溅射靶材项目规划设计方案

规划设计/投资分析/产业运营

报告说明—

该溅射靶材项目计划总投资5403.22万元，其中：固定资产投资4125.00万元，占项目总投资的76.34%；流动资金1278.22万元，占项目总投资的23.66%。

达产年营业收入11782.00万元，总成本费用9298.20万元，税金及附加102.50万元，利润总额2483.80万元，利税总额2928.89万元，税后净利润1862.85万元，达产年纳税总额1066.04万元；达产年投资利润率45.97%，投资利税率54.21%，投资回报率34.48%，全部投资回收期4.40年，提供就业职位232个。

靶材：溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

第一章概述

一、项目概况

（一）项目名称及背景

溅射靶材项目

（二）项目选址

某保税区

投资项目对其生产工艺流程、设施布置等都有较为严格的标准化要求，为了更好地发挥其经济效益并综合考虑环境等多方面的因素，根据项目选

址的一般原则和项目建设地的实际情况，该项目选址应遵循以下基本原则

的要求。

（三）项目用地规模

项目总用地面积15347.67平方米（折合约23.01亩）。

（四）项目用地控制指标

该工程规划建筑系数62.03%，建筑容积率1.51，建设区域绿化覆盖率5.00%，固定资产投资强度179.27万元/亩。

（五）土建工程指标

项目净用地面积15347.67平方米，建筑物基底占地面积9520.16平方米，总建筑面积23174.98平方米，其中：规划建设主体工程18537.94平

方米，项目规划绿化面积1158.92平方米。

（六）设备选型方案

项目计划购置设备共计84台（套），设备购置费1634.62万元。

（七）节能分析

1、项目年用电量1322278.87千瓦时，折合162.51吨标准煤。

2、项目年总用水量10680.32立方米，折合0.91吨标准煤。

3、“溅射靶材项目投资建设项目”，年用电量1322278.87千瓦时，

年总用水量10680.32立方米，项目年综合总耗能量（当量值）163.42吨标准煤/年。达产年综合节能量51.61吨标准煤/年，项目总节能率29.34%，

能源利用效果良好。

（八）环境保护

项目符合某保税区发展规划，符合某保税区产业结构调整规划和国家

的产业发展政策；对产生的各类污染物都采取了切实可行的治理措施，严

格控制在国家规定的排放标准内，项目建设不会对区域生态环境产生明显

的影响。

（九）项目总投资及资金构成

项目预计总投资5403.22万元，其中：固定资产投资4125.00万元，

占项目总投资的76.34%；流动资金1278.22万元，占项目总投资的23.66%。

（十）资金筹措

该项目现阶段投资均由企业自筹。

（十一）项目预期经济效益规划目标

预期达产年营业收入11782.00万元，总成本费用9298.20万元，税金及附加102.50万元，利润总额2483.80万元，利税总额2928.89万元，税后净利润1862.85万元，达产年纳税总额1066.04万元；达产年投资利润率45.97%，投资利税率54.21%，投资回报率34.48%，全部投资回收期

4.40年，提供就业职位232个。

（十二）进度规划

本期工程项目建设期限规划12个月。

科学组织施工平行流水作业，交叉施工，使施工机械等资源发挥最大的使用效率，做到现场施工有条不紊，忙而不乱。在技术交流谈判同时，提前进行设计工作。对于制造周期长的设备，提前设计，提前定货。融资计划应比资金投入计划超前，时间及资金数量需有余地。对于难以预见的因素导致施工进度赶不上计划要求时及时研究，项目建设单位要认真制定和安排赶工计划并及时付诸实施。

二、项目评价

1、本期工程项目符合国家产业发展政策和规划要求，符合某保税区及某保税区溅射靶材行业布局和结构调整政策；项目的建设对促进某保税区

溅射靶材产业结构、技术结构、组织结构、产品结构的调整优化有着积极

的推动意义。

2、xxx投资公司为适应国内外市场需求，拟建“溅射靶材项目”，本

期工程项目的建设能够有力促进某保税区经济发展，为社会提供就业职位232个，达产年纳税总额1066.04万元，可以促进某保税区区域经济的繁荣发展和社会稳定，为地方财政收入做出积极的贡献。

3、项目达产年投资利润率45.97%，投资利税率54.21%，全部投资回

报率34.48%，全部投资回收期4.40年，固定资产投资回收期4.40年（含

建设期），项目具有较强的盈利能力和抗风险能力。

从促进产业发展看，民营企业机制灵活、贴近市场，在优化产业结构、推进技术创新、促进转型升级等方面力度很大，成效很好。据统计，我国65%的专利、75%以上的技术创新、80%以上的新产品开发，是由民营企业完

成的。从吸纳就业看，民营经济作为国民经济的生力军是就业的主要承载

主体。全国工商联统计，城镇就业中，民营经济的占比超过了80%，而新增就业贡献率超过了90%。从经济的贡献看，截至2017年底，我国民营企业

的数量超过2700万家，个体工商户超过了6500万户，注册资本超过165

万亿元，民营经济占GDP的比重超过了60%，撑起了我国经济的“半壁江山”。同时，民营经济也是参与国际竞争的重要力量。中共中央、国务院

发布《关于深化投融资体制改革的意见》，提出建立完善企业自主决策、

融资渠道畅通，职能转变到位、政府行为规范，宏观调控有效、法治保障

健全的新型投融资体制。改善企业投资管理，充分激发社会投资动力和活力，完善政府投资体制，发挥好政府投资的引导和带动作用，创新融资机制，畅通投资项目融资渠道。鼓励民营企业参与智能制造工程，围绕离散型智能制造、流程型智能制造、网络协同制造、大规模个性化定制、远程运维服务等新模式开展应用，建设一批数字化车间和智能工厂，引导产业智能升级。支持民营企业开展智能制造综合标准化工作，建设一批试验验证平台，开展标准试验验证。加快传统行业民营企业生产设备的智能化改造，提高精准制造、敏捷制造能力。

制造业是国民经济的主体，是立国之本、兴国之器、强国之基，是推进供给侧结构性改革、促进经济转型升级的主战场。

三、主要经济指标

主要经济指标一览表

第二章项目投资单位

一、项目承办单位基本情况

（一）公司名称

xxx科技公司

（二）公司简介

未来，在保持健康、稳定、快速、持续发展的同时，公司以“和谐发展”为目标，践行社会责任，秉承“责任、公平、开放、求实”的企业责任，服务全国。

公司坚持走“专、精、特、新”的发展道路，不断推动转型升级，使

产品在全球市场拥有一流的竞争力。

公司正处于快速发展阶段，特别是随着新项目的建设及未来产能扩张，将需要大量专业技术人才充实到建设、生产、研发、销售、管理等环节中。作为一家民营企业，公司在吸引高端人才方面不具备明显优势。未来公司

将通过自我培养和外部引进来壮大公司的高端人才队伍，提升公司的技术

创新能力。

二、公司经济效益分析

上一年度，xxx投资公司实现营业收入6894.83万元，同比增长26.48%（1443.33万元）。其中，主营业业务溅射靶材生产及销售收入为6348.37万元，占营业总收入的92.07%。

上年度营收情况一览表

根据初步统计测算，公司实现利润总额1668.07万元，较去年同期相

比增长397.02万元，增长率31.24%；实现净利润1251.05万元，较去年同期相比增长260.50万元，增长率26.30%。

上年度主要经济指标

第三章建设背景及必要性

溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布。产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜

