半导体封装制程及其设备介绍

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半导体制造流程及生产工艺流程

半导体制造流程及生产工艺流程

半导体制造流程及生产工艺流程半导体是一种电子材料,具有可变电阻和电子传导性的特性,是现代电子器件的基础。

半导体的制造流程分为两个主要阶段:前端工艺(制造芯片)和后端工艺(封装)。

前端工艺负责在硅片上制造原始的电子元件,而后端工艺则将芯片封装为最终的电子器件。

下面是半导体制造流程及封装的主要工艺流程:前端工艺(制造芯片):1.晶片设计:半导体芯片的设计人员根据特定应用的需求,在计算机辅助设计(CAD)软件中进行晶片设计,包括电路结构、布局和路线规划。

2.掩膜制作:根据芯片设计,使用光刻技术将电路结构图转化为光刻掩膜。

掩膜通过特殊化学处理制作成玻璃或石英板。

3.芯片切割:将晶圆切割成单个的芯片,通常使用钻孔机或锯片切割。

4.清洗和化学机械抛光(CMP):芯片表面进行化学清洗,以去除表面杂质和污染物。

然后使用CMP技术平整芯片表面,以消除切割痕迹。

5.纳米技术:在芯片表面制造纳米结构,如纳米线或纳米点。

6.沉积:通过化学气相沉积或物理气相沉积,将不同材料层沉积在芯片表面,如金属、绝缘体或半导体层。

7.重复沉积和刻蚀:通过多次沉积和刻蚀的循环,制造多层电路元件。

8.清洗和干燥:在制造过程的各个阶段,对芯片进行清洗和干燥处理,以去除残留的化学物质。

9.磊晶:通过化学气相沉积,制造晶圆上的单晶层,通常为外延层。

10.接触制作:通过光刻和金属沉积技术,在芯片表面创建电阻或连接电路。

11.温度处理:在高温下对芯片进行退火和焙烧,以改善电子器件的性能。

12.筛选和测试:对芯片进行电学和物理测试,以确认是否符合规格。

后端工艺(封装):1.芯片粘接:将芯片粘接在支架上,通常使用导电粘合剂。

2.导线焊接:使用焊锡或焊金线将芯片上的引脚和触点连接到封装支架上的焊盘。

3.封装材料:将芯片用封装材料进行保护和隔离。

常见的封装材料有塑料、陶瓷和金属。

4.引脚连接:在封装中添加引脚,以便在电子设备中连接芯片。

5.印刷和测量:在封装上印刷标识和芯片参数,然后测量并确认封装后的器件性能。

半导体封装制程及其设备介绍

半导体封装制程及其设备介绍

半导体封装制程及其设备介绍一、概述半导体芯片是一种微型电子器件,半导体封装制程是将芯片进行外层包装,从而保护芯片、方便焊接、测试等工作的过程。

比较常见的半导体封装方式有芯片贴装式、铅框式、无铅框式等。

本文将从半导体封装的制程入手,为大家介绍半导体封装制程及其设备。

二、半导体封装制程1. 粘结半导体封装的第一步是将芯片粘结到支撑贴片(Leadframe)上面。

支撑贴片是一种晶粒尺寸相对较大、但还不到电路板级别的导体片。

常用的粘接剂有黄胶、银胶等,其使用在制程时会加热到一定温度,使其能够黏合贴片和芯片。

2. 线缆连接芯片被粘接到支撑贴片上方后,需要进行内部连线。

通常使用铜线作为内部连线,常用的连线方式有金线焊接和铜线焊接。

它们的区别很大程度上取决于封装要求和芯片使用情况。

3. 包封装在连线之后,开始进行半导体封装的最后一步–包封装。

包封装是将芯片包封闭在一起,以进一步保护它。

常用的封装方式有QFP、BGA、SOIC、CHIP 贴片等。

三、半导体封装设备介绍1. 芯片粘结设备芯片粘结设备是半导体封装的第一步。

常用的芯片粘结设备包括黄胶粘合机、银胶粘合机、重合机等。

不同类型的设备适用于不同封装要求的芯片。

2. 线缆连接设备目前,铜线焊接机处于主流位置。

与金线焊接机相比,铜线焊接机具有成本更低、可靠度更高的优点。

因此,其能够更好地满足不同类型的芯片封装要求。

