂化轨道的概念? 4.V、VI、VII族元素仅靠共价键能否形成三维晶体? 5.晶体结构,空间点阵,基元,B格子、单式格子和复式格子之间的关系和区别。 6.W-S元胞的主要优点,缺点各是什么? 7.配位数的定义是什么? 8.晶体中有哪几种密堆积,密堆积的配位数是多少? 9.晶向指数,晶面指数是如何定义的? 10.点对称操作的基本操作是哪几个? 11.群的定义是什么?讨论晶体结构时引入群的目的是什么? 12.晶体结构、B格子、所属群之间的关系如何? 13.七种晶系和十四种B格子是根据什么划分的? 14.肖特基缺陷、费仑克尔缺陷、点缺陷、色心、F心是如何定义的? 15.棱(刃)位错和螺位错分别与位错线的关系如何? 16.位错线的定义和特征如何? 17.影响晶体中杂质替位几率的主要因素有哪些? 18.晶体中原子空位扩散系数D与哪些因素有关? 19.解理面是面指数低的晶面还是面指数高的晶面?为什么? 20.为什么要提出布拉菲格子的概念? 21.对六角晶系的晶面指数和晶向指数使用四指标表示有什么利弊? 第二部分倒格子 1.倒格子基矢是如何定义的? 2. 正、倒格子之间有哪些关系? 3.原子散射因子是如何表示的,它的物理意义如何? 4. 几何结构因子是如何表示的,它的物理意义如何? 5. 几何结构因子S h与哪些元素有关? 6.衍射极大的必要条件如何? 7.什么叫消光条件? 8.反射球是在哪个空间画的,反射球能起到什么作用,如何画反射球? 9.常用的X光衍射方法有哪几种,各有什么基本特点? 10.为什么要使用“倒空间”的概念?

晶体缺陷

2 晶体缺陷,固溶体合章 1、说明下列符号的含义: V Na,V Na’,V Cl?,.(V Na’V Cl?),CaK?,CaCa,Cai?? 解:钠原子空位;钠离子空位,带一个单位负电荷;氯离子空位,带一个单位正电荷;最邻近的Na+空位、Cl-空位形成的缔合中心;Ca2+占据K.位置,带一个单位正电荷;Ca原子位于Ca原子位置上;Ca2+处于晶格间隙位置。 2、写出下列缺陷反应式: (1)NaCl溶入CaCl2中形成空位型固溶体; (2)CaCl2溶人NaC1中形成空位型固溶体; (3)NaCl形成肖脱基缺陷; (4)AgI形成弗仑克尔缺陷(Ag+进入间隙)。 解:(1)NaCl Na Ca’+ Cl Cl + V Cl· (2)CaCl2CaNa· + 2Cl Cl + V Na’ (3)O?V Na’ + V Cl· (4)AgAg?V Ag’ + Ag i· 3、弗仑克尔缺陷:晶体内部质点由于热起伏的影响,质点从正常位置位移到晶体内部的间隙位置上,正常位置上出现空位。 4、什么是肖特基缺陷、弗兰克尔缺陷?他们属于何种缺陷,发生缺陷时位置数是否发生变化? 答:肖特基缺陷:晶体的结构基元,从正常的结点位置上位移到晶体的表面而正常位置上出现了空位,这种缺陷即是。位置数增殖,体积增大。 弗兰克尔缺陷:晶体结构中的结构基元,从正常的结点位置上位移到晶体的间隙位置上,而正常位置上出现了空位,这种缺陷即是。位置数不增殖,体积不增大。 5、什么是非化学计量化合物:化合物原子数量的比例,不符合定比定律,即非简单的固定比例关系。 6、ZrO2中加入Y2O3形成置换固溶体,写出缺陷反应式? 答:Y2O3 -(2ZrO2)-> 2Yzr‘+3Oo+Vo,Y2O3 -(2ZrO2)-> 2YZr3++2e+3Oo+Vo。。 7、试写出少量MgO掺杂到Al2O3中和少量YF3掺杂到CaF2中的缺陷方程。(a)判断方程的合理性。(b)写出每一方程对应的固溶式。 解:3MgO2++3OO (1) 2MgO2+ +2O O(2) YF3Y?Ca+F?i+2F F (3) 2YF32Y?Ca++6F F (4) (a)书写缺陷方程首先考虑电价平衡,如方程(1)和(4)。在不等价置换时,3Mg2+→2Al3+;2Y3+→3Ca2+。这样即可写出一组缺陷方程。其次考虑不等价离子等量置换,如方程(2)和(3)2Mg2+→2Al3+;Y3+→Ca2+。这样又可写出一组缺陷方程。在这两组方程中,从结晶化学的晶体稳定性考虑,在离子晶体中除

