《材料成形原理》3.3晶体生长
晶体生长原理和过程

晶体生长原理和过程晶体是由原子、离子或分子按照一定的几何排列方式组成的固体。
晶体生长是指在一定条件下,晶体中的原子、离子或分子按照一定的几何排列方式组成新的晶体。
晶体生长是一种自组织过程,具有自我组织、自我修复和自我调节的特点。
晶体生长的原理晶体生长的过程中,原子、离子或分子在固体、液体或气态中,通过一系列物理和化学反应,形成了具有一定晶体结构的固体。
晶体生长的原理主要包括两个方面:晶体核心形成和晶体生长。
晶体核心形成是晶体生长的起始阶段,这个阶段的关键在于形成一个具有一定晶体结构的小晶核。
晶体核心形成需要满足一定的条件,包括适当的过饱和度、适当的温度和适当的晶体结构。
一般情况下,晶体核心形成的过程是一个动态平衡的过程,需要克服一定的激活能才能实现。
晶体核心形成之后,晶体生长就开始了。
晶体生长是指晶体核心周围的原子、离子或分子按照一定的几何排列方式组成新的晶体。
晶体生长的过程是一个动态平衡的过程,需要克服一定的表面能和激活能才能实现。
晶体生长的过程晶体生长的过程主要包括三个阶段:弥散阶段、吸附阶段和扩散阶段。
弥散阶段是指原子、离子或分子从溶液中弥散到晶体表面的过程,也是晶体生长的起始阶段。
在弥散阶段中,原子、离子或分子在溶液中做无规则的热运动,当它们遇到晶体表面时,由于表面能的存在,它们会被吸附在晶体表面上,形成一个具有一定晶体结构的小晶核。
吸附阶段是指原子、离子或分子在晶体表面上的吸附和排列的过程。
在吸附阶段中,原子、离子或分子在晶体表面上做定向的热运动,当它们逐渐排列成一个具有一定晶体结构的小团簇时,晶体生长就开始了。
扩散阶段是指晶体核心周围的原子、离子或分子在晶体表面上的扩散和排列的过程。
在扩散阶段中,原子、离子或分子在晶体表面上做定向的热运动,当它们逐渐排列成一个具有一定晶体结构的大团簇时,晶体生长就完成了。
晶体生长是一个复杂的过程,需要满足一定的条件和原理才能实现。
晶体生长的研究对于晶体科学和材料科学都具有重要的意义,可以为材料的制备和性能的优化提供重要的理论和技术支持。
晶体生长原理与技术

晶体生长原理与技术晶体是一种具有高度有序结构的固体材料,其结构和性质受到其生长过程的影响。
晶体生长是一个复杂的过程,受到多种因素的影响,包括温度、溶液浓度、溶剂选择、晶种质量等等。
本文将从晶体生长的基本原理和常见的生长技术两个方面进行探讨。
晶体生长的基本原理主要包括熔融法、溶液法和气相法。
熔融法是指将晶体原料加热至熔化状态,然后缓慢冷却,使晶体从熔融状态逐渐结晶出来。
溶液法是指将晶体原料溶解在溶剂中,通过控制溶液的温度、浓度和溶剂的选择,使晶体逐渐从溶液中析出。
气相法是指将晶体原料蒸发成气体,然后在一定的条件下使其在固体基底上生长成晶体。
这些方法各有优劣,可以根据具体的情况选择合适的方法进行晶体生长。
在晶体生长技术方面,常见的方法包括悬浮法、自组装法和气相沉积法。
悬浮法是指将晶体原料悬浮在溶液中,通过控制溶液的温度和浓度,使晶体逐渐生长出来。
自组装法是指利用分子自组装的原理,在固体基底上自发形成晶体结构。
气相沉积法是指将晶体原料蒸发成气体,然后在基底上沉积成晶体。
这些方法在不同的领域有着不同的应用,可以根据具体的需求选择合适的方法进行晶体生长。
晶体生长的过程受到多种因素的影响,其中温度是一个重要的因素。
温度的变化会影响晶体生长的速率和晶体的形貌,过高或过低的温度都会对晶体生长产生不利影响。
此外,溶液的浓度和溶剂的选择也会影响晶体的生长过程,合适的浓度和溶剂可以促进晶体的生长,提高晶体的质量。
晶种的质量也是影响晶体生长的重要因素,优质的晶种可以促进晶体的生长,并且对晶体的形貌和性能有着重要的影响。
总之,晶体生长是一个复杂的过程,受到多种因素的影响。
了解晶体生长的基本原理和常见的生长技术,可以帮助我们更好地控制晶体的生长过程,提高晶体的质量和产量。
希望本文对您有所帮助,谢谢阅读!。
《晶体生长机理》课件

晶体生长的原理
