PVD真空镀膜十二问
真空常见故障
PVD 镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答Q1: 请问什么是PVD？A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
Q2: 请问什么是PVD镀膜？什么是PVD镀膜机？A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么？A3: 离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD 镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5: 请问PVD镀膜能否代替化学电镀？A5: 在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。
PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
PVD —真空电镀介绍
五、PVD鍍膜品質管控:
2. 鍍層硬度測試：用維氏硬度機測試鍍層表面 硬度，一般硬度在HV600以上(即HRC50以 上) ，此硬度非鍍層真實的硬度，因為設備的 原因，實際上在測試時，已把鍍層打破。(實 際的硬應在HV1000以上)
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二、真空電鍍原理:
# 離子鍍是蒸發鍍和濺射鍍相結合的新技術，目前用在球 頭上主是離子鍍。
# 真空鍍可以鍍金、鈦、鋯、鉻、銅等金屬，同一種金屬 能透過不同的反應氣體(O2、N2、C2H2)及氣體的比 例，會形成出不同顏色的鍍層；顏色的深、淺是靠通入 反應气體的多少來決定，而色深要比色淺的硬度硬(因通 入反應氣體少時，不能使Ti饱和反應，鍍膜中有反應Ti 和鈍Ti，而鈍Ti的硬度比反應Ti要低，造成硬度下降)。
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TLM深黑色、灰黑色
TLM深黑色、灰黑色 深黑色、藍色、咖啡色、灰黑色
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真空電鍍基本知识介绍
生技二課 2010年2月23日
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真空镀膜生产中常见问题及解决方法
（ Ｃ ｏ ｍ ｐ ａ ｃ ｔ Ｍｅ ｔ ） ， 设备 使 用 过 程 中稍 有 不 慎 膜层 表 面
会 出现各种 缺 陷 。 本文对 常 见 膜 层 表 面 缺 陷 的解 决 思 路 进 行 探 讨， 以达 到抛砖 引 玉的效 果 。
空蒸散 镀膜 是使 用 各 种泵 体 （ 如机械泵、 罗茨 泵 、 油 扩散泵 及 维 持 泵 ） 将 镀 膜 室 抽 成 相 对 的 高 真 空 状 态， 然 后 给加 热 电极 通 电 ， 加 热 电极 将 电能 转 化 为 热能 ， 熔化 放 在 其 表 面 的 膜 材 ， 使 膜 材 由 固态 升 华 为气态 的离子状 态 ， 最 终 离 子 状态 的膜 材 落 在 塑料 基材 表面形 成 光亮 金 属 质感 的膜 层 ， 为 了 防止金 属 膜层 被腐 蚀 ， 所 有 的 膜 层 都 要 增 加 保 护 膜 的处 理 。
Ｐ ｌ ａ ｔ ｉ ｎ ｇ ａ ｎ ｄ Ｆ ｉ ｎ ｉ ｓ ｈ ｉ ｎ ｇ
ｄ ｏ ｉ ： １ ０ ． ３ ９ ６ ９ ／ ｊ ． ｉ ｓ ｓ ｎ ． １ ０ ０ １ — ３ ８ ４ ９ ． ２ ０ １ ５ ． １０ ． ０ ０ ８
真 空 镀 膜 生 产 中 常 见 问题 及 解 决 方 法
ｐ ｒ ｏ ｃ ｅ ｓ ｓ ａ ｎ ｄ ｓ ｐ ｕ ｔ ｔ ｅ ｉｎ ｒ ｇ ｐｒ ｏ ｃ ｅ ｓ ｓ ． Ｉ ｎ ｔ ｈ ｉ ｓ ｐａ ｐ ｅ ｒ ， ｔ ｈ ｅ ｃ ｏ ｍｍｏ ｎ ｆ ａ ｉ ｌ ｕｒ ｅ ｓ ａ ｎｄ ｔ ｒ ｏ ｕ ｂｌ ｅ ｓ ｈｏ ｏ ｔ ｉ ｎ ｇ ｉ ｎ ｖ ａ ｃ ｕ ｕ ｍ ｅ ｖ ａ ｐ ｏ — ｔ ｒ ａ ｎ ｓ ｐ ｉ ｒ ａ ｔ ｉ ｏ ｎ ｄ ａ ｉ ｌ ｙ ｐｒ ｏ ｄ ｕｃ ｔ ｉ ｏ ｎ ｕｓ ｉ ｎ ｇ Ｌ ＥＹＢＯＬＤ ｃ ｏ ａ ｔ ｉ ｎ ｇ ｍａ ｃ ｈ ｉ ｎ ｅ ｗｅ ｒ ｅ ｂ ｒ ｉ ｅ ｌ ｆ ｙ ｄ ｅ ｓ ｃ ｉｂ ｒ ｅ ｄ ． Ｋｅ ｙｗｏ ｒ ｄ： ｅ ｖ ａ ｐ ｏ ｔ ｒ ａ ｎ ｓ ｐ ｉ ｒ ａ ｔ ｉ ｏ ｎ ｃ ｏ ａ ｔ ｉ ｎ ｇ； Ｌ ＥＹＢＯＬＤ ｃ ｏ ａ ｔ ｉ ｎ ｇ ｍａ ｃ ｈ ｉ ｎ ｅ； ｆ ａ ｉ ｌ ｕ ｒ ｅ； ｔ ｒ ｏ ｕ ｂ ｌ ｅ ｓ ｈ ｏ ｏ ｔ ｉ ｎｇ
