APIC 201405原料药厂清洁验证指南:5.0 清洁级别

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制药工程GMP(清洁验证)

制药工程GMP(清洁验证)

活性物质残留限度的确定
与生物活性有关的限度
– 最大可允许进入后续产品中的残留物总量: A产品活性强度(最小值)XB产品批量(最小值) B 产品日服用剂量(最大值)
产品活性强度
可用以下数值表示: 对人体无显著性影响水平值(NOEL) 最低日治疗剂量 X 安全系数
安全系数的选择:
* 外用产品: 1/10-1/100 * 口服产品: 1/100-1/1000 * 新的化学物质/无菌产品: 1/1000-1/10000
–实际计算可接收限度时,取样效率常取50 %,这样更安全。
–多次取样回收率的RSD不大于20%
100 mg
微生物取样
对难以接触的表面用棉签取样 对平直表面用RODAC板 微生物取样应在化学取样前进行
清洁验证检验方法
检验方法对于分析物是特定的 检验方法必须经过验证
– 专属性 – 灵敏度 – 精密度 – 线性范围 – 回收率(取样和检验)
清洁验证的内容
清洁验证验证什么 如何制定清洁程序 清洁规程要点 清洁验证的策略 最差情况确定
清洁验证的内容
取样及检验方法 残留物限度的确定 清洁验证方案的内容 再验证
清洁验证验证什么
验证的是清洁程序(清洁方法)的有效性, 确认设备按照一定的清洁程序清洗后,残 留物及微生物指标达到清洁要求所规定的 标准。
最终冲洗水取样,确定残留在设备表面所有水溶性 物质及清洁剂的残留量
取样及检验方法
微生物检验
棉签取样检验 最终冲洗水取样检验
总有机碳(TOC)测试
– 测量擦洗或冲洗后的水样中总有机碳的量
取样点的确定
取样点的确定依据:
* 设备最难清洗部位,如:筛网处、弯曲连接 处等
* 关键部位,如:灌装头、搅拌桨表面等 * 最有代表性部位 * 结构材料的不同部位

国家药监局清洁验证技术及应用指南

国家药监局清洁验证技术及应用指南

国家药监局清洁验证技术及应用指南下载提示:该文档是本店铺精心编制而成的,希望大家下载后,能够帮助大家解决实际问题。

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制药厂清洁验证

制药厂清洁验证

3 轮清洁验证
精选ppt
29
选择最差状况
)
产品 溶解度 毒性
A B C D E F
剂量
设备复杂 生产经验 生产时间 性
精选ppt
30
选择最差状况
多个最差状况时)
产品 溶解度 毒性
A
B
C
1 轮清洗
D
E
F
1 轮清洗
剂量
1 轮清洗
精选ppt
设备复杂 性
生产经验 生产时间
1 轮清洗
1 轮清洗
1 轮清洗
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选择最差状况
(多个最差状况时)
产品 溶解度 毒性
A
B
C
1 轮清洗
D
E
F
1 轮清洗
剂量
设备复杂 性
生产经验 生产时间
1 轮清洗
1 轮清洗
1 轮清洗
1 轮清洗
精选6ppt轮清洁验证
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取样及检验方法
首先确认清洁程序被严格执行 清洁后设备的目检 化学检验
棉签擦拭取样, 确定残留在设备表面活性物质的浓度 冲洗溶剂取样,确定残留在设备表面活性物质的浓度,
精选ppt
19
如何制定清洁程序
设备标准清洁程序要求
– 应书面、详尽细致 – 必须包括操作进行的顺序 – 必须包括每一步骤的时间等参数要求 – 明确责任人员 – 清洁记录 – 清洁过程中的监控
精选ppt
20
清洁规程要点
拆卸(程度)要求 每一步的清洗要求 – 浸泡/预冲洗/清洗/喷淋时间、温度要求 – 清洗剂名称/浓度/数量/配制方法 – 清洁工具要求 消毒/灭菌,方法及相关参数 干燥方法 清洁后检查要求
擦拭法取样

