超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件
附件：超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件*本包透射电子显微镜配套附件包括CCD成像附件、铍双倾（杆）台、普通单倾（杆）台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件。
为保证所有配套附件能用于同一台电子显微镜上，要求必须由电子显微镜厂商打包投标。
1. 工作条件1.1 电力供应：220V（10%），50Hz，1φ; 380V（10%），50Hz，3φ1.2 工作温度：15℃-25℃1.3 工作湿度：< 60%1.4 安装在200KV的透射电子显微镜或场发射扫描电子显微镜2．主要功能本包招标的超高分辨场发射透射电子显微镜的所有配套附件，包括透射电镜CCD相机、铍双倾台、普通单倾台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件，必须能安装在200KV超高分辨场发射透射电子显微镜上并进行联机使用。
3. 技术要求及配置3.1透射电镜CCD相机3.1.1 主要功能透射电镜专用CCD相机是用于拍摄透射电镜显微图像和电子衍射的数字化图像记录设备，其拍摄的图像应拥有高质量的分辨率，并应具备数字化图像处理的功能；且能同时满足材料科学和生物、医学科学研究的要求。
*3.1.2 耦合方式：1:1光纤耦合，HCR技术（高衬度分辨率）；*31.3 CCD感应器：像素≥2K×2K（400 万像素以上），单像素≤14μm，CCD 实际接受面积≥28.7mm×28.7mm3.1.4安装位置：轴上，底部安装*3.1.5 相机保护：CCD 机头可自动伸缩，具有可扩充电子能量损失谱仪的接口3.1.6 闪烁体：标准多晶磷3.1.7 读取噪音：≤5 counts3.1.8 读取方式：多通道同时输出（≥4通道）3.1.9 操作电压：最高可达200kV3.1.10 读出速度：全分辨率模式≥0.8 帧/秒，4×binning下≥5 fps3.1.11 Binning功能：1，2，3，4，6，8×3.1.12 动态范围：≥16bit3.1.13 冷却方式：半导体制冷，冷却温度为＜-20℃3.1.14 抗炫功能：有3.1.15 Digital streaming video 功能：有*3.1.16 具备拍摄显微图像和电子衍射的功能*3.1.17 拍摄衍射花样的接受角：单色度正负5电子伏时大于100mrad，单色度正负10电子伏时大于150mrad3.1.18 图像采集、处理软件：Digital Micrograph软件包和DIFPac软件包，除基本*.jpg，*.tiff，*bmp等存储格式外，还具有*.dm3 专用存储格式3.2 透射电镜用铍双倾样品杆3.2.1 特点：铍材质，用于做EDS分析时，消除常规样品杆Cu形成的EDS 谱中的Cu背底。
*3.2.2样品固定方式：六角螺栓固定，最大程度的防止样品漂移3.2.3 倾转角度：≥ ± 35°，≥ ± 30°3.2.4 装样个数：1个*3.2.5 从更换样品到可观察时间小于2分钟*3.2.6 必须是样品杆尾部部位显示倾转角度3.3 透射电镜用普通单倾样品杆3.3.1倾转角度：≥ 30°3.3.2装样个数：1个*3.3.3 从更换样品到可观察时间小于2分钟3.4 透射电镜用能谱仪3.4.1 主要功能X射线能谱仪（EDS）配备在透射电子显微镜上，在观察材料微区结构的同时，能够对材料微区所含成分进行定点、线及面分布的分析，并配备有相关的定性、定量分析软件。
(线扫描及面扫描分析需配备STEM扫描透射附件方可实现)3.4.2探测器：液氮致冷Si (Li) 晶体探头，超薄窗口，晶体面积30mm2。