环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

溅射靶材的制备工艺主要分熔融铸造法和粉末冶金法两种。熔融

铸造法的优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大

型化，缺点是需要后续加工和热处理工艺降低其孔隙率，难以做到成

分均匀化。粉末冶金法优点是靶材成分均匀，节约原材料，生产效率高；缺点是密度低,杂质含量高。

为推动溅射靶材产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带

动传统产业改造和产品升级换代，进一步促进国民经济持续、快速、

健康发展，我国推出了一系列支持溅射靶材产业发展的政策。

目前，全球的靶材制造行业，特别是高纯度的靶材市场，呈现寡

头垄断格局，主要由几家美日大企业把持，如日本的三井矿业、日矿

金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科，以及美国霍尼韦尔、普莱

克斯等。

国内靶材行业龙头包括有研新材、隆华科技、江丰电子以及阿石创。2018年底，进口靶材免税结束，国家实行对内补贴，对外征税的

模式，拉开靶材行业国产替代的大幕。有研新材、隆华科技、江丰电

子、阿石创等靶材龙头企业，在各自的细分领域进行技术突破进而形

成自己的核心优势，使国产替代成为可能

溅射靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等

领域。其中，在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属

材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握

生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵。

显示屏玻璃基板尺寸不断增大，预计带来靶材需求增加。随着各

时代显示屏玻璃基板以及一些设备显示屏的尺寸逐渐增大，显示面板

用溅射靶材的需求预计会不断增大。

半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶

材的成分、组织和性能要求最高的领域。具体来讲，半导体芯片的制

作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封装等三大环节，其中，在

晶圆制造和芯片封装这两个环节中都需要用到金属溅射靶材。

我国太阳能电池用溅射靶材市场规模从4.6亿元增至23.3亿元，

每年增速维持在30%以上。未来伴随光伏行业的增长以及薄膜电池产量的提升，太阳能用溅射靶材也有望保持较高速度的增长。

2018年溅射靶材市场中，磁记录市场规模约28.6%，仅次于显示

市场，同比增速为11%；磁记录靶材市场目前主要被东曹、贺利氏等海外靶材企业占据。国内生产磁记录靶材的企业数量和产能有限，国产

替代化具有较为广阔的存量空间。

随着消费电子等终端应用市场的飞速发展，高纯溅射靶材的市场

规模日益扩大，呈现高速增长的势头。靶材所属的新材料领域，目前

已经得到了国家的高度重视和大力支持。在镀膜市场需求增多、国家

扶持力度加大的情况下，一批靶材企业将会迅速成长起来，成为靶材

行业的引领者，带动行业的发展，创造可观的经济效益和社会效益。

第四章投资方案

一、产品规划

项目主要产品为溅射靶材，根据市场情况，预计年产值11782.00万元。

项目承办单位应建立良好的营销队伍，利用多媒体、广告、连锁等模式，不断拓展项目产品良好的营销渠道，提高企业的经济效益。采取灵活

的定价办法，项目承办单位应当依据原辅材料的价格、加工内容、需求对

象和市场动态原则，以盈利为目标，经过科学测算，确定项目产品销售价

格，为了迅速进入市场并保持竞争能力，项目产品一上市，可以采取灵活的价格策略，迅速提升项目承办单位的知名度和项目产品的美誉度。

二、建设规模

（一）用地规模

该项目总征地面积15347.67平方米（折合约23.01亩），其中：净用地面积15347.67平方米（红线范围折合约23.01亩）。项目规划总建筑面积23174.98平方米，其中：规划建设主体工程18537.94平方米，计容建筑面积23174.98平方米；预计建筑工程投资1707.92万元。

（二）设备购置

项目计划购置设备共计84台（套），设备购置费1634.62万元。

（三）产能规模

项目计划总投资5403.22万元；预计年实现营业收入11782.00万元。

第五章选址科学性分析

一、项目选址

该项目选址位于某保税区。

园区不断保持适应新常态的战略定力，以战略提升为导向谋划实现高水平的科学发展。随着国家全面深化改革，统一开放、竞争有序的市场体

系正逐渐形成。部分优惠政策弱化或终结，环境承载能力已经达到或接近

上限，生产要素成本持续增加，投资和出口增速明显放缓，主要依靠资源

要素投入、规模扩张的粗放发展模式已经难以为继。国家高新区必须要保

持发展定力，理性看待资源环境约束带来的发展压力，更加注重用好智力

和科技成果以及形成的无形资产的产出，坚定不移推动创业发展，把培育

中小企业、提高经济质量、增强内生增长动力放到与经济发展同样重要的

位置上，持续深入探索产业组织创新，持续优化管理体制，坚定不移推进

集约集聚发展，真正实现创新驱动、战略提升。园区为当地四大经济园区

之一，2006年经国家发改委批准为省级经济园区。园区核准面积60平方公里，概念规划面积40平方公里，截止2016年12月，园区投产、在建及合

同的工业项目达167个，总投资60亿元，已投资30亿元。园区不断着力

加强关键核心技术攻关。进一步加大研发投入，推进传统产业转型升级与

供给侧结构性改革，加快新旧动能转换步伐，降低对外依赖度。加强关键

核心技术攻关，不仅要求各种创新资源的充足投入和有效整合，还需要通

过深化改革打造完整的创新链条和良好的生态系统，以应用促发展，加强

集成创新和协同创新。

投资项目对其生产工艺流程、设施布置等都有较为严格的标准化要求，为了更好地发挥其经济效益并综合考虑环境等多方面的因素，根据项目选

址的一般原则和项目建设地的实际情况，该项目选址应遵循以下基本原则

的要求。

随着互联网的发展网上交易给项目承办单位搭建了很好的发展平台，

目前，很多公司都已经不是以前传统销售方式，仅仅依靠一家供应商供货，而是充分加强网络在市场营销的应用，这就给公司创造了新的发展空间；

凭着公司产品良好的性价比和稳定的质量，通过开展网上销售，完善电子

商务会进一步增加企业的市场份额。undefined

二、用地控制指标

根据测算，投资项目固定资产投资强度完全符合国土资源部发布的

《工业项目建设用地控制指标》（国土资发【2008】24号）中规定的产品

制造行业固定资产投资强度≥1259.00万元/公顷的规定；同时，满足项目

建设地确定的“固定资产投资强度≥4500.00万元/公顷”的具体要求。该

项目均按照项目建设地建设用地规划许可证及建设用地规划设计要求进行

设计，同时，严格按照项目建设地建设规划部门与国土资源管理部门提供

的界址点坐标及用地方案图布置场区总平面图。

三、地总体要求

本期工程项目建设规划建筑系数62.03%，建筑容积率1.51，建设区域

绿化覆盖率5.00%，固定资产投资强度179.27万元/亩。

土建工程投资一览表

四、节约用地措施

投资项目依托项目建设地已有生活设施、公共设施、交通运输设施，

建设区域少建非生产性设施，因此，有利于节约土地资源和节省建设投资。

五、总图布置方案

1、按照建（构）筑物的生产性质和使用功能，项目总体设计根据物流

关系将场区划分为生产区、办公生活区、公用设施区等三个功能区，要求

功能分区明确，人流、物流便捷流畅，生产工艺流程顺畅简捷；这样布置

既能充分利用现有场地，有利于生产设施的联系，又有利于外部水、电、

气等能源的接入，管线敷设短捷，相互联系方便。

道路在项目建设场区内呈环状布置，拟采用城市型水泥混凝土路面结

构形式，可以满足不同运输车辆行驶的功能要求。

2、投资项目绿化的重点是场区周边、办公区及主要道路两侧的空地，美化的重点是办公区，场区周边以高大乔木为主，办公区以绿色草坪、花坛为主，道路两侧以观赏树木、绿篱、草坪为主，适当结合花坛和垂直绿化，起到环境保护与美观的作用，创造一个“环境优美、统一协调”的建筑空间。

