集成电路布图设计专有权转让许可
集成电路布图设计专有权公告 - 知识产权网 中国知识产权报
布图设计登记号:BS.155001272
布图设计申请日:2015 年 1 月 28 日 公告日期:2015 年 5 月 15 日 公告号:10645 布图设计名称:BP9912 布图设计类别 结构:MOS 技术:CMOS 功能:线性 布图设计权利人： 上海晶丰明源半导体 有限公司 布图设计权利人国籍： 中国 布图设计权利人地址： 上海市浦东新区 张江高科技园区张衡路 666弄 B 栋 5楼 布图设计创作人： 高志勇、 唐海霞、 赵 艳群、 于得水、 胡黎强 布图设计创作完成日:2014 年 7 月 16 日 布图设计首次商业利用日:2014年11月 8日
布图设计登记号:BS.155000993
布图设计申请日:2015 年 2 月 6 日 公告日期:2015 年 5 月 15 日 公告号:10654 布图设计名称:400K 数模转换电路版图 布图设计类别 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他 布图设计权利人： 上海集成电路研发 中心有限公司 布图设计权利人国籍： 中国 布图设计权利人地址： 上海市浦东 新 区高斯路 497 号 布图设计权利人： 成都微光集电科技 有限公司 布图设计权利人国籍： 中国 布图设计权利人地址： 四川省成都市 高新区天府软件园 D 区 7 号楼 8 层 布图设计创作人： 雷军、 刘奕、 刘浩 代 理 机 构:上 海 天 辰 知 识 产 权 代 理 事 务所 （特殊普通合伙） 代理人:吴世华 布图设计创作完成日:2014 年 5 月 20 日
布图设计登记号:BS.155001043
布图设计申请日:2015 年 2 月 6 日 公告日期:2015 年 5 月 15 日 公告号:10659 布图设计名称:24M 锁相环电路版图 布图设计类别 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他 布图设计权利人： 上海集成电路研发 中心有限公司 布图设计权利人国籍： 中国 布图设计权利人地址： 上海市浦东 新 区高斯路 497 号 布图设计权利人： 成都微光集电科技 有限公司 布图设计权利人国籍： 中国 布图设计权利人地址： 四川省成都市 高新区天府软件园 D 区 7 号楼 8 层 布图设计创作人： 杨帆、 李琛、 范佳莹 代 理 机 构:上 海 天 辰 知 识 产 权 代 理 事 务所 （特殊普通合伙） 代理人:吴世华 布图设计创作完成日:2014 年 3 月 20 日
集成电路布图设计专有权的侵权判定
集成电路布图设计专有权的侵权判定集成电路布图设计是现代电子设计中不可或缺的一部分。
它可以实现在一个芯片上集成多个电路功能模块，从而提高电路的效率、可靠性和整体性能。
然而，由于其特殊性，集成电路布图设计也被视为一种知识产权，其专有权保护具有重要意义。
本文将探讨集成电路布图设计专有权的侵权判定问题。
一、集成电路布图设计的专有权1.1 集成电路布图设计的定义集成电路布图设计是指将电路的设计原理图转化为实际的电路版图的过程，包括元器件的布局、线路的连接和制造层次的确定，从而实现电路功能的实现。
1.2 集成电路布图设计的专有权集成电路布图设计依据我国《专利法》的规定，包括专利权和专有权两个方面，其中专有权也称为板块图设计权，属于著作权范畴。
专有权保护的是集成电路布图设计的图形表现，即设计师原创的布图图案。
1.3 集成电路布图设计的专有权保护标准根据我国《著作权法》相关规定，集成电路布图设计必须具备原创性、表达性和创作独立性的特征。
同时，由于集成电路布图设计具有实用性、技术性和创新性的特质，因此其保护标准要求相对较高，必须具有一定的独创性，且满足实际应用需求。
二、集成电路布图设计侵权2.1 集成电路布图设计侵权定义集成电路布图设计侵权是指没有获得设计权人同意，擅自使用、复制、出版、转载、展示、发行集成电路布图设计的行为。
2.2 集成电路布图设计侵权形式集成电路布图设计侵权形式多种多样，主要包括以下几种：（1）盗用他人的集成电路布图设计；（2）擅自修改、复制、利用他人的集成电路布图设计；（3）未获得专有权人的授权，利用和复制其设计；（4）贩卖、出售盗版集成电路布图设计；（5）抄袭他人的集成电路布图设计等。
2.3 集成电路布图设计侵权的法律责任针对集成电路布图设计专有权侵权行为，我国法律规定了针对性的法律法规。
依据相关法律规定，集成电路布图设计专有权的侵权行为需要承担民事、行政和刑事责任，具体如下：（1）民事责任对于侵犯他人集成电路布图设计专有权的行为，受害人可以依据《著作权法》相关法律规定，向法院提起民事诉讼，要求停止侵权、撤销侵权行为、赔偿损失等。
知识产权法全文版
知识产权法全文版知识产权法全文版是指法律文件中包含的对知识产权保护的相关法律条文和规定的完整版本。
以下是中华人民共和国的《中华人民共和国知识产权法》全文版：第一章总则第一条为了保护知识产权，保护和鼓励创造，推动科技进步和文化繁荣，维护社会公共利益，根据宪法，制定本法。
第二条本法所称知识产权，是指依法享有的对下列客体的专有权：(一) 对发明、实用新型、外观设计的专利权；(二) 对注册商标的专用权；(三) 对作品的著作权及与著作权有关的邻接权；(四) 对软件的著作权及与软件著作权有关的邻接权；(五) 对集成电路布图设计的专有权；(六) 法律规定的其他权利。
