反射镜-强激光用电介质膜反射镜
3.7-空间光调制器资料
c ,c m,c 2m
时间调制器
电光调制器：电场控制 （克尔效应或泡克耳斯效应）
磁光调制器（磁光效应）
声光调制器：用超声信号驱动
幅度大而速度快的光强时间调制器可 作光开关
幅度大而有规律的光方向时间调制器可作光扫描器
空间调制器：光强、偏振态或相位等随空间各点而变化， 进行调制，可产生光强的某种空间分布。
A(x,y)＝A0T(x,y)
或者是形成随坐标变化的相位分布 A(x,y)＝A0Texp[iθ(x,y)]
y x
或者是形成随坐标变化的不同的散射状态。顾名思义， 这是一种对光波的空间分布进行调制的器件。它的英文名 称是Spatial Light Modulator(SLM)。
空间光调制器含有许多独立单元，它们在空间排列成 一维或二维阵列，每个单元都可以独立地接受光信号或电 信号的控制，并按此信号改变自身的光学性质(透过率、反 射率、折射率等)，从而对通过它的光波进行调制；控制这 些单元光学性质的信号称为“写入信号”，写入信号可以 是光信号也可以是电信号，射入器件并被调制的光波称为 “读出光”；经过空间光调制器后的输出光波称为“输出 光”。实时的二维并行处理。
3.电光数字式扫描
由电光晶体和双折射晶体组合而成，其结构原理如图5所示。
图中S为KDP晶体，B为方解石双折射晶体（分离棱镜），它能使线偏振
光分成互相平行、振动方垂直的两束光，其间隔 b为分裂度，为分裂角（也
称离散角）。
纵向电光调制器及其工作原理
T
Io Ii
sin 2
2
sin
2
2
V V
上述电光晶体和双折射晶体就构成了一个一级数字扫描器， 入射的线偏振光随电光晶体上加和不加半波电压而分别占据两 个“地址”之一，分别代表“0”和“l”状态 。
光纤激光器的基本结构
光纤激光器的基本结构光纤激光器是一种利用光纤作为激光介质的激光器。
它具有高效率、高稳定性、小体积等优点，被广泛应用于通信、医疗、材料加工等领域。
其基本结构包括泵浦源、光纤增益介质、反射镜和输出窗口。
1. 泵浦源泵浦源是光纤激光器中最重要的组成部分之一，其作用是提供能量给增益介质，使其产生受激辐射。
常用的泵浦源有半导体激光器和二极管激光器两种。
半导体激光器是一种将电能转化为光能的器件，其工作原理是利用半导体材料中的电子与空穴复合时释放出能量的过程来产生激光。
半导体激光器具有小体积、高效率等特点，但其输出功率有限。
二极管激光器也是一种将电能转化为光能的器件，与半导体激光器相比，二极管激光器具有更高的输出功率和更广阔的工作范围。
因此，二极管激光器是目前光纤激光器中常用的泵浦源。
2. 光纤增益介质光纤增益介质是光纤激光器中产生受激辐射的关键部分。
常用的增益介质有掺铒、掺镱等元素的光纤。
掺铒光纤是一种将铒元素掺杂进石英玻璃中制成的光纤，其主要特点是在1.5微米波段具有较高的增益。
掺镱光纤则是将镱元素掺杂进石英玻璃中制成的光纤，其主要特点是在1.06微米波段具有较高的增益。
3. 反射镜反射镜是将激光产生并放大后反射回来形成激射束束流线的关键部分，通常由高反膜和低反膜组成。
高反膜可以使得大部分激发后发出来的能量被反射回去，而低反膜可以使得少量能量通过，从而形成激射束束流线。
4. 输出窗口输出窗口是将激射束束流线从光纤内部输出的关键部分，通常由透明的玻璃或石英制成。
输出窗口可以使得激射束束流线从光纤内部顺利输出，并保护光纤不受外界环境的影响。
总之，光纤激光器的基本结构包括泵浦源、光纤增益介质、反射镜和输出窗口。
这些组成部分相互配合，共同完成了将泵浦能量转化为激射束束流线的过程。