配标准7.5升杜瓦瓶，带自动液氮水平监视、报警系统3.4.3元素分析范围：Be4～U923.4.4 探头分辨率：MnKα: 优于129eV ( 计数率为20000cps 时)3.4.5 探头自动伸缩保护3.4.6 出射角和立体角：适合于所选透射电镜3.4.7 零峰实时修正谱峰，系统安装调试成功后，无需用户进行人工校准3.4.8 软件界面：导航器界面，操作简便易学3.4.9 软件语言：中英文界面可以自由切换3.4.10能谱分析软件：具有自动（手动）标识谱峰，可进行峰形优化、多谱比较、谱相减、谱重构、重叠峰剥离、元素侦察等功能3.4.11定量分析：采用数字滤波法自动扣除本底，无需人工设定和干预3.4.12实验报告: 单键即可生成Word, Excel, HTML等多种输出格式*3.4.13 能谱仪配置必须能和透射内置式能量过滤器配合使用.3.5波谱仪3.5.1主要功能（1）与能谱仪形成一体化系统，用于材料的高精度的成分分析。
*（2）无需改动电镜样品仓原设计；*（3）不影响场发射电镜离子泵工作。
（4）主要包括：自动聚焦的波谱仪、数据采集单元、波谱分析与谱图处理工具包、样品台自动控制软件、电子束控制系统包、一体化镜筒参数控制软件、用于WDS定量分析的皮安表等。
3.5.2波谱仪结构：直进式全聚焦波谱仪3.5.3安装方式：侧倾式安装，X-射线计数强度对样品表面高度变化±1mm 不敏感，无需调整聚焦，不会碰到电镜背散射电子探头，能与之同时工作。
3.5.4元素检测范围：Be4—U923.5.5能量范围：0.10 KeV至10.84 KeV3.5.6 X射线探测器：流气正比计数器和密封正比计数器3.5.7 样品电流测量计用于测量样品吸收电流（范围从0.01nA到1000nA）*3.5.8元素检测极限：Be 100PPMB 20PPMC 14PPMN 130PPMO 60PPM*3.5.9 元素检测信噪比P/B：Be 150：1B 60：1C 80：1N 36：1O 80：1*3.5.10 能安装在各种电镜上包括TEM、FESEM和ESEM系统上*3.5.11 5个检测晶体3.5.12 软件（1）元素扫描: 对用户指定的元素进行扫描，判定其是否存在；所有元素的KLM线系均能标定，包括高次线及卫星峰；（2）测量扫描: 测量谱峰及背景强度，以数字或图形方式显示;可以定义元素分析的顺序; 可对每个元素预设采集时间或计数来终止数据采集；（3）定量分析: 未知元素和标样的谱峰及背景计数以cps/nA存储，抵消束流变化对结果的影响，因此无需频繁测量标样；（4）和能谱一样，采用XPP基体修正技术，可以联合给出定量结果；（5）可以得到归一化和非归一化结果；（6）标准化分析: 在定量分析时可以对波谱进行标准化, 用户能建立自己的标样库；（7）与能谱联用功能；（8）在能谱的操作界面中就可以轻松设定波谱的参数；（9）谱的扫描: 在能谱谱图上用鼠标拖动, 就可选择用波谱进行扫描的区域；（10）波谱设定：在能谱操作界面下即可使用波谱, 实现波谱的点,线,面分析。
（11）用于WDS定量分析的皮安表*3.5.13 为配合WDS的方便使用投标电镜厂商必须推荐大的样品室(大于320mm)的场发射电镜系统3.5.14 计算机系统2套高端计算机工作站－Pentium 4 3.0GHz或以上CPU；DDRII 2G以上内存；SATA-II 250G以上硬盘；独立显卡；DVD刻录机；22” LCD显示器, Windows XP 操作系统，操作方式：键盘、鼠标。
HP彩色激光打印机，HP黑白激光打印机。
4.售后服务4.1 仪器到达用户所在地后，在接到用户通知后两周内进行现场免费安装调试，直至通过验收。
依照合同核对规格和数量，仪器安装完成后，性能试验必须达到仪器出厂验收标准和合同技术要求。
4.2 设备安装后，在用户现场对用户进行免费培训，培训内容包括仪器的操作和仪器基本维护等，使用户达到独立操作水平。
4.3卖方提供壹年的免费保修.保修期内各项性能指标以供货方提供的仪器指标为准。
保修期自仪器验收签字之日起计算。
4.4 维修响应时间：保修期内，应在接到客户关于设备发生故障的通知后12小时内应答，并在48小时内到达现场。
卖方对仪器终身维修，并提供相应的零部件，在保修期外软硬件出现问题，应在接到用户通知后两个工作日内到达用户现场解决问题。
4.5 软、硬件升级：仪器具有较强的升级能力，软件终身免费升级。
4.6 技术培训：提供两人一周的国内免费提升培训；培训内容包括仪器的技术原理、仪器操作、数据处理、仪器基本维护等；使受训人员掌握仪器的基本原理、结构和使用，达到独立操作和对方法条件进行摸索开发的水平，能够对仪器进行日常维护。