第三条中华人民共和国对知识产权实行保护制度。
国家采取各种措施，保护知识产权的创造、运用、转让和保护。
第二章专利第四条依法授予的发明专利权，是对新的技术在产品、方法或者是其改进上的创造和实施的专有权。
第五条依法授予的实用新型专利权，是对产品在形状、构造或者是其组合上的新的技术方案的专有权。
第六条依法授予的外观设计专利权，是对产品在其形状、纹饰或者是其组合上的新的设计的专有权。
第七条发明的授权条件是：（一）有新颖性；（二）有创造性；（三）能够被实施。
其他有关专利的条款和授权条件请参照详细法规。
第三章商标第十五条注册商标的产权，包括专用权和独占使用权，受法律保护。
第十六条商标的注册条件是：（一）商标有新的标志性特点；（二）商标能够区别商品或者是服务；（三）商标不得违反公共秩序，不得有欺骗性。
其他有关商标的条款和注册条件请参照详细法规。
第四章著作权第十八条作品的著作权是作者依法享有的权益。
第十九条作品的著作权自作品完成时产生。
第二十条作品的著作权包括：（一）原创作品的著作权；（二）改编作品的著作权；（三）翻译作品的著作权；（四）汇编作品的著作权；（五）注释作品的著作权；（六）其他法律规定的著作权。
其他有关著作权的条款和保护条件请参照详细法规。
第五章软件保护第三十一条软件著作权人对其软件享有著作权。
(整理)集成电路布图设计保护条例
集成电路布图设计保护条例Regulations for the Protection of Layout-design of Integrated Circuits第一章总则Chapter I General Provisions第一条为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。
Article 1 With a view to protecting the exclusive right of layout-design of integrated circuits, encouraging the innovation of integrated circuit technology and boosting the development of science and technology, the Regulations are hereby formulated as follows.第二条本条例下列用语的含义：Article 2 For the purpose of the Regulations:（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；(1) Integrated circuit means a semi-conductor integrated circuit, namely a product, in an intermediate form or its final form, in which the elements, at least one of which is an active element, and two or more of the interconnections are integrally formed in and/or on a piece of material and which is intended to perform an electronic function;（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；(2) Layout-design of integrated circuits (hereinafter referred to as layout-design) means thethree-dimensional disposition of the elements, at least one of which is an active element, and two or more of the interconnections of an integrated circuit, or such a three-dimensional disposition prepared for an integrated circuit for manufacture;（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；(3) Holder of right of layout-design means the natural person who, or the legal entity or any other organisation which, according to the provisions of the Regulations, enjoys the exclusive right in alayout-design;（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；(4) Reproduction means an act to repetitively produce a layout-design or integrated circuit incorporating the layout-design; and（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
