纳米光波导 苏大维格
苏大维格 纳米压印
苏大维格纳米压印
苏大维格纳米压印技术是一种高精度的加工技术，可以在微米尺度下进行加工，广泛应用于微电子学、光电子学等领域。
该技术采用模板法，在纳米级别上进行压印，可以制备出具有高分辨率、高精度和高效率的纳米结构。
苏大维格纳米压印技术的特点在于其高度的可控性和重现性，可以有效地避免传统加工方法所遇到的一些制约因素，提高了加工的精度和效率。
该技术具有制备周期短、成本低廉等优势，使得它在各行各业都有着广泛的应用。
在微电子学领域，苏大维格纳米压印技术可以用于制备晶体管、存储单元、集成电路等微型器件。
这些器件可以大幅度提高计算机的速度和效率，使得其更加适应当前日益增长的计算需求。
在光电子学领域，该技术可以用于制备光纤、光学器件等，使得光通信技术具有更高的传输速率和更低的损耗。
除此之外，苏大维格纳米压印技术还有着广泛的应用前景，在新能源、生物科技、机器人等领域都有着应用的价值，具有很大的发展潜力。
总之，苏大维格纳米压印技术在微米尺度下具有高精度、高效率和成本低廉等优势，在当前技术快速发展的时代，其应用前景也是非常广泛的。
因此，对于相关领域的从业者和学生而言，了解和掌握这
项技术显得尤为重要。
未来，苏大维格纳米压印技术将继续保持其领先地位，为各行各业的发展提供更加优秀的解决方案和贡献。
苏州大学信息光学工程研究所研究情况介绍
苏州大学信息光学工程研究所研究情况介绍苏州苏大维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）是在苏州大学信息光学工程研究所的基础上组建的企业，是苏州大学的下属企业。
即将于2010年10正式登陆创业板。
维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）作为世界上“干涉光刻”、“卷对卷纳米压印”技术的领先者，致力于微纳光学结构制造设备的生产、行业应用以及激光直写光刻技术的研发。
产品应用领域包括: 高级印刷包装、微光学应用、Displays、光学防伪、微米与纳米技术、MEMS 以及许多相关领域。
我公司现已发展成为集研发和制造并举的基于干涉光刻、精密图形化直写、微纳结构压印方面的领军型企业。
拥有行业最先进的研发条件、生产设施和一流的人才团队。
在微纳光学应用做出开创性工作：在定制化镭射薄膜材料、高端光学防伪器件、微纳光学制造设备和激光干涉光刻设备方面，形成规模化制造能力，成为中国具有自主知识产权的创新企业。
我公司的客户包括了全球以微米与纳米技术为研究方向的科技公司，以及在电子、防伪、信息技术和高档印刷包装方面最前沿的企业。
苏州苏大维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）是中国从事微纳光学制造、激光图像与全息包装、微光学薄膜产业化领域的技术领先性公司，也是中国规模最大的“定制化镭射转移材料”研发者和制造商。
拥有自主研发的激光干涉制版系统，掩膜制造设备、精密电铸制版系统，精密镭射图形模压，薄膜PMMA 涂层涂布，薄膜真空镀膜（金属化、介质），UV 纳米压印系统和激光转移（复合）纸张的设备。
目前，建成的定制化微结构光学薄膜的产能（1500 万平方米/月），通过ISO9001：2000 质量管理体系认证。
产品与业务领域：1、新型镭射转移材料（膜、纸）规模化与市场推广。
•定制化镭射薄膜（转移、烫金）•无缝镭射与光学转移薄膜•微纳光学薄膜2、光学防伪：中国高端安全防伪解决方案提供者。
•法律证卡系统•交通安全系统•金融安全系统3、微纳光学在先进显示与照明：具有表面微纳结构制造设备等完整研发、设计、打样和规模生产。
基于光刻机的纳米级光波导制备技术
基于光刻机的纳米级光波导制备技术光波导是一种基于光学原理的器件，能够将光信号传输在其内部，具有很高的传输效率和低的损耗。
随着纳米科技的发展，纳米级光波导的制备技术成为了研究的热点之一。
在这个领域中，光刻机起到了重要的作用，能够实现对光波导结构的精确控制和高效制备。
一、光刻机的原理及应用光刻机主要基于光刻技术，其原理是利用光散射和光照射的特性，将图案模具上的图形投射到物质表面上，形成图案。
