材料科学基础晶体缺陷
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《材料科学基础》课件之第四章----04晶体缺陷

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刃位错:插入半原子面,位错上方,原子间距变小, 产生压应变,下方原子间距变大,拉应变。过渡处 切应变,滑移面处有最大切应力,正应力为0。x NhomakorabeaGb
2 (1 )
y(3x2 (x2
y2) y2 )2
y
Gb
2 (1
)
y(x2 y2) (x2 y2)2
z ( x y )
x
xy
Gb
2 (1 )
21
刃位错b与位错线 垂直
螺位错b与位错线 平行
bb
l
l
正
负
b
b
右旋
左旋
任意一根位错线上各点b相同,同一位错只有一个b。
有大小的晶向指数表示
b a [uvw] 模 n
b a u2 v2 w2 n
22
Burgers矢量合成与分解:如果几条位错线在晶体内
部相交(交点称为节点),则指向节点的各位错的伯氏矢量 之和,必然等于离开节点的各位错的伯氏矢量之和 。
不可能中断于晶体内部(表面露头,终止与 晶界和相界,与其他位错相交,位错环)
半原子面及周围区域统称为位错
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2. 螺位错
晶体在大于屈服值的切应力作用下,以某晶面为滑移面发生滑移。由于位错线周围 的一组原子面形成了一个连续的螺旋形坡面,故称为螺位错。
几何特征:位错线与原子滑移方向相平行;位错线周围原子的配置是螺旋状的。
d
34
六、位错应变能
位错原子偏移正常位置,产生畸变应力, 处于高能量状态,但偏移量很小,晶格为弹 性应变。
位错心部应变较大,超出弹性范围, 但这部分能量所占比例较小, <10%,可以近似忽略。
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1. 理论基础:连续弹性介质模型
《材料科学基础》教学中的晶体缺陷

《材料科学基础》教学中的晶体缺陷
晶体缺陷是晶体中的异常结构,它可以影响晶体的物理性质和力学性质。
在《材料科学基础》教学中,学生需要了解以下关于晶体缺陷的内容:
1. 晶体缺陷的分类:晶体缺陷可以分为内部缺陷和表面缺陷,内部缺陷包括缺位缺陷、离子缺陷、晶界缺陷、层缺陷等,而表面缺陷则包括裂纹、气孔、氧化物等。
2. 晶体缺陷的形成机制:晶体缺陷的形成可以由晶体原子或离子的迁移、晶体原子或离子的排斥、晶体原子或离子的结晶不足、晶体原子或离子的结晶过度等机制来解释。
3. 晶体缺陷的影响:晶体缺陷可以影响材料的物理性质和力学性质,例如热导率、电导率、磁导率等,以及材料的强度、韧性、硬度等。
4. 晶体缺陷的检测方法:常用的晶体缺陷检测方法包括X射线衍射、扫描电子显微镜、拉曼光谱、热扩散系数测定等。
材料科学基础第三章晶体缺陷

够的能量而跳入空位,并占据这个平衡位置,这时在这个原 子的原来位置上,就形成一个空位。这一过程可以看作是空 位向邻近结点的迁移。
在运动过程中,当间隙原子与一个空位相遇时,它将落入
这个空位,而使两者都消失,这一过程称为复合,或湮没。
(a)原来位置;
(b)中间位置;
(c)迁移后位置
图 空位从位置A迁移到B
2 Ar a 3 N A 8.57 (3.294108 )3 6.0231023 x 1 2 Ar 2 92.91 7.1766103 106 7.1766103 7176 .6(个) 所以, 106 个Nb中有7176 .6个空位。
a NA
作业:
二.本章重点及难点 1、点缺陷的形成与平衡浓度 2、位错类型的判断及其特征、伯氏矢量的特征和物理意义 3、位错源、位错的增殖(F-R源、双交滑移机制等)和运动、 交割
4、关于位错的应力场可作为一般了解
5、晶界的特性(大、小角度晶界)、孪晶界、相界的类型
维纳斯“无臂” 之美更深入人心
处处留心皆学问
2.点缺陷的形成(本征缺陷的形成)
点缺陷形成最重要的环节是原子的振动 原子的热振动
(以一定的频率和振幅作振动)
原子被束缚在它的平衡位置上,但原子却在做着挣脱
束缚的努力
点缺陷形成的驱动力:温度、离子轰击、冷加工
在外界驱动力作用下,哪个原子能够挣脱束缚,脱离
平衡位置是不确定的,宏观上说这是一种几率分布
刃型位错的特点:
1).刃型位错有一个额外的半原子面。其实正、负之分只具 相对意义而无本质的区别。 2).刃型位错线可理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界 线。它不一定是直线,也可以是折线或曲线,但它必与滑移 方向相垂直,也垂直于滑移矢量。
材料科学基础--第2章晶体缺陷PPT课件

辐照:在高能粒子的辐射下,金属晶体点阵上的原子 可能被击出,发生原子离位。由于离位原子的能量高, 在进入稳定间隙之前还会击出其他原子,从而形成大量 的间隙原子和空位(即弗兰克尔缺陷)。在高能粒子辐 照的情况下,由于形成大量的点缺陷,而会引起金属显 著硬化和脆化,该现象称为辐照硬化。
12
2.1.5点缺陷与材料行为
Or, there should be 2.00 – 1.9971 = 0.0029 vacancies per unit cell. The number of vacancies per cm3 is:
17
Other Point Defects
Interstitialcy - A point defect caused when a ‘‘normal’’ atom occupies an interstitial site in the crystal.