集成电路布图设计专利转让协议书
集成电路布图设计专利转让协议书随着科技的发展，集成电路的应用范围越来越广泛，智能手机、电脑、服务器、汽车、航空航天等领域都离不开集成电路的支持。
而集成电路的布图设计专利作为一种重要的知识产权，也成为了众多企业追逐的宝贵财富。
下面我们来谈谈关于集成电路布图设计专利转让协议书的相关问题。
一、集成电路布图设计专利转让协议书的定义集成电路布图设计专利转让协议书，是指一个专利权利人将其拥有的集成电路布图设计专利的权利全部或部分转让给他人并达成的一份协议。
这是一种关于知识产权转让的法律文件，具有明确的法律效力。
二、集成电路布图设计专利转让协议书的主要内容1.专利权利人和受让人的信息在协议书中需要明确专利权利人和受让人的基本信息，包括姓名、身份证号码、住所地、联系电话等。
2.专利权的描述协议书还需要详细描述专利权的相关信息，包括专利号、专利名称、权利人名称、专利的技术领域、专利权利范围等。
3.转让方式和价格转让方式包括全权转让或部分转让，价格则需要在协议书中明确约定。
价格的确定需要考虑多方面因素，例如专利的价值、专利的行业前景以及市场情况等。
4.转让条件转让条件包括专利的使用条件和双方的保密协议。
专利的使用条件需要在协议书中明确约定，例如专利在何种用途下使用，是否可以再次转让，如何保护专利的知识产权等。
双方的保密协议则是为了保护专利技术的保密性，确保专利技术的机密性不泄露。
三、签署集成电路布图设计专利转让协议书的流程1.商议转让条件专利权利人和受让人在商议专利转让的条件时需要谈妥专利的价值、价格、转让方式、使用条件等相关事宜。
2.起草协议书在商定相关转让条件后，需要起草一份简洁明了的协议书，包括以上四点主要内容。
3.签署协议书双方对协议书内容进行审核后，确认无误后签署协议书。
协议书有效期和签署时间需在协议书中确定。
4.协议书的备案协议书签署完成后，应及时备案。
在我国，集成电路布图设计专利转让协议书需要由国家知识产权局备案，以确保专利的法律效力。
国际技术贸易8
三、计算机软件的贸易方式 (一)发行(销售软件复制件) 通用软件，即通用性强、用户范围广的软件包，多采用发 行方式。 20世纪80年代初，美国实行一种“启封许可合同”。 “启封许可合同”：就是软件销售商单方面将许可合同印 好，用透明薄膜封装在所发行的软件包装内，并另用显著标 题告知用户，启封后仔细阅读合同条款；如不同意，可以退 回软件；如同意，就必须遵守。这种合同节约交易成本，提 高了交易效率。
2.间接侵权 (1)复制或部分复制著作权人的软件的； (2)向公众发行、出租、通过信息网络传播著作权人 的软件的； (3)故意避开或者破坏著作权人为保护其软件著作权 而采取的技术措施的； (4)故意删除或者改变软件权利管理电子信息的； (5)转让或者许可他人行使著作权人的软件著作权的。
1．对直接侵权行为的处理 （1）侵权情节较轻的。对《计算机软件保护条例》第23条列 举的侵权行为，采取停止侵害、消除影响、赔礼道歉、赔偿损失等 民事责任处理方式。 （2）侵权情节较重的。对《计算机软件保护条例》第24条列 举的侵权行为，除上述按民事责任处理外，对侵权行为同时损害社 会公共利益的，由著作权行政管理部门责令停止侵权行为，没收非 法所得，没收、销毁侵权复制品，可以并处罚款。 (3)侵权情节严重的。著作权行政管理部门可以没收主要用于制作侵权 复制品的材料、工具、设备等。
(3)单位有犯罪行为的，对单位判处罚金，并对 其直接负责的主管人员和其他责任人员，依照规定 处罚； (4)对查获的侵权复制品，违法所得和用于侵犯著 作权犯罪的材料、工具、设备或者其他财物，一律 予以没收。 (5)犯罪造成被侵权人损失，除负刑事责任外，根 据情况依法判处赔偿损失。
计算机软件贸易的特点、 第三节 计算机软件贸易的特点、软件种类与贸易方 式
(四)委托开发软件 委托开发软件，是指计算机软件开发商(受托方) 通过签证委托协议，接受委托方(最终用户或出版商) 的委托，根据委招方的要求开发软件，简称“委托 软件”。 受托方一般要完成可行性研究、总体设计、详细 设计、编写程序、编写用户手册、测试安装、移交、 提供技术支持等。经验收合格，由委托方支付报酬。
论集成电路布图设计的法律保护
促进国际合作与协 调
加强对发展中国家 和地区的支持与援 助
推动技术进步和创 新发展
我国法律制度的完善方向
强化侵权行为的法律责任， 加大对侵权行为的打击力度。
建立更加完善的法律保护体 系，加强国际合作与交流。
完善集成电路布图设人的保护，提高权利人的维权
建立集成电路布图设计权利人合法 权益保障机制，提供法律援助和司 法救济途径。
完善行政保护的建议
制定专门的集成电路布图设计保护法规，明确保护标准和要求。 建立专门的集成电路布图设计行政审批和登记制度，确保权利的合法性和有效性。 加强行政执法力度，严厉打击侵犯集成电路布图设计知识产权的行为。 建立集成电路布图设计知识产权快速维权机制，为权利人提供更加便捷和高效的维权途径。
集成电路布图设计的法律 保护
目录
单击此处添加文本 集成电路布图设计概述 集成电路布图设计的国际法律保护 我国集成电路布图设计的法律保护现状
完善我国集成电路布图设计法律保护的建议
集成电路布图设计法律保护的未来展望