原料药清洁验证

原料药清洁验证

FDA的要求
在FDA的cGMP211.67章节中规定了设备清洗验证的要求。 •建立书面SOP,其中必须详细规定设备各部件的清洗过程 •必须建立书面的清洗方法验证通则
•清法方法验证通则应规定验证的负责人、批准验证工作的负责人、验证合
格标准、再验证时间 •对各生产系统或各设备部件进行清洗验证之前,应制定专一特定的书面验
设备
•清洁后设备在规定的存放条件下的存放时间需 经过验证 •一般在生产结束后立即清洁进行清洁效果验证; •如生产结束后不能立即清洁,则必须按生产结束 后存放的最长时间进行清洁效果验证 •当所用清洗剂与生产工艺无关时,须将清洗剂本 身去除到一个安全的标准
•与产品直接接触的设备,其清洁程序必须经过验证 •同一设备不同部位清洁方式不同,分别验证 •取样点包括最难清洁、关键、最有代表性、不同结构材料、 产物可能转移到的与产品非直接接触部件的部位等
2018/9/22
服务社会 · 营造健康
13
欧盟cGMP规范
38 通常只有接触产品设备表面的清洁规程需要验证;某些场合下,还应考 虑不直接接触产品的部分,应验证设备使用与清洁的间隔时间,以及已 清洁设备可保留的时间,并通过验证确定清洁的时间间隔和清洁方法。 39 对于相似产品或相似工艺而言,可从相似产品及工艺中,选择一个具有 代表性的产品和工艺进行清洁验证。可采用“最差条件”的方法进行单
程度以及残留物的限度来选择清洁参照物,而残留物的限度则需根据活性、毒性
和稳定性确定。
2018/9/22
服务社会 · 营造健康
10
cGMP规范—附录2
第24条 清洁验证:
(三)清洁验证方案应当详细描述清洁的对象、清洁操作规程、选用的 清洁剂、可接受限度、需监控的参数以及检验方法。该方案还应当说明样品

APIC 202105原料药厂清洁验证指南:4.0可接受标准

APIC 202105原料药厂清洁验证指南:4.0可接受标准

APIC 202105原料药厂清洁验证指南:4.0可接受标准APIC 202105原料药厂清洁验证指南:4.0可接受标准(上)(中英文)注:本文件是由 CEFIC 的 APIC 内的清洗验证工作组制定。

CEFIC: 欧洲化学工业委员会(cefic,europeanchemicalindustrycouncil)4.0 Acceptance Criteria 可接受标准 4.1. Introduction 概述Companies must demonstrate during validation that the cleaning procedure routinely employed for a piece of equipment limits potential carryover to an acceptable level. That limit established must be calculated based on sound scientific rational. 公司在验证时要证明各设备日常所用的清洁程序能将带入下一产品的潜在残留限制在一个可以接受的水平。

所建立的限度必须进行科学合理的计算。

This section provides practical guidance as to how those acceptance criteria can be calculated. It is important that companies evaluate all cases individually. There may be specific instances where the product mix in the equipment requires further consideration.本部分提供实用的指南,指导如何计算这些可接受标准。

公司对各案进行各案评估是非常重要的。

药品生产验证指南清洁验证清洁方法的优化

药品生产验证指南清洁验证清洁方法的优化

药品生产验证指南清洁验证■清洁方法的优化在实际生产中,一台(组)设备用于多种产品的生产是非常普遍的现象。

有时各种产品的物理、化学性质有很大差异。

这就给清洁规程的制定者提出这样的问题:是否要为每个产品分别制定清洁规程呢?经验告诉我们,为一台(组)设备制定多个清洁规程并不可取:这不但由于为每个规程进行验证的工作量过于庞大,更主要的是对操作者来说要在多个规程中选择适当的清洁方法很容易造成差错。

比较可行的方法是在所有涉及的产品中,选择最难清洁的产品为参照产品,以所有产品/原料中允许残留量最低的限度为标准(最差条件),优化设计足以清除该产品/原料以达到残留量限度的清洁程序。