晶体生长是指晶体在适宜的条件下从溶液或气相中生长增大的过程。它受到 晶体生长条件和晶体形态影响,涉及物质输送、结晶核、晶体生长速率等因 素。
滴定法生长晶体
滴定法是一种常用的生长晶体的方法。它利用溶液中所含物质的滴定反应, 控பைடு நூலகம்条件使晶体从溶液中沉淀出来。
物质输送导致晶体生长
物质输送是晶体生长的重要因素之一。毛细管现象导致了溶液中物质传输的 变化,对晶体生长速率产生影响。晶体生长速率与传质系数密切相关。
结论
晶体生长机理的研究对于推动材料科学和生命科学的发展至关重要。未来的研究方向包括深入探究晶体 生长的动力学过程和机制,并应用于更广泛的领域。
《晶体生长机理》PPT课 件
晶体生长机理是研究晶体生长过程及其原理的学科。本课件将介绍晶体的定 义、组成、生长过程、条件,以及滴定法生长晶体、物质输送导致晶体生长 等内容。
什么是晶体?
晶体是具有确定的物理结构和几何形状的固体物质。它由阵列有序排列的原 子、离子或分子构成,因此具有独特的性质和形态。
晶体生长机制的研究方法
研究晶体生长机制的方法包括红外光谱法、X射线衍射法和晶体形态模拟法。 这些方法可以揭示晶体生长的分子结构、微观行为和晶体形态发展规律。
晶体生长机理的意义
晶体生长机理对新材料研究和生命科学具有重要意义。了解晶体生长原理可 以指导材料设计、制备和性能优化,以及研究细胞、蛋白质等生命科学领域。
晶体生长原理

晶体生长原理晶体是由原子、离子或分子排列成有序的三维结构,具有特定的形状和大小。
晶体结构的形成是一个复杂的过程,需要满足一定的条件和原则。
晶体生长原理是研究晶体形成过程的基本原理和规律。
晶体生长的基本原理是在液态或气态中,原子、离子或分子以一定的方式排列形成有序的晶体结构。
晶体生长的过程可以分为三个阶段:核心形成、生长与成长。
在核心形成阶段,原子、离子或分子聚集形成一个小晶核,其大小和形状取决于物质的浓度、温度和晶体的种类等因素。
在生长阶段,晶体的生长速度与溶液中的物质浓度、温度、压力、扰动等因素有关。
在成长阶段,晶体形态和大小基本稳定,晶体内部结构和晶面的形态也基本固定。
晶体生长的原则包括热力学原则、动力学原则和几何原则。
热力学原则是指晶体生长遵循平衡态热力学规律,物质从高浓度区域向低浓度区域扩散,同时热力学稳定性越高的结构越容易形成。
动力学原则是指晶体生长遵循非平衡态动力学规律,物质的扩散速率受到流体动力学、传质、传热等因素的影响。
几何原则是指晶体生长遵循几何学原则,晶体的形态受晶面对称性和界面能等因素的影响,晶体的生长方向和晶面的生长速度也受到相应的限制。
晶体生长的条件包括物质的浓度、温度、压力、流体动力学等因素。
物质的浓度是晶体生长的基本条件之一,过高或过低的浓度都会影响晶体的生长。
温度也是影响晶体生长的重要因素,温度过高或过低都会影响晶体生长。
压力是晶体生长的另一个重要因素,高压下晶体生长速度更快,而低压下晶体生长速度较慢。
流体动力学是晶体生长过程中的另一个重要因素,流体动力学的扰动可以影响晶体生长的方向和速度。
晶体生长的研究对于材料科学、化学、生物学等领域具有重要意义。
通过对晶体生长的深入研究,可以探索材料的性质和结构,研究生命体系的基本规律,提高生产效率,开发新的材料和技术。
材料成形原理课后习题解答

材料成型原理第一章(第二章的内容)第一部分:液态金属凝固学1.1 答:(1)纯金属的液态结构是由原子集团、游离原子、空穴或裂纹组成。
原子集团的空穴或裂纹内分布着排列无规则的游离的原子,这样的结构处于瞬息万变的状态,液体内部存在着能量起伏。
(2)实际的液态合金是由各种成分的原子集团、游离原子、空穴、裂纹、杂质气泡组成的鱼目混珠的“混浊”液体,也就是说,实际的液态合金除了存在能量起伏外,还存在结构起伏。
1.2答:液态金属的表面张力是界面张力的一个特例。
表面张力对应于液-气的交界面,而界面张力对应于固-液、液-气、固-固、固-气、液-液、气-气的交界面。