浅谈石英晶体振荡器的发展前景

浅谈石英晶体振荡器的发展前景 摘要:分析石英晶体振荡器的国内外发展现状、技术发展趋势和市场前景。广泛应用于融合通信、导航、卫星、雷达、测绘等领域,需求量以每年38%快速增长,未来具有广阔的市场空间。 关键词:石英晶体振荡器趋势市场 石英晶体振荡器,石英谐振器简称为晶振,它是利用具有压电效应的石英晶体片制成的。这种石英晶体薄片受到外加交变电场的作用时会产生机械振动,当交变电场的频率与石英晶体的固有频率相同时,振动便变得很强烈,这就是晶体谐振特性的反应。利用这种特性,就可以用石英谐振器取代LC(线圈和电容)谐振回路、滤波器等。由于石英谐振器具有体积小、重量轻、可靠性高、频率稳定度高等优点,被应用于家用电器和通信设备中。石英谐振器因具有极高的频率稳定性,故主要用在要求频率十分稳定的振荡电路中作谐振元件. 一、石英晶体振荡器的基本原理 1、石英晶体振荡器的结构 石英晶体振荡器是利用石英晶体(二氧化硅的结晶体)的压电效应制成的一种谐振器件,它的基本构成大致是:从一块石英晶体上按一定方位角切下薄片(简称为晶片,它可以是正方形、矩形或圆形等),在它的两个对应面上涂敷银层作为电极,在每个电极上各焊一根引线接到管脚上,再加上封装外壳就构成了石英晶体谐振器,简称为石英晶体或晶体、晶振。其产品一般用金属外壳封装,也有用玻璃壳、陶瓷或塑料封装的。 2、压电效应 若在石英晶体的两个电极上加一电场,晶片就会产生机械变形。反之,若在晶片的两侧施加机械压力,则在晶片相应的方向上将产生电场,这种物理现象称为压电效应。如果在晶片的两极上加交变电压,晶片就会产生机械振动,同时晶片的机械振动又会产生交变电场。在一般情况下,晶片机械振动的振幅和交变电场的振幅非常微小,但当外加交变电压的频率为某一特定值时,振幅明显加大,比其他频率下的振幅大得多,这种现象称为压电谐振,它与LC回路的谐振现象十分相似。它的谐振频率与晶片的切割方式、几何形状、尺寸等有关。 3、谐振频率 从石英晶体谐振器的等效电路可知,它有两个谐振频率,即(1)当L、C、R支路发生串联谐振时,它的等效阻抗最小(等于R)。串联揩振频率用fs表示,石英晶体对于串联揩振频率fs呈纯阻性,(2)当频率高于fs时L、C、R支路呈感性,可与电容C。发生并联谐振,其并联频率用fd表示。根据石英晶体的等

晶体缺陷作业

1 什么叫肖特基缺陷和弗兰克耳缺陷?用Kroger-Vink 记号分别描述AgBr 中的弗兰克耳缺陷和MgO 中的肖特基缺陷形成的缺陷化学方程,写出ZnO 中掺杂Al 2O 3空位补偿和电子补偿的缺陷化学方程。 2 If cupric oxide (CuO) is exposed to reducing atmospheres at elevated temperatures, some of the Cu 2+ ions will become Cu +. (a) Under these conditions, name one crystalline defect that you would expect to form in order to maintain charge neutrality. (b) How many Cu + ions are required for the creation of each defect? (c) How would you express the chemical formula for this nonstoichiometric material? 3 (a) Suppose that Li 2O is added as an impurity to CaO. If the Li + substitutes for Ca 2+, what kind of vacancies would you expect to form? How many of these vacancies are created for every Li added? (b) Suppose that CaCl 2 is added as an impurity to CaO. If the Cl - substitutes for O 2-, what kind of vacancies would you expect to form? How many of the vacancies are created for every Cl - added? 4 纯铁的空位形成能为1.5X10-19J/atom ,将纯铁加热至850℃后激冷至室温20℃,若高温下的空位全部保留,试求过饱和空位浓度与室温平衡空位浓度的比值。 5 已知铜的晶体结构为fcc,点阵常数a=0.225nm ,切变模量210104-??=m N G ,试分别计算柏氏矢量为]121[6 ]111[2]111[3]110[2a a a a 的位错应变能。 6在图示的Cu 晶界上有一双球冠形第二相,已知Cu 的大角度晶界能为25.0m J ?, (1)分别计算当o o 90,60==θθ时Cu 与第二相之间的相界面能;