所有的培训费用由供应商提供。
4.7 厂家长期提供技术支持，并免费提供所有公开发表的应用文献和最新仪器有关资料、通讯和用户论文和软件升级服务等。
4.8 免费提供仪器使用手册、培训教材、应用文章等。
5. 技术文件设备出厂检验报告（合格证），产品说明书，操作指南（鉴定合同后半年内提供），操作规程（说明书、光盘）和注意事项。
6．定货数量需要数量1套7. 到货目的地四川省绵阳市西南科技大学10. 标准出口包装。
11. 交货期信用证开出后5个月内。
配套设施—超高分辨场发射透射电子显微镜制样设备1. 工作环境1.1 工作温度：0～40o C。
1.2 工作相对湿度：<80%。
1.3 电源：100～240V 50～60Hz。
2. 主要用途综合样品制备系统具备铣削、切割、钻孔、精磨、抛光等功能，可对光学显微镜、扫描电镜、透射电镜所需样品进行精确制备。
3.综合样品制备系统技术参数与配置3.1 技术参数3.1.1 功能：铣、切割、精磨、抛光等功能均在同一机器上实现3.1.2 转速：300～20, 000转/分钟程序可调3.1.3刀架步进：100μm, 10μm, 1μm, 0.5μm 4档3.1.4 步进速度：0.025—0.5mm/秒可调3.1.5 润滑剂流量：2—20毫升/秒3.1.6 夹具夹持角度：2mm位移调整与360度旋转可调，并且旋转90度时带定位器3.1.7 观察系统：带有立体显微镜作为实时观察工具3.1.8 照明系统：LED长寿命环型均匀照明系统3.2 系统配套3.2.1 主机系统包括：自动磨抛控制系统；自动铣削系统并带有安全开关；自动废屑收集控制系统；润滑系统可根据实际操作情况，自行调整；LCD显示系统，显示当前工作状态；设置时间工序功能3.2.2附件与耗材3.2.2.1 6.3X~40X平行光立体显微镜一套含LED长寿命环型冷光源1套3.2.2.2平扁样品夹FT 1个3.2.2.3通用样品夹UT 1个3.2.2.4透射电镜用样夹1个3.2.2.5扫描电镜用样夹1个3.2.2.6金刚石铣刀1把3.2.2.7金刚石空心钻（￠3mm）1把3.2.2.8金刚石锯盘1片3.2.2.9锯盘连接杆1个3.2.2.10碳化硅磨片（15um、9um、5um）各200片3.2.2.11金刚石磨片（9um、6um、3um、1um、0.5um）各120片3.2.2.12磨片盒1个3.2.2.13氧化铝磨片（9um、3um、1um、0.3um）各200片3.2.2.14抛光布80张3.2.2.15磨片连接器（30mm）10个3.2.2.16防尘罩1个4. 售后服务4.1该设备为原装进口，以上指标必须完全符合并提供相关原件彩页资料。
HitachiSU6600FESEM设备简介
SU6600设备简介扫描电子显微镜（SEM）概论扫描电子显微镜的设计思想和工作原理，早在1935年便已被提出来了。
1942年，英国第一制成一台实验室用的扫描电镜，但由于成像的分辨率很差，照相时刻太长，因此有效价值不大。
通过各国科学工作者的尽力，尤其是随着电子工业技术水平的不断进展，到1956年开始生产商品扫描电镜。
近数十年来，扫描电镜已普遍地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中，增进了各有关学科的进展。
扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的彼此作用。
当一束高能的入射电子轰击物质时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特点x射线和持续谱X射线、背散射电子、透射电子，和在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。
同时，也可产生电子-空穴对、晶格振动（声子）、电子振荡（等离子体）。
原那么上讲，利用电子和物质的彼此作用，能够获取被测样品本身的各类物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。