表面张力σ和界面张力ρ的关系如(1)ρ=2σ/r,因表面张力而长生的曲面为球面时,r为球面的半径;(2)ρ=σ(1/r1+1/r2),式中r1、r2分别为曲面的曲率半径。
附加压力是因为液面弯曲后由表面张力引起的。
1.3答:液态金属的流动性和冲型能力都是影响成形产品质量的因素;不同点:流动性是确定条件下的冲型能力,它是液态金属本身的流动能力,由液态合金的成分、温度、杂质含量决定,与外界因素无关。
而冲型能力首先取决于流动性,同时又与铸件结构、浇注条件及铸型等条件有关。
提高液态金属的冲型能力的措施:(1)金属性质方面:①改善合金成分;②结晶潜热L要大;③比热、密度、导热系大;④粘度、表面张力大。
(2)铸型性质方面:①蓄热系数大;②适当提高铸型温度;③提高透气性。
(3)浇注条件方面:①提高浇注温度;②提高浇注压力。
(4)铸件结构方面:①在保证质量的前提下尽可能减小铸件厚度;②降低结构复杂程度。
1.4 解:浇注模型如下:则产生机械粘砂的临界压力ρ=2σ/r显然 r =21×0.1cm =0.05cm 则 ρ=410*5.05.1*2-=6000Pa 不产生机械粘砂所允许的压头为H =ρ/(ρ液*g )=10*75006000=0.08m 1.5 解: 由Stokes 公式 上浮速度 92(2v )12r r r -= r 为球形杂质半径,γ1为液态金属重度,γ2为杂质重度,η为液态金属粘度γ1=g*ρ液=10*7500=75000γ2=g 2*ρMnO =10*5400=54000所以上浮速度 v =0049.0*95400075000(*10*1.0*223)-)(-=9.5mm/s 3.1解:(1)对于立方形晶核 △G 方=-a 3△Gv+6a 2σ①令d △G 方/da =0 即 -3a 2△Gv+12a σ=0,则临界晶核尺寸a *=4σ/△Gv ,得σ=4*a △Gv ,代入① △G 方*=-a *3△Gv +6 a *24*a △Gv =21 a *2△Gv 均质形核时a *和△G 方*关系式为:△G 方*=21 a *3△Gv (2)对于球形晶核△G 球*=-34πr *3△Gv+4πr *2σ 临界晶核半径r *=2σ/△Gv ,则△G 球*=32πr *3△Gv 所以△G 球*/△G 方*=32πr *3△Gv/(21 a *3△Gv) 将r*=2σ/△Gv ,a *=4σ/△Gv 代入上式,得△G 球*/△G 方*=π/6<1,即△G 球*<△G 方*所以球形晶核较立方形晶核更易形成材料成型原理第 3 页 共 16 页3-7解: r 均*=(2σLC /L)*(Tm/△T)=319*6.618702731453*10*25.2*25)+(-cm =8.59*10-9m △G 均*=316πσLC 3*Tm/(L 2*△T 2) =316π*262345319*)10*6.61870(2731453*10*10*25.2()+()-=6.95*10-17J3.2答: 从理论上来说,如果界面与金属液是润湿得,则这样的界面就可以成为异质形核的基底,否则就不行。
晶体生长原理

晶体生长原理晶体生长是指晶体在适当条件下从溶液或气相中吸收物质并逐渐增大的过程。
晶体生长是固体物理学和化学中的一个重要研究领域,对于材料科学、地质学、生物学等领域都具有重要意义。
晶体生长的原理涉及到热力学、动力学、表面化学等多个方面的知识,在实际应用中也有着广泛的应用价值。
晶体生长的原理可以归纳为以下几个方面:1. 原子或分子的扩散。
晶体生长的第一步是溶液或气相中的原子或分子通过扩散运动到达晶体表面。
这一过程受到温度、浓度梯度、表面形貌等多种因素的影响。
原子或分子在溶液或气相中的扩散速率决定了晶体生长的速度和形貌。
2. 晶体表面的吸附和解吸。
当原子或分子到达晶体表面时,它们会发生吸附和解吸的过程。
吸附是指原子或分子附着在晶体表面,解吸则是指原子或分子从晶体表面脱离。
吸附和解吸的平衡状态决定了晶体表面的活性,进而影响晶体生长的速率和形貌。
3. 晶体生长的动力学过程。