随着科技的不断发展，光纤激光器在各个领域中的应用前景也越来越广阔。
反射镜-面精度保证反射镜
● 镜片的固定方法会严重影响其面精度。 我们也可提供保证面精度的安装了镜架的组合产品。
面精度数据（参考数据）
功能说明图
入射角 45±3°
反面 光面 箭头所指的为反射面
正面 多层电介质膜
外形图（mm）
● 记号说明
外径
D
+0 -0.1
D
厚度 t ±0.1
t
● 面精度测量法：采用Zygo公司激光干涉计测量 ● 面精度测量用波长：632.8nm ● 面精度测量保证温度：23℃±2℃
适用 波 长 外 径 Ｄ
〔nm〕 〔mm〕
248
φ12.7
248
φ25.4
248
φ30
248
φ50
248
φ50.8
266
φ12.7
266
φ25.4
266
φ30
266
φ50
266
φ50.8
308
φ12.7
308
φ25.4
308
φ30
308
面精度保证反射镜
HTFM ྻܥ
优化了基板材料，厚度和镀膜条件，实现了高面精度。 镀膜后的面精度达到了λ／１０。
实现了比现有的电介质平面镜（TFM）更高的面精度。 基板材料为合成石英，采用较厚德基板厚度，提高了基板的刚性。 能提供对应紫外激光以及YAG激光的各波长的高反射率的镜片。
注意 ● 如需要面精度的实测数据，需要另外收取费用，请咨询销售部。 ● 这里的反射率特性曲线是参考数据。
250
300
350
400
λ〔nm〕
Transmittance at visible…80 ～ 90％
HTFM-308[Xe*Cl]
激光光谱半反射镜
滤
长，偏光状态以及入射角的不同而变化。反射率越高，其变化量越大。
光
片
● 使用平行基板时，会产生光路偏移和反面反射引起的重影现象。采用楔形基板
可以防止重影。
偏 光 类 产 品
反面：防反射多层膜
反射面由此箭头指示 入射角：45°
透 镜
形状：平行基板，或楔形基板
组
合
透
镜
技术指标
材料
面精度
棱 镜
光学膜
入射角
镜
PSMH-30C03-10-355
PSMH-30C05-10W-355
PSMH-50C05-10-355
PSMH-50C08-10W-355
PSMH-30C03-10-405
PSMH-30C03-10W-405
组
PSMH-30C03-10-405
合
PSMH-30C03-10W-405
透 镜
PSMH-25.4C03-10-1064
棱
镜
100
P
S
80
AV
60
40
20
0 900
950
1000
1050
1100
1150
1200
窗 口
半导体激光（700 〜 900 nm）
100
80
60 T ʤ%ʥ 40
基
20
板
2 5 )8
0
600
700
800
900
1000
Еʤnmʥ
中心波长：800 nm LD 半导体激光：780, 830 nm
PSMH-193〔Ar*F〕
PSMH-30C05-10W-800
PSMH-50C05-10-800
激光器电路原理
激光器电路原理
激光器是一种能够产生高强度、高单色性、高方向性的光束的装置。
它的工作原理是利用电子在能级间跃迁时所释放的能量来激发光子，从而产生激光。
激光器电路是激光器能够正常工作的关键，下面我们来了解一下激光器电路的原理。
激光器电路主要由三部分组成：泵浦源、激光介质和反射镜。
泵浦源是激光器电路中的能量输入部分，它提供能量来激发激光介质中的原子或分子，使其处于激发态。
激光介质是激光器电路中的能量转换部分，它将泵浦源提供的能量转换成激光能量。
反射镜是激光器电路中的能量输出部分，它将激光束反射回激光介质中，使激光能够不断地被放大，最终形成一束高强度、高单色性、高方向性的激光束。