而光刻技术则是一种用于制作微细器件的加工技术，可应用于半导体芯片制造、纳米结构制备等领域。
光刻机的应用非常广泛，特别是在集成电路制造中。
它可以实现对芯片表面的光刻胶进行曝光、显影等工艺，形成精细且规律的图案。
随着技术的发展，光刻机在制备纳米级光波导方面也发挥着重要作用。
二、纳米级光波导的意义纳米级光波导是指尺寸在纳米量级的光波导器件。
相对于传统的光波导，纳米级光波导具有更小的尺寸和更高的集成度，能够实现更高的光信号传输效率。
同时，纳米级光波导还可以在表面上实现光波的局域化和调控，具备操控光子态的能力。
纳米级光波导的制备技术对于光电子学、集成光路等领域的发展具有重要意义。
它可以用于实现高速光通信、光信号处理和量子信息传输等应用，并且对于减小器件尺寸、降低能耗和提高集成度也有着积极的影响。
三、基于光刻机的纳米级光波导制备技术1. 光刻胶选择与涂覆：在制备纳米级光波导的过程中，选择合适的光刻胶非常重要。
通常情况下，光刻胶的选择会考虑其分辨率、耐蚀性和显影性能。
利用光刻机进行涂覆时，需要确保光刻胶均匀地覆盖在材料表面。
2. 曝光与显影：光刻机的曝光过程是将模板上的图案投射到光刻胶表面的过程。
曝光之后，通过显影工艺将暴露在光的作用下的部分去除，形成光波导的结构。
显影过程中，需要严格控制显影液的浓度和显影时间，以保证获得所需的纳米级结构。
3. 热处理与固化：纳米级光波导的制备过程中，常常需要对经过显影的样品进行热处理和固化。
苏大维格光刻机的原理
苏大维格光刻机的原理引言：苏大维格光刻机是一种常用于半导体制造工艺中的关键设备，它通过光刻技术实现对硅片上微米级结构的精确制作。
本文将介绍苏大维格光刻机的原理及其在半导体工艺中的应用。
一、光刻技术概述光刻技术是一种通过光敏感物质的光化学反应来制作微米级结构的方法。
在光刻过程中，光刻胶被涂覆在硅片表面，然后使用光刻机将光刻胶上的图案通过光源的照射进行显影、暴光、退火等处理，最终形成所需的微米级结构。
二、苏大维格光刻机的基本原理苏大维格光刻机采用的是投影式光刻技术，它的基本原理是通过将掩模上的图案投影到硅片上，利用光刻胶的光敏化反应将图案转移到硅片上。
1. 光源系统苏大维格光刻机采用的是紫外光源，通常使用的是高压汞灯。
高压汞灯的特点是光谱范围广，适用于不同的光刻胶材料。
2. 掩模系统掩模是光刻过程中起到图案传输作用的关键部件，它上面刻有所需的微米级图案。
苏大维格光刻机的掩模系统采用了高精度的掩模台，能够对掩模进行精确的定位和对准。
3. 投影系统苏大维格光刻机的投影系统采用了光学透镜和反射镜的组合，通过将掩模上的图案投影到硅片上。
投影系统的关键是保证光学系统的分辨率和光学畸变控制。
4. 显影系统在光刻胶上暴光后，需要进行显影处理。
苏大维格光刻机的显影系统采用了旋涂式显影装置，通过旋转硅片来实现显影剂的均匀覆盖和显影。
5. 定位系统苏大维格光刻机的定位系统采用了双重定位技术，即通过视觉定位和机械定位相结合的方式来实现对硅片和掩模的精确定位。
三、苏大维格光刻机在半导体工艺中的应用苏大维格光刻机在半导体工艺中有着广泛的应用，主要包括以下几个方面：1. 制作光刻胶图案苏大维格光刻机能够将掩模上的图案投影到光刻胶上，并通过显影、暴光等处理形成所需的微米级结构。
这些结构可以用于制作晶体管、电容器等微电子器件。
2. 制作光掩膜光掩膜是半导体工艺中常用的掩模，用于传输图案到硅片上。
苏大维格光刻机能够将掩模上的图案进行投影，通过显影、暴光等处理形成所需的图案。
苏大维格：微纳光学技术应用开拓者
111624第25期苏大维格：微纳光学技术应用开拓者●本刊记者文琪苏大维格（300331）是我国微纳光学技术应用的开拓者，国内领先的微纳光学产品制造和技术服务商。
依靠强大的研发实力和丰富的成果转化经验，公司应用微纳光学制造技术不断开发新产品，扩大新领域，实现了快速发展。
从2001年成立至今，公司经过了创业孵化期———产品导入期———快速成长期。
净利润年均复合增长率23%公司主要从事微纳光学产品的设计、开发与制造，关键制造设备的研制和相关技术研发服务。