验证就以该程序为对象,只要证明其能达到预定的要求,则该程序能适用于所有产品的清洁。

当然,从环保和节约费用的角度考虑,如果实践证明该清洁程序对大多数产品而言过于浪费,也可再选择一个典型的产品进行上述规程制定和验证工作。

这时,在规程中必须非常明确地规定该方法适用于哪些产品,还须明确为防止选择时发生错误需要采取的必要的措施。

参照产品的选择原则如下。

① 将所有产品列表(见表3-49) o②确定产品的若干物理、化学性质为评价项目:如主要活性成分的溶解度,黏度,吸附性等,其中最主要的性质为溶解度。

③ 对每个产品的评价项目打分。

如将溶解度分为I/2/3/4级,依次表示难溶/微溶/ 可溶/易溶。

④根据经验和产品性质,拟定适当的清洁剂种类。

⑤计算各产品的最大允许残留限度。

计算方法参见第二节的有关内容。

⑥将表格按照溶解度由小到大排序,选择溶解度最小的产品作为参照产品。

⑦如果表格中使用的清洁剂可分为水/水溶性清洁剂(包括酸、碱溶液)和有机溶剂两类,应分别选择一种参照代表产品。

⑧将表中允许残留限度最小的数值确定为验证方案的允许残留物限度标准。

⑨将与参照产品对应的清洁剂确定为清洁方法使用的清洁剂。

从表中可见,产品丙、丁、乙、戊,可用水溶性清洁剂清洁,应选最难溶的产品丙为参照产品,清洁剂为l%NaOH热水溶液,允许残留限度定为lUg∕cm-2。

清洁验证标准详解


防止容器底部积水:
底部出口大小(英寸) 0.5 1.0 1.5 2.0 容器排水速率估算 (L/M) 5.0 45.5 140.9 268.2
2.5
454.6
管道盲管
为了有效和可重复的清洗通常要求管路系 统中的分叉口或交接口的L/D<2.0
仪器形分叉口
阀门形分叉口
管道盲管(续)
清洁剂的选择
选择标准:
第九章 生产管理 第二节 防止生产过程中的污染和交叉污染 第一百九十七条 生产过程中应当尽可 能采取措施,防止污染和交叉污染,如: (六)采用经过验证或已知有效的清洁和 去污染操作规程进行设备清洁;必要时, 应当对与物料直接接触的设备表面的残留 物进行检测;
欧盟GMP的要求:
36. 为确认清洁规程的效力,应进行清洁验证。应根据 所涉及的物料,合理的确认产品残留、清洁剂和微生 物污染的限度标准。这个限度标准应该是可以达到的, 能够证实的。 37. 应使用经验证、检出灵敏度高的检验方法来检测残 留或污染物。每种分析方法或仪器的检测灵敏度应足 以检测出设定合格限度水平的残留或污染物。 38. 通常只有接触产品设备表面的清洁规程需要验证。 某些场合下,还应考虑不直接接触产品的部分。应验 证设备使用与清洁的间隔时间,以及已清洁设备可保 留的时间,并通过验证确定清洁的间隔时间和清洁方 法。
FDA的要求:
在FDA的cGMP 211.67章节 中规定了设备清洗验证的要 求。 建立书面标准操作程序(SOP),其中必须详细规 定设备各部件的清洗过程。 必须建立书面的清洗方法验证通则。 清洗方法验证通则应规定执行验证的负责人、批准 验证工作的负责人、验证标准(合格标准)、再验 证的时间。 对各生产系统或各设备部件进行清洗验证之前,应 制定专一特定的书面验证计划,其中应规定取样规 程、分析方法(包括分析方法的灵敏度)。

APIC更新清洁验证PDE概念

In our news dated 11 June 2014 entitled "APIC publishes Guidance on CleaningValidation in Active Pharmaceutical Ingredients Plants", wealready reported about the APIC "Guidance on Aspects of CleaningValidation in Active Pharmaceutical Ingredients Plants". Now, a revisionhas brought the APIC guidance in line with EMA's guideline on "SharedFacilities".在我们2014年6月11日题为“APIC发布原料药车间清洁验证指南”的新闻中,我们已经报道了APIC的“原料药车间清洁验证指南”。

现在,APIC对其进行了修订以保持与EMA关于共用设施的指南对齐。

The original 55-page document is still divided into 13 chapters:原来的55页文件现在仍分为13章:Foreword 前言Objective 目的Scope 范围Acceptance criteria 可接受标准Levels of Cleaning 清洁分级Control of Cleaning Process 清洁工艺控制Bracketing and Worst Case Rating 残留数量的确定Cleaning Validation Protocol 清洁验证方案Validation Questions 验证问题References 参考文献Glossary 术语Copyright and Disclaimer 版权和免责声明The main changes were made to Chapter 4 on AcceptanceCriteria so that theguideline is now 57 pages long. The document frequently uses the term PDEbeside the criterion ADE so far mentioned. Both terms ADE/PDE i.e. ADE or PDEcan be found. Whereby, it is stated in the document that the guidancepreferably refers to ADE in the calculations examples as it enables a bettercomparison to the examples listed in the ISPE document Risk MaPP. A new elementin Chapter 4 is the calculation formula for PDE with explanation of the respectiveabbreviations. The glossary has been updated accordingly. Moreover, editorialchanges have been made to the document.主要变化在第4章可接受标准,这样指南现在成为57页长了。

《APIC 原料药工厂中清洁验证指南(2016版)》中英文(APIC Cleaning Validation Guide 2016)

