集成电路设计练习题

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集成电路设计要点评估考核试卷

集成电路设计要点评估考核试卷
9. ABCD
10. ABCD
11. ABC
12. AB
13. ABCD
14. ABCD
15. ABC
16. ABCD
17. ABC
18. ABCD
19. ABC
20. ABC
三、填空题
1.电路设计
2.沉积
3.与门
4.光刻
5.晶体管开关
6.时序控制
7.版图设计
8. NMOS晶体管
9.信号编码
10.材料质量
A.材料质量
B.制造工艺
C.环境因素
D.使用方法
16.下列哪些是数字集成电路中的计数单元?()
A.计数器
B.分频器
C.移位寄存器
D.顺序控制器
17.下列哪些是模拟集成电路中的滤波单元?()
A.滤波器
B.滤波电路
C.滤波器模块
D.滤波器IC
18.下列哪些是集成电路设计中常用的仿真工具?()
A. SPICE
1.集成电路设计的第一步是______。
2. CMOS电路中的“C”代表______。
3.数字电路中的“逻辑门”是______的基本单元。
4.集成电路制造中,光刻步骤用于______。
5.集成电路的功耗主要来自于______。
6.数字电路中的“时钟”信号用于______。
7.集成电路的“版图设计”是______设计的一部分。
A.触发器
B.反相器
C.比较器
D.解码器
20.集成电路中,用于实现数字信号译码的单元是()
A.晶体管
B.反相器
C.触发器
D.译码器
21.下列哪种工艺用于在硅片上形成导电通道?()
A.沉积

1+X集成电路理论练习题含参考答案

1+X集成电路理论练习题含参考答案

1+X集成电路理论练习题含参考答案一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、在电子产品测试中需保证测试环境稳定,其中使用环境稳定是指()。

A、使用人员操作得当B、硬件的工作参数稳定C、软件的工作参数稳定D、模拟真实用户使用时的场景正确答案:D2、以全自动探针台为例,关于上片的步骤,下列所述正确的是:( )。

A、打开盖子→花篮放置→花篮下降→花篮到位→花篮固定→合上盖子B、打开盖子→花篮放置→花篮到位→花篮下降→花篮固定→合上盖子C、打开盖子→花篮放置→花篮下降→花篮固定→花篮到位→合上盖子D、打开盖子→花篮放置→花篮固定→花篮下降→花篮到位→合上盖子正确答案:D答案解析:以全自动探针台为例,上片的步骤为:打开盖子→花篮放置→花篮固定→花篮下降→花篮到位→合上盖子。

3、转塔式分选机设备进行编带后,进入( )环节。

A、上料B、测试C、外观检查D、真空包装正确答案:C答案解析:转塔式分选机设备芯片检测工艺的操作步骤一般为:上料→测试→编带→外观检查→真空包装。

4、通常情况下,一个内盒中装入的DIP管装芯片( )颗。

A、3000B、1000C、5000D、2000正确答案:D答案解析:一般情况下,一个内盒中装入的DIP管装芯片2000颗。

5、元器件的引线直径与印刷焊盘孔径应有()的合理间隙。

A、0.1~0.4mmB、0.2~0.3mmC、0.1~0.3mmD、0.2~0.4mm正确答案:D6、在电子电路方案设计中最简单的显示平台是()。

A、OLEDB、LCDC、LEDD、数码管正确答案:C7、平移式分选机进行料盘上料时,在上料架旁的红色指示灯亮的含义是( )。

A、上料机构故障B、上料架上有料盘C、上料架上有空料盘D、上料架上没有料盘正确答案:B答案解析:平移式分选机进行料盘上料时,上料架上是否有料盘可以通过上料架旁的传感器进行检测。