PVD真空镀膜技术在材料表面改性中的应用
PVD真空镀膜技术在材料表面改性中的应用在物质科学领域，表面工程和表面技术一直是研究的重点领域。
材料在不同环境下，受到各种物理、化学、生物等因素的影响，不但会导致表面的化学物质的变化，而且会影响其力学性能、物理性质以及其他性质。
表面工程技术就是基于改变材料表面内部结构和成分来改变表面性质和特性，以适应各种应用需求的工程技术。
PVD真空镀膜技术，即物理气相沉积技术 (Physical Vapor Deposition)，是目前常用的一种表面处理技术，其基本原理是利用高真空条件下，将金属或非金属薄膜沉积到基体表面的过程。
这种技术具有无污染、无毒、无害、低成本和高效等优点，在多个领域得到了广泛的应用。
PVD真空镀膜技术的基本工艺流程包括：材料表面清洗、预处理、真空抽空、薄膜成核、沉积、薄膜成长和表面处理等步骤。
不同材料的表面处理需求不同，可以通过更换不同的沉积源、沉积条件和表面处理工艺，实现不同的表面改性。
PVD真空镀膜技术在材料表面改性中的应用较为广泛，在以下几个方面有很好的应用表现：1.提高材料表面硬度和耐磨性PVD真空镀膜技术可以利用金属、合金或化合物等薄膜进行镀膜处理，从而提高材料表面硬度和耐磨性。
金属薄膜在物理碰撞过程中不容易脱落，使表面不易刮伤和损坏；像氮化铬、硬质合金等陶瓷类涂层，则可以在表面形成一层高硬度的陶瓷保护层，从而提高了工件表面的耐磨性和硬度。
2.提高材料表面的耐腐蚀性通过PVD真空镀膜技术，我们可以在材料表面形成氧化铝、氧化锆、丝光不锈钢等高功能涂层，以增强材料表面的耐腐蚀性，并提高材料的化学稳定性。
3.提升材料表面的导电性和热导率在电子材料、光电器件等领域，要求材料表面具有较好的导电性和热导率。
PVD真空镀膜技术可以在材料表面形成一系列的金属、导体或半导体涂层，从而提高材料的导电性和热导率，符合其选择用途。
4.提高材料表面光学透过率和反射率在光学和电子器件领域，我们需要将材料表面的透过率和反射率提高到最佳状态，常采用PVD真空镀膜技术来实现。
真空镀膜的常见问题和解决办法
真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇：真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。
但是论起薄膜的均匀性，恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响，现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。
对此，真空镀膜机厂家指出，它的运作原理其实很简单。
就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。
如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。
另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空机的存在，要控制好还是不成问题的（1）真空镀膜对环境的要求。
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。
基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。
基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。
真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。
用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。
因为这些容器优先吸附碳氢化合物。
对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。
清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。