激光器电路的工作原理是：泵浦源提供能量，使激光介质中的原子或分子处于激发态，这些激发态的原子或分子会在受到外界刺激时跃迁到低能级，释放出能量。
这些能量会被吸收到激光介质中的其他原子或分子中，使它们也处于激发态。
这样，一个激发态的原子或分子就可以激发多个原子或分子，从而形成一个激发态的区域。
当这个激发态的区域达到一定的大小时，就会形成一个激光束。
这个激光束会被反射镜反射回激光介质中，使激光能够不断地被放大，最终形成一束高强度、高单色性、高方向性的激光束。
激光器电路是激光器能够正常工作的关键。
只有在泵浦源、激光介质和反射镜三个部分都正常工作的情况下，才能够产生高强度、高单色性、高方向性的激光束。
近代物理实验报告—He-Ne激光模谱分析与模分裂
2
q
（ 1） 。当一片双折射元件放入激光谐振腔中，由于双折射元件
对两正交偏振方向的光（o 光和 e 光）有不同折射率，o 光和 e 光在激光腔中的光程不同，所以原本唯一的
谐振腔长 “分裂” 为两个腔长， 两个腔长又不同的本征频率， 一个激光频率变成了两个。 其中 为光程差。 （3）模竞争
6.92ms
△t2,4
6.92ms
即自由光谱区 ：3.28ms 表 7 短激光管的纵模实验测量与计算值
△t1,2
平均值
1.24ms
△t3,4
1.12ms
即纵模间距：1.18ms 计算的结果为： 短激光管的纵模间距为：647.6MHz，误差为：4.5%。 观察的短管激光器的光斑如图 10：
4 L K （5）
其中 K 为整数。只有满足该驻波条件的光才可以因为干涉极大而透过干涉仪进入光电计测量光强。可 以证明光频率 v 的变化与腔长的变化量成正比， 也就是与加在压电陶瓷环上的电压成正比。 实验中示波器的 横向扫描采用与干涉仪的腔长扫描同步，示波器的横坐标 t 的变化就可以表示干涉仪的频率变化， 即 V L v t 。
将这些参数代入公式(3)、(4)中，可得两种激光管的出射光若存在不同的模式，则其纵模间隔与横模间 隔的理论值如表 2。 表 2 纵横模理论值
长激光管 纵模间隔 横模间隔 445.10MHz 87.75MHz 短激光管 619.83MHz 101.47MHz
5 / 9
2、长激光管模谱的实验测量与分析 实验中在示波器上观察到的长激光管的模谱如图 6 所示
1 2
3
4
5
6
7
8
9 10
11 12
全电介质反射膜
全电介质反射膜全电介质反射膜是一种广泛应用于光学领域的薄膜材料，它具有高反射、低散射、高透过率等优良特性。
反射膜的制备方法多种多样，其中以物理气相沉积（PVD）和溶胶-凝胶法（Sol-Gel）制备的全电介质反射膜最为常见。
全电介质反射膜的制备过程中，首先需要选择合适的材料组成。
常见的材料有氧化硅（SiO2）、二氧化硅（SiO2）、氮化硅（Si3N4）、氟化镁（MgF2）等。
这些材料具有不同的折射率和厚度，可以根据不同的需求进行组合，以实现特定的光学性能。
物理气相沉积是制备全电介质反射膜最常用的方法之一。
该方法通过将材料源加热至高温，使其蒸发并沉积在基底上。
在沉积过程中，通过控制沉积速率和沉积时间等参数，可以实现不同材料的层层堆砌，形成多层膜结构。
这些层之间的界面可以有效地反射光线，从而实现高反射率。
溶胶-凝胶法是另一种制备全电介质反射膜的常见方法。
该方法通过将溶胶液中的前驱体分子进行水解和缩聚反应，形成凝胶。
随后，通过热处理或光照等方式，将凝胶转化为固态薄膜。
这种方法制备的反射膜具有较好的均匀性和光学性能。
全电介质反射膜的光学性能主要由其折射率和厚度决定。