一、场发射扫描电子显微镜大体原理被加速的高能电子束照射到样品上(在高真空状态下)，入射电子束与样品彼此作用，产生各类信号，通过不同的探测器检测各类不同的信号，即能够取得有关样品的各类信息。
例如，最多见的二次电子信息，就能够直接取得样品表面的图像信息。
场发射扫描电子显微镜(与一般扫描电镜不同的是采纳高亮度场发射电子枪，从而取得高分辨率的高质量二次电子图象)能够观看和检测非均相有机材料、无机材料及微米、纳米材料样品的表面特点，是材料表面形貌观看有效仪器。
普遍用于金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检测、产品生产质量操纵、宝石鉴定、生物学、医学、考古和文物鉴定及公安刑侦物分析等。
1.光学显微镜与扫描电子显微镜光学显微镜是用可见光照射在样品表面，反射光通过一系列玻璃透镜放大后而呈现出样品的放大图象，由于波长和光干与限制，极限只能观看到小至200nm左右的颗粒。
与光学显微镜不同，场发射扫描电子显微镜(电子束波长极短)是用电子束在样品表面扫描，电子束轰击样品表面，释放出二次电子和反射电子等，通过二次电子探测器检测二次电子信号，按相同扫描规律，在显示器上成像。
高端电子显微镜实验室环境设计与建设技术要点
电子显微学报Journal of Chinese Electron Microscopy Society第 40 卷 第 1 期2021年2月Vol. 40,No. 12021-02文章编号：1000-6281（2021）01-0078-12高端电子显微镜实验室环境设计与建设技术要点郭振玺',2**，张 斌3，豆瑞发4,茶丽梅5,陈永圣6，邵 博裴 霞韩玉刚6收稿日期：2020-10-15；修订日期：2020-12-26基金项目：北京大学仪器创新研制项目（No.6202000080/003）；北京航空航天大学工程训练中心合作项目（No.8300300194）；深圳军民融合装备技术研究院合作项目（No.8430102318）.作者简介：郭振玺（ 1986-），男（汉族），河北邯郸人，咼级工程师，博士. E-mail ：guozhenxi@ *通讯作者：郭振玺（ 1986-），男（汉族），河北邯郸人，高级工程师，博士. E-mail ：guozhenxi@ 韩玉刚（1975-），男（汉族），河北张家口人，研究员.E-mail ：yugangh@ （北京大学1.生命科学学院,2.冷冻电镜平台，北京100871； 3.重庆大学分析测试中心，重庆401331；4.北方工程设计研究院有限公司，河北石家庄050011 ；5.广东以色列理工学院材料系，广东汕头515063； 6.中国科学院生物物理研究所蛋白质科学研究平台，北京100101）摘要 电子显微镜（以下简称电镜）是具有超高分辨率的高精密电子光学仪器，广泛应用于科研、工业、医疗、食品安全和生命健康等众多领域，已成为现代物质形态与微结构的重要测试表征与科学研究仪器。
近年来，随着球差/色差校正技术、各类原位电镜技术等的快速发展与应用，原子尺度（静态与动态）微结构图像的获取已不再遥 不可及。
冷冻电镜的发展与普及，更是为生物大分子复合物、软物质等的研究带来了革新。
场发射电子显微镜技术指标
场发射电子显微镜技术指标1．产品配置要求1.1 场发射扫描电镜主机1套1.2 X射线能谱仪(电制冷) 1套1.3标准附件及工具1套1.4离子溅射仪 1套1.5导电胶带 2卷1.6 场发射灯丝 1根1.7电脑 2台1.8彩色激光打印机 1台2．技术规格2.1 组成：该设备由主机(包括真空系统、电子光学系统、检测器)，自动变压器，冷却循环水系统，X射线能谱仪(SDD)，计算机，标准工具及附件组成。