集成电路布图设计的定义
添加标题
集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路 的三维配置，或者为制造集成电路而准备的这样的三维配置。
《华盛顿公约》的保护
保护范围：涵盖集成电路布图设计的国际法律保护 成员国：要求成员国对来自其他成员国的集成电路布图设计提供法律保护 权利要求：承认集成电路布图设计为智力成果，并给予权利要求保护 保护期限：规定了对集成电路布图设计的最低保护期限
《欧共体条约》的保护
保护范围：包括集 成电路的布图设计 及其功能描述
添加标题
集成电路布图设计是对集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路 的三维配置，以及其中元件之间相互连接关系的设计。
其他知识产权之集成电路布图设计权
• 以上图表可以看出，布图设计专有权与著 作权相比更具有工业实用性，这是一般著 作权作品不具有的；同时其独创性又是一 般专利产品不具有的，而且又允许反向工 程，具有其自身特征。从保护期限看，也 仅有10 年，且创作完成15 年后将不受保护， 符合其技术更新较快的特点。特别值得指 出的是，条例允许“平行进口”。
集成电路布图设计权
• 集成电路布图设计权 • 集成电路布图设计权是一项独立的知识产 权，是权利持有人对其布图设计进行复制 和商业利用的专有权利。布图设计权的主 体是指依法能够取得布图设计专有权的人， 通常称为专有权人或权有以 下三种：登记制；有限的使用取得与 登记制相结合的方式；自然取得制。 关于布图设计权的保护期，各国法律 一般都规定为10年。
•
根据条例第24 条规定，“受保护的 布图设计… ，由布图设计权利人或者 经其许可投放市场后，他人再次商业 利用的，可以不经布图设计权利人许 可，并不向其支付报酬。”而按照条 例第2 条规定，商业利用是指“为商业 目的进口、销售或者以其他方式提供 受保护的布图设计… 的行为”。从而， 按照条例的规定，只要布图设计合法 投放市场后，权利在全世界用尽，可 以不经再次许可而进口、销售等。
•
集成电路布图设计专有权与著作权、发 明专利权保护的异同比较 • 集成电路布图设计专有权既不同于版 权，又不同于专利或商标，但其保护制度 既具有部分版权保护的特征，又具有部分 工业产权，特别是专利权保护的特征。这 一点从以下的图表中可以较清晰地表明：
• 电路布图设计权舆著作权及专利权对比
• 根据《关于集成电路的知识产权条约》的 要求，布图设计权的保护期至少为8年。 《知识产权协议》所规定的保护期则为10 年。我国《集成电路布图设计保护条例》 第十二条规定，布图设计专有权的保护期 为10年，自布图设计登记申请之日或者在 世界任何地方首次投入商业利用之日起计 算，以较前日期为准。但是，无论是否登 记或者投入商业利用，布图设计自创作完 成之日起15年后，不再受该条例保护。
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－研发项目、人员、组织、经费、产学研、持续的
在《国家重点支持的高新技术领域》内进行
研发和成果转化－电、生医、航、材、高服、能节、资环、高改
形成了企业核心自主知识产权－重点讲解
正常经营，注册一年以上
2018/11/21 7
(二)高新技术企业的条件－六要件
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（一）自主研发取得
通过自主研发获得的自主知识产权应当及时
通过“专利申请”、“软件著作权登记”等 程序将知识产权固定。 专利申请：代理质量问题 软件著作权登记：应用软件、PLC程序
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（二）专利受让取得
专利申请权和专利权可以转让。 中国单位或者个人向外国人转让专利申请权或者专
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① ② ③ ④ ⑤
3、核心自主知识产权评分标准（30分） 企业拥有的专利、软件著作权、集成电路布图设计专有权、 植物新品种等核心自主知识产权的数量（不含商标）。 □A. 6项，或１项发明专利 □B. 5项 □C. 4项， □D. 3项 □E. 1～2项 □F. 0项 [说明] 由专家对企业申报的核心自主知识产权是否符合《工作指引》 要求进行评判。 同一知识产权在国内外的申请、登记只记为一项。 若知识产权的创造人与知识产权权属人分离，在计算知识产 权数量时可分别计算。 专利以获得授权证书为准。 企业不具备核心自主知识产权的不能认定为高新技术企业。
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自主知识产权包括：发明、 实用新型、以及
非简单改变产品图案和形状的外观设计（主 要是指：运用科学和工程技术的方法，经过 研究与开发过程得到的外观设 计）、软件著 作版权、集成电路布图设计专有权、植物新 品种。
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发明、实用新型、外观设计专利可以到国家
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研究开发的组 20 织管理水平 成长性指标 20