11
2.1.4 过饱和点缺陷
晶体中的点缺陷浓度可能高于平衡浓度,称为过饱和点 缺陷,或非平衡点缺陷。获得的方法:
高温淬火:将晶体加热到高温,然后迅速冷却(淬火 ),则高温时形成的空位来不及扩散消失,使晶体在低 温状态仍然保留高温状态的空位浓度,即过饱和空位。
冷加工:金属在室温下进行冷加工塑性变形也会产生 大量的过饱和空位,其原因是由于位错交割所形成的割 阶发生攀移。
6
2.1.1 分类
3.置换原子(Substitutional atom) 异类原子代换了原有晶体中的原子,而处于晶体点阵的结 点位置,称为置换原子,亦称代位原子。 各种点缺陷,都破坏了原有晶体的完整性。它们从电学
和力学这两个方面,使近邻原子失去了平衡。空位和直 径较小的置换原子,使周围原子向点缺陷的方向松弛, 间隙原子及直径较大的置换原子,把周围原子挤开一定 位置。因而在点缺陷的周围,就出现了一定范围的点阵 畸变区,或称弹性应变区。距点缺陷越远,其影响越小 。因而在每个点缺陷的周围,都会产生一个弹性应力场 。
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2.1.5点缺陷与材料行为
Or, there should be 2.00 – 1.9971 = 0.0029 vacancies per unit cell. The number of vacancies per cm3 is:
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Other Point Defects
Interstitialcy - A point defect caused when a ‘‘normal’’ atom occupies an interstitial site in the crystal.
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2.1.4 过饱和点缺陷
晶体中的点缺陷浓度可能高于平衡浓度,称为过饱和点 缺陷,或非平衡点缺陷。获得的方法:
高温淬火:将晶体加热到高温,然后迅速冷却(淬火 ),则高温时形成的空位来不及扩散消失,使晶体在低 温状态仍然保留高温状态的空位浓度,即过饱和空位。
冷加工:金属在室温下进行冷加工塑性变形也会产生 大量的过饱和空位,其原因是由于位错交割所形成的割 阶发生攀移。
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2.1.1 分类
3.置换原子(Substitutional atom) 异类原子代换了原有晶体中的原子,而处于晶体点阵的结 点位置,称为置换原子,亦称代位原子。 各种点缺陷,都破坏了原有晶体的完整性。它们从电学
和力学这两个方面,使近邻原子失去了平衡。空位和直 径较小的置换原子,使周围原子向点缺陷的方向松弛, 间隙原子及直径较大的置换原子,把周围原子挤开一定 位置。因而在点缺陷的周围,就出现了一定范围的点阵 畸变区,或称弹性应变区。距点缺陷越远,其影响越小 。因而在每个点缺陷的周围,都会产生一个弹性应力场 。
《材料科学基础》 第03章 晶体缺陷

第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
刃位错的攀移运动:刃型位错在垂直于滑移面方向上的运动。 刃位错发生攀移运动时相当于半原子面的伸长或缩短,通常把 半原子面缩短称为正攀移,反之为负攀移。 滑移时不涉及单个原子迁移,即扩散。刃型位错发生正攀 移将有原子多余,大部分是由于晶体中空位运动到位错线上的 结果,从而会造成空位的消失;而负攀移则需要外来原子,无 外来原子将在晶体中产生新的空位。空位的迁移速度随温度的 升高而加快,因此刃型位错的攀移一般发生在温度较高时;另 外,温度的变化将引起晶体的平衡空位浓度的变化,这种空位 的变化往往和刃位错的攀移相关。切应力对刃位错的攀移是无 效的,正应力的存在有助于攀移(压应力有助正攀移,拉应力 有助负攀移),但对攀移的总体作用甚小。
第一节 材料的实际晶体结构
二、晶体中的缺陷概论
晶体缺陷按范围分类:
1. 点缺陷 在三维空间各方向上尺寸都很小,在原 子尺寸大小的晶体缺陷。
2. 线缺陷 在三维空间的一个方向上的尺寸很大(晶 粒数量级),另外两个方向上的尺寸很小(原子尺 寸大小)的晶体缺陷。其具体形式就是晶体中的 位错Dislocation 。
说明:这是一个并不十分准确的定义方法。柏氏矢量的方向与位错线方向的定义有关,应该首 先定义位错线的方向,再依据位错线的方向来定柏氏回路的方向,再确定柏氏矢量的方 向。在专门的位错理论中还会纠正。
第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
柏氏矢量与位错类型的关系:
刃型位错 柏氏矢量与位错线相互垂直。(依方向关系可 分正刃和负刃型位错) 螺型位错 柏氏矢量与位错线相互平行。(依方向关系可 分左螺和右螺型位错) 混合位错 柏氏矢量与位错线的夹角非0或90度。