投资项目用水由项目建设地给水管网统一供给，规划在场区内建设完善的给水管网，接入场区外部现有给水管网，即可保证项目的正常用水。

3、项目建设区域位于项目建设地，场区水源为市政自来水管网，水源充裕水质良好，符合国家卫生要求，场区给水系统采用生产、生活、消防合一给水系统。

4、该项目由于需要考虑项目产品所涉及的原辅材料和成品的运输，运输需求量较大，初步考虑铁路运输与公路运输方式相结合的运输方式。场外运输全部采用汽车运输、外部运力为主。外部运输应尽量依托社会运输力量，从而减少固定资产投资；主要产成品、大宗原材料的运输，应避免多次倒运，从而降低运输成本且提高运输效率。

六、选址综合评价

项目承办单位计划在项目建设地建设该项目，具有得天独厚的地理条件，与区域内同行业其他企业相比，拥有“立地条件好、经营成本低、投

资效益高、比较竞争力强”的优势，因此，发展项目行业产品制造产业前景广阔。场址周围没有自然保护区、风景名胜区、生活饮用水水源地等环境敏感目标，无粉尘、有害气体、放射性物质和其他扩散性污染源，自然环境条件良好；拟建工程地势开阔，有利于大气污染物的扩散，区域大气环境质量良好。

第六章土建工程说明

一、建筑工程设计原则

项目承办单位本着“适用、安全、经济、美观”的原则并遵照国家建筑设计规范进行项目建筑工程设计；在满足投资项目生产工艺设备要求的前提下，力求布局合理、造型美观、色彩协调、施工方便，努力建设既有时代感又有地方特色的工业建筑群的新形象。项目承办单位本着“适用、安全、经济、美观”的原则并遵照国家建筑设计规范进行项目建筑工程设计；在满足投资项目生产工艺设备要求的前提下，力求布局合理、造型美观、色彩协调、施工方便，努力建设既有时代感又有地方特色的工业建筑群的新形象。

功能分区合理，人流、车流、物流路线清楚，避免或减少交叉。建筑布局紧凑、交通便捷、管理方便。本次设计充分考虑现有设施布局及周边

项目建设方案及工作计划

项目建设方案及工作计划为了确保XXX渔港项目顺利建设并有效控制建设成本，我司拟定了以下的项目建设方案及工作安排：一、项目招标方案 XXX渔港工程招标工作必须遵循国家建筑法规定的招投标程序（要求）分两部分进行，一是工程监理单位的招投标；二是水工工程的招投标。现将招投标的具体内容、条件以及成本等建议如下：（一）工程监理的招投标 1、投标人的资质要求具有水运工程监理乙级及以上资质，且具有类似工程监理经验。投标人拟组建的监理机构中的总监理工程师必须具有港口与航道工程专业高级职称和10年以上从事工程建设监理工作的经历，并取得交通部监理工程师证书；总监代表、驻地监理工程师必须是交通部批准注册的水运工程监理工程师或专项监理工程师；旁站监理员须有水工专业助理工程师以上技术职称和相应监理业务培训证书。常驻现场监理人员不少于3人且取得交通部批准的监理工程师或专业监理工程师注册证书的人员达到60%以上。 2、招标代理公司的资质要求及费用: 依据《计价格[2002]1980号》文收取，约为中标金额的1％,因此监理标的代理费应控制在1万元以内。 3、XXX渔港工程施工监理单位服务时间、范围、质量标准：（1）工程总施工期为24个月。（2）监理范围：所有水工建构筑物及港池航道工程施工监理, 监理阶段包括施工招标期、准备期、施工期、交工验收及保修期。

（3）工程质量标准：工程质量达到国家现行的工程质量检验评定标准规定的优良等级。 4、监理招标评标细则本工程工程监理评标，采用综合评估的方法．总分值为100分。具体如下：第一部分：监理大纲（40分） (1).质量控制体系完善，措施合理，得8分；否则酌情减分，但最低得分不少于6分； (2).投资控制体系完善，措施合理得8分；否则酌情减分，但最低得分不少于6分； (3).进度控制体系完善，措施合理得8分；否则酌情减分，但最低得分不少于6分； (4).合同管理措施得力、合理得8分；否则酌情减分，但最低得分不少于6分； (5).安全管理措施合理得8分；否则酌情减分，但最低得分不少于6分。第二部分：监理费（30分）《建设工程监理与相关服务收费管理规定》(国家发展改革委、建设部发改价格[2017]670号)规定价格为（120.8+78.1）×（4000－3000）/（5000－3000）×1.1×0.85=92.986万元。以规定价下浮10%作为最高限价即83.69万元，以规定价下浮20%作为最低限价74.39万元，超出此报价范围的投标报价为无效报价，得分为0分。将有效

XX项目规划方案

目录第一部分文本第二部分规划设计方案图一、综合图 1、风景区功能分区图 2、区域位置关系图 3、旅游景点分布图 4、道路交通图 5、市场分布图 6、旅游线路图二、杜鹃湖中心旅游区规划效果图 (一)、杜鹃湖规划总图（二）、杜鹃湖中心旅游区功能分区图（三）、水上杜鹃培育保护规划图（四）风景区主入口规划方案效果图 1、沙子关入口广场规划效果图 2、沙子关装修效果图 3、沙子关民族风情园规划效果图 4、贵州绿色长廊规划效果图

5、主入口停车场规划效果图 6、主入口华表效果图 7、半边街规划方案效果图 8、望天门规划方案效果图 9、主入口文化休闲广场规划效果图（五）、贵州文化长廊规划方案效果图 1、广顺神仙洞古人类遗址效果图 2、贵州古岩画效果图 3、夜郎遗踪系列壁画方案图 (四)“贵州建省” 系列壁画方案图 (五)朱元璋调北征南、靖难之变系列壁画方案图 (六)屯堡文化系列壁画方案图 (七)八艳赏花石雕效果图 (八)“天下大师” 石雕效果图 (九)“阳明洞”规划效果图 11、阳明路规划效果图 (一)阳明路起点规划效果图 (二)阳明路中段规划效果图 (三)阳明路中段规划效果图 (四)河东桥规划效果图

(五)河西桥规划效果图 (六)圣泉规划效果图 12、码头接待中心规划效果图 13、和尚坡水上活动中心规划效果图 14、霞客亭规划效果图 15、望云楼规划效果图 16、机动船码头规划效果图 17、杜鹃水苑入口规划效果图 18、杜鹃水苑秋池规划效果图 19、杜鹃水苑北楼装修效果图 20、杜鹃会馆规划效果图 21、杜鹃水苑荷塘规划效果图 22、空中狩猎园规划效果图 23、花果山度假村鸟瞰图 24、但家坟码头规划效果图 25、牡丹亭规划效果图 26、梦草池规划效果图 27、百草园农训基地规划效果图 28、但家坟规划效果图 29、白云山门规划效果图