公司的微纳光学产品包括公共安全防伪材料、镭射包装材料、新型显示光学材料三类；设备主要是微纳光学产品制造用光刻设备。
产品主要应用于公共安全防伪、镭射包装材料和新型显示及照明等领域。
报告期内公司微纳光学产品销售收入（不含销售设备、技术服务收入）占公司主营业务收入的比例分别为95.02%、97.48%和98.23%。
与传统型制造业企业不同，公司并非固守现有产品应用范围，而是充分发挥微纳光学技术基础性、通用性强的特点，不断寻找新的应用领域，形成新的利润增长点。
2007年公司成立维旺科技专注于新型显示及照明光学膜的研发与制造；自二代身份证开始，公司将微纳光学技术应用于公共安全防伪领域，2008年公司研发的DMD 技术与双通道光变色膜在国内新版机动车驾驶证、行驶证上全面应用，成为公司新的利润增长点；在镭射包装材料领域，公司以镭射膜为起点，向下游镭射纸延伸，产品用途也从烟标扩展到酒标，销售规模快速扩大。
公司是国内少数拥有微纳光学制造完整产业链的企业之一。
微纳光学制造产业链主要包括装备制造、微纳结构设计、原版开发、规模化生产四个环节，公司凭借自身技术研发、应用创新等方面的实力，取得并巩固了产业链优势。
借助我国内需市场快速发展的契机，公司生产的公共安全防伪材料、镭射包装材料产品应用范围快速扩大，并且积极开发新型显示与照明市场，全力提高公司在微纳光学行业内的地位，使公司收入规模持续扩大，盈利能力快速提升，2009-2011年公司实现的归属于母公司所有者的净利润分别为2660.80万元、3,441.92万元和4,072.32万元，年均复合增长率达到了23.71%。
纳米光波导 苏大维格
纳米光波导苏大维格
纳米光波导是一种基于纳米尺度的光学器件，它可以将光束引导到非常小的空间范围内，从而实现高密度的光学集成和高速光通信。
苏大维格是一种特殊的纳米光波导，它是由苏联科学家苏大维格于1971年首次提出的。
苏大维格的基本结构是由两个平行的金属板之间夹着一层绝缘材料形成的。
当电磁波在这个结构中传播时，它会被限制在金属板之间的空间内，从而形成一个纵向的电磁场分布。
这个电磁场分布可以被看作是一种纵向的波导模式，因此苏大维格也被称为“平行板波导”。
苏大维格的优点是具有非常低的传输损耗和高的光场集中度，因此它可以用于光学传感、光学调制、光学存储等应用。
同时，苏大维格还可以与其他光学器件集成，形成复杂的光学系统，从而实现更加复杂的光学功能。
苏大维格的发明对于纳米光学的发展有着重要的意义，它为后来的纳米光波导的研究提供了基础和启示。
同时，苏大维格的研究也为光学器件的微纳加工提供了新的思路和方法。
苏大维格年终报告
一、引言2024年，苏大维格在微纳光学领域持续深耕，以技术创新为驱动力，实现了业绩的稳健增长。
本报告将对公司2024年度的经营情况、技术创新成果、市场拓展、未来发展规划等方面进行全面总结。
二、经营概况2024年，苏大维格实现营业收入1,523,328.35万元，同比增长约28.97%；归属于上市公司股东的净利润为74,562.47万元，同比增长约58.92%。
公司经营现金流净额为197,123.64万元，同比增长约57.84%。
这些成绩的取得，得益于公司全体员工的共同努力，以及市场对苏大维格品牌和产品的认可。
三、技术创新1. 核心设备研发：苏大维格持续加大研发投入，成功研发了激光直写光刻机和纳米压印光刻机等核心设备。
这些设备为公司构建了微纳光学研发与生产制造的技术平台体系，提高了生产效率和产品质量。
2. 产品创新：公司紧贴市场需求，推出了一系列创新产品，包括公共安全材料、新型印刷材料、高效导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组及纳米纹理光学材料等。
这些产品在多个应用领域实现了重大突破，进一步巩固了公司的市场地位。
3. 技术专利：公司高度重视知识产权保护，截至2024年底，已获得多项专利授权，为公司的技术创新提供了有力保障。
四、市场拓展1. 国内外市场：苏大维格积极拓展国内外市场，产品已广泛应用于消费电子、汽车、医疗、航空航天等领域。