过饱和空位 晶体中含点缺陷的数目明显超过平衡 值。如高温下停留平衡时晶体中存在一平衡空位, 快速冷却到一较低的温度,晶体中的空位来不及移 出晶体,就会造成晶体中的空位浓度超过这时的平 衡值。过饱和空位的存在是一非平衡状态,有恢复 到平衡态的热力学趋势,在动力学上要到达平衡态 还要一时间过程。
无机材料科学基础 第三章晶体结构缺陷

2、造成晶体结构缺陷的原因:
实际晶体温度总是高于绝对零度(热缺陷) 实际晶体总是有限大小(表面/界面缺陷) 实际晶体总是含有或多或少的杂质(外来缺陷)
缺陷就是对于理想晶体结构的偏离
第三章晶体结构缺陷一
3、缺陷对于晶体的影响
影响晶体的电学以及力学性能 影响晶体内部质点的扩散 影响晶体的烧结和化学反应活性 形成非化学计量物质,改变材料的物理化学性能
杂质原子(掺杂原子)其量一般小于0.1%,进入主晶格后,因杂 质原子和原有的原子性质不伺,故它不仅破坏了原子有规则的 排列,而且在杂质原子周围的周期势场引起改变,因此形成一 种缺陷。
特点: A 杂质原子又可分为间隙杂质原子及置换杂质原子两种。前者
是杂质原子进入固有原子点阵的间隙中;后者是杂质原子替代 了固有原子。杂质原子在晶格中随机分布,不形成特定的结构。 B 晶体中杂质原子含量在未超过其固溶度时,杂质缺陷的浓度 与温度无关,这与热缺陷是不同的。
点缺陷的名称→
□←点缺陷所带的 有效电荷
× 中性 ● 正电荷
' 负电荷
○←点缺陷在晶体中占的位置
第三章晶体结构缺陷二
( X原1)子空空位位:。用VM和Vx分别表示M原子空位和
(2)填隙原子:用Mi和Xi表示。 (3)错放位置:Mx表示M原子错放在X位置。 (4)溶质原子: LM表示L溶质处在M位置。 (5)自由电子及电子空穴:有些电子不一定
(1)弗伦克尔缺陷: 弗伦克尔缺陷可以看作是正常格点 离子和间隙位置反应生成间隙离子和空位的过程。
正常格点离子+未被占据的间隙位置〓间隙离子+空位
第三章晶体结构缺陷二
•例如在AgBr中,弗伦克尔缺陷的生成可写成:AgAg+Vi=Agi´+VAg · •由质量作用定律,
实际晶体温度总是高于绝对零度(热缺陷) 实际晶体总是有限大小(表面/界面缺陷) 实际晶体总是含有或多或少的杂质(外来缺陷)
缺陷就是对于理想晶体结构的偏离
第三章晶体结构缺陷一
3、缺陷对于晶体的影响
影响晶体的电学以及力学性能 影响晶体内部质点的扩散 影响晶体的烧结和化学反应活性 形成非化学计量物质,改变材料的物理化学性能
杂质原子(掺杂原子)其量一般小于0.1%,进入主晶格后,因杂 质原子和原有的原子性质不伺,故它不仅破坏了原子有规则的 排列,而且在杂质原子周围的周期势场引起改变,因此形成一 种缺陷。
特点: A 杂质原子又可分为间隙杂质原子及置换杂质原子两种。前者
是杂质原子进入固有原子点阵的间隙中;后者是杂质原子替代 了固有原子。杂质原子在晶格中随机分布,不形成特定的结构。 B 晶体中杂质原子含量在未超过其固溶度时,杂质缺陷的浓度 与温度无关,这与热缺陷是不同的。
点缺陷的名称→
□←点缺陷所带的 有效电荷
× 中性 ● 正电荷
' 负电荷
○←点缺陷在晶体中占的位置
第三章晶体结构缺陷二
( X原1)子空空位位:。用VM和Vx分别表示M原子空位和
(2)填隙原子:用Mi和Xi表示。 (3)错放位置:Mx表示M原子错放在X位置。 (4)溶质原子: LM表示L溶质处在M位置。 (5)自由电子及电子空穴:有些电子不一定
(1)弗伦克尔缺陷: 弗伦克尔缺陷可以看作是正常格点 离子和间隙位置反应生成间隙离子和空位的过程。
正常格点离子+未被占据的间隙位置〓间隙离子+空位
第三章晶体结构缺陷二
•例如在AgBr中,弗伦克尔缺陷的生成可写成:AgAg+Vi=Agi´+VAg · •由质量作用定律,
材料科学基础第三章 晶体缺陷

贵州师范大学
化学与材料科学学院
SCHOOL OF CHEMISTRY AND MATERIAL SCIENCE OF GUIZHOU NORMAL UNIVERSITY
贵州师范大学
化学与材料科学学院
二、点缺陷的产生 1. 平衡点缺陷及其浓度 虽然点缺陷的存在使晶体的内能增高,但 同时也使熵增加,从而使晶体的能量下降。因 此,点缺陷是晶体中热力学平衡的缺陷。 等温等容条件下,点缺陷使晶体的亥姆霍 A U T S 兹自由能变化为:
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三、点缺陷与材料行为 1. 点缺陷的运动 1)空位的运动
2)间隙原子的运动 3)空位片的形成
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第三章 晶体缺陷
CRYSTAL DEFECTS
点缺陷 位错的基本概念 位错的弹性性质 作用在位错线上的力 实际晶体结构中的位错 晶体中的界面
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一、点缺陷的类型
点缺陷的类型: (a) Schottky 空位; (b) Frenkel 缺陷; (c) 异类间隙原子; (d) 小置换原子; (e) 大置换原子
SCHOOL OF CHEMISTRY AND MATERIAL SCIENCE OF GUIZHOU NORMAL UNIVERSITY