行业标准《电子薄膜用高纯钴溅射靶材》编制说明

电子薄膜用高纯钴溅射靶材编制说明（送审稿） 1.工作简况 1.1.任务来源目前国家大力发展战略新兴产业，为半导体产业带来了极大的机遇，3G、移动通信、半导体照明、汽车电子等新兴领域正在迅速发展，其中孕育着巨大市场，这将促进我国的IC产业进一步发展。高纯钴作为制备电子薄膜用主要配套材料，随着我国集成电路产业的快速发展，市场规模日益增大，靶材消耗量逐渐增加。靶材的性能直接影响着金属薄膜电阻率、厚度均匀性、反射率等性能，目前国内高纯钴溅射靶材的生产处于初级阶段，还没有相应的行业标准，很大程度上制约了高纯钴溅射靶材的研发、制作及工业化生产。因此，需要制定相关的标准，以促进现有产品质量的提高，确保高纯钴溅射靶材的检测规范统一，符合统一标准。根据工信部《关于印发2013年第三批行业标准制修订计划的通知》（工信厅科[2013]163号）文件的精神，由宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料股份有限公司起草《电子薄膜用高纯钴溅射靶材行业标准》行业标准，项目编号为2013-1591T-YS，完成时间为2014年。 1.2.起草单位宁波江丰电子材料股份有限公司，简称江丰电子，是国内最大的从事集成电路制造用超高纯溅射靶材研发生产基地，其核心团队由多名海外归国博士组成，并引进了多名美国、日本籍专家，形成了在同行业中具有国际影响力的创业团队，靶材产品已被美国、日本、欧洲、韩国、东南亚、中国大陆及台湾的主流半导体公司认可，并得到批量生产采用，形成了具有年产值上亿元的产业基地。多年来，江丰电子所从事的产业是国家中长期高科技发展规划所大力鼓励的，研发及产业化项目已经纳入了国家技术创新体系，先后承担了国家863引导项目、863重大专项、科技部02重大专项、发改委重大专项、工信部专项基金项目。有研亿金新材料股份有限公司，简称有研亿金，隶属于北京有色金属研究总院。有研亿金是国内率先开展集成电路用靶材研究开发的单位，在集成电路用超高纯金属靶材制备加工领域具有国内领先的优势。多年来，有研亿金具有自主知识产权的高性能靶材制备技术，开发了独具特色的靶材产品，靶材产品涉及Al、Cu、Ti及各种难熔金属与稀贵金属等，形成了具有年产值近亿元的产业基地，具备一大批对超高纯金属材料制备加工技术具有较坚实理论基础和丰富实践经验的专家和技术人员。 1.3.主要过程和内容本标准主管部门为中国有色金属工业协会，编写单位为宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料股份有限公司。2014年1月主编单位对生产和使用厂家进行了调研和资料收集，并查阅相关标准，

集成电路制造用溅射靶材的应用及发展趋势

集成电路制造用溅射靶材的应用及发展趋势在半导体集成电路制造工艺过程中以具有较低电阻率的铜导体薄膜代替铝膜布线工艺; 在平面显示器产业中, 各种不同的显示器(如LCD、PDP、OL ED 及FED 等) 的同步发展, 以期有朝一日能大量取代体积大而笨重的阴极射线管显示器(CRT ) , 作为电脑及计算机的显示器; 在信息存储产业中, 磁介质记录机的存储容量不断增加, 新的光碟式记录体又不断推陈出新。这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求, 在需求数量方面也是逐渐增加。据统计1998 年全球使用了大约2690 t重的各类溅射靶材, 溅射出了317×1000000m2的薄膜; 而到了1999 年全球增加到使用了2880 t 重的各类溅射靶材, 溅射制作出了363×106m 2 的薄膜。从我国近几年来电子信息产业的迅速发展情况来看, 6～ 12 英寸集成电路的生产线、光盘生产线及LCD、PDP 显示器生产线均有大量合资或独资企业出现。我国已逐渐成为了世界上薄膜溅射靶材的最大需求地区之一, 这一巨大市场也必然受到世界上各大溅射靶材制造厂家的极大关注。希望我们国内的有关研究机构和靶材制造企业, 对此也给予足够的重视, 积极针对不同产业使用的溅射靶材进行相关的技术开发, 逐步建立自主性的高级金属电子材料的制造产业。集成电路产业集成电路用靶材在全球靶材市场占较大份额，其溅射产品主要包括电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等。其中薄膜电阻器是薄膜昆合集成电路中用量最多的元件，而电阻薄膜用靶材中Ni—cr合金的用量很大。一般来说，集成电路用溅射靶材的晶粒尺寸必须控制在100μ m以下，甚至其结晶取向也须控制，而在靶材的化学纯度方面，对于0．35μ m线宽工艺，要求靶材的化学纯度为 4N5(99．995％)以上，0．25μ m线宽工艺，溅射靶材的化学纯度则必须在5N(99．999％)，甚至6N(99．9999％)以上。集成电路产业在半导体或微电子相关产业中, 经常使用的溅射靶材如表1 所示。与其他产业相比, 集成电路产业对于溅射靶及溅射薄膜的需求是最高乃至最苛刻的。例如, 对于溅射所淀积薄膜的厚度均匀性的要求, 通常为3 倍的厚度分布标准偏差( standard deviat ion ) 应小于5%; 另外, 随着半导体布线宽度的不断减小, 对于镀膜的夹杂物(inclu sion) 及缺陷(defect) 的要求也愈来愈高。这些对镀膜质量的严格要求反映到溅射靶时, 即为溅射靶材料的微观结构及化学纯度应符合相应工艺要求。

溅射靶材项目立项报告

溅射靶材项目立项报告一、项目名称及性质（一）项目名称溅射靶材项目（二）项目建设性质本项目属于新建项目。二、公司简介面对宏观经济增速放缓、结构调整的新常态，公司在企业法人治理机构、企业文化、质量管理体系等方面着力探索，提升企业综合实力，配合产业供给侧结构改革。同时，公司注重履行社会责任所带来的发展机遇，积极践行“责任、人本、和谐、感恩”的核心价值观。多年来，公司一直坚持坚持以诚信经营来赢得信任。公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念，倡导“诚信尊重”的企业情怀；坚持“品质营造未来，细节决定成败”为质量方针；以

“真诚服务赢得市场，以优质品质谋求发展”的营销思路；以科学发展观纵观全局，争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。公司按照“布局合理、产业协同、资源节约、生态环保”的原则，加强规划引导，推动智慧集群建设，带动形成一批产业集聚度高、创新能力强、信息化基础好、引导带动作用大的重点产业集群。加强产业集群对外合作交流，发挥产业集群在对外产能合作中的载体作用。通过建立企业跨区域交流合作机制，承担社会责任，营造和谐发展环境。公司在“政府引导、市场主导、社会参与”的总体原则基础上，坚持优化结构，提质增效。不断促进企业改变粗放型发展模式和管理方式，补齐生态环境保护不足和区域发展不协调的短板，走绿色、协调和可持续发展道路，不断优化供给结构，提高发展质量和效益。牢固树立并切实贯彻创新、协调、绿色、开放、共享的发展理念，以提质增效为中心，以提升创新能力为主线，降成本、补短板，推进供给侧结构性改革。主要经济指标一览表

磁控溅射靶材中毒

磁控溅射中靶中毒是怎么回事，一般的影响因素是什么？ A:第一：靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以，化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。在基片表面生成化合物是我们的目的，在其他结构表面生成化合物是资源的浪费，在靶表面生成化合物一开始是提供化合物原子的源泉，到后来成为不断提供更多化合物原子的障碍。第二：靶中毒的影响因素影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全中毒。第三：靶中毒现象 (1)正离子堆积：靶中毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。（2）阳极消失：靶中毒时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。第四：靶中毒的物理解释（1）一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，靶中毒后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，提高了空间的导通能力，降低了等离子体阻抗，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间，当发生靶中毒时，溅射电压会显著降低。（2）金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样，一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高，所以靶中毒后溅射速率低。（3）反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。第五：靶中毒的解决办法（1）采用中频电源或射频电源。（2）采用闭环控制反应气体的通入量。（3）采用孪生靶