当传感器指示灯为红色时,表明上料架上还有料盘,可以继续进行上料,当传感器指示灯为绿色时,表明上料架上无料盘,停止上料。

《集成电路设计原理》试卷及答案

《集成电路设计原理》试卷及答案

电科《集成电路原理》期末考试试卷一、填空题1.(1分) 年,第一次观测到了具有放大作用的晶体管。

2.(2分)摩尔定律是指 。

3.集成电路按工作原理来分可分为 、 、 。

4.(4分)光刻的工艺过程有底膜处理、涂胶、前烘、 、 、 、 和去胶。

5.(4分)MOSFET可以分为 、 、 、 四种基本类型。

6.(3分)影响MOSFET 阈值电压的因素有: 、 以及 。

7.(2分)在CMOS 反相器中,V in ,V out 分别作为PMOS 和NMOS 的 和 ; 作为PMOS 的源极和体端, 作为NMOS 的源极和体端。

8.(2分)CMOS 逻辑电路的功耗可以分为 和 。

9.(3分)下图的传输门阵列中5DD V V =,各管的阈值电压1T V V =,电路中各节点的初始电压为0,如果不考虑衬偏效应,则各输出节点的输出电压Y 1= V ,Y 2= V ,Y 3= V 。

DD 13210.(6分)写出下列电路输出信号的逻辑表达式:Y 1= ;Y 2= ;Y 3= 。

AB Y 1AB23二、画图题:(共12分)=+的电路图,要求使用的1.(6分)画出由静态CMOS电路实现逻辑关系Y ABD CDMOS管最少。

2.(6分)用动态电路级联实现逻辑功能Y ABC=,画出其相应的电路图。

三、简答题:(每小题5分,共20分)1.简单说明n阱CMOS的制作工艺流程,n阱的作用是什么?2.场区氧化的作用是什么,采用LOCOS工艺有什么缺点,更好的隔离方法是什么?3.简述静态CMOS 电路的优点。

4.简述动态电路的优点和存在的问题。

四、分析设计题:(共38分1.(12分)考虑标准0.13m μ CMOS 工艺下NMOS 管,宽长比为W/L=0.26/0.13m m μμ,栅氧厚度为2.6ox t nm =,室温下电子迁移率2220/n cm V s μ=,阈值电压T V =0.3V,计算 1.0GS V =V 、0.3DS V =V 和0.9V 时D I 的大小。

1+X集成电路理论练习题库及参考答案

1+X集成电路理论练习题库及参考答案

1+X集成电路理论练习题库及参考答案一、单选题(共39题,每题1分,共39分)1.进行芯片检测工艺中的编带外观检查时,其步骤正确的是()。

A、检查外观→归纳放置→固定卷盘→编带回料→编带固定B、固定卷盘→归纳放置→检查外观→编带回料→编带固定C、编带固定→固定卷盘→归纳放置→检查外观→编带回料D、归纳放置→固定卷盘→检查外观→编带回料→编带固定正确答案:D2.()是指按照一定的方式将杂质掺入到半导体等材料中,改变材料电学性质,达到形成半导体器件的目的。

A、光刻B、掺杂C、刻蚀D、金属化正确答案:B答案解析:掺杂是指按照一定的方式将杂质掺入到半导体等材料中,改变材料电学性质,达到形成半导体器件的目的。

3.打点过程中,在显微镜下看到有墨点偏大出现时需要进行的操作是:( )。

A、调节打点器的旋钮B、调节打点的步进C、更换墨管D、更换晶圆正确答案:C答案解析:出现墨点大小点等情况时需更换墨管。

4.选择集成电路的关键因素主要包括()。

A、性能指标B、工作条件C、性价比D、以上都是正确答案:D5.平移式设备芯片检测工艺流程中,上料之后的环节是( )。

A、测试B、分选C、真空包装D、外观检查正确答案:A答案解析:平移式分选机设备芯片检测工艺的操作步骤一般为:上料→测试→分选→外观检查→真空包装。

6.()分选工序依靠主转盘执行,上料后主转盘旋转,每转动一格,都会将产品送到各个工位,每个工位对应不同的作用,包括上料位、光检位、旋转纠姿位、功能测试位等,从而实现芯片的测试与分选。

A、重力式分选机B、平移式分选机C、真空螺旋分选机D、转塔式分选机正确答案:D7.下列有关平移式分选机描述错误的是()。

A、平移式分选机是采用测压手臂下压的压测方式进行的B、通过入料梭移动将芯片从待测区“中转站”转移至测试区,等待测压手臂吸取芯片进行测试。

C、收料时,为了确保料盘能平稳地放入,需要将收料架上的料盘向下压紧D、测试机通过GPIB将测试结果反馈给分选机,在分选机的显示界面显示测试结果并记录正确答案:C8.封装工艺中,在晶圆切割后的光检中环节发现的不良废品,需要做()处理。