晶体缺陷【材料科学基础】

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大角度晶界
¾ ¾ 9 9
大角度晶界的结构较复杂,其中原子排列较不规则。 有关大角度晶界的结构,人们曾提出许多模型: 早期:认为晶界是由一层很薄(几个原子间距)的非晶 质组成。 后来: 过渡结构模型:晶界原子分布同时受两相邻晶粒位向的 影响,处于折中位置。 小岛结构模型:晶界中的一部分原子与其相邻两边界的 点阵匹配排列,成为好区;有的部分(岛屿)原子排列 较混乱,成为坏区。好区与坏区交替相间组成晶界。
相界能低(畸变非常小)。
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半共格相界
定义:两相结构相近而原子 间距相差较大,在相界面上 出现了一些刃位错。(界面 上两相原子部分匹配) 相界能较高(有畸变)。相 界面上的原子共格关系主要 通过一组刃位错调整和维持。
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半共格相界上位错间距D取决于相界处两相匹配晶 面的错配度(δ) 。 相界两侧原子的不匹配程度
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晶界的性质
晶界能:形成单位面积晶界时所增加的能量。 ¾ 小角度晶界的晶界能: 小角度晶界的能量主要来自位错能量(形成位错的 能量和将位错排成有关组态所作的功),而位错密 度又决定于晶粒间的位向差,所以,小角度晶界能 也和位向差有关:
20
可见,小角度晶界的界面能随位向差增加而增大。
21
大角度晶界的晶界能: 9 基本恒定,约在0.25~1.0J/m2范围内,与晶粒 之间的位向差无关。 9 晶界能可以界面张力的形式来表现,且可以通过界 面交角的测定求出它的相对值。三个晶粒相交于一 点,界面张力达到平衡时:
9
界面结构:溶质原子在大角度晶界中偏聚严重。
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¾ ¾ ¾ ¾ ¾
晶界的其它特性: 晶界的扩散激活能约为晶内的一半,晶界处原子的 扩散速度比在晶内快得多。 随温度升高,保温时间延长,晶界发生迁移,晶粒 要长大,晶界平直化;晶界可能熔化(过烧)。 新相易在晶界处优先形核(晶界能量高,原子活动 能力大)。 晶界具有较低的抗腐蚀能力。 晶界阻碍位错运动,使金属具有较高的塑变抗力。
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4) 改变材料的力学性能 空位移动到位错处可造成刃位 错的攀移,间隙原子和异类原子的存在会增加位错的 运动阻力。会使强度提高,塑性下降、
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第二节 点缺陷
三、空位的平衡浓度
空位形成能 空位的出现破坏了其周围的结合状态, 因而造成局部能量的升高,由空位的出现而高于没有 空位时的那一部分能量称为“空位形成能”。 空位的出现提高了体系的熵值
二、多晶体的组织 与性能:
组织:
性能: 组织敏感的性能 组织不敏感的性能
伪各向同性:多晶体材料中,尽管每个晶粒内部象单 晶体那样呈现各向异性,每个晶粒在空间取向是随机 分布,大量晶粒的综合作用,整个材料宏观上不出现 各向202异1/2/2性1 ,这个现象称为多晶体的伪各向同性。 6
第一节 材料的实际晶体结构
离原结点位置才能平衡,即造成小区域的晶格畸变。
效果
1) 提高材料的电阻 定向流动的电子在点缺陷处受到非 平衡力(陷阱),增加了阻力,加速运动提高局部温度 (发热)。
2) 加快原子的扩散迁移 空位可作为原子运动的周转站。
3) 形成其他晶体缺陷 过饱和的空位可集中形成内部的 空洞,集中一片的塌陷形成位错。
三、晶体中的缺陷概论
晶体缺陷:即使在每个晶粒的内部,也并不完全象 晶体学中论述的(理想晶体)那样,原子完全呈现 周期性的规则重复的排列。把实际晶体中原子排 列与理想晶体的差别称为晶体缺陷。晶体中的缺 陷的数量相当大,但因原子的数量很多,在晶体 中占有的比例还是很少,材料总体具有晶体的相 关性能特点,而缺陷的数量将给材料的性能带来 巨大的影响。
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第三节 位错的基本概念
线缺陷:在三维空间的一个方向上的尺寸很大(晶粒数量级),
另外两个方向上的尺寸很小(原子尺寸大小)的晶体缺陷。其 具体形式就是晶体中的位错Dislocation
一、位错的原子模型
将晶体的上半部分向左移动一个原子间距,再按原子的
结合方式连接起来(b)。除分界线附近的一管形区域例外,其
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第三节 位错的基本概念
四、位错的观察
位错密度
表示晶体中含有位错数量的参数。
位错密度ρ用单位体积位错线的总长度表示。 在金属材料中,退火状态下,接近平衡状态所得