空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。
要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
镀膜技术员面试题及答案
镀膜技术员面试题及答案一、选择题1. 镀膜技术中，以下哪项不是常见的镀膜方法？A. 真空蒸镀B. 化学气相沉积C. 电镀D. 磁控溅射答案：C2. 在真空镀膜过程中，以下哪个参数对膜层质量影响最大？A. 真空度B. 镀膜速率C. 基底温度D. 镀膜材料答案：A二、填空题1. 镀膜技术中，________是用来测量膜层厚度的仪器。
答案：椭偏仪2. 磁控溅射技术中，通常使用________来增强溅射效率。
答案：磁场三、简答题1. 简述真空蒸镀的基本原理。
答案：真空蒸镀是一种物理气相沉积技术，其基本原理是将镀膜材料在高真空环境下加热至蒸发，蒸发的原子或分子在基底上沉积形成薄膜。
2. 说明为什么在镀膜过程中需要控制真空度。
答案：控制真空度是为了降低气体分子与蒸发材料原子的碰撞概率，减少气体分子对沉积过程的干扰，从而提高膜层的质量和均匀性。
四、计算题1. 如果一个镀膜室的初始压力为1.0×10^-2 Pa，经过抽真空后压力降至1.0×10^-4 Pa，求抽真空后的压力降低了多少百分比？答案：初始压力为1.0×10^-2 Pa，抽真空后的压力为1.0×10^-4 Pa，压力降低量为1.0×10^-2 - 1.0×10^-4 Pa。
降低百分比为[(1.0×10^-2 - 1.0×10^-4) / 1.0×10^-2] × 100% = 90%。
五、论述题1. 论述化学气相沉积（CVD）技术在半导体制造中的应用及其重要性。
答案：化学气相沉积技术在半导体制造中被广泛用于沉积多种薄膜材料，如硅、二氧化硅、氮化硅等。
CVD技术通过化学气体在基底表面的化学反应生成固态薄膜，具有高纯度、高均匀性和可控的薄膜厚度等优点。
在集成电路的制造过程中，CVD技术用于形成绝缘层、保护层和导电层，对提高器件性能和可靠性起着至关重要的作用。
生产常见问题--PVD
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5、作业员须佩带口罩防止说话时唾液飞溅到电池 薄膜上； 6、不得轻易按急停按钮，按下急停时为所有门 阀、真空泵、阀门关闭； 7、系统维护不得轻易开启，如开启则应在完成相 应操作后立即关闭； 8、每次更换靶材后将相应被更换靶材的靶消耗清 零，电池片累计清零后才能开始生产，其余时间不 得将靶消耗、电池片累计清零；
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左图则代表溅镀后被溅射出的原子、分子等的运 动情形；即当被加速的离子与表面撞击后，通过 能量与动量转移过程 （右图）低能离子碰撞靶时，不能从固体表面直 接溅射出原子，而是把动量转移给被碰撞的原子 ，引起晶格点阵上原子的链锁式碰撞。
气体 固体
Sputter溅镀后原子分子运动模型
溅射原子弹性碰撞模型
顾客导向、科技领航、全面管理、精益求精
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7、依次打开隔离室1、溅射室2、溅射室3、隔离 室2前面的机械泵、罗茨泵； 8、等待腔室真空度小于5Pa时，关闭中间四个门 阀，依次打开隔离室1、缓冲室1、溅射室1、溅射 室2、溅射室3、溅射室4、缓冲室2、隔离室2的 前级阀、分子泵，分子泵图标由灰色变为黄色，开 始加速； 9、等待分子泵转速达到630转时，维持此状态10 分钟以上，使得靶室与缓冲室维持在高真空状态； 10、关闭Ar气与腔室之间的气动阀然后抽真空， 若真空度高于9.9 E-3 Pa则继续，若抽了两小时 真空还无法达到要求则通知设备处理；
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真空镀膜技术基础
真空镀膜技术基础1.采用什么镀膜机？光学镀膜机多是基于PVD，即物理气相沉积的镀膜机。
国产机以南光和北仪为代表，进口机以德国的莱宝机，美国的Vecco机和日本的光驰机、昭和机为代表。
2.采用什么样的膜料气汽化方式？对于物理气相沉积型真空镀膜机，有三种汽化方式：热蒸发，溅射，离子镀。
目前国内在光学真空镀膜方面多采用热蒸发的方式。
溅射技术以磁控溅射为代表，溅射和离子镀的方式在大批量生产的表面处理、太阳能电池板生产中应用较多。