3. 包封装设备包封装设备是半导体封装的重要步骤。

常用的设备有 QFP 封装机、CHIP 贴片封装机等。

它们能够满足不同类型的封装要求,使芯片更加可靠。

四、半导体封装制程及其设备涉及到了许多知识点。

本文从制程和设备两个角度,为大家介绍了半导体封装制程及其设备。

不同的封装方式和设备对于产品的品质、成本以及生产效率都有很大的影响。

因此,在选择半导体封装制程和设备时,需要根据实际情况进行选择,以确保产品达到最佳性能和质量要求。

半导体封装制程及其设备介绍——【半导体芯片】

半导体封装制程及其设备介绍——【半导体芯片】
DIP
Dual In-line Package
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Ceramic Plastic
2.54 mm (100miles)
8 ~64
SIP
Single In-line Package
Plastic
2.54 mm (100miles) 1 direction
Material Lead Pitch No of I/O
Ceramic
1.27 mm (50miles) j-shape bend 4 direction
lead
18~124
Ceramic
0.5 mm
32~200
SMT (Optional)
Taping (Optional)
Grinding (Optional)
lead
3~25
Through Hole Mount
ZIP
Zigzag In-line Package
S-DIP
Shrink Dual In-line
Package
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Plastic
2.54 mm (100miles) 1 direction
Pack
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Plastic
1.27 mm (50miles) 2 direction
lead
8 ~40

半导体制程工艺流程及设备

半导体制程工艺流程及设备

半导体制程工艺流程及设备嘿,你有没有想过,那些小小的芯片是怎么被制造出来的呢?今天呀,我就来给你讲讲半导体制程工艺流程以及用到的设备,这可真是个超级有趣又超级复杂的事儿呢!咱先从最开始的晶圆制造说起。

晶圆就像是盖房子的地基一样,是整个半导体的基础。

晶圆是由硅这种材料制成的,你可别小看硅,它就像半导体世界里的超级明星。

这硅啊,要经过一系列的处理。

首先是提纯,这过程就像是把一堆沙子里的金子给挑出来一样困难。

要把硅提纯到非常非常高的纯度,几乎没有杂质才行。

我有个朋友在硅提纯的工厂工作,他就经常跟我抱怨说:“哎呀,这提纯工作可真不是人干的呀,一点点的差错就可能毁了一整批硅呢!”提纯之后呢,就要把硅做成圆柱体的硅锭,然后再把这个硅锭切割成一片片薄薄的晶圆。

这个切割过程可得非常小心,就像切一块超级薄的豆腐一样,一不小心就碎了。

这时候就用到了专门的切割设备,那些设备就像是精密的手术刀,把硅锭精准地切成一片片的晶圆。

有了晶圆之后,就要开始在上面进行各种加工了。

这就像是在一张白纸上画画一样,只不过这个画画的过程超级复杂。

其中一个重要的步骤是光刻。

光刻呀,你可以想象成是用光照在晶圆上画画。

这时候就需要光刻设备了,光刻设备就像是一个超级厉害的投影仪。

它把设计好的电路图案通过光线投射到晶圆上,而且这个图案超级精细,就像头发丝的千分之一那么细呢!我记得我第一次看到光刻图案的时候,我都惊呆了,我就想:“我的天呐,这怎么可能做到这么精细呢?”我当时就问一个做光刻的工程师,他就很自豪地说:“这就是科技的力量呀,我们通过各种技术手段才能把图案刻得这么精细呢。