工程项目建设方案设计

目录一、项目概况二、项目组织机构三、项目建设程序办理计划四、项目设计进度计划五、项目招标进度计划六、项目施工进度计划七、项目资金使用计划八、项目主要机电设备、装饰装修等材料采购计划九、项目建设保证措施一、项目概况 2010年4月12日，滨海新区建交局给建投集团下发津滨建交计[2010]3号“关于开展滨海文化商务中心前期工作的通知”，将滨海新区行政中心的项目暂定名为“滨海文化商务中心”。 1、项目位置和用地面积滨海文化商务中心位于中央大道以东、东道以南、于家堡安居房以西、紫云中学以北，总用地面积约为30公顷。

2、主要建设容和规模滨海文化商务中心按照统一规划，分期建设的原则。本项目一期总建筑面积约为47万平方米，其中地上建筑面积约为29万平方米、地下建筑面积约为18万平方米，由7座建筑和地下车库组成；它们为：商务主楼、培训中心、服务中心、接待中心、会议中心、商务辅楼、公寓。各建筑具体功能和建筑面积如下：商务主楼（9）为滨海新区区委、区政府、区人大区政协四套领导班子的办公场所，建筑位于基地北部，座北朝南布置成双“一”字形布局，用连廊相连接，各套班子办公区域分布明确又相互联系，均取得良好朝向，地上建筑面积6.78万平方米，宽度约172米，建筑层数最高9层，立面处理简洁大气，现代明快，该幢建筑为商务中心最主要的建筑，外檐处理以浅色石材为主要装饰面，运用柱廊，檐口等细部的构造处理，以突出历久弥新，庄重典雅的建筑性格。辅助办公楼（4层）

是辅助商务主楼的会议、办公场所，建筑位于行政办公楼的南侧，建筑面积2.87万平方米，建筑层数为四层。服务中心（3层）为滨海新区企业和市民提供工作和生活一站式服务的场所，一、二层设有开放式业务大厅，三层设有接待、办公、会议等项设施，建筑位于行政办公楼的西侧，主入口设置于南侧，方便前来办理业务的企业和市民。建筑面积为3.36万平方米，建筑层数为三层。职工食堂（3层）为商务中心提供接待，用餐的场所，设有多类大、小餐厅及接待服务设施，建筑位于行政办公楼的南侧，建筑面积3.09 万平方米，分三层设置。会议中心（2层）为大型行政会议场所，建筑位于行政办公楼东侧，建筑面积2.25万平方米，层数为两层，一层设置700人的会议厅和若干个大小会议室，二层为1200人，大会议厅并设200座席的主席台及服务于会议的其它设施。商务辅楼（6层）商务辅楼位于基地东侧，分三幢建筑，建筑面积8.2万平方米。主要功能为各委办局办公、会议、接待用地。公寓2栋（10层、15层）总建筑面积为6万平米，主要为办公人员住宿用。地下车库区域及周边提供停车场所，车库面积为10.4万平米。二、建设标准 (一)结构设计本工程属重点设防类（乙类）建筑，按本地区抗震设防烈度7度设计基本加速度0.15g进行抗震设计，按高于本地区设防烈度即8

溅射靶材使用指南

溅射靶材使用指南 Sputtering Target Operation Guide ?溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后, 再用酒精，丙酮和去离子水清洗，同时建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。高展金属生产的靶材采用真空密封塑料袋包装, 内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。注意：使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套，绝对避免用手直接接触靶材。 ?靶材清洁靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。金属靶材可以通过四步清洁，第一步用在丙酮中浸泡过的无绒软布清洁；第二步与第一步类似用酒精清洁；第三步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。在清除完有污垢的区域后，再用高压低水气的氩气冲洗靶材，以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒。 ?靶材安装靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲，背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响，导致在溅射过程中热量无法散发最终会造成靶材开裂或脱靶。为确保足够的导热性，可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。（图1）请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度，同时确保O型密封圈始终在位置上。（图2）

2018年全球溅射靶材市场空间、国内靶材企业机遇及高端ITO靶材、磁记录靶材分析

2018年全球溅射靶材市场空间、国内靶材企业机遇及高端 ITO靶材、磁记录靶材分析

导语：千亿市场比肩锂钴，批量供货启动，看好内生外延机遇 (4) 溅射靶材市场空间真的很小么？——18年全球近千亿市场，比肩锂钴 (5) 溅射靶材应用，不止于半导体 (5) 18年全球近千亿市场，比肩锂钴 (5) 显示、半导体成为拉动靶材需求的主要动力 (5) 溅射靶材随显示、半导体等下游需求逐步提升 (6) 半导体和显示应用的单位靶材用量仍在提升 (8) 溅射靶材的难点，仅看纯度么？——下游各有侧重，重视高附加值的原料制备 (10) 不同应用的靶材品种性能要求各有侧重 (10) 半导体靶材纯度高、平面显示靶材面积大、多元素靶材合成要求高 (10) 靶材原料：微笑曲线上的高附加值环节 (11) 国内外靶材市场怎么看？——日美仍称霸，国产铝、铜、钼、ITO靶星火已燃 (12) 靶材集中度高，日美占据约80%市场份额 (12) 国内靶材星火已燃：半导体以铝靶为主，显示钼靶规模量产、ITO启动供货 (12) 靶材品种眼花缭乱？一张图帮您看懂 (13) 国内靶材企业机遇临近?——内生增长和外延并购 (15) 内生增长：国内靶材企业启动规模快速扩张阶段 (15) 外延并购：显示、半导体等加速向国内转移，存在整合机遇 (15) 你所不知道的高端ITO靶材？——国产粉末制备突破，18年有望批量供货 (17) 高端ITO是显示靶材的主要品种之一 (17) 显示ITO靶材主要被日韩垄断 (18) 国内ITO靶材有望需求随显示产业提升，本地供应商步入发展快轨 (18) 磁记录靶材，市场去哪儿了？——HDD优势犹存，SDD拉动半导体靶材 (20) 大数据发展带动存储器发展，HDD优势犹存，SDD拉动半导体靶材 (20) 磁记录靶材市场以海外供应为主，18-20年国内市场有望保持10%增速 (21) 小结：看好18-20年国产靶材企业全球市场份额提升 (22) 风险提示 (22)

常州合金项目规划建设方案

常州合金项目规划建设方案投资分析/实施方案

常州合金项目规划建设方案钛合金是以钛为基加入适量其他元素，调整基体相组成和综合物理化学性能而形成的合金。钛工业产业链有两条不同的分支，第一条是钛白粉工业，即钛铁矿→钛白粉，用于涂料、塑料和造纸等行业；第二条是钛材工业，即钛铁矿→海绵钛→钛锭→钛材，用于航空航天等领域。该钛铁合金项目计划总投资14418.12万元，其中：固定资产投资9568.08万元，占项目总投资的66.36%；流动资金4850.04万元，占项目总投资的33.64%。达产年营业收入33116.00万元，总成本费用24843.69万元，税金及附加265.71万元，利润总额8272.31万元，利税总额9679.03万元，税后净利润6204.23万元，达产年纳税总额3474.80万元；达产年投资利润率57.37%，投资利税率67.13%，投资回报率43.03%，全部投资回收期3.82年，提供就业职位608个。报告从节约资源和保护环境的角度出发，遵循“创新、先进、可靠、实用、效益”的指导方针，严格按照技术先进、低能耗、低污染、控制投资的要求，确保投资项目技术先进、质量优良、保证进度、节省投资、提高效益，充分利用成熟、先进经验，实现降低成本、提高经济效益的目标。 ......