*2.2 分辨率：1.0nm (15kV，WD=4mm);2.0nm (1kV，WD=1.5mm)常规模式1.4nm(1KV，WD=1.5mm)电子减速功能2.3 加速电压：0.5 ~ 30kV，0.1kV/步2.4 放大倍率：×20 ~ ×800,000*2.5 物镜光栏：加热自清洁式、四孔、可移动物镜光栏2.6 样品室：2.6.1移动范围：X：0~50mm；Y：0~50mm；Z：1.5~30mm；T：-5~70°；R：360°2.6.2最大样品尺寸：100mm*2.7 全自动五轴马达台样品台2.8 电子光学系统具有多种工作模式，可实现高分辨、大束流、大工作距离及磁性样品观测2.9探测器: 具有高位和低位二次电子探头高位探头可选择接受二次电子像或背散射像，并混合*2.10 扫描模式：TV扫描(扫描速度不低于25帧/秒)，慢扫描，用于观察和记录2.11 操作/显示：PC/AT兼容，WindowsXP操作系统2.12 图像储存：640×480，1280×960，2560×1920，5120×3480像素图像文件格式：BMP，JPEG，TIFF2.13数据记录：胶卷号，加速电压，微米标尺，放大倍率，日期，时间，工作距离*2.14电子图像移动：±12μm (WD=8mm)2.15真空系统：2.15.1全自动真空系统2.15.2真空度：10-7Pa (电子枪)；10-4Pa (样品室)*2.15.3真空泵：分子泵×1台；机械泵1台；离子泵×3台2.15.4保护：断电、漏电、真空保护2.16 X射线能谱仪2.16.1探测器制冷方式：电制冷型。
碳中和联合研究院扫描电镜和透射电镜采购项目质量技术参数要求
碳中和联合研究院扫描电镜和透射电镜采购项目质量技术参数要求泄露保护、辐射保护功能；（5）样品低损伤观察:低剂量电子束观察，软件界面上电子束剂量实时显示，具有预辐照功能；（6）需可适应在独立地线不小于40。
环境下正常工作。
10.能谱仪系统（I）硅漂移SDD电子制冷探测器，有效面积N80mπΛ晶体位置优化设计，大大提高能谱仪计数率；（2）元素分析范围：从Be4-Cf98;★（3）具有能谱面扫描功能；（4）能谱应用软件可以实现多线程设计，导航器界面，支持用户自定义模式及账户管理，支持分屏显示及远程控制，支持中、英文等多种操作界面；（5）定性分析：可自动标识谱峰，除惰性气体元素外，无禁止自动标定的元素；可进行谱重构，对重叠峰进行手动峰剥离；（6）其它功能：可将电镜图象传输到能谱仪的显示器上,并以该图为中心做微区分析，可显示电子作用区大小，可对点，矩形，任意不规则区域等进行分析；（7）具备全谱面分布/线扫描分析功能，一次采集，能存储每一扫描位置（x,y）的所有元素的信息，用户随后可以在离线状态下从图像上的任何位置重建谱图和面分布图。
11.包括但不限于以下（得满足主机连接需求）：（1）透射电镜主机（包含高反差和高分辨模式，可实现一键切换）；（2）电镜控制与显示系统一套；（3）一体化、高灵敏像素CMoS主相机；（4）一体化超高速CMOS荧光屏相机；（5）真空系统等其它相应配套附件；（6）能谱仪（含有能谱面扫描功能及相关套件）；（7）标准单倾样品杆；（8）冷却水系统；（9）空气压缩机；（10）UPS电源等。
注：本项目评分标准中将根据标注“★”符号的技术标准与参数配置、技术指标的偏离情况进行评审打分。
扫描电镜SEM&透射电镜TEM简介
扫描电镜SEM&透射电镜TEM简介1. 光学显微镜以可见光为介质，电子显微镜以电子束为介质，由于电子束波长远较可见光小，故电子显微镜分辨率远比光学显微镜高。
光学显微镜放大倍率最高只有约1500倍，扫描式显微镜可放大到10000倍以上。
2. 根据de Broglie波动理论，电子的波长仅与加速电压有关：λe=h / mv= h / (2qmV)1/2=12.2 / (V)1/2 (Å)在 10 KV 的加速电压之下，电子的波长仅为0.12Å，远低于可见光的4000 - 7000Å，所以电子显微镜分辨率自然比光学显微镜优越许多，但是扫描式电子显微镜的电子束直径大多在50-100Å之间，电子与原子核的弹性散射 (Elastic Scattering) 与非弹性散射(Inelastic Scattering) 的反应体积又会比原有的电子束直径增大，因此一般穿透式电子显微镜的分辨率比扫描式电子显微镜高。
3. 扫描式显微镜有一重要特色是具有超大的景深(depth of field)，约为光学显微镜的300倍，使得扫描式显微镜比光学显微镜更适合观察表面起伏程度较大的样品。