合计
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100
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2、指标计算与赋值说明 ① 四项指标赋予不同的数值（简称“赋值”）；企业不拥有 ② ③
④
⑤
核心自主知识产权的赋值为零。 每项指标分数比例分为六个档次(A,B,C,D,E,F)，分别是： 0.80-1.0、0.60-0.79、0.40-0.59、0.20-0.39、0.01-0.19、 0； 各项指标实际得分＝本指标赋值分数比例；[例]某指标赋 值20，指标评价档次为“B”，分数比例评为0.7，则：实际 得分＝20分×0.7=14分 评价指标以申报之日前3个年度的数据为准。如企业创办期 不足3年，以实际经营年限为准。 各项指标的选择均为单选。
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华南 专利
四、自主知识产权的取得
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东莞市华南专利商标事务所有限公司
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在中国境内（不含港、澳、台地区）注册的
企业，近三年内通过自主研发、受让、受赠、 并购等方式，或通过5年以上的独占许可方式， 对其主要产品（服务）的核心技术拥有自主 知识产权。
集成电路布图设计 其他 植物新品种 商业秘密 其他
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华南 专利
二、知识产权与高新技术企业
一句话：“无知识产权无高新技术 企业”
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东莞市华南专利商标事务所有限公司
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华南 专利
三、高新技术企业莞市华南专利商标事务所有限公司
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《高新技术企业认定管理办法》第二条规定：
办法所称的高新技术企业是指在《国家重点 支持的高新技术领域》内，持续进行研究开 发与技术成果转化，形成企业核心自主知识 产权，并以此为基础开展经营活动，在中国 境内（不包括港、澳、台地区）注册一年以 上的居民企业。
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（一）对“高新技术企业”的理 解
知识产权 局网站查询专利标记和专利号来检 验专利的真实性。 对于软件企业的软件著作权，可以到国家版 权局中国 版权保护中心的网站查询软件著作 权标记，亦称版权标记，表明作品受著作权 保护的记号，检验其真伪。 关于技术诀窍和技术秘密的问题？
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（四）其他指标（合计100分）
1、核心自主知识产权
2、产品（服务）范围 3、企业科技人员和研究开发人员
4、研发费用
5、高新技术产品（服务）收入
6、其他指标
2018/11/21
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（三）核心自主知识产权
企业作为权利人在中国境内（不含港、澳、台地区）
注册的，近三年内通过自主研发、受让、受赠、并 购等方式获得，或通过5年以上的独占许可方式拥 有，对企业主要产品（服务）的核心技术发挥支持 作用的自主知识产权。 高新技术企业认定所指的核心自主知识产权须在中 国境内注册，或享有五年以上的全球范围内独占许 可权利 （高新技术企业的有效期应在五年以上的独 占许可期内），并在中国法律的有效保护期内。
利权的，必须经国务院有关主管部门批准----由国务 院对外经济贸易主管部门会同国务院科学技术行政 部门批准。 转让专利申请权或者专利权的，当事人应当订立书 面合同，并向国务院专利行政部门登记，由国务院 专利行政部门予以公告。 专利申请权或者专利权的转让自登记之日起生效。
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华南 专利
高新技术企业认定辅导之 知识产权部分 第二版
黄仁东
2018/11/21
东莞市华南专利商标事务所有限公司
1
华南 专利
一、知识产权的概述
2018/11/21
东莞市华南专利商标事务所有限公司
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概述
发 专利 工业产权 商标 明 实用新型 外观设计
知识产权
著作权（包括计算机软件）
（三）专利许可取得
任何单位或者个人实施他人专利的，应当与
1、知识产权、科技成果转
化能力、研究开发的组织管 理水平、成长性指标等四项 指标，用于评价企业利用科 技资源进行创新、经营创新 和取得创新成果等方面的情 况。该四项指标采取加权记 分方式，须达到70分以上 （不含70分）。四项指标 权重结构详见右表：
序号
1 2
指 标
赋值
核心自主知识 30 产权 科技成果转化 30 能力