钛是一种银白色的的过渡金属，是地壳中分布最广和储量最为丰富的元素之一。钛元素有许多重要的特性，如密度低、比强度高、耐腐蚀、导热率低、生理相容性好、无磁性，具有储氢、超导、形状记忆、超弹等特殊功能。钛最为突出的两大优点是比强度高和耐腐蚀性强，从而决定了钛在空中、陆地、海洋和外层空间都有广泛的用途：包括航空航天、常规兵器、舰艇及海洋工程、核电及火力发电、化工与石油化工、冶金、建筑、交通、体育与生活用品等。

溅射靶材项目规划设计方案

溅射靶材项目规划设计方案规划设计/投资分析/产业运营

报告说明— 该溅射靶材项目计划总投资5403.22万元，其中：固定资产投资4125.00万元，占项目总投资的76.34%；流动资金1278.22万元，占项目总投资的23.66%。达产年营业收入11782.00万元，总成本费用9298.20万元，税金及附加102.50万元，利润总额2483.80万元，利税总额2928.89万元，税后净利润1862.85万元，达产年纳税总额1066.04万元；达产年投资利润率45.97%，投资利税率54.21%，投资回报率34.48%，全部投资回收期4.40年，提供就业职位232个。靶材：溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

第一章概述一、项目概况（一）项目名称及背景溅射靶材项目（二）项目选址某保税区投资项目对其生产工艺流程、设施布置等都有较为严格的标准化要求，为了更好地发挥其经济效益并综合考虑环境等多方面的因素，根据项目选址的一般原则和项目建设地的实际情况，该项目选址应遵循以下基本原则的要求。（三）项目用地规模项目总用地面积15347.67平方米（折合约23.01亩）。（四）项目用地控制指标该工程规划建筑系数62.03%，建筑容积率1.51，建设区域绿化覆盖率5.00%，固定资产投资强度179.27万元/亩。（五）土建工程指标

项目净用地面积15347.67平方米，建筑物基底占地面积9520.16平方米，总建筑面积23174.98平方米，其中：规划建设主体工程18537.94平方米，项目规划绿化面积1158.92平方米。（六）设备选型方案项目计划购置设备共计84台（套），设备购置费1634.62万元。（七）节能分析 1、项目年用电量1322278.87千瓦时，折合162.51吨标准煤。 2、项目年总用水量10680.32立方米，折合0.91吨标准煤。 3、“溅射靶材项目投资建设项目”，年用电量1322278.87千瓦时，年总用水量10680.32立方米，项目年综合总耗能量（当量值）163.42吨标准煤/年。达产年综合节能量51.61吨标准煤/年，项目总节能率29.34%，能源利用效果良好。（八）环境保护项目符合某保税区发展规划，符合某保税区产业结构调整规划和国家的产业发展政策；对产生的各类污染物都采取了切实可行的治理措施，严格控制在国家规定的排放标准内，项目建设不会对区域生态环境产生明显的影响。（九）项目总投资及资金构成项目预计总投资5403.22万元，其中：固定资产投资4125.00万元，占项目总投资的76.34%；流动资金1278.22万元，占项目总投资的23.66%。

溅射靶材和蒸镀膜料

一、溅射靶材工具镀膜工业非凡物质奇妙世界工具镀膜常应用于车削刀具、机械手、模具等各种机械及冶金用途。刀具、模具的超硬保护层，膜系包括TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、DLC等，镀层产品包括钻头、铣刀、齿轮刀具、丝锥、剪刀、切刀、顶头、冲模等。膜层厚度一般为2~10μm，膜层要求高硬度，低磨损，耐冲击，高附着型等，其技术层次高于装饰镀膜。常用靶材与装饰镀膜基本相同，为Ti、Al、Cr、C、Ti/Al等，常通入N2, O2, C2H2 等反应气体，除了以氮化物为主要膜层，还多了类金刚钻膜(Diamond Like Coating, DLC)。产品应用为了追求更佳的膜层机械性质，合金靶材也已经被大量采用在刀具上，如Ti/Si、Cr/Si、Cr/Al、Ti/Cr、Al/Ti/Si、Al/Cr/Si等。而且持续有新的多元合金正被开发测试中，制造工艺分为真空熔炼工艺、挤压熔炼工艺、热等静压工艺、热压烧结工艺等，不同的方法制出的靶材特性各有不同。

装饰镀膜工业非凡物质奇妙世界应用真空阴极电弧源沉积技术 (Cathodic Arc Coating) 可在大量民生用五金件上镀上不同的颜色，做为装饰用途，与一般表明处理用的电镀，烤漆相比，有高硬度，高亮度，抗蚀氧化，不易脱落，不掉色等优异特色。目前市场上最常见的卫浴五金（莲蓬头、水龙头等），建筑五金（门锁、门把、电梯板），汽车五金（后视镜），机壳（手机、电脑等），装饰配件（发簪、纽扣）等都已大量采用此种镀膜技术。镀膜产品包括表件、日用五金件、卫浴洁具、建筑五金件、表壳、表带、小饰品、不锈钢板等等，彩色膜除仿金色外，还有枪黑、乌黑、玫瑰金、棕色、蓝色、绿色、灰色、银色以及幻彩等等。常用的靶材有Ti、Zr、Cr、C、TiAl等几种，通入N2，O2，C2H2等气体后，可形成金黄，古铜，灰黑等多种不同色调。膜层一般在1um 以下。具备开发新色彩能力已经成为装饰镀膜业者极力争取的技术优势。

项目建设方案

项目建设方案一、项目背景与现状近年来随着金盾工程建设的展开，公安整体信息化水平迅速提升，在各级公安机关和业务警种手中积累了丰富的业务数据资源，其种类不断丰富、总量呈现爆发性增长，公安行业的大数据体系已经初具雏形，信息资源已逐渐成为继警力资源、装备资源之后的新一类公安核心资源。同时随着数据资源汇集、整合、存储、管理、共享、交换与应用需求的不断增长，当前存在的数据不规范、质量不高、整合压力大、共享困难等问题也日益凸显，这些问题最终制约着公安数据资源的应用深度和价值，导致数据利用价值低、难以管理、应用范围窄、跨警种数据共享困难等一系列问题。快速积累并不断增长的信息数据已成为继警力资源、装备资源之后的新一类核心资源。如何快速挖掘其内在价值，转化为现实战斗力，在更高更深层次服务保障公安工作的开展，已成为公安信息化迫切需要解决的关键问题。伴随着公安信息资源的快速增长，特别是白云区大力推动出租屋电子门禁系统、视频监控、物流数据、互联网数据建设后，大数据质量不高、处理能力不强、标准规范不足、共享应用不够、专业应用不深等问题已全面显现，迫切需要以新的思路、新的方法、新的技术解决存在的问题，应对数据资源海量化、异构化及应用需求多样化，复杂化等带来的挑战。为了适应时代变化，创新社会管理工作方式，提高警务运行效率，白云分局把“数据工作”列为全局第三大基础工程。为了支撑分局数据工作的顺利开展，分局计划建设白云大数据平台建设项二、建设目标本期项目建设目标是租赁硬件设备为白云区辖内企业如大型物流园内部网络、城中村和大型商场视频内部网络的“安全内网”抽取数据提供必要的运行环境，为大数据平台提供鲜活数据支撑。其次对白云大数据一期项目所积累的监控数据、门禁数据、物流数据等大数据进行清洗和标准化，以高质量的数据资源为基础，以信息资源服务体系为支撑，建设信息查询、一键式搜索、信息关联、分析、挖掘及可视化展现等应用，面向普通民警直接提供服务，提高社区治安防控水平，为创造和谐社区打下坚实基础。最后采购门禁系统办理电子钥匙过程所需的手机验证短信服务，实现门禁手机