热蒸发又分为四种方式：电阻加热，电子束加热，电磁感应加热和激光束加热。
四种方式各有特点和优势，电磁感应加热适合大规模连续型设备，并且只能镀金属膜料；激光束加热方式目前尚不成熟；电阻加热方式使用最早，但不适合高熔点膜料，自动化程度低，适合镀制金属膜和膜层较少的膜系；电子束加热方式使用电子枪产生电子束通过聚焦集中于膜料上进行加热，该方法应用最广，自动化程度高，技术成熟。
3.如何精确控制膜层厚度？膜层厚度的控制方法有：目视法、光电极值法，石英晶振法和全光谱在线控制法等。
目视法最早应用，适合于膜层较少的可见光波段的膜系，人为误差较大；全光谱在线控制法适合宽波段膜系的镀制，可以实时反馈及时修正误差，但目前上不普及；光电极值法适合镀制单点要求的膜系，自动化程度不高；石英晶振法自动化程度最高，应用最为普及，他采用石英晶体的振动频率和质量的相关性来测定膜层的质量，从而根据密度换算成物理厚度。
采用石英晶振法控制膜层厚度，和电子束加热的方式相配合，可以实现镀制过程的高度自动化，确保工艺的重复性。
采用美国生产的360石英晶体控制仪，石英晶体探头表面镀金，其振动信号转换成电信号后，经后续电路处理，输入360石英晶体控制仪，实时输出结果，并反馈调节电子束能量，形成闭环控制，确保膜厚控制的精度。
4.如何加强曲面镀膜均匀性？理论上，当蒸发源为点源时，被镀件和蒸发源距离一样时满足均匀性，即蒸发源位于球心，被镀件位于同一球面；当蒸发源为面源时，符合余弦分布，既蒸发源和被镀件位于同一球面。
镀膜思考题
《真空镀膜技术与设备》复习思考题一、名词解释类PVD:物理气相沉积CVD：化学气相沉积PECVD：等离子体增强化学气相沉积法HCVD：热化学气相沉积MW-CVD：微波化学气相沉积LPCVD：低压化学气相沉积MOCVD：金属有机化合物化学气相沉积MBE：分子束外延SEM：扫描电子显微镜TEM：透射电子显微镜ALD：原子层沉积ITO：氧化铟锡DLC：类金刚石膜e型枪：电子束蒸发源所发射的电子轨迹与“e”相似，故简称e型枪。
HCD枪：空心热阴极等离子束枪二、比较各组名词术语的异同膜材成分与靶材成分；膜材：经溅射后沉积在基片上成膜的材料；靶材：被溅射镀膜的材料工作气体与反应气体；工作气体指镀膜环境下真空室内通入的气体，反应气体指膜材（蒸发源）汽化蒸发出的反应气体。
蒸发速率、溅射速率与沉积速率；蒸发速率：在单位时间内（秒）从单位膜材表面（平方厘米）以蒸汽形式蒸发出来的分子数溅射速率：即在一次离子轰击下,单位时间溅射的厚度沉积速率：在单位时间内沉积到基片上的膜层厚度成为沉积速率溅射与溅射阈；溅射：用荷能粒子轰击物体，引起物体表面原子从母体中逸出的现象溅射阈：开始出现溅射的入射粒子能量离子镀、离子束沉积与离子束辅助沉积；相同之处：利用离化的粒子束流（离子束）参与基片上的沉积过程不同之处：真空离子镀——沉积于基体上的膜材粒子中，有部分粒子是以离子形式入射沉积的。
特征：基片处于相对负电位，基片及膜层在镀膜过程中始终受到高能离子（膜材离子、气体离子）的轰击。
离子束（束流）沉积——膜材直接以离子束的形式沉积在基片上离子束辅助沉积——镀膜过程中，工作气体的离子束轰击基片和膜层激光蒸发镀膜和激光化学气相沉积。
激光蒸发镀膜：利用激光源发射的光电子束的光能来加热蒸发膜材激光化学气相沉积：用激光诱导来促进化学气相沉积，它的沉积过程是激光光子与反应主体或衬底材料表面分子相互作用的过程，依据激光的作用机制可分为激光热解沉积和激光光解沉积三、回答问题类1．与湿法镀膜相比真空镀膜有哪些主要优点书第一页第三段2．绘制真空镀膜技术的分类图书第二页表1——13．PVD和CVD镀膜工艺各包括哪几个基本过程PVD：离散（蒸发、溅射）过程，运输（迁移）过程，沉积（淀积）过程CVD：运输（迁移）过程，沉积（淀积）过程，和穿插在二者之间的反应过程4．PVD工艺有哪几种离散方法？PVD工艺中的离散过程，是将固体原材料转化为可以迁移的气相成分的步骤，常用方法有蒸发和溅射两种方法。
真空镀膜过程中常见问题分析
4、彩虹现象：镀膜层产生相对移动
原
因
底漆干燥不充分
加强底漆的固化
涂层过厚，内部干燥不充分
适当调整底漆的厚度，使底漆固化均匀
溶剂使用不当或者使用过量
调整溶剂的挥发速率
底漆被面漆的溶剂所融化
降低面漆的烘烤温度或调整面漆溶剂的极性
5、白雾现象：镀膜层呈牛奶色
原
因
底漆固化不完全
参考“干燥不良”
空气气压过低或过高
调整气压，涂料雾化充分，调整喷枪合适的距离
涂料的喷涂量过多
在遮盖的情况下尽量喷薄
真空镀膜底漆常见问题分析
底漆常见问题分析
1、干燥不良：涂料固化不充分出现发白或发彩现象