ACTIVE PHARMACEUTICAL INGREDIENTS COMMITTEE (APIC)GUIDANCE ON ASPECTS OF CLEANING VALIDATIONIN ACTIVE PHARMACEUTICAL INGREDIENT PLANTS原料药工厂中清洁验证指南Revision September 2016Table of Contents 目录1.0 FOREWORD 前言This guidance document was updated in 2014 by the APIC Cleaning Validation Task Force on behalf of the Active Pharmaceutical Ingredient Committee (APIC) of CEFIC.本指南文件于2014年由APIC清洁验证工作组代表CEFIC的APIC委员会进行了更新。

The Task Force members are:- 以下是工作组的成员―Annick Bonneure, APIC, Belgium―Tom Buggy, DSM Sinochem Pharmaceuticals, The Netherlands―Paul Clingan, MacFarlan Smith, UK―Anke Grootaert, Janssen Pharmaceutica, Belgium―Peter Mungenast, Merck KGaA, Germany.―Luisa Paulo, Hovione FarmaCiencia SA, Portugal―Filip Quintiens, Genzyme, Belgium―Claude Vandenbossche, Ajinomoto Omnichem, Belgium―Jos van der Ven, Aspen Oss B.V., The Netherlands―Stefan Wienken, BASF, Germany.With support and review from:- 以下为提供支持和进行审核的人员―Pieter van der Hoeven, APIC, Belgium―Anthony Storey, Pfizer, U.K.―Rainer Fendt, BASF, Germany.A further revision of the guidance document has now been done in 2016 to bring it in line with the European Medicines Agency Guidance on use of Health Based data to set acceptance criteria for cleaning. The main changes were introduced in Chapter 4, Acceptance Criteria.本指南文件进一步修订已于2016年完成,使其与EMA使用基于健康数据设定清洁可接受标准的指南保持一致。

清洁验证指南

清洁验证指南1)2)经验的人可以接触的某一药物的暴露剂量。

3)允许残留浓度(ARL,Allowable ResidualLimit).指某一设备经清洗后,其表面残留的药物(或清洁剂)的最大允许量。

4)活性成分(API,Active Pharmaceuticallngredient;或ADS,Active DrugSubstance):指在某一药物中代表效用的物质。

这种物质在制造、工艺或包装过程中就变成了一种活性成分或者药物的最终成型形式。

活性成分在疾病诊断、治疗、缓解、处理或预防方面提供药理上的活力或其他直接的作用,以致影响人体或动物的组织和功能。

API 在工艺制造过程中产生,如:①化学合成;②发酵;③重组DNA或其他生物工艺;④从自然资源上分离或取得;⑤其他工艺的任何组合等。

对设备清洁验证来说,API包括中间体及成品。

一般来说,SEL、ARL 的允许值应从药物安全评价部门获取。

二、验证设计在验证取样测试时,若发现洗过的设备明显不干净,应立即停止验证,有明显的残留物存在表明现有的清洁程序是不合适的,因此必须在验证开始前重新评价清洁程序。

从某种意义上来说,清洁验证就是对清洗标准操作规程的验证。

清洁验证主要是通过擦拭取样法和冲洗取样法对活性成分APl 进行测试。

另外可根据日常使用的需要,增加一些其他项目的测试,如清洁剂、酸液、溶剂、消毒剂等残留量的测试。

大部分企业在设备清洗中使用的清洁剂是水(包括饮用水、纯化水和注射用水),原因之一就是使用化学清洁剂要作清洁剂残留量的测试,从而增加清洗的难度。

制造部门在设备清洁程序中任何关于清洁剂、溶剂、添加剂的改变必须填写变动控制表,得到批准后执行。

并非所有的设备清洁验证需做活性成分APl 的测试。

根据APl 是否在特殊的清洁剂或溶剂中溶解而使设备难以清洗的程度来对APl 的浓度作出评价o APl 允许浓度可根据公式来计算,如果人体接触剂量限度SEL 太低无法达到时,可用替代基质来覆盖所有的产品。

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APIC 201405原料药厂清洁验证指南:5.0 清洁级别 5.0 Levels of Cleaning 清洁级别 5.1 Introduction 介绍 The manufacturing process of an Active Pharmaceutical Ingredient (API) typically consists of various chemical reaction and purification steps followed by physical changes. In general, early steps undergo further processing and purification and so potential carryover of the previous product would be removed.