到的材料,这时位错的密度较低,约在106的数量级; 经过较大的冷塑性变形,位错的密度可达1010--12
的数量级。详细内容到塑性变形一章再论述。
三、位错的运动
滑移面:过位错线并和柏氏矢量平行的平面 (晶面)是该位错的滑移面。
位错的滑移运动:位错在滑移面上的运动。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
1. 刃型位错的滑移运动:在图示的晶体上施加一切应力,当
应力足够大时,有使晶体上部向有发生移动的趋势。假如
晶体中有一刃型位错,显然位错在晶体中发生移动比整个
晶体移动要容易。因此,①位错的运动在外加切应力的作
用下发生;②位错移动的方向和位错线垂直;③运动位错
扫过的区域晶体的两部分发生了柏氏矢量大小的相对运动
(滑移);④位错移出晶体表面将在晶体的表面上产生柏氏
矢2021量/2/2大1 小的台阶。
21
第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
螺型位错的滑移:在图示的晶体上施加一切应力,当应力足够大 时,有使晶体的左右部分发生上下移动的趋势。假如晶体中有一 螺型位错,显然位错在晶体中向后发生移动,移动过的区间右边 晶体向下移动一柏氏矢量。因此,①螺位错也是在外加切应力的 作用下发生运动;②位错移动的方向总是和位错线垂直;③运动 位错扫过的区域晶体的两部分发生了柏氏矢量大小的相对运动 (滑移);④位错移过部分在表面留下部分台阶,全部移出晶体 的表20面21/2上/21 产生柏氏矢量大小的完整台阶。这四点同刃型位错22。
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第一节 材料的实际晶体结构
三、晶体中的缺陷概论
晶体缺陷按范围分类:
1. 点缺陷 在三维空间各方向上尺寸都很小,在原 子尺寸大小的晶体缺陷。
2. 线缺陷 在三维空间的一个方向上的尺寸很大(晶 粒数量级),另外两个方向上的尺寸很小(原子尺 寸大小)的晶体缺陷。其具体形式就是晶体中的 位错Dislocation
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第三节 位错的基本概念
四、位错的观察
位错在晶体表面的露头 抛光后的
试样在侵蚀时,由于易侵蚀而出现 侵蚀坑,其特点是坑为规则的多边 型且排列有一定规律。只能在晶粒 较大,位错较少时才有明显效果。
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薄膜透射电镜观察 将试 样减薄到几十到数百个原 子层(500nm以下),利用透 射电镜进行观察,可见到 位错线。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
综合位错的运动:以位错环为例来说明。在一个滑移面上存在 一位错环,如图所示,简化为一多边型。前后为刃位错,在切 应力τ的作用下,后部的半原子面在上方向后移动;前部的半 原子面在下方,向前运动。左右为螺位错,但螺旋方向相反, 左边向左,右边向右运动;其他为混合位错,均向外运动。所 有运动都使上部晶体向后移动了一个原子间距。所有位错移出 晶体,整个晶体上部移动了一个原子间距。可见无论那种位错, 最后达到的效果是一样的。如果外加切应力相反,位错环将缩 小,最后消失。位错环存在时,环所在区间原子已经偏后一原 子间距,环缩小到消失,表明这个偏移的消失,而环扩大表明 其他区间向后移动。可见位错的运动都将使扫过的区间两边的 原子层发生柏氏矢量大小的相对滑动。
他部分基本都是完好的晶体。在分界线的上方将多出半个原
子2面021/,2/21这就是刃型位错。
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第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子面, 再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列方式(转 90度),这也是刃型位错。
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3. 面缺陷 在三维空间的两个方向上的尺寸很大(晶
粒数量级),另外一个方向上的尺寸很小(原子尺
寸大小)的晶体缺陷。
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第二节 点缺陷
点缺陷:在三维空间各方向上尺寸都很小,在原子尺寸大小
的晶体缺陷。
一、点缺陷的类型 :
1) 空位 在晶格结点位置应有原子的 地方空缺,这种缺陷称为“空位”。
第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
刃、螺型位错滑移的比较:
①因为位错线和柏氏矢量平行,所以螺型位错可以有多个滑 移面,螺型位错无论在那个方向移动都是滑移。
②晶体两部分的相对移动量决定于柏氏矢量的大小和方向, 与位错线的移动方向无关。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