在国内市场，公司已与多家知名企业建立了长期合作关系；在国际市场，公司产品已远销欧洲、美洲、亚洲等多个国家和地区。
2. 产业链上下游：公司积极拓展产业链上下游，与上游原材料供应商、下游客户建立了紧密合作关系，实现了产业链的协同发展。
五、社会责任1. 绿色发展：苏大维格高度重视环保和可持续发展，积极履行社会责任。
公司通过优化生产工艺、提高资源利用率等措施，降低了对环境的影响。
2. 员工关怀：公司关心员工成长，为员工提供良好的工作环境和福利待遇。
同时，公司注重员工培训，提高员工的综合素质。
苏州市发改委关于苏州苏大维格光电科技股份有限公司新建640KW分布式光伏发电项目的备案通知书
苏州市发改委关于苏州苏大维格光电科技股份有限公司新建640KW分布式光伏发电项目的备案通知书
文章属性
•【制定机关】苏州市发展和改革委员会
•【公布日期】2016.11.16
•【字号】苏发改中心[2016]357号
•【施行日期】2016.11.16
•【效力等级】地方规范性文件
•【时效性】失效
•【主题分类】新能源
正文
苏州市发改委关于苏州苏大维格光电科技股份有限公司新建640KW分布式光伏发电项目的备案通知书
苏发改中心[2016]357号苏州工业园区经济发展委员会：
你委苏园经函〔2016〕31号文及有关附件收悉。
经审核，准予备案。
项目名称：苏州苏大维格光电科技股份有限公司新建640KW分布式光伏发电项目
建设地点：苏州工业园区新昌路68号
总投资：650万元
资金来源：苏州苏大维格光电科技股份有限公司自筹解决
建设规模：利用苏州苏大维格光电科技股份有限公司屋顶建设分布式光伏发电装置，装机容量640KW，自发自用。
本备案通知书有效期为1年，自发布之日起计算。
在备案通知书有效期内未能如期开工的，应在备案通知书有效期满30日前向我委申请延期，逾期本备案通知
书自动失效。
接文后，请你委指导业主做好项目并网等相关手续后实施建设。
苏州市发改委
2016年11月16日。
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纳米光波导
简介
纳米光波导是一种新兴的光学技术，利用纳米级材料来传输和控制光信号。
它在信息传输、光电子学和传感器等领域具有广泛的应用前景。
本文将对纳米光波导的原理、制备方法以及应用进行全面、详细、完整和深入的探讨。
原理
纳米光波导的工作原理是基于光的全反射现象。
当光从一个介质传输到另一个折射率较低的介质时，发生折射现象，而当入射角超过临界角时，光将完全反射回原介质中。
当折射率较低的介质尺寸缩小至纳米级别时，便可实现纳米光波导。
制备方法
纳米光波导的制备方法多种多样，下面列举了几种常见的方法：
1.光刻技术：通过光刻技术在介质表面制作纳米级别的结构，如微细凹槽或微
孔，来实现纳米光波导。
2.拉伸法：将光纤或波导材料拉长，使其尺寸缩小至纳米级别。
这种方法可以
在光波导材料的两端拉伸或是在中间引入局部收缩。
3.蒸镀法：通过蒸镀技术在纳米级基底上沉积薄膜，形成纳米光波导。
这种方
法适用于制备金属、半导体或绝缘体的纳米光波导。
4.电子束曝光法：利用电子束的细微控制，在光敏材料表面制作微小的结构，
从而实现纳米光波导。
应用
纳米光波导具有广泛的应用领域，下面列举了几个常见的应用案例：
1.光通信：纳米光波导可以实现高速、低损耗的光信号传输，可用于光纤通信
系统中，提高数据传输速率和距离。
2.生物传感器：纳米光波导可以用于制备生物传感器，用于检测生物分子的存
在和浓度。
通过改变纳米光波导表面的生物识别层，可以实现对特定生物分子的选择性检测。
3.光子集成电路：纳米光波导可以制作在芯片上，实现光子集成电路。
与传统
的电子集成电路相比，光子集成电路具有更高的集成度和更快的数据传输速率。
4.激光器与光放大器：纳米光波导可以用于制备激光器和光放大器，用于光通
信、光纤传感器等领域。
结论
纳米光波导是一种新兴的光学技术，具有广泛的应用前景。
通过研究纳米光波导的原理和制备方法，可以更好地应用于光通信、生物传感器、光子集成电路和激光器等领域。
未来，纳米光波导技术还将不断发展，为我们的生活带来更多的便利和创新。