4. 扫描式电子显微镜，其系统设计由上而下，由电子枪 (Electron Gun) 发射电子束，经过一组磁透镜聚焦 (Condenser Lens) 聚焦后，用遮蔽孔径 (Condenser Aperture) 选择电子束的尺寸(Beam Size)后，通过一组控制电子束的扫描线圈，再透过物镜 (Objective Lens) 聚焦，打在样品上，在样品的上侧装有讯号接收器，用以择取二次电子 (Secondary Electron) 或背向散射电子 (Backscattered Electron) 成像。
5. 电子枪的必要特性是亮度要高、电子能量散布 (Energy Spread) 要小，目前常用的种类计有三种，钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、场发射 (Field Emission)，不同的灯丝在电子源大小、电流量、电流稳定度及电子源寿命等均有差异。
场发射扫描电镜技术参数
场发射扫描电镜技术参数一、系统基本信息：1.1系统名称：场发射扫描电镜。
1.2系统数量：1套。
1.3系统组成：主机，Schottky型场发射电子源，无交叉光路Gemini镜筒,圆形一体化样品室，5轴全自动马达驱动样品台，环形Inlens二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器，CCD摄像机，计算机系统，操作软件，真空系统，循环水冷却系统、空气压缩机、能谱仪，原装进口离子溅射仪，备用热场发射灯丝1根，导电胶带2卷。
二、用途：该设备主要用于金属材料、非金属材料、纳米材料的检测，可以对样品进行直接的超高分辨微观形貌观察和微区元素分析。
三、技术要求：1工作条件：1.1电源电压：220V±10V,单相50Hz，工作温度：18°C-25°C，磁场：≤3mGauss，湿度：≤60%RH，接地：独立的接地线。
1.2仪器运行的持久性：长时间连续工作。
2性能指标：★2.1分辨率：0.8nm@15kV 1.6nm@1kV★2.2加速电压：0.02-30kV★2.3加速电压调整步长：每档10V连续可调2.4探针电流：12pA-20nA2.5稳定性：优于0.2%/h2.6放大倍数范围： 10-1,000,000×3电子光学系统：3.1电子发射源：Schottky型场发射（热场发射）电子源。
★3.2 Gemini镜筒：无交叉光路设计，电子束仅在样品表面进行一次汇聚，彻底消除电子束交叉三次发生能量扩散大的问题。
★3.3电子束加速器：无需切换模式即可实现低电压模式下电子束在镜筒内维持较高能量到达样品表面，可低至20V。
能适应的表面凹凸不平样品不导电样品、成分复杂样品、需要倾斜观测的样品。
★3.4透镜系统：电磁透镜/静电透镜式复合物镜。
在任何电压条件下样品表面不形成磁场，在极短工作距离下对磁性样品的高分辨成像。
3.5聚焦：工作距离：范围可由1mm至50mm。
具有灵敏度与放大倍数相关的粗调和细调。
场发射扫描电子显微镜参数
场发射扫描电子显微镜参数：1．工作条件:1.1电源: 230V (-6%/+10%) / 50Hz (±1%)1.2 主机功耗：< 3.0 kV A1.3运行环境温度: 17-23 C1.4运行环境：相对湿度< 80% (无冷凝)1.5残余交流磁场<100nT (非同步频率)；<300nT (同步频率)1.6噪音：< 60 dBC1.7干燥无油压缩空气4-6 bar1.8仪器运行的持久性：可连续运行2．设备用途：2.1高分辨扫描电子显微分析系统主要用于纳米材料的超高分辨微观形貌观察和微区分析。
独特的双物镜设计以及低电压成像技术，对导电性不好的样品等适用性更强。
具有低真空功能，对不导电样品进行更全面的分析。
3．技术规格3.1 电子光学系统3.1.1 分辨率：二次电子（SE）像*3.1.1.1高真空模式：15 kV时优于1.0 nm；1 kV时优于1.4 nm（非减速模式）*3.1.1.2 低真空模式：30kV时优于1.5nm*3.1.2背散射（BSE）像：100V时优于3.5 nm3.1.3 放大倍率范围：1 ～1,000,000倍(根据加速电压和工作距离的改变，放大倍数自动校准)3.1.4 着陆电压：50V 至30 kV3.1.5 电子枪：高稳定度Schottky肖特基场发射电子枪*3.1.6电子束流：0.6pA ～200 nA，连续可调，既保证对高分子纳米材料高分辨成像所需的低速流，也要保证EDS和EBSD分析所需的高束流高效率。