第二章晶体结构与晶体中的缺陷

内容提要:通过讨论有代表性的氧化物、化合物和硅酸盐晶体结构, 用以掌握与本专业有关的各种晶体结构类型。介绍了实际晶体中点缺陷分 类;缺陷符号和反应平衡。固熔体分类和各类固熔体、非化学计量化学化 合物的形成条件。简述了刃位错和螺位错。 硅酸盐晶体结构是按晶体中硅氧四面体在空间的排列方式为孤岛状、组群状、链状、层装和架状五类。这五类的[SiO4]四面体中,桥氧的数目也依次由0增加到4, 非桥氧数由4减至0。硅离子是高点价低配位的阳离子。因此在硅酸盐晶体中,[SiO4] 只能以共顶方式相连,而不能以共棱或共面方式相连。表2-1列出硅酸盐晶体结构类型及实例。 表2-1 Array硅酸 盐晶 体的 结构 类型

真实晶体在高于0K的任何温度下,都或多或少地存在着对理想晶体结构的偏离,即存在着结构缺陷。晶体中的结构缺陷有点缺陷、线缺陷、面缺陷和复合缺陷之分,在无机材料中最基本和最重要的是点缺陷。 点缺陷根据产生缺陷的原因分类,可分为下列三类: (1)热缺陷(又称本征缺陷) 热缺陷有弗仑克儿缺陷和肖特基缺陷两种基本形式。 弗仑克儿缺陷是指当晶格热震动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗仑克儿缺陷。 肖特基缺陷是指如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,而在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。 (2)杂质缺陷(非本征缺陷) (3)非化学计量化学化合物 为了便于讨论缺陷反应,目前广泛采用克罗格-明克(Kroger-Vink)的点缺陷符号(见表2-2)。 表2-2 Kroger-Vink缺陷符号(以M2+X2-为例)

晶体微观缺陷对材料性能的影响

晶体微观缺陷对材料性能的影响 一、什么是晶体缺陷? 大多数固体是晶体,晶体正是以其特殊的构型被人们最早认识。人们理解的“固体物理”主要是指晶体。在空间点阵中,用几何上规则的点来描述晶体中的原子排列,并连成格子,这些点被称为格点,格子被称为点阵,这就是空间点阵的基本思想,它是对晶体原子排列的抽象。空间点阵在晶体学理论的发展中起到了重要作用。可以说,它是晶体学理论的基础。现代的晶体理论基于晶体具有宏观平移对称性,并因此发展了空间点阵学说。严格地说对称性是一种数学上的操作,它与“空间群”的概念相联系,所谓平移对称性就是指对一空间点阵,任选一个最小基本单元,在空间三维方向进行平移,这个单元能够无一遗漏的完全复制所有空间格点。 在我们讨论晶体结构时,认为晶体的结构是三维空间内周期有序的,其内部质点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具有重要的理论研究意义和实际应用价值。在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置上,也就是平衡位置上。1926 年Frenkel 首先指出,在任一温度下,实际晶体的原子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷。 二、晶体中有哪些常见的缺陷类型? 缺陷是一种局部原子排列的破坏。按照破坏区域的几何形状,缺陷可以分为四类点缺陷、缺陷、面缺陷和体缺陷。 点缺陷:又称零维缺陷,缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,在三维方向上尺寸都很小(远小于晶体或晶粒的线度),典型代表有空位、间隙原子等。点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。 线缺陷:又称一维缺陷,指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。包括螺型位错与刃型位错等各类位错,线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。 面缺陷:又称为二维缺陷,是指在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。包括晶界、相界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。 体缺陷:又称为三维缺陷,指晶体中在三维方向上相对尺度比较大的缺陷,和基质晶体已经不属于同一物相,是异相缺陷。固体材料中最基本和最重要的晶体缺陷是点缺陷,包括本征缺陷和杂质缺陷等。 然而,按缺陷产生的原因分类,又可以分为:热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷、其它原因(如电荷缺陷,辐照缺陷等)。 热缺陷:又称为本征缺陷,是指由热起伏的原因所产生的空位或间隙质点(原子或离子)。弗仑克尔缺陷(Frenkel defect)和肖脱基缺陷(Schottky defect) 热缺陷浓度与温度的关系:温度升高时,热缺陷浓度增加

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