为了实现特定的光学性能，通常需要设计多层膜结构。
这种多层膜结构是由多个高折射率层和低折射率层交替组成的，通过控制每层的厚度和折射率，可以实现特定波长范围内的高反射率。
全电介质反射膜具有广泛的应用领域。
在光学器件中，全电介质反射膜常用于制备高反射镜、透镜和滤光片等光学元件。
在太阳能领域，全电介质反射膜可以用于制备太阳能电池的反射镜面，提高太阳能电池的光吸收效率。
此外，全电介质反射膜还可以应用于光纤通信、激光器、显示器等领域。
全电介质反射膜是一种具有高反射、低散射、高透过率等优良光学性能的薄膜材料。
通过选择合适的材料组合和制备方法，可以实现特定波长范围内的高反射率。
全电介质反射膜在光学器件、太阳能领域和光纤通信等领域具有广泛的应用前景。
基本的光学结构
基本的光学结构光学是研究光的传播和性质的科学领域，而光学结构则是指用于控制光的传播和处理光的器件或系统。
本文将介绍几种基本的光学结构，包括透镜、棱镜、反射镜和光纤。
一、透镜透镜是一种光学元件，可以将光线聚焦或发散。
透镜的基本结构是两个曲面，其中一个或两个曲面是球面。
透镜根据其形状可分为凸透镜和凹透镜。
凸透镜能够将平行光线聚焦到焦点上，而凹透镜则能够使入射光线发散。
透镜的焦距决定了它的聚焦能力。
焦距较短的透镜能够使光线更快地聚焦，而焦距较长的透镜则使光线聚焦的位置更远。
透镜在光学领域有广泛的应用，如在相机、望远镜和显微镜中用于调节图像的清晰度和放大倍数。
二、棱镜棱镜是一种光学元件，具有三角形的截面。
它能够改变光线的传播方向和折射角度。
棱镜的基本结构是由两个平面和一个或多个折射面组成。
当光线从一种介质进入另一种介质时，会发生折射现象，棱镜利用这一现象来分离白光成各种颜色的光谱。
棱镜的折射角度取决于入射光线的入射角度和两种介质的折射率。
不同形状和材料的棱镜对光的分离效果也有所不同。
棱镜在光谱分析、光通信和光学仪器中起着重要的作用。
三、反射镜反射镜是一种光学元件，能够反射光线。
根据其反射面的形状，反射镜可分为平面镜、球面镜和非球面镜。
平面镜的反射面是一个平面，能够将入射光线反射为相同角度的出射光线。
球面镜和非球面镜的反射面是曲面，能够使光线聚焦或发散。
反射镜的反射效果取决于其表面的光学质量和反射涂层的特性。
高质量的反射镜具有高反射率和低散射率，能够产生清晰的反射图像。
反射镜在激光器、望远镜和光学测量中被广泛使用。
四、光纤光纤是一种能够传输光信号的细长结构，由光纤芯和包覆层组成。
光纤的核心是一个具有较高折射率的介质，而包覆层则是一个折射率较低的介质。
光线通过光纤时会发生全反射现象，从而沿着光纤传播。
光纤的基本结构使其具有很多优点，如高带宽、低损耗和抗干扰能力强。
光纤广泛应用于通信领域，用于传输电话、互联网和电视信号。
高能激光反射镜热变形补偿
高能激光反射镜热变形补偿激光技术在现代工业和科学研究中广泛应用，尤其是在激光加工、激光制造、激光测量等领域。
而激光反射镜作为激光系统中的重要组成部分，其热变形问题一直是制约激光系统精度和稳定性的关键因素之一。
因此，如何减小激光反射镜的热变形，提高激光系统的性能和稳定性，一直是激光技术研究的热点问题之一。
一、激光反射镜的热变形原因激光反射镜在激光加工和激光制造中，经常需要承受高功率激光束的照射，因此会产生大量的热量。
这些热量会导致激光反射镜材料的热膨胀和热变形，从而影响激光系统的精度和稳定性。
具体而言，激光反射镜的热变形主要表现为以下几个方面：1.镜面形状变化：激光反射镜的镜面受热后，会产生形状变化，如球面度变化、面形误差增大等。
2.镜面光学性能变化：激光反射镜的热变形会导致镜面的光学性能发生变化，如反射率下降、散射增大等。