原料药的生产工艺一般由不同化学品经过反应和纯化步骤,再经过一些物理变化组成。一般来说,较早的步骤会经进进一步处理和纯化,因此上一产品潜在的残留会被清除掉。

The level of cleaning required in order to ensure that the API is free from unacceptable levels of contamination by previous substances varies depending on the step being cleaned and the next substance being manufactured in the same piece of equipment (train).

为保证下一原料药被上一产品污染水平可接受,所需进行的清洁程度取决于清洁所针对的工艺步骤,以及在同一设备(链)中生产的下一产品。

API`s and related intermediates are often produced in multi-purpose equipment with frequent product changes which results in a high amount of cleaning. To minimize the cleaning effort the concept of using different levels of cleaning as a function of the level of risk related with the possible carryover may be applied without affecting the safety of the API.

原料药和相关的中间体一般会在多用途设备中生产,频繁的更换产品会导致大量的清洁操作。为了将清洁工作量降至最小,在不影响原料药的安全性的前提下,可以考虑使用不同的清洁级别来应对与可能的残留相关的不同风险水平。 5.2 Cleaning levels 清洁级别 It is recommended that at least three levels of cleaning in the production of a commercial product may be implemented. This approach is outlined in the table below, however it should be mentioned that additional levels might be necessary depending on the nature of the process and requirements of individual companies but should always be based on risk assessment where the characteristics of the previous and subsequent products such as solubility, recovery studies, nature of residues, process step, etc. should be considered.

在商业化产品生产中,推荐使用至少3个清洁水平。以下表格中列出了该方法,但值得一提的是,根据各公司的工艺特性和要求,可能需要增加更多水平。不管怎样,要始终基于风险评估,考虑上一次品和下一产品的特性,如溶解度、回收率研究、残留特性、工艺步骤等来做决定。

Level Thoroughness of cleaning Cleaning verification Cleaning validation Visual

inspection

Analytical verification

2 Carryover of the previous product is critical. Cleaning required until predetermined stringent carry over limits are met. High risk. Yes Yes Mandatory

1 Carryover of the previous product is less critical. Cleaning should reduce the potential carry over to a less stringent limit as required for level 2. Medium risk. Yes Yes Recommended

0 Only gross cleaning if carryover ofYes No No the previous product is not critical. Low risk.

水平 清洁彻底程度 清洁验收 清洁验证 目视检查 测试验

2 上一产品的残留很关键。要求清洁直至符合严格预定的残留限度。高风险。 是 是 必须

1 上一产品的残留不太关键。清洁应将潜在残留降低到比水平2要求更低的限度。中等风险。 是 是 推荐 0 如果上一产品的残留并不关键,则只需要粗清。低风险。 就 否 不要

A general approach how these levels could be established for typical product changeover situations in a multi-purpose API-plant is outlined in the figure below.

下图列出了在一个多用途原料药工厂,针对典型的产品更换情况如何建立3个水平的通用方法。 Figure 1: Typical Product Changeover Scenarios 图1:典型的更换产品情况

The levels established as shown in figure 1 are based on the approach that in general the thoroughness of cleaning will increase and the acceptable carryover of the previous product will decrease from early steps in the route of synthesis to the final API due to the fact that early steps undergo further processing and/or purification and so the potential carry over will be reduced by further processing. Physical operations, which mean e.g. powder handling such as drying, sieving or milling obviously do not reduce the potential carry over. During the risk assessment it should be taken in consideration that the residues may contribute to a degradation of the next product’s quality or safety and ultimately have a detrimental effect on the final consumer.

建立图1中所示的清洁级别的依据是在一般情况下,随着合成步骤越来越接近原料药成品,清洁的彻底程度会增加,上一产品在下一产品中允许残留量会减少,由于较前面的步骤会经历进一步工艺过程和/或精制,因此潜在的残留物会被后续的工艺过程降低。物理操作,例如粉料处理如干燥、过筛或粉碎,很显然不会降低潜在残留量。在风险评估过程中,要考虑残留物可能会引起下一产品质量或安全性变差,最终对产品消费者产生不利的影响。

Fig 1 shows examples of several possibilities of equipment usage patterns 图1显示了几种可能的设备使用模式。 1) The following product is the next step in the synthetic chain 下一产品是合成链中的下一步骤

A typical manufacturing process applied to production of Active Pharmaceutical Ingredients consists of various chemical reaction and purification steps followed by physical changes, as can be generally illustrated by the sequence of the production line of a product A or B. In this case level 0 may be applied because the previous product is the starting material of the following manufacturing step and the analytical methods applied for the following product are usually suitable to detect the previous product which is covered and limited by the impurity profile.

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