分析一位错环的运动
第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将晶体的上半部分向后
移动一个原子间距,再按原子
的结合方式连接起来(c),同样
除分界线附近的一管形区域例
外,其他部分基本也都是完好
的晶体。而在分界线的区域形
成一螺旋面,这就是螺型位错。
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第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子 面,再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列 方式(转90度),这也是刃型位错。
在位错线的周围存在内应力,例如刃型位错,在多余半原 子面区域为压应力,而缺少半原子面的区域存在着拉应力;在 螺位错周围存在的是切应力。所以位错周围存在弹性应变能。 可见由于位错的存在,在其周围存在一应力场,应力场的分布 有机会进一步学习时再分析。
螺型位错 柏氏矢量与位错线相互平行。(依方向关系可 分左螺和右螺型位错)
混合位错 柏氏矢量与位错线的夹角非0或90度。
柏氏矢量守恒:
①同一位错的柏氏矢量与柏氏回路的大小和走向无关。
②位错不可能终止于晶体的内部,只能到表面、晶界和其他位 错,在位错网的交汇点,必然
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第三节 位错的基本概念
位错的形式 :
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第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
确定方法: 首先在原子排列基本正常区域作一个包含位错的 回路,也称为柏氏回路,这个回路包含了位错发生的畸变。 然后将同样大小的回路置于理想晶体中,回路当然不可能 封闭,需要一个额外的矢量连接才能封闭,这个矢量就称 为该位错的柏氏(Burgers)矢量。
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第四节 位错的弹性特征
一、位错的应变能
位错线周围的原子偏离了平衡位置,处于较高的 能量状态,高出的能量称为位错的应变能,或简称位 错能。
来源:位错应变能主要是弹性应变能。弹簧或其他弹性体的弹
性位能0.5kx2。同样在单位体积内弹性位能,正应力引起的为 0.5σε,而切应力引起的为0.5τγ。
说明:这是一个并不十分准确的定义方法。柏氏矢量的方向与位错线方向的定义有关,应该首
先定义位错线的方向,再依据位错线的方向来定柏氏回路的方向,再确定柏氏矢量的方
向202。1/在2/2专1 门的位错理论中还会纠正。
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第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
柏氏矢量与位错类型的关系:
刃型位错 柏氏矢量与位错线相互垂直。(依方向关系可 分正刃和负刃型位错)
材料科学基础晶体缺陷
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第二章 晶体缺陷
➢材料的实际晶体结构 ➢点缺陷 ➢位错的基本概念 ➢位错的弹性特征 ➢晶体中的界面
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第一节 材料的实际晶体结构
一、多晶体结构
单晶体:
一块晶体材料,其内部 的晶体位向完全一致时,即 整个材料是一个晶体,这块 晶体就称之为“单晶体”, 实用材料中如半导体集成电 路用的单晶硅、专门制造的 金须和其他一些供研究用的 材料。
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第二节 点缺陷
三、空位的平衡浓度
空位形成能 空位的出现破坏了其周围的结合状态, 因而造成局部能量的升高,由空位的出现而高于没有 空位时的那一部分能量称为“空位形成能”。 空位的出现提高了体系的熵值
二、多晶体的组织 与性能:
组织:
性能: 组织敏感的性能 组织不敏感的性能
伪各向同性:多晶体材料中,尽管每个晶粒内部象单 晶体那样呈现各向异性,每个晶粒在空间取向是随机 分布,大量晶粒的综合作用,整个材料宏观上不出现 各向202异1/2/2性1 ,这个现象称为多晶体的伪各向同性。 6
第一节 材料的实际晶体结构
离原结点位置才能平衡,即造成小区域的晶格畸变。
效果
1) 提高材料的电阻 定向流动的电子在点缺陷处受到非 平衡力(陷阱),增加了阻力,加速运动提高局部温度 (发热)。
2) 加快原子的扩散迁移 空位可作为原子运动的周转站。
3) 形成其他晶体缺陷 过饱和的空位可集中形成内部的 空洞,集中一片的塌陷形成位错。
三、晶体中的缺陷概论