”光刻完了之后,就是蚀刻。

蚀刻就像是把光刻出来的图案进行雕刻一样,把不需要的部分去掉,只留下我们想要的电路图案。

这就好比是雕刻一个石像,把多余的石头去掉,留下精美的雕像。

蚀刻用到的设备会喷出一些化学物质,这些化学物质就像小雕刻家一样,把晶圆上的材料按照光刻的图案进行去除。

不过这个过程可危险了,那些化学物质可都是腐蚀性很强的东西,就像一群小恶魔,要是不小心泄露了,可就会造成大麻烦。

半导体封装制程及其设备介绍

半导体封装制程及其设备介绍

Solder paste
Die Prepare(芯片预处理) To Grind the wafer to target thickness then separate to single chip
---包括来片目检(Wafer Incoming), 贴膜(Wafer Tape),磨片(Back Grind),剥膜(Detape),贴片(Wafer Mount),切割(Wafer Saw)等系列工序,使芯片达到工艺所要求的形状,厚度和尺寸,并经过芯片目 检(DVI)检测出所有由于芯片生产,分类或处理不当造成的废品.
B Wafer roughness Measurement 粗糙度测量仪 主要为光学反射式粗糙度测量方式;
4.Grinding 配套设备
A Taping 贴膜机 B Detaping 揭膜机 C Wafer Mounter 贴膜机
Wafer Taping -- Nitto DR300II
Alignment
1.27, 0.762 mm (50, 30miles)
Ceramic 2, 4 direction lead
20~80
Ceramic
1.27,1.016, 0.762 mm (50, 40, 30
miles)
20~40
大家应该也有点累了,稍作休息
大家有疑问的,可以询问和交流
Surface Mount
半导体设备供应商介绍-前道部分
半导体设备供应商介绍-前道部分
常用术语介绍
1. SOP-Standard Operation Procedure 标准操作手册 2. WI – Working Instruction 作业指导书 3. PM – Preventive Maintenance 预防性维护 4. FMEA- Failure Mode Effect Analysis 失效模式影响分析 5. SPC- Statistical Process Control 统计制程控制 6. DOE- Design Of Experiment 工程试验设计 7. IQC/OQC-Incoming/Outing Quality Control 来料/出货质量检验 8. MTBA/MTBF-Mean Time between assist/Failure 平均无故障工作时间 9. CPK-品质参数 10. UPH-Units Per Hour 每小时产出 11. QC 7 Tools ( Quality Control 品管七工具 ) 12. OCAP ( Out of Control Action Plan 异常改善计划 ) 13. 8D ( 问题解决八大步骤 ) 14. ECN Engineering Change Notice ( 制程变更通知 ) 15. ISO9001, 14001 – 质量管理体系

半导体封装制程与设备材料知识简介

半导体封装制程与设备材料知识简介

封裝型式
Shape
Typical Features
Materia Lead Pitch No of I/O l
Cerami c
1.27, 0.762 mm
(50, 30miles) 2, 4 direction
lead
20~80
Ceramic
1.27,1.016, 0.762 mm (50, 40, 30
(氧化处理)
Depositio n
(沉积)
WireBondin g
(焊线)
Laser mark (激光印字)
Laser Cut & package saw
(切割成型)
Testin g
(测试)
Lithograp hy
(微影)
Wafer Inspection (晶圆检查) 前段結束
Moldin g
(塑封)
Plastic
1.27 mm (50miles) 2 direction
lead
8 ~40
Plastic
1.0, 0.8, 0.65 mm 4 direction
lead
88~200
Surface Mount
FPG
Flat Package of Glass
LCC
Leadless Chip
Carrier
lead
18~124
Ceramic 0.5 mm
32~200
SMT (Optional)
Taping (Optional)
Assembly Main Process
Grinding (Optional)
Detaping (Optional)
Wafer Mount