晶体生长的动力学过程包括原子或分子在晶体表面的扩散、吸附、解吸等过程,以及晶体内部的结构调整和排列。
这一过程受到温度、浓度、界面能等因素的影响,对晶体生长的速率和形貌起着决定性作用。
4. 晶体生长的形貌控制。
晶体生长的形貌受到晶体生长条件和晶体本身特性的影响。
在实际应用中,通过调控溶液或气相中的成分、温度、pH值等条件,可以实现对晶体生长形貌的控制,获得特定形状和尺寸的晶体。
总的来说,晶体生长是一个复杂的过程,受到多种因素的影响。
在实际应用中,通过深入研究晶体生长的原理,可以实现对晶体生长过程的控制,获得具有特定形貌和性能的晶体材料,为材料科学和其他领域的发展提供重要支持。
同时,对晶体生长原理的深入理解也有助于揭示自然界中晶体的形成和演化规律,对地质学、生物学等领域的研究具有重要意义。
晶体生长ppt
晶体缺陷与晶体的物理性质之间存在密切关系。例如,位错 密度越高,材料的强度和韧性越差;空位浓度越高,材料的 导电性越差等。通过对晶体缺陷的控制和优化,可以改善材 料的性能。
03
晶体生长的化学基础
化学键与晶体结构
共价键
01
共价键是原子间通过共享电子对而形成的强相互作用力,它决
定了晶体的结构和化学性质。
固相生长是指通过固态物质之间的反应或扩散过 程,形成新的固态晶体的过程,包括机械研磨法 、热压烧结法等。
晶体生长的应用
1
晶体生长在材料科学和物理学领域具有广泛的 应用价值,如制备高性能材料、制造光学器件 、制备半导体材料等。
2
在能源领域,晶体生长技术也被广泛应用于太 阳能电池、燃料电池等新能源器件的制造过程 中。
04
晶体生长方法
气相生长法
物理气相沉积法
包括真空蒸发、激光烧蚀等,通过 在真空中蒸发原料,使原料原子或 分子沉积在基底表面形成晶体。
化学气相沉积法
通过化学反应的方式,使用气体原 料在基底表面形成晶体。
气相生长法的优点
可以生长出高质量、大尺寸的单晶 ,同时具有高沉积速率。
气相生长法的缺点
需要高真空设备,生产成本较高, 且生长速度较慢。
3
同时,晶体生长技术还可以应用于生物医学领 域,如制备生物材料、药物传递等。
02
晶体生长的物理基础
晶体的结构与性质
晶体结构
晶体具有格子构造,原子或分子在空间中按照一定的规律重复排列。不同的 晶体结构具有不同的物理性质,如硬度、导电性、光学特性等。
晶体对称性
晶体具有对称性,即晶体的形状和内部结构可以在空间中重复出现。这种对 称性也影响了晶体的物理性质。
《晶体生长》PPT课件
如水在温度低于零摄氏度时结晶成冰;金属熔体冷却到熔点以 下结晶成金属晶体。
可生长纯度高,体积大,完整性好的单晶体,而且生长速度 快,是制取大直径半导体单晶最主要的方法
我国首台12英寸单晶炉研制成功 (070615),所制备的硅单晶主要
用202于1/4/集25 成电路元件和太阳能电池
5
(3)气相生长:气体固体
而从生长方式来说,可分为水平生长、垂直生长
和晶体的拉制等。
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42
• 单晶硅圆片按其直径分为6英寸、8英寸、12英寸 (300毫米)及18英寸(450毫米)等。
• 直径越大的圆片,所能刻制的集成电路越多,芯 片的成本也就越低。但大尺寸晶片对材料和技术 的要求也越高。
• 单晶硅按晶体生长方法的不同,分为直拉法(CZ Czochralski )、区熔法( FZ,Float-Zone )和外延 法。
• 固体与晶体的转化:转变潜热 • 固体与液体的转化:熔解潜热 • 液体与气体的转化:蒸发潜热 • 固体与气体的转化:升华潜热 • 任一潜热L都与系统压力、体积、温度等条件有关
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11
3.晶核的形成(理解)
• 热力学条件满足后,晶体开始生长 • 晶体生长的一般过程是先形成晶核,然后再
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18