晶体缺陷:即使在每个晶粒的内部,也并不完全象 晶体学中论述的(理想晶体)那样,原子完全呈现 周期性的规则重复的排列。把实际晶体中原子排 列与理想晶体的差别称为晶体缺陷。晶体中的缺 陷的数量相当大,但因原子的数量很多,在晶体 中占有的比例还是很少,材料总体具有晶体的相 关性能特点,而缺陷的数量将给材料的性能带来 巨大的影响。
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第三节 位错的基本概念
线缺陷:在三维空间的一个方向上的尺寸很大(晶粒数量级),
另外两个方向上的尺寸很小(原子尺寸大小)的晶体缺陷。其 具体形式就是晶体中的位错Dislocation
一、位错的原子模型
将晶体的上半部分向左移动一个原子间距,再按原子的
结合方式连接起来(b)。除分界线附近的一管形区域例外,其
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第三节 位错的基本概念
四、位错的观察
位错密度
表示晶体中含有位错数量的参数。
位错密度ρ用单位体积位错线的总长度表示。 在金属材料中,退火状态下,接近平衡状态所得
到的材料,这时位错的密度较低,约在106的数量级; 经过较大的冷塑性变形,位错的密度可达1010--12
的数量级。详细内容到塑性变形一章再论述。
三、位错的运动
滑移面:过位错线并和柏氏矢量平行的平面 (晶面)是该位错的滑移面。
位错的滑移运动:位错在滑移面上的运动。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
1. 刃型位错的滑移运动:在图示的晶体上施加一切应力,当
应力足够大时,有使晶体上部向有发生移动的趋势。假如
晶体中有一刃型位错,显然位错在晶体中发生移动比整个
晶体移动要容易。因此,①位错的运动在外加切应力的作
用下发生;②位错移动的方向和位错线垂直;③运动位错
扫过的区域晶体的两部分发生了柏氏矢量大小的相对运动
(滑移);④位错移出晶体表面将在晶体的表面上产生柏氏
矢2021量/2/2大1 小的台阶。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
螺型位错的滑移:在图示的晶体上施加一切应力,当应力足够大 时,有使晶体的左右部分发生上下移动的趋势。假如晶体中有一 螺型位错,显然位错在晶体中向后发生移动,移动过的区间右边 晶体向下移动一柏氏矢量。因此,①螺位错也是在外加切应力的 作用下发生运动;②位错移动的方向总是和位错线垂直;③运动 位错扫过的区域晶体的两部分发生了柏氏矢量大小的相对运动 (滑移);④位错移过部分在表面留下部分台阶,全部移出晶体 的表20面21/2上/21 产生柏氏矢量大小的完整台阶。这四点同刃型位错22。
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第一节 材料的实际晶体结构
三、晶体中的缺陷概论
晶体缺陷按范围分类:
1. 点缺陷 在三维空间各方向上尺寸都很小,在原 子尺寸大小的晶体缺陷。
2. 线缺陷 在三维空间的一个方向上的尺寸很大(晶 粒数量级),另外两个方向上的尺寸很小(原子尺 寸大小)的晶体缺陷。其具体形式就是晶体中的 位错Dislocation
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第三节 位错的基本概念
四、位错的观察
位错在晶体表面的露头 抛光后的
试样在侵蚀时,由于易侵蚀而出现 侵蚀坑,其特点是坑为规则的多边 型且排列有一定规律。只能在晶粒 较大,位错较少时才有明显效果。
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薄膜透射电镜观察 将试 样减薄到几十到数百个原 子层(500nm以下),利用透 射电镜进行观察,可见到 位错线。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
综合位错的运动:以位错环为例来说明。在一个滑移面上存在 一位错环,如图所示,简化为一多边型。前后为刃位错,在切 应力τ的作用下,后部的半原子面在上方向后移动;前部的半 原子面在下方,向前运动。左右为螺位错,但螺旋方向相反, 左边向左,右边向右运动;其他为混合位错,均向外运动。所 有运动都使上部晶体向后移动了一个原子间距。所有位错移出 晶体,整个晶体上部移动了一个原子间距。可见无论那种位错, 最后达到的效果是一样的。如果外加切应力相反,位错环将缩 小,最后消失。位错环存在时,环所在区间原子已经偏后一原 子间距,环缩小到消失,表明这个偏移的消失,而环扩大表明 其他区间向后移动。可见位错的运动都将使扫过的区间两边的 原子层发生柏氏矢量大小的相对滑动。
他部分基本都是完好的晶体。在分界线的上方将多出半个原
子2面021/,2/21这就是刃型位错。
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第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子面, 再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列方式(转 90度),这也是刃型位错。