半导体封装制程及其设备介绍详解演示文稿

半导体封装制程及其设备介绍详解演示文稿

半导体封装制程及其设备介绍详解演示文稿一、引言二、半导体封装制程的整体流程1.设计和制备芯片:在封装过程开始之前,需要进行半导体芯片的设计和制备。

这包括设计电路、选择材料、制造芯片等步骤。

2.选型和设计封装方案:根据芯片功能和其他要求,选择合适的封装方案。

封装方案的选择包括外形尺寸、引脚数量和布局、散热设计等。

3.制备基板:选择合适的基板材料,并进行加工和制备。

基板的制备是封装制程中的核心环节之一,目的是为芯片提供支撑和连接。

4.芯片连接:将芯片连接到基板上,通常使用焊接技术或金线键合技术。

焊接是将芯片的引脚与基板的焊盘连接起来,金线键合则是用金线将芯片与基板进行连接。

5.包封:将芯片和连接线封装进封装材料中,形成最终的封装产品。

常见的封装材料有环氧树脂和塑料,也有针对特殊应用的金属封装。

6.测试和质量检验:对封装后的产品进行测试和质量检验,确保其符合设计要求和标准。

测试主要包括电性能测试、可靠性测试和环境适应性测试等。

7.封装后处理:包括喷涂标识、气密性测试、老化测试等。

这些步骤都是为了保证封装产品的质量和性能稳定。

三、半导体封装制程的关键步骤及设备介绍1.基板制备基板制备是封装制程中的核心步骤,主要包括以下设备:(1)切割机:用于将硅片切割成芯片,常见的切割机有钻石切割机和线切割机。