3.1.7 束流稳定性：每10小时< 0.4%*3.1.8 具有双物镜系统（电磁透镜和静电透镜），保证对纳米材料、不导电有机无机材料、合金、磁性材料的全方位分析*3.1.9 物镜光阑：物镜光栏应能自加热自清洁；无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。
至少6孔光阑设计3.1.10 电子束位移范围：不小于±110um3.2 样品室和样品台3.2.1 样品室尺寸：不小于360mm×360mm*3.2.2 抽屉式大开门结构，样品台安装在仓门上，全方位观察，方便取放样品，防止碰撞3.2.3样品台：五轴运动全对中样品台，有效移动范围：X /Y ≧110mm，Z ≧25mm，T = -10°to +70°，R= 360°连续旋转3.2.4样品台最大承重量不小于2.0 kg3.2.5最大样品高度不小于65mm，分析工作距离不小于5mm3.2.6重复精度：2um (X/Y 方向)，步进进度优于100nm3.2.7至少15个探测器/附件接口（所有端口程序均免费开放，可安装能谱、波谱、EBSD、CL、STEM探头、红外探头、拉曼等），方便后期升级*3.3 探测器：3.3.1 电子探头：样品室二次电子检测器极靴内二次电子探测器极靴内背散射电子探测器低真空二次电子探测器3.3.2 样品室镜头安装背散射电子探测器3.3.3 样品室IR-CCD相机3.3.4样品室光学显微镜导航相机探头3.4 真空系统*3.4.1完全无油真空系统（标配高真空模式和低真空模式，要求有验收指标）3.4.2 一个220L/S的涡旋干泵和一个分子泵3.4.3 两个离子泵*3.4.4 穿过透镜的压差真空系统（列出原理），保证真空条件下避免对系统的污染。
透射电子显微镜基本结构及功能
透射电子显微镜部分结构及功能在光学显微镜下无法看清小于0.2µm的细微结构，这些结构称为亚显微结构（s ubmicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructu res）。
要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。
1 932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron mi croscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。
目前TEM的分辨力可达0.2nm。
电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。
另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。
这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。
电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机。
电子显微镜是使用电子来展示物件的内部或表面的显微镜。
高速的电子的波长比可见光的波长短（波粒二象性），而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制，因此电子显微镜的分辨率（约0.1纳米）远高于光学显微镜的分辨率（约200纳米）。
透射式显微镜的结构与原理透射式电子显微镜(TEM)与投射式光学显微镜的原理很相近，它们的光源、透镜虽不相同，但照放大和成像的方式却完全一致。
在实际情况下无论是光镜还是电镜，其内部结构都要比图示复杂得多，图中的聚光镜（condonser lens）、物镜（object lens）和投影镜（projection lens）为光路中的主要透镜，实际制作中它们往往各是一组（多块透镜构成），在设计电镜时为达到所需的放大率、减少畸变和降低像差，又常在投影镜之上增加一至两级中间镜（i ntemediate lens）。