3.镜体变形：激光反射镜的镜体也会受到热膨胀的影响，产生变形，如形状变化、尺寸变化等。
二、激光反射镜热变形补偿方法为了减小激光反射镜的热变形，提高激光系统的性能和稳定性，目前主要采用以下几种方法进行热变形补偿：1.材料选择：选择热膨胀系数较小的材料制作激光反射镜，如低膨胀玻璃、石英等。
2.结构设计：通过优化激光反射镜的结构设计，减小热变形对激光系统的影响。
例如，采用空心结构、镜体加厚等。
3.冷却系统：设置冷却系统，及时将激光反射镜表面产生的热量散发出去，保持激光反射镜的温度稳定。
4.热变形补偿技术：热变形补偿技术是目前较为常用的方法。
该技术通过在激光反射镜表面贴附补偿片或者在激光反射镜的表面涂覆补偿涂层等方式，对激光反射镜的热变形进行补偿。
热变形补偿技术可以分为两种：静态热变形补偿和动态热变形补偿。
静态热变形补偿：静态热变形补偿是指在激光反射镜表面贴附补偿片，通过补偿片对激光反射镜的热变形进行补偿。
补偿片一般采用金属材料，其热膨胀系数与激光反射镜的热膨胀系数不同，通过补偿片的热膨胀或收缩，对激光反射镜的热变形进行补偿。
什么是反射镜
矿产资源开发利用方案编写内容要求及审查大纲
矿产资源开发利用方案编写内容要求及《矿产资源开发利用方案》审查大纲一、概述
㈠矿区位置、隶属关系和企业性质。
如为改扩建矿山, 应说明矿山现状、
特点及存在的主要问题。
㈡编制依据
(1简述项目前期工作进展情况及与有关方面对项目的意向性协议情况。
(2 列出开发利用方案编制所依据的主要基础性资料的名称。
如经储量管理部门认定的矿区地质勘探报告、选矿试验报告、加工利用试验报告、工程地质初评资料、矿区水文资料和供水资料等。
对改、扩建矿山应有生产实际资料, 如矿山总平面现状图、矿床开拓系统图、采场现状图和主要采选设备清单等。
二、矿产品需求现状和预测
㈠该矿产在国内需求情况和市场供应情况
1、矿产品现状及加工利用趋向。
2、国内近、远期的需求量及主要销向预测。
㈡产品价格分析
1、国内矿产品价格现状。
2、矿产品价格稳定性及变化趋势。
三、矿产资源概况
㈠矿区总体概况
1、矿区总体规划情况。
2、矿区矿产资源概况。
3、该设计与矿区总体开发的关系。
㈡该设计项目的资源概况
1、矿床地质及构造特征。
2、矿床开采技术条件及水文地质条件。
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矿产资源开发利用方案编写内容要求及审查大纲
矿产资源开发利用方案编写内容要求及《矿产资源开发利用方案》审查大纲一、概述
㈠矿区位置、隶属关系和企业性质。
如为改扩建矿山, 应说明矿山现状、
特点及存在的主要问题。
㈡编制依据
(1简述项目前期工作进展情况及与有关方面对项目的意向性协议情况。
(2 列出开发利用方案编制所依据的主要基础性资料的名称。
如经储量管理部门认定的矿区地质勘探报告、选矿试验报告、加工利用试验报告、工程地质初评资料、矿区水文资料和供水资料等。
对改、扩建矿山应有生产实际资料, 如矿山总平面现状图、矿床开拓系统图、采场现状图和主要采选设备清单等。
二、矿产品需求现状和预测
㈠该矿产在国内需求情况和市场供应情况
1、矿产品现状及加工利用趋向。
2、国内近、远期的需求量及主要销向预测。
㈡产品价格分析
1、国内矿产品价格现状。
2、矿产品价格稳定性及变化趋势。
三、矿产资源概况
㈠矿区总体概况
1、矿区总体规划情况。
2、矿区矿产资源概况。
3、该设计与矿区总体开发的关系。
㈡该设计项目的资源概况
1、矿床地质及构造特征。
2、矿床开采技术条件及水文地质条件。