集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)(2023版)

集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)(2023版)

集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)1、什么叫半导体集成电路?2、按照半导体集成电路的集成度来分,分为哪些类型,请同时写出它们对应的英文缩写。

3、按照器件类型分,半导体集成电路分为哪几类?4、按电路功能或信号类型分,半导体集成电路分为哪几类?5、什么是特征尺寸?它对集成电路工艺有何影响?6、简述四层三结的结构的双极型晶体管中隐埋层的作用。

7、在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是?8、简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。

9、简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。

10、以P阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些不足?11、以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些优缺点?并请提出改进方法。

12、简述集成双极晶体管的有源寄生效应在其各工作区能否忽略?13、什么是集成双极晶体管的无源寄生效应?14、什么是MOS晶体管的有源寄生效应?15、什么是MOS晶体管的闩锁效应,其对晶体管有什么影响?16、如何解决MOS器件的场区寄生MOSFET效应?17、如何解决MOS器件中的寄生双极晶体管效应?18、双极性集成电路中最常用的电阻器和MOS集成电路中常用的电阻都有哪些?19、集成电路中常用的电容有哪些?20、为什么基区薄层电阻需要修正?21、为什么新的工艺中要用铜布线取代铝布线?22、电压传输特性23、开门电平24、关门电平25、逻辑摆幅26、静态功耗27、在四管标准与非门中,那个管子会对瞬态特性影响最大,并分析原因以及带来那些困难。

28、两管与非门有哪些缺点,四管及五管与非门的结构相对于两管与非门在那些地方做了改善,并分析改善部分是如何29、相对于五管与非门六管与非门的结构在那些部分作了改善,分析改进部分是如何工作的?30、四管与非门中,如果高电平过低,低电平过高,分析其原因,如与改善方法,请说出你的想法。

31、为什么TT1与非门不能直接并联。

32、OC门在结构上作了什么改进,它为什么不会出现TT1与非门并联的问题?33、什么是器件的亚阈值特性,对器件有什么影响?34、MOS晶体管的短沟道效应是指什么,其对晶体管有什么影响?35、请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应,并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。

武汉理工大学《超大规模集成电路设计》考试习题及答案

武汉理工大学《超大规模集成电路设计》考试习题及答案

15.什么是可测性设计?可测性设计包括哪些技术?可测试性包括哪些 重要方面? • 在尽可能少地增加附加引线脚和附加电路, 并使芯片性能损失最小的 情况下,满足电路可控制性和可观察性的要求 • 可测性设计技术:主要包括分块测试技术、扫描测试技术、特征量分 析分块测试技术、边界扫描分块测试技术等。 测试生成、测试验证和测试设计 16.目前 VLSI 系统设计普遍采用的方法是什么?它的基本思想什么?试 列举几种设计方法。 目前 VLSI 系统设计最流行的是自顶向下(Top-Down)的结构设计. 它的基 本思想是将一个复杂系统的功能分成可以独立的简单部分,然后将各部分 拼接起来,可完成整个系统的设计,实际上就是模块化的结构设计.根据不 同要求,现有许多方法,如:全定制设计方法、半定制设计方法、定制设计 方法、可编程设计方法等。 17.半定制设计方法可分为哪几种方法?它们各自的特点和不足之处是 什么? 半定制设计方法分为门阵列法和门海法 .门阵列方法的设计特点:设计周 期短,设计成本低,适合设计适当规模、中等性能、要求设计时间短、 数 量相对较少的电路 • 不足:设计灵活性较低;门利用率低;芯片面积浪费 ;速度较低;功 耗较大。 门海法具有门利用率较高、 集成密度较大、 布线灵活和保证布线布通率等 方面的优点,并能实现存储器这类电路。但它也有不足之处,一是它仍有 布线通道, 而且增加的布线通道只能是基本单元高度内所含通道数的整倍 数,这往往使增加的通道数超过实际的需要,造成面积浪费,另一是布线 通道下的晶体管不能再用来实现逻辑,因此门的利用率仍不很高。 18.试分析提高 MOS 管工作速度方法。 1. 提高 IC 加工精度 减小沟道长度. 2. 加强 MOS 管的驱动电压 (Vgs-Vt) , 可以减小管子的内阻,加快工作速 度。 3. 由于 µn ≈ 2.5µ p ,所以 NMOS 管的工作速度比 PMOS 管快得多。 可以用 NMOS 工艺代替 PMOS 工艺。 19.画出 19.画出 CMOS 反相器电压传输特性曲线图,并写出相应的电流方程。 反相器电压传输特性曲线图,并写出相应的