1)晶核形成时,系统自由能变化组成
晶体生长方法简介课件
02
晶体生长的热力学条件
熔体中的溶解与析
溶解过程
在高温下,物质被加热并溶解成 液态。在溶解过程中,晶体物质 与其他物质混合,形成均匀的溶
液。
析出过程
当溶液冷却时,溶解的物质开始 以晶体的形式析出。析出的晶体 通常具有与原始溶液中相同的化
学组成和结构。
相平衡条件
在溶解和析出的过程中,需要满 足一定的相平衡条件。这些条件 包括温度、压力和组成,以确保 物质在溶液和晶体之间的转移是
晶体生长的环保与节能问题
节能技术
01
环保材料
02
废弃物处理
03
THANK YOU
05
晶体生长的设备及应用
水平管式炉
结构特点
工作原理 优缺点
立式炉
01
结构特点
02 工作原理
03 优缺点
悬浮炉
结构特点
工作原理
优缺点
连熔炉
结构特点
工作原理
优缺点
应用举例:LED晶体生长
LED晶体生长是晶体生长领域的一个重要应用方向,主要使用水平管式炉、立式炉和连熔炉 等设备。
LED晶体生长要求设备精度高、稳定性好、生产效率高,同时需要严格控制工艺参数,如温 度、时间、气氛等。
LED晶体生长的原料一般为化合物半导体材料,如GaN、InGaN等,这些材料具有宽禁带、 高发光效率等优点,是LED照明、显示等领域的重要基础材料。
06
晶体生长的最新研究进展及挑战
新型晶体生长方法研究
激光诱导晶体生长 化学气相沉积法 外延生长法
晶体生长过程的数值模拟与优化
计算机建模与仿真 量子力学计算 材料基因工程
晶体生方法介件
01
晶体生长机理PPT课件
非平衡材料研究室
• A single molecule is denoted by C60 .
西安理工大学
非平衡材料研究室
• Each molecule is composed of groups of carbon atoms that are bonded to one another to form both hexagon (six-carbon atom) and pentagon (five-carbon atom) geometrical configurations.
• 应用:
滤波器、谐振器、光偏转器、测压元件等。
西安理工大学
非平衡材料研究室
(8)闪烁晶体
• 定义:
当射线或放射性粒子通过晶体时,晶体会 发出荧光脉冲,这类晶体为闪烁晶体。
• 应用:
核医学、核技术、空间物理等。
西安理工大学
非平衡材料研究室
(9)半导体晶体
• 定义:
电阻率处于导电体(10 - 5 .cm)和绝缘 体(1010 .cm )之间的晶体为半导体晶体。
• 应用:
光通讯、光开关、大屏幕显示、光储存、 光雷达和光计算机等。
西安理工大学
非平衡材料研究室
• 要求:
在使用的波长范围内,对光的吸收和散射要小、 电阻率要大、介电损耗角要小、化学稳定、机械和 热性能好、半波电压低等。
西安理工大学
非平衡材料研究室
(4)声光晶体
• 定义:
超声波通过晶体时,在晶体中产生随时间变化 的压缩和膨胀区域,使晶体的折射率发生周期性变 化,形成超声导致的折射率光栅,当光通过折射率 周期性变化的晶体时,将受到光栅的衍射,产生声 光相互作用。这类晶体为声光晶体。
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Fundamentals of Crystalization
3 Fundamentals of Crystalization
3.1 经典形核理论 3.2 固-液界面结构 3.3 晶体生长 3.4 凝固过程溶质的分配 3.5 固-液界面的稳定性 3.5 多相合金的结晶
3.3 Crystal Growth
物
粗糙界面非小平面生长的一次晶 p60图3.18
奥氏体 枝状晶
Al基固 溶体枝 状晶
温度对晶体形貌影响
生长均匀、连续的粗糙界面, • 正温度梯度下,晶体生长,界面形貌? • 负温度梯度下,晶体生长,界面形貌?