行业标准《电子薄膜用高纯铝溅射靶材》编制说明

电子薄膜用高纯铝溅射靶材标准编制说明一、前言 20世纪90年代以来，微电子行业新器件、新材料迅速发展，电子薄膜、磁性薄膜、光电薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域。高科技产业的高速发展，促使靶材的生产逐渐发展成为一个专业化产业。靶材正是微电子等高科技产业的重要支撑产业，是微电子行业重要原材料。鉴于我国靶材制造产业的兴起，为更好的规范市场，保证产品质量，根据中国有色金属工业协会的相关安排，由宁波江丰电子材料有限公司具体负责集成电路用铝溅射靶材的行业标准的制定。二、标准制定的背景和必要性近年来，微电子等高科技产业的高速发展，促使靶材的生产逐渐发展成为一个专业化产业。靶材正是微电子行业的重要支撑产业，是微电子行业重要的原材料。随着溅射设备的更新及溅射工艺的改进，对所需靶材的质量提出了越来越高的要求，在需求数量方面也在不断增加。近年来，我国电子信息产业的发展飞速，我国已逐渐成为世界上薄膜靶材的最大需求地区之一。但是大量靶材需要从国外进口。近几年，随着靶材产业的引进与兴起，越来越多的公司投入到了靶材的生产与研发，逐渐开拓了国内市场。这对于我国参与国际市场竞争，降低微电子行业的成本，提高我国靶材与电子产品的国际竞争力有着不可低估的作用。

目前对于电子薄膜用高纯AL靶材的质量标准尚无明确的法律法规，制定本标准的目的在于： 1.国家发展的需要，填补国内空白，规范电子薄膜用高纯铝溅射靶材的质量； 2.发展国内高科技产业，将国内行业与世界接轨，靶材行业在国内新兴； 3.带动超高纯铝金属的发展，增加高新技术产业，提高国家竞争力； 4.增强企业的产权意识，保护知识产权。因此在不断发展的国际市场环境下以及国内市场发展的态势下，规范和引导我国靶材产业具有其必要性。三、现行国家标准、行业标准的执行情况靶材产业属于国内新兴产业，本公司制定的“集成电路用铝溅射靶材”暂无相应的国家或行业的质量标准。在制定中以地方标准及用户的相关技术要求为基础。靶材作为溅射沉积薄膜的原材料有很强的应用目的和应用背景。必须将靶材的性能与客户的要求紧密结合起来，根据客户的要求制备满足实际需要的靶材，充分发挥其作用。四、主要技术指标、试验方法和检验规则的目的和依据 1、纯度要求在实际应用中，铝靶材的用途不一样，对铝靶材的纯度要求也不一致。根据靶材的使用背景和客户要求，铝靶材纯度分为4N、4N5、

项目建设管理实施方案

项目建设管理实施方案项目建设管理实施方案是针对某项目进行开展施工的计划，是一种企业的运营管理中的一个项目，是为了更好的将公司项目做大的一个举措，以下是小编整理的工程项目建设管理实施方案，欢迎大家参阅。第1篇:工程项目建设管理实施方案为加强中小学工程建设项目管理，明确目标职责，保证工程建设项目顺利实施。根据教育部、国计委、财政部印发《全国中小学危改工程实施管理办法》的通知要求，结合我区实际情况，制定学校建设项目管理实施意见，希遵照执行。一、组织机构成立安居区教育局工程建设项目领导小组。组长：卢军

副组长：刘洪彭哲华成员：余定福陈朝国杨健邹远富各项目学校成立相应的工程建设项目领导小组。二、项目建设实施程序工程建设项目程序必须按照现行法律法规要求进行。 1、立项。由学校向区教育局写立项申请——区教育局向发改委出函——发改委出具立项批复。 2、规划。学校提供整体规划方案和拟建建筑初步设计方案(建筑平、立、剖面图)和效果图报区规划局审批，合格后办理规划许可证(副本)并出具红线图。

3、报建。规划许可证办理后，到建设局建管股报建，提供报建相关资料，填写报建表。 4、勘测设计。地震震损程度为轻度的由原设计单位出具加固措施;震损程度较重的由具有鉴定资质的单位出具鉴定结论后，由设计单位出具施工图;属于新建的工程由学校委托勘测单位出具地勘报告、设计单位出具施工图;施工图齐备后需到区消防大队进行消防审核;委托施工图审查公司进行施工图审查并出具施工图审查报告，然后到区建设局建管股做施工图审查合格备案。 5、招标程序：确定代理机构：到发改委办理招标代理机构网上比选事宜、代理机构网上报名、邀请相关人员(监察局、发改委、建设局招标办、教育局监察股及计财股相关人员)出席代理机构随机抽取会议、随机确定两代理机构、和两代理机构分别就操作程序和费用等题进行谈判、确定代理机构，并到发改委、建设局招标办备案。招标过程：由代理机构或聘请有资质的造价机构计算工

溅射靶材项目实施方案

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摘要报告根据我国相关行业市场需求的变化趋势，分析投资项目项目产品的发展前景，论证项目产品的国内外市场需求并确定项目的目标市场、价格定位，以此分析市场风险，确定风险防范措施等。该溅射靶材项目计划总投资4616.78万元，其中：固定资产投资 3494.63万元，占项目总投资的75.69%；流动资金1122.15万元，占项目总投资的24.31%。达产年营业收入8635.00万元，总成本费用6812.09万元，税金及附加87.40万元，利润总额1822.91万元，利税总额2161.75万元，税后净利润1367.18万元，达产年纳税总额794.57万元；达产年投资利润率 39.48%，投资利税率46.82%，投资回报率29.61%，全部投资回收期4.88年，提供就业职位153个。超高纯金属及溅射靶材是电子材料的重要组成部分，溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。项目基本情况、项目背景、必要性、产业研究分析、产品规划及建设规模、选址可行性分析、土建工程方案、工艺先进性分析、项目环境影响情况说明、安全生产经营、项目风险评价分析、项目节能、项目实施安排、投资方案计划、项目经营收益分析、结论等。

溅射靶材项目实施方案目录第一章项目基本情况第二章项目承办单位基本情况第三章项目背景、必要性第四章选址可行性分析第五章土建工程方案第六章工艺先进性分析第七章项目环境影响情况说明第八章项目风险评价分析第九章项目节能第十章实施进度及招标方案第十一章人力资源第十二章投资方案计划第十三章项目经营收益分析第十四章结论