(完整版)集成电路设计复习题及解答

(完整版)集成电路设计复习题及解答

集成电路设计复习题绪论1.画出集成电路设计与制造的主要流程框架。

2.集成电路分类情况如何?集成电路设计1.层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次2.什么是集成电路设计?集成电路设计流程。

(三个设计步骤:系统功能设计逻辑和电路设计版图设计)3.模拟电路和数字电路设计各自的特点和流程4.版图验证和检查包括哪些内容?如何实现?5.版图设计规则的概念,主要内容以及表示方法。

为什么需要指定版图设计规则?6.集成电路设计方法分类?(全定制、半定制、PLD)7.标准单元/门阵列的概念,优点/缺点,设计流程8.PLD设计方法的特点,FPGA/CPLD的概念9.试述门阵列和标准单元设计方法的概念和它们之间的异同点。

10.标准单元库中的单元的主要描述形式有哪些?分别在IC设计的什么阶段应用?11.集成电路的可测性设计是指什么?Soc设计复习题1.什么是SoC?2.SoC设计的发展趋势及面临的挑战?3.SoC设计的特点?4.SoC设计与传统的ASIC设计最大的不同是什么?5.什么是软硬件协同设计?6.常用的可测性设计方法有哪些?7. IP的基本概念和IP分类8.什么是可综合RTL代码?9.么是同步电路,什么是异步电路,各有什么特点?10.逻辑综合的概念。

11.什么是触发器的建立时间(Setup Time),试画图进行说明。

12.什么是触发器的保持时间(Hold Time),试画图进行说明。

13. 什么是验证,什么是测试,两者有何区别?14.试画图简要说明扫描测试原理。

绪论1、 画出集成电路设计与制造的主要流程框架。

2、集成电路分类情况如何?集成电路设计1. 层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次分层分级设计和模块化设计.将一个复杂的集成电路系统的设计问题分解为复杂性较低的设计级别,⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎩⎪⎨⎧按应用领域分类数字模拟混合电路非线性电路线性电路模拟电路时序逻辑电路组合逻辑电路数字电路按功能分类GSI ULSI VLSI LSI MSI SSI 按规模分类薄膜混合集成电路厚膜混合集成电路混合集成电路B iCMOS B iMOS 型B iMOS CMOS NMOS PMOS 型MOS双极型单片集成电路按结构分类集成电路这个级别可以再分解到复杂性更低的设计级别;这样的分解一直继续到使最终的设计级别的复杂性足够低,也就是说,能相当容易地由这一级设计出的单元逐级组织起复杂的系统。