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3. 面缺陷 在三维空间的两个方向上的尺寸很大(晶
粒数量级),另外一个方向上的尺寸很小(原子尺
寸大小)的晶体缺陷。
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第二节 点缺陷
点缺陷:在三维空间各方向上尺寸都很小,在原子尺寸大小
的晶体缺陷。
一、点缺陷的类型 :
1) 空位 在晶格结点位置应有原子的 地方空缺,这种缺陷称为“空位”。
第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
刃、螺型位错滑移的比较:
①因为位错线和柏氏矢量平行,所以螺型位错可以有多个滑 移面,螺型位错无论在那个方向移动都是滑移。
②晶体两部分的相对移动量决定于柏氏矢量的大小和方向, 与位错线的移动方向无关。
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第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
分析一位错环的运动
第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将晶体的上半部分向后
移动一个原子间距,再按原子
的结合方式连接起来(c),同样
除分界线附近的一管形区域例
外,其他部分基本也都是完好
的晶体。而在分界线的区域形
成一螺旋面,这就是螺型位错。
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第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子 面,再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列 方式(转90度),这也是刃型位错。
在位错线的周围存在内应力,例如刃型位错,在多余半原 子面区域为压应力,而缺少半原子面的区域存在着拉应力;在 螺位错周围存在的是切应力。所以位错周围存在弹性应变能。 可见由于位错的存在,在其周围存在一应力场,应力场的分布 有机会进一步学习时再分析。
螺型位错 柏氏矢量与位错线相互平行。(依方向关系可 分左螺和右螺型位错)
混合位错 柏氏矢量与位错线的夹角非0或90度。
柏氏矢量守恒:
①同一位错的柏氏矢量与柏氏回路的大小和走向无关。
②位错不可能终止于晶体的内部,只能到表面、晶界和其他位 错,在位错网的交汇点,必然
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第三节 位错的基本概念
位错的形式 :
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第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
确定方法: 首先在原子排列基本正常区域作一个包含位错的 回路,也称为柏氏回路,这个回路包含了位错发生的畸变。 然后将同样大小的回路置于理想晶体中,回路当然不可能 封闭,需要一个额外的矢量连接才能封闭,这个矢量就称 为该位错的柏氏(Burgers)矢量。
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第四节 位错的弹性特征
一、位错的应变能
位错线周围的原子偏离了平衡位置,处于较高的 能量状态,高出的能量称为位错的应变能,或简称位 错能。
来源:位错应变能主要是弹性应变能。弹簧或其他弹性体的弹
性位能0.5kx2。同样在单位体积内弹性位能,正应力引起的为 0.5σε,而切应力引起的为0.5τγ。
说明:这是一个并不十分准确的定义方法。柏氏矢量的方向与位错线方向的定义有关,应该首
先定义位错线的方向,再依据位错线的方向来定柏氏回路的方向,再确定柏氏矢量的方
向202。1/在2/2专1 门的位错理论中还会纠正。
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第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
柏氏矢量与位错类型的关系:
刃型位错 柏氏矢量与位错线相互垂直。(依方向关系可 分正刃和负刃型位错)
材料科学基础晶体缺陷
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第二章 晶体缺陷
➢材料的实际晶体结构 ➢点缺陷 ➢位错的基本概念 ➢位错的弹性特征 ➢晶体中的界面
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第一节 材料的实际晶体结构
一、多晶体结构
单晶体:
一块晶体材料,其内部 的晶体位向完全一致时,即 整个材料是一个晶体,这块 晶体就称之为“单晶体”, 实用材料中如半导体集成电 路用的单晶硅、专门制造的 金须和其他一些供研究用的 材料。