温度对晶体形貌影响
生长均匀、连续的粗糙界面, • 正温度梯度下界面稳定,应以平面推进。 • 负温度梯度下晶体快速向内部生长,界面不稳
脱氧铜(99.9%Cu),退火组织,单α相
生长速度
• 生长就是固-液界面向液相的推进。 • 长大速度取决于
– 温度条件G (结晶潜热的散失速度与散热) – 固-液界面结构 – 溶质离开固-液界面的扩散速度。 • 界面平均移动速度R与过冷度ΔT的函数关系。
粗糙界面
R 1 T
μ1为比例常数,对大多数金属,μ1≈1cm/sK
3.3 Crystal Growth
• 动力学过冷 • 生长机制 • 凝固形成的晶体缺陷 • 晶界 • 生长速率
晶界 Grain boundary
晶界:从不同的晶核长大的小晶体,取向各不相同。凝 固 结 束 时 , 两 个 晶 体 间 的 位 向 失 配 ( orientation mismatch),形成分隔这些小晶体的界面。
晶体生长:是液相中的原子向晶体表面迁 移和堆砌,短程序 长程有序, 固-液界面向液体中不断推移的过程。
• 晶体生长机制取决于S/L界面结构,对晶 体形貌有重要影响
3.3 Crystal Growth
• 动力学过冷 • 生长机制 • 凝固形成的晶体缺陷 • 晶界 • 生长速率
动力学过冷
kinetic undercooling
案例: SiC晶体在螺旋位错上呈螺旋线长大
晶体生长中导致位错产生的原因很多 ,如:
• 异质形核 • 生长过程的应力
包括热应力、成分应力、外力等。几度K的温 差就可以产生位错
• 偶然事件 如振动,未知的干扰
p63案例3.12:提拉法生长无位错Si单晶体
• 严格控制晶体生长,金属的位错可以保持在很 低的数值,非金属可以降低至零。
35
Al-4%Cu合金退火组织
The atoms in the grain boundary will not be in perfect crystalline arrangement.
Simulation of a gold quasi-cristalline grain boundary
36
案例:Si晶体生长-台阶生长模式
台阶生长基本模式之一层状生长方式,例:Si (001)
台阶生长基本模式之二- 颗粒状生长例:Si (111)
台阶生长基本模式之三 颗粒合并,层+粒
例: Si (111)
光滑界面小平面生长的一次晶 p58图3.16
初生Si 一次晶
SnSb合金中 一次晶: β’-SnSb化合
晶界的分类
根据位向失配的大小,晶界分为两种类型: • 小角晶界(low-angle bonudary) • 大角晶界(high-angle boundary)。
Low-angle GB
小角度晶界 θ= 3~10º,
由一列刃型位错组成;晶界自由能与θ成比例;
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High-angle GB
大角度晶界,θ>(10º-15º) ,多数金属为大角度晶界。
• 光滑界面小平面生长,各特定的 生长表面始终保持平整-小平面 ,晶体是由多个小平面组成,棱 角分明。如:在金属系统中,初 生相C,Si,和SnSb等
例2 在富Sn基体上的β’-SnSb化
合物(SnSb合金,白色方块)
粗糙界面非小平面生长 的枝状晶(一次晶)
光滑界面小平面生长的 一次晶
枝状晶晶体形貌
• 各种形式的点缺陷起着增大熵值的作用,在热力 学上都是稳定的
• 位错:位错是一种线状延伸的晶格缺陷-线状 缺陷。
• 位错的两种基本形态是刃型位错和螺型位错。 介于它们之间的称为混合型位错。
可以把刃型位错想象为点 阵中多余半个原子面。从 微观角度看,位错核心是 一个管形区域。其他部位 除引起晶格畸变外,原子 接近正常排列。
界面前沿两种温度条件
正温度梯度 负温度梯度
本节讨论温度条件限定在正温度梯度
生长机制
• 连续生长 continuous growth —粗糙界面生长机制
• 小平面生长 faceted growth —光滑界面生长机制
小平面生长faceted Growth
• 原子光滑界面生长时,原子沿台阶侧向沉积。因此 被称为侧向生长(lateral growth),或小平面生长 (faceted growth)。
1)
1 2
Hale Waihona Puke ssLS180
γLS ,,镜片状球状
2)
1 2
ss
LS
后凝固相完全湿润晶 体,毛细管作用力驱 使熔体进入晶界,呈 薄带状,形成网络结 构。
后凝相的形貌
θ<90° p69案例3.18
θ=180° p68案例3.16
θ不存在, p69案例3.17
例题
在钢中的FeS,低熔点,是后凝相。已知
34
金属通常为多晶体 Grain sizes vary from 1 µm to 1 mm
The grains of this hypereutectoid ironcarbon alloy are packed in a similar way to the bubbles in the previous photographs
41
铁掺杂SrTiO3的一个周界 (超级显微镜)
42
Structure of Grain Boundaries
Grain boundaries have complicated
structures
Nano-grain of gold
43
晶界界面张力的平衡
• 界面张力总是力图维持界面处于平衡。 其结果将妨碍晶界转向最低能量位置, 而维持一种亚稳平衡状态。
1 2
ss
LS
问题: 1) FeS在晶界的分布形态?