《集成电路设计(第2版)》习题答案1-5章

《集成电路设计(第2版)》习题答案1-5章

CH3
1. 写出晶体外延的意义,列出三种外延生长方法,并比较各自的优缺点。 意义:用同质材料形成具有不同掺杂种类及浓度而具有不同性能的晶体层。外延方法: 液态生长,气相外延生长,金属有机物气相外延生长 2.写出掩膜在 IC 制造过程中的作用,比较整版掩膜和单片掩膜的区别,列举三种掩膜的制 造方法。P28,29 3.写出光刻的作用,光刻有哪两种曝光方式? 作用: 把掩膜上的图形转换成晶圆上的器 件结构。曝光方式有接触与非接触两种。 4.X 射线制版和直接电子束直写技术替代光刻技术有什么优缺点? X 射线(X-ray)具有比可见光短得多的波长,可用来制作更高分辨率的掩膜版。电子
影响,界面势阱的影响 6. 什么是 MOS 器件的体效应? 由于衬底与源端未连接在一起,而引起的阈值电压的变化叫做体效应。 7. 说明 L、W 对 MOSFET 的速度、功耗、驱动能力的影响。 P70,71 8. MOSFET 按比例收缩后对器件特性有什么影响?
I DS
不变,器件占用面积减少,提高电路集成度,减少功耗
CH1
1. 按规模划分,集成电路的发展已经经历了哪几代?它的发展遵循了一条业界著名的定 律,请说出是什么定律? 晶体管-分立元件-SSI-MSI-LSI-VLSI-ULSI-GSI-SOC。MOORE 定律 2. 什么是无生产线集成电路设计?列出无生产线集成电路设计的特点和环境。 拥有设计人才和技术,但不拥有生产线。特点:电路设计,工艺制造,封装分立运行。 环境:IC 产业生产能力剩余,人们需要更多的功能芯片设计 3. 多项目晶圆(MPW)技术的特点是什么?对发展集成电路设计有什么意义? MPW:把几到几十种工艺上兼容的芯片拼装到一个宏芯片上,然后以步行的方式排列 到一到多个晶圆上。意义:降低成本。 4. 集成电路设计需要哪四个方面的知识? 系统,电路,工具,工艺方面的知识
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集成电路设计练习题2009
1、说明一个半导体集成电路成本的组成。

2、简述CMOS工艺流程。

简述CMOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。

3、描述你对集成电路工艺的认识。

列举几种集成电路典型工艺。

工艺上常提到0.25,0.18指的是什么?简述CMOS工艺技术的发展趋势。

4、你知道的集成电路设计的表达方式有哪几种?
5、现有一用户需要一种集成电路产品,要求该产品能够实现如下功能:y=lnx 其中,x为4位二进制整数输入信号。

y为二进制小数输出,要求保留两位小数。

电源电压为3~5v 假设公司接到该项目后,交由你来负责该产品的设计,试讨论该产品的设计全程。

6、请谈谈对一个系统设计的总体思路。

针对这个思路,你觉得应该具备哪些方面的知识?
7、描述你对集成电路设计流程的认识。

8、集成电路前端设计流程,后端设计流程,相关的工具。

9、从RTL synthesis到tape out之间的设计flow,并列出其中各步使用的tool.
10、简述FPGA等可编程逻辑器件设计流程。

11、简述半定制数字电路的设计流程。

12、简要说明并比较数字集成电路几种不同的实现方法。

13、什么是集成电路的设计规则。

14、同步电路和异步电路的区别是什么?
15、画出CMOS电路的晶体管级电路图,实现Y=AB+C(D+E)
16、在CMOS电路中,要有一个单管作为开关管精确传递模拟低电平,这个单管你会用P管还是N 管,为什么?
17、硅栅COMS工艺中N阱中做的是P管还是N管,N阱的阱电位的连接有什么要求?
18、名词解释:VLSI, CMOS, EDA, VHDL, DRC, LVS, DFT, STA
19、画出CMOS与非门的电路,并画出波形图简述其功能。

20、latch与register的区别,为什么现在多用register。

行为级描述中latch如何产生的。

21、FPGA和ASIC的概念,他们的区别。

22、Please explain how we describe the resistance in semiconductor. Compare the resistance of a metal, poly and diffusion in traditional CMOS process.(威盛笔试题circuit design-beijing-03.11.09)
23、Please show the CMOS inverter schematic, layout and its cross section with P-well process. Plot its transfer curve (V out-Vin). And also explain the operation region of PMOS and NMOS for each segment of the transfer curve?
24、Please draw the transistor level schematic of a CMOS 2 input AND gate and explain which input has faster response for output rising edge.(less delay time)。

25、To design a CMOS inverter with balance rise and fall time, please define the ration of channel width of PMOS and NMOS and explain?
26、为什么一个标准的倒相器中P管的宽长比要比N管的宽长比大?
27、画出CMOS晶体管的CROSS-OVER图(应该是纵剖面图),给出所有可能的传输特性和转移特性。

(Infineon笔试试题)
28、目前集成电路产业发展到IP/Soc阶段,你是怎么理解IP复用技术的?
29、可编程逻辑器件在现代电子设计中越来越重要,请问:a) 你所知道的可编程逻辑器件有哪些?
b) 试用VHDL或VERILOG描述8位D触发器逻辑。