钽溅射靶材的应用、属性和发展趋势

1 钽溅射靶材的应用、属性和发展趋势一、前言由于钽具有形成薄氧化物的能力，且生成的氧化膜具有保护作用，因此钽作为基础材料被广泛应用于电解质电容器制造过程中。钽在微电子领域最初是应用在分立薄膜电容器的构成中。蒸发法是钽沉积早期使用的方法，但是在上个世纪六十年代末出现的物理气相沉积法(PVD)如溅射镀膜法取代蒸发法成为一种薄膜沉积比较好的方法。物理气相沉积法是将电离的氩原子通过电磁力学的方式去撞击一个被称为靶材的材料源，从而撞击出金属靶材原子；然后撞击出的靶材原子会沉积在所需镀膜的基层上形成一层薄膜。在这种磁控溅射过程中，磁力场可通过聚集二级电子的方式来增加离子密度；这里二级电子具有增加溅射沉积速率并被束缚在等离子体区域内，且在低压下维持不变的特点(见图1)。本文从热喷墨打印头、铜电镀以及硅通孔技术三个方面讨论了钽在微电子领域中的应用。另外也讨论一下铜电镀在液晶面板中的应用。图1 磁控溅射：采用电磁力学的方式用电离图2 热喷墨打印头(来自HP) Ar(+)原子撞掉靶材原子。靶材原子沉积在基层上。施加的磁场通过聚集二级电子来增加离子密度二、热喷墨打印头热喷墨打印头可用于薄膜集成电路的制造过程中，这对钽和以钽为基质的溅射靶材的使用提供了一个很好的促进作用。在集成电路的制造过程中，使用一个薄膜 U n R e g i s t e r e d

2 电阻器在能量密度接近1.28E9 watts/m 2的条件下快速加热油墨的薄膜层，于是油墨中一些非常小的部分就被蒸发形成一种扩展的气泡，这种气泡实际上就是喷射出的油墨小液滴(见图2)。在这里，薄膜电阻器选择的是TaAl 型。由于高温油墨会使部分喷墨打印设备发生汽蚀现象，因此钽抗汽蚀薄膜的使用可以起到保护油墨设施的作用。三、铜电镀钽薄膜在集成电路制造过程中优势明显，并且在钽薄膜使用过程中有一个大的进展是铜电镀技术在其中的应用。光致抗蚀掩膜和等离子蚀刻技术不能用来形成铜，因为铜不能在低温等离子蚀刻条件下形成所需的挥发成分。通常情况下铜电镀使用的是镶嵌工艺，这里氮化硅绝缘层和放置导体的开放的沟槽(通道)形成在一起(见图 3)。由于铜具有高的导电性，因此阻挡膜必须能完全地隔离铜。但是如果阻挡膜过厚，又会失去铜互连的这种高传导性优势。图3 铜电镀所使用的镶嵌工艺，这里氮化图4 SIP Ta(N)/SIP Cu 阶梯覆盖率的硅绝缘层和放置导体的开放的沟槽形 TEM 截面(注：SIP -系统级封装) 成在一起，沟槽里的导电体紧接着是阻挡膜和铜电镀层(来自IBM) 在以上所描述的铜电镀方案中，阻挡膜的沉积必须具有好的阶梯覆盖率，并且要在通道/沟槽空隙处减少突出，这一点很重要。为了达到这个目的，一些OEM 厂商要具备相应的PVD 设备。此类设备是利用薄片偏置通过电离方式来控制电离金属 U n R e g i s t e r e d

浙江电路板研发制造项目规划建设方案

浙江电路板研发制造项目规划建设方案规划设计/投资方案/产业运营

摘要随着智能装备制造业的不断发展,2016年全球柔性电路板(FPC)的产值达135亿美元。FPC的应用领域几乎涉及所有的电子信息产品，涵盖了消费电子产品、通信设备、汽车载品这三个最大的应用领域，虽然这类产品增长率有限，但会保持长期增长。柔性电路板是用柔性的绝缘基材制成的印刷电路，又称“软板”，行业内俗称FPC。从产业链来看，我国FPC行业产业链分为三部分：产业链上游主体为电子元器件、FCCL、电磁屏蔽膜、覆盖膜等原材料供应商、SMT工序外协加工提供商及镭射钻孔机、电镀机和曝光机等设备供应商，产业链中游主体为FPC生产商，产业链下游主体为显示模组、触摸模组等电子产品模组零部件制造商和终端电子产品生产商。该柔性电路板项目计划总投资11075.94万元，其中：固定资产投资8177.62万元，占项目总投资的73.83%；流动资金2898.32万元，占项目总投资的26.17%。本期项目达产年营业收入28118.00万元，总成本费用21313.43 万元，税金及附加243.49万元，利润总额6804.57万元，利税总额7986.62万元，税后净利润5103.43万元，达产年纳税总额2883.19万元；达产年投资利润率61.44%，投资利税率72.11%，投资回报率46.08%，全部投资回收期3.67年，提供就业职位395个。

浙江电路板研发制造项目规划建设方案目录第一章概述一、项目名称及建设性质二、项目承办单位三、战略合作单位四、项目提出的理由五、项目选址及用地综述六、土建工程建设指标七、设备购置八、产品规划方案九、原材料供应十、项目能耗分析十一、环境保护十二、项目建设符合性十三、项目进度规划十四、投资估算及经济效益分析十五、报告说明十六、项目评价十七、主要经济指标

行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》编制说明

电子薄膜用高纯Cu靶材标准编制说明一、前言 20世纪90年代以来，微电子行业新器件、新材料迅速发展，电子薄膜、磁性薄膜、光电薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域。高科技产业的高速发展，促使靶材的生产逐渐发展成为一个专业化产业。靶材正是微电子等高科技产业的重要支撑产业，是微电子行业重要原材料。鉴于我国靶材制造产业的兴起，为更好的规范市场，保证产品质量，参与国际市场竞争，根据中国有色金属工业协会的相关安排，由宁波江丰电子材料有限公司具体负责电子薄膜用高纯Cu溅射靶材的行业标准的制定。二、标准制定的必要性靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，主要使用在微电子、显示器、存储器以及光学镀膜等产业上，用以溅射用尖端技术的各种薄膜材料。根据BCC(Business Communications Company)商业咨询公司的统计报告指出，全球的上述产业在1999年大约使用了2.88百万公斤靶材，而且预计将以年均6.0%的趋势增长。据统计，2009年全球半导体制造用靶材市场需求为3.9亿美元，预计2010和2011年市场规模将分别达到5.2亿和5.5亿美元。众所周知，靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术息息相关。随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也随之变化，对所需靶材的质量提出了越来越高的要求，在需求数量

方面也是不断增加。近年来，我国电子信息产业的发展飞速，我国已逐渐成为世界上薄膜靶材的最大需求地区之一。但是大量靶材需要从国外进口。就美国而言，大约有五十家中小规模的靶材制造商及经销商，近几年，随着靶材产业的引进与兴起，国内越来越多的公司投入到了靶材的生产与研发，逐渐开拓了国内市场。这对于我国参与国际市场竞争，提高我国靶材与电子产品的国际竞争力有着不可低估的作用。目前对于电子薄膜用高纯Cu靶材的质量标准尚无明确的法律法规，制定本标准的目的在于： 1.国家发展的需要，填补国内空白，规范电子薄膜用高纯Cu溅射靶材的质量； 2.发展国内高科技产业，将国内行业与世界接轨，靶材行业在国内新兴； 3.带动超高纯铜金属的发展，增加高新技术产业，提高国家竞争力； 4.增强企业的产权意识，保护知识产权。因此在不断发展的国际市场环境下以及国内市场发展的态势下，规范和引导我国靶材产业具有其必要性。三、现行国家标准、行业标准的执行情况靶材产业属于国内新兴产业，本公司制定的“电子薄膜用高纯铜溅射靶材”暂无相应的国家或行业的质量标准。在制定中以实际需要