透射电子显微学
1931年6月4日，Knoll和Ruska首次报道研制成功第一台透射电子显微镜(TEM)，几年后德国、英国和加拿大等国开始研制透射电镜。
经过半个多世纪的发展，不但作为显微镜主要指标的分辨率已由开始时的100埃提高到2-3埃，可以直接直接分辨原子，并且还能进行纳米（10埃）尺度的晶体结构及化学组成的分析，成为全面评价固体微观特征的综合性仪器。
20世纪70年代具有高分辨率的透射电镜和分析电镜出现后,它的分辨水平日臻细微,功能更趋多样,已成为现代实验室中一种不可或缺的研究晶体结构和化学组成的综合仪器。
众所周知,界面、位错、偏析物和间隙原子等缺陷结构,对于材料及器件的物理、力学和电学性质产生重要影响,因此获取物质的原子结构、化学成分和局域电子态的信息细节是高分辨分析电子显微学的研究目标。
为获得原子间成键信息,要求能量分辨率达011～012eV ,为获得缺陷的原子结构细节,要求“亚埃”的点分辨率。
若要在中等电压的电镜中获得“亚埃”和“亚电子伏特”的分辨率,则需要发展配有准单色的电子源、电子束斑尺寸小于0.2nm的聚光镜系统、物镜球差校正器、无像差投影镜和能量过滤成像系统等部件的新一代透射电子显微镜。
近年来，透射电子显微镜及相关部件的发展非常迅速，除继续提高场发射枪透射电镜的性能和稳定性之外，陆续研发出新一代的慢扫描电荷耦合器件、球差校正器、单色器、高能量分辨率的新一代能量过滤成像系统等，在中等电压的电镜中可以获得“亚埃的空间分辨率”和“亚电子伏特的能量分辨率”。
德布罗依关于微观粒子的波动性学说在1925年提出后两年就在电子衍射试验中得到证实，而这就为发展电子光学这一新的学科和电子显微镜这一新的仪器在理论上指明了方向。
今天的透射电子显微镜不仅是一台放大倍率可达一千万倍（直接放大几十万倍，再经光学放大几十倍）可以直接分辨小到两三个埃的单个原子的显微镜，并且可以对线性长度为几十埃那么微笑的区域，进行晶体结构及化学组成的分析，成为在纳米尺度全面评价固体的综合性仪器。
S 4800场发射扫描电子显微镜测聚合物
S 4800场发射扫描电子显微镜测聚合物s-4800场发射扫描电子显微镜测聚合物用s-4800场发射扫描电子显微镜观察聚合物一、实验目的1.了解扫描电子显微镜的工作原理和仪器结构。
2.掌握仪器的操作方法及聚合物样品的制备和处理方法。
3.观察聚合物样品的表面形态、结构和聚集状态。
二、实验原理1.电子显微镜成像原理电子枪（场发射枪）发射一束电子，这就是电子源，其最少截面的直径对场发射枪而言大约为10～20nm，这个小束斑经3和5两级聚光镜进一步缩小几百倍，最后再经物镜缩小并聚焦在样品面上，这时束斑直径最小可到3～6nm（约小于扫描电镜的分辨本领），电子束打在样品上，就产生各种信号。
二次电子和背散射电子信号是最常用的两种信号，尤其是二次电子。
信号由接收器取出，经光电倍增器和电子放大器放大后，作为视频信号去调制高分辨显示器的亮度，因此显示器上这一点的亮度与电子束打在样品上那一点的二次电子发射强度相对应。
由于样品上各点形貌等各异，其二次电子发射强度不同，因此显示器屏上对应的点的亮度也不同。
用同一个扫描发生器产生帧扫和行扫信号，同时去控制显示的偏转器和镜筒中的电子束扫描偏转器，使电子束在样品表面上与显示器中电子束在荧光屏上同步进行帧扫和行扫，产生相似于电视机上的扫描光栅。
这两个光栅的尺寸比就是扫描电镜的放倍数。
在显示器屏幕光栅上的图像就是电子束在样品上所扫描区域的放大形貌像。
图像中亮点对应于样品表面上突起部分，暗点表示凹的部分或背向接收器的阴影部分。
由于显示器屏幕上扫描尺寸是固定的，如14in(1in=25.4mm）显示器的扫描面积是267×200mm2，在放大倍数为十万倍时样品面上的扫描面积为2.67×2μm2如放大倍数为20倍时，则为13.35×10mm2。
因此改变电子束扫描偏转器的电流大小，就可改变电子束在样品上的扫描尺寸，从而改变扫描电镜的放大倍数。
2.电子显微镜的分辨率特性扫描电镜的分辨本领一般指的是二次电子像的空间分辨本领，它是在高放大在多重模式下，人们可以从照片中分辨出两个相邻物体之间的最小距离。