30、评价数字集成电路设计质量的指标有哪些?他们分别用什么来表示(或衡量)?
31、你认为目前数字集成电路设计中亟待解决的问题有哪些?为什么?
32、MOSFET本征寄生电容的来源是什么。

计算一个具有以下参数的NMOS管零偏置时所有相关电容的值。

33、特征尺寸的不断缩小对MOS管的工作特点和性质以及间接的对数字电路设计指标等有什么影响。

34、工艺尺寸的缩小对互连线有什么影响?
35、集成电路的导线引哪些寄生参数效应,他们对电路的特性有什么影响?
36、叙述静态CMOS的重要特性。

37、降低电源电压对CMOS管稳定性有何影响。

38、推导反相器一阶传播延时的表达式(一阶分析),说明减小一个门的传播延时的方法。

39、讨论晶体管尺寸与能耗之间的关系。

40、对于由N个反相器组成的具有固定输入和输出电容的反相器链,为使通过反相器链的延时最小,如何确定反向器链的尺寸及级数。

41、CMOS电路的功耗与哪些因素有关,如何降低电路的功耗?
42、如何降低大扇入电路的延时?
43、逻辑门的动态功耗可以通过减小它的实际电容和开关活动性来降低,降低开关活动性的设计技术有哪些?
44、动态逻辑门有哪些特性?
45、时序逻辑电路(锁存器和寄存器)有静态和动态两类,试对这两类电路进行比较。

46、流水线是优化时序电路的一种重要方法,NORA-CMOS逻辑形式的流水线结构有哪些特性。

47、一般数字信号处理器由哪些模块构成,对各模块进行简要说明。

48、说明模拟和验证的区别。

49、什么是Setup 和Holdup时间?setup和holdup时间,区别
50、解释setup time和hold time的定义和在时钟信号延迟时的变化。

51、解释setup和hold time violation,画图说明,并说明解决办法。

52、如何解决亚稳态。

亚稳态是指触发器无法在某个规定时间段内达到一个可确认的状态。

当一个触发器进入亚稳态时,既无法预测该单元的输出电平,也无法预测何时输出才能稳定在某个正确的电平上。

在这个稳定期间,触发器输出一些中间级电平,或者可能处于振荡状态,并且这种无用的输出电平可以沿信号通道上的各个触发器级联式传播下去。

53、时钟周期为T,触发器D1的建立时间最大为T1max,最小为T1min。

组合逻辑电路最大延迟为
T2max ,最小为T2min 。

问触发器D2的建立时间T3和保持时间应满足什么条件。

54、给出某个一般时序电路的图,有Tsetup, Tdelay, Tck->q,还有clock 的delay, 写出决定最大时钟的因素,同时给出表达式。

55、给出一个门级的图,又给了各个门的传输延时,问关键路径是什么,还问给出输入,使得输出依赖于关键路径。

56、CMOS 单元负载较大的电容时,只有提高W ,这样会使W*L 增加,相对前级又时一个大电容,如何解决这一矛盾?
57、在设计数字处理器IC 时可采用哪些方法或技术以降低数据通路部分的功耗。

58、为什么数字处理器IC 中数据通路常常组织成位片式结构?
59、数字处理器IC 中加法器对计算结构的性能有重要的影响,为提高多位二进制加法器的运算速度,可以采用哪些方法或技术?
60、如图,已知时序参数:寄存器最小延时(tc-q,cd )和最大传播延时(tc-q ),寄存器的建立时间(tsetup )和保持时间(thold ),组合逻辑的最小延
时(tlogic,cd )和最大延时(tlogic ),时钟CLK1
和CLK2上升沿相对于全局参考时钟的位置tclk1
和tclk2。

时钟偏差(δ)和时钟抖动(tjitter )。

求:
不考虑时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时
间和保持时间要求的时序约束表达式,以及考虑时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时间和保持时间要求的时序约束表达式。

61、时钟偏差和时钟抖动是如何产生的,哪些因素可以造成时钟偏差,哪些可造成时钟抖动。

减少时钟偏差和抖动的设计技术有哪些?
c -q t c -q,c
d t su, t hold logic
t logic,cd。

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