2) FeS脆性大,降低钢的力学性能,改 进办法?
例题
解答:
1) 由于
1
2
ss
LS
FeS呈网状分布在晶界,
2)加Mn形成MnS,,改变了界 面张力平衡,形貌网状( FeS ) 颗粒状( MnS )。
稳定的晶界形貌
从二维角度,考虑张力平衡,考虑Gibbs-Thompson 效应,六边结构为亚稳结构, =120,晶界为直线。 小于六边的将自动缩小,大于六边晶粒将长大。
动力学过冷度Tk:晶体长大时,在界面 处所必须的过冷度。 取值大小与S/L界面结构和能量有关。
Tk Tm Ti 0
Ti - L-S 界面温度 Tm -平衡熔点
为什么晶体生长需要Tk ?
凝固中,L-S界面处原子迁移是一个动态过程。
原子从SL,熔化(melt); 原子从LS,凝固(solidify)。
dn dn
,
Ti Tm
(
dt
)m
( dt
)s
可以证明(略),只有当界面上的液相 温度Ti低于Tm,即有一个过冷度Tk时,
(
dn dt
)
m
(
dn dt
)
s
3.3 Crystal Growth
• 动力学过冷 • 生长机制 • 凝固形成的晶体缺陷 • 晶界 • 生长速率
• 晶体(single component)长大主要受两个 条件控制:
• 原子光滑界面生长有强烈的晶体学取向,凝固时倾 向在低指数密排面生长。因为这种晶面上原子间结 合力较强。
• 生长过程的缺陷机理:缺陷造成的界面台阶提供生 长台阶,在晶体生长时总要形成生长缺陷,包括螺 形位错和孪晶等。
• Tk ≈1~2ºK
连续生长Continuous Growth
• 粗糙界面有很多位置适合生长, 或者讲,有很多台阶。生长比光 滑界面要容易得多。界面的推进 是比较均匀的。它的生长被称为 连续生长(continuous growth), 或非小平面生长(non-faceted growth)。
• 实验研究表明,粗糙界面的自由 能没有晶体学取向,即各向同性。
• 生长速度决定于散热速度和扩散 速度。 Tk≈0.01~0.05ºK
小平面和连续生长的晶体形貌 -界面结构的影响
• 大多数金属初生相形成粗 糙界面,在通常的凝固条 件下是枝状晶。在金相观 察时,界面的微观表面是 光滑的。
例1:MoCuMg大断面球墨铸 铁A枝晶 X200,SEM
• 在界面连接点处,存在界面张力平衡。
晶界界面张力的平衡
根据正弦定律,可证明
12 23 13 sin12 sin 23 sin13
1
13
23
12
13
2
12
23
3
在界面连接点处,存在界面张力平衡。
最后凝固相形貌
grain 1
ss
grain 2
Ls L
Ls
ss
2 LS
cos 2
角由ss和LS决定。
定;形貌为枝状晶。
3.3 Crystal Growth
• 动力学过冷 • 生长机制 • 凝固形成的晶体缺陷 • 晶界 • 生长速率