原
因
溶剂挥发
不完全
红外流平温度过低或时间不足
提高温度，降低速度
涂膜过厚
加入适量稀释剂或降低喷漆流量
溶剂挥发速度慢
调整溶剂的挥发速度
现场温度过高
除湿干燥
溶剂挥发过快导致水气凝露
调低溶剂挥发速率
镀膜层太薄，显示底色
加厚金属镀层
6、桔皮现象：镀膜层凹凸不平的现象
原
因
底漆粘度太高
调整涂料的粘度：增加稀释剂或涂料加温
IR段的温度和流平时间不足
增加IR的温度和流平时间
底材被污染
底材清洗或增加底漆润湿性
喷涂压力太低或太高
调整喷枪的压力（3.5~4.5kg/cm2）和距离（15~30cm）
固化不完全
检查固化设备是否正常
涂料不适合底漆
更换面漆
铝层脱落
铝层附着不良
参考“底漆附着不良”
面漆咬底
面漆与底漆不配套，使用同一厂家的配套涂料
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PVD真空镀膜十二问
Q1: 请问什么是PVD? 真空电镀加工真空镀膜技术
A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
Q2: 请问什么是PVD镀膜? 什么是PVD镀膜机?
A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么?
A3: 离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点?
A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5: 请问PVD镀膜能否代替化学电镀?
A5: 在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。
PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
Q6: 请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点?
A6: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上?
A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等
压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。
Q8: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些?
A8: PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。
Q9: 请问PVD镀膜膜层的厚度是多少?
A9: PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。
Q10: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色有哪些?
A10: 我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量，使颜色得以量化，以确定所镀出的颜色是否满足要求。
Q11: 请问目前PVD镀膜技术主要应用在哪些行业?
A11: PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀和工具镀。
装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。
工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)等产品中。
Q12: 请问PVD镀膜的成本是不是很高?
A12: 虽然使用PVD镀膜技术能够镀出高品质的膜层，但是PVD镀膜过程的成本其实并不高，它是一种性价比非常高的表面处理方式，所以近年来PVD镀膜技术发展得非常快。
PVD镀膜已经成为五金行业表面处理的发展方向。
PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
NCVM=Non-Conductive Vacuum metallization:直译为不导电真空电镀(金属表面化),制程:不导电镀膜.其实PVD是主要用物理和化学比较的角度说的,而NCVM是侧重于镀膜后产生的效果来表述的.其实两者是一样的.。