(2)干法清洗机:用于清洗芯片表面的杂质。

清洗机主要有氧气等离子体清洗机和干气流清洗机等。

(3)晶圆胶切割机:用于将芯片粘贴在基板上。

2.连接技术连接技术是将芯片与基板连接起来的关键步骤,常见的设备有:(1)焊接机:用于焊接芯片和基板之间的引脚和焊盘。

常见的焊接机有波峰焊机和回流焊机。

(2)金线键合机:用于将芯片与基板之间进行金线键合连接。

常见的金线键合机有球焊键合机和激光键合机等。

3.封装工艺封装工艺是将芯片和连接线封装进封装材料中的步骤,主要设备有:(1)半导体封装设备:用于将封装材料和连接线封装成最终产品。

半导体封装制程与设备材料知识介绍

半导体封装制程与设备材料知识介绍

24~32
Ceramic Plastic
2.54 mm (100miles)
Surface Mount
SOP Small Outline Package
QFP Quad-Flat
Pack
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Plastic
1.27 mm (50miles) 2 direction
lead
8 ~40
Plastic
1.0, 0.8, 0.65 mm 4 direction
lead
88~200
Surface Mount
FPG
Flat Package of Glass
LCC
Leadless Chip
Carrier
封裝型式
Shape
Tester
Digital
Credence
SC312
Digital
Teradyne
J750
Mix-Signal Credence
Quartet one and one+
Mix-Signal HP
HP93000 P600
Mix-Signal HP
HP93000 C400
Mix-Signal Teradyne
Die Attach (上片)
Deposition (沉积)
WireBonding (焊线)
Wafer Inspection (晶圆检查) 前段結束
Molding (塑封)
Laser mark (激光印字)
Laser Cut & package saw Testing
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Laser Cut
Package Saw
Cleaner
Memory Test
Card Asy
PPT学习交流
Card TeΒιβλιοθήκη tPacking for Outgoing
10
半导体设备供应商介绍-前道部分
PPT学习交流
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半导体设备供应商介绍-前道部分
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常用术语介绍
1. SOP-Standard Operation Procedure 标准操作手册 2. WI – Working Instruction 作业指导书 3. PM – Preventive Maintenance 预防性维护 4. FMEA- Failure Mode Effect Analysis 失效模式影响分析 5. SPC- Statistical Process Control 统计制程控制 6. DOE- Design Of Experiment 工程试验设计 7. IQC/OQC-Incoming/Outing Quality Control 来料/出货质量检验 8. MTBA/MTBF-Mean Time between assist/Failure 平均无故障工作时间 9. CPK-品质参数 10. UPH-Units Per Hour 每小时产出 11. QC 7 Tools ( Quality Control 品管七工具 ) 12. OCAP ( Out of Control Action Plan 异常改善计划 ) 13. 8D ( 问题解决八大步骤 ) 14. ECN Engineering Change Notice ( 制程变更通知 ) 15. ISO9001, 14001 – 质量管理体系
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Plastic
1.27 mm (50miles) 2 direction
lead
8 ~40
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Plastic
1.0, 0.8, 0.65 mm 4 direction
lead
88~200
Material Lead Pitch No of I/O
Ceramic
1.27 mm (50miles) j-shape bend 4 direction
lead
18~124
Ceramic
0.5 mm
32~200
PPT学习交流
9
SMT (Optional)
Taping (Optional)
Die Saw
Shrink Dual In-line
Package
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Plastic
2.54 mm (100miles) 1 direction
lead
16~24
Plastic
1.778 mm (70miles)
PPT学习交流
2
半导体制程
IC制造开始
Wafer Cutting (晶圆切断)
Wafer Reduce (晶圆减薄)
Etching (蚀刻)
后段封装开始
Diffusion Ion
Implantation (扩散离子植入)
Grind & Dicing (晶圓研磨及切割)
Die Attach (上片)
20 ~64
PPT学习交流
5
Through Hole Mount
SK-DIP
Skinny Dual In-line
Package
PBGA
Pin Grid Array
封裝型式
Shape
PPT学习交流
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Ceramic Plastic
2.54 mm (100miles)
8 ~64
SIP
Single In-line Package
PPT学习交流
Plastic
2.54 mm (100miles) 1 direction
lead
3~25
4
Through Hole Mount
ZIP
Zigzag In-line Package
S-DIP
半导体封装制程与设备材料知识简介
Prepare By:William Guo 2007 . 11 Update
PPT学习交流
1
半导体封装制程概述
半导体前段晶圆wafer制程 半导体后段封装测试
封装前段(B/G-MOLD)-封装后段(MARK-PLANT)-测试
封装就是將前製程加工完成後所提供晶圓中之每一顆IC晶粒獨立分離,並外 接信號線至導線架上分离而予以包覆包装测试直至IC成品。
Assembly Main Process
Grinding (Optional)
Detaping (Optional)
Die Bond
Die Cure (Optional)
Wafer Mount
Plasma
UV Cure (Optional)
Wire Bond
Molding
Post Mold Cure Laser mark
20~80
PPT学习交流
Ceramic
1.27,1.016, 0.762 mm (50, 40, 30
miles)
20~40
8
Surface Mount
PLCC
Plastic Leaded Chip Carrier
VSQF
Very Small Quad Flatpack
封裝型式
Shape
Typical Features
(切割成型)
(测试)
PPT学习交流
Package (包装)
製造完成
3
Through Hole Mount
DIP
Dual In-line Package
封 裝 型 式 (PACKAGE)
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
Ceramic Plastic
7
Surface Mount
FPG
Flat Package of Glass
LCC
Leadless Chip
Carrier
封裝型式
Shape
Typical Features
Material Lead Pitch No of I/O
1.27, 0.762 mm (50, 30miles)
Ceramic 2, 4 direction lead
2.54 mm (100miles) half-size pitch in the
width direction
24~32
Ceramic Plastic
2.54 mm (100miles)
6
Surface Mount
SOP Small Outline Package
QFP Quad-Flat
Pack
Oxidization (氧化处理)
Deposition (沉积)
WireBonding (焊线)
Lithography (微影)
Wafer Inspection (晶圆检查) 前段結束
Molding (塑封)
Laser mark (激光印字)
Laser Cut & package saw Testing
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