哈工大器件原理第六章JFET
哈工大器件原理JFET课件

随着栅极电压的增大或减小,表面势垒的厚度将发生变化,导致源极和漏极之间的 电流发生变化。
JFET的电气特性
转移特性
01
描述栅极电压与漏极电流之间的关系。随着栅极电压的增加或
减小,漏极电流减小或增加。
05
JFET的发展趋势与展 望
JFET技术的未来发展方向
缩小尺寸
随着半导体工艺的进步,JFET器件的尺寸不 断缩小,未来将实现更小尺寸的JFET,提高 集成度和性能。
高频性能提升
通过改进材料和结构,提高JFET器件的高频性能, 使其在高速电子和微波通信领域有更广泛的应用。
可靠性增强
优化JFET器件的材料和工艺,提高其可靠性 ,降低失效风险,延长使用寿命。
音频信号处理中的应用
音频信号放大
JFET可以用于音频信号的放大,通过 其输入阻抗高的特点,能够减小信号 源的负担,同时利用其输出阻抗低的 特点,能够提高放大倍数。
音频信号滤波
JFET也可以用于音频信号的滤波,通 过其导通和截止状态的切换,实现音 频信号的筛选和过滤。
电源管理中的应用
电源开关控制
JFET的高输入阻抗和低输出阻抗特性,使其成为理想的电源开关控制元件,能 够有效地控制电源的通断。
03
JFET的性能参数与测 试
JFET的主要性能参数
转移特性参数
描述JFET的输入特性,包括阈值电压和跨导 等。
输出特性参数
描述JFET的输出电流与电压的关系,包括最 大输出电流和饱和电压等。
频率特性参数
描述JFET的高频性能,包括截止频率和特征 频率等。
结型场效应管 原理

结型场效应管原理
场效应管是一种半导体器件,常用于放大、开关电路等应用。
结型场效应管(JFET)是其中一种常见的结构。
JFET的主要原理是利用PN结形成的场效应。
它由三个区域组成:中间是一个P型或N型的半导体材料,两侧分别是控制电极(Gate)和输出电极(Drain与Source)。
控制电极之间形成的PN结—反向偏置结(Reverse biased junction),形成一个可控制的电场区域,这个电场区域控制了从Source到Drain的电流。
在工作时,当Gate和Source之间的电压增加时,PN结的电导性减小,电场区域增宽。
这会导致Source到Drain的电流减小,即输出电流被控制。
这种控制过程是通过改变电场区域宽度而实现的,因此称为场效应。
JFET有两种常见的结构:N型JFET和P型JFET。
N型JFET 是由P型材料夹在两个N型材料之间形成的,而P型JFET则是由N型材料夹在两个P型材料之间形成的。
两者的工作原理基本相同,只是电流流动方向相反。
在实际应用中,JFET具有很多优点,比如体积小,可以工作在较高的频率范围内,具有较低的噪声,以及可以工作在宽温度范围内等。
因此,JFET被广泛应用于放大器、开关和稳压器等电路中。
电工学课件(哈工大)第六章

哈尔滨工业大学电工学教研室第6 章电路的暂态分析返回目录6.1 换路定则及初始值的确定6.2 RC电路的响应6.3 一阶线性电路的三要素法6.4 微分与积分电路6.5 RL 电路的响应E Cu 稳态暂态旧稳态新稳态过渡过程:C 电路处于旧稳态KR E +_C u 概述电路处于新稳态R E +_C u “稳态”与“暂态”的概念:产生过渡过程的电路及原因? 电阻电路t = 0E R +_I K电阻是耗能元件,其上电流随电压成比例变化,不存在过渡过程。
无过渡过程ItE tC u 电容为储能元件,它储存的能量为电场能量,其大小为:电容电路2021W Cu idt u tC ==⎰储能元件因为能量的存储和释放需要一个过程,所以有E KR +_C u CtLi 储能元件电感电路电感为储能元件,它储存的能量为磁场能量,其大小为:2021Li dt ui W tL ==⎰因为能量的存储和释放需要一个过程,所以有电感的电路存在过渡过程。
K R E +_t=0i L L结论有储能元件(L、C)的电路在电路状态发生变化时(如:电路接入电源、从电源断开、电路参数改变等)存在过渡过程;没有储能作用的电阻(R)电路,不存在过渡过程。
电路中的u、i在过渡过程期间,从“旧稳态”进入“新稳态”,此时u、i都处于暂时的不稳定状态,所以过渡过程又称为电路的暂态过程。
研究过渡过程的意义:过渡过程是一种自然现象,对它的研究很重要。
过渡过程的存在有利有弊。
有利的方面,如电子技术中常用它来产生各种特定的波形或改善波形;不利的方面,如在暂态过程发生的瞬间,可能出现过压或过流,致使电气设备损坏,必须采取防范措施。
6.1 换路定则及初始值的确定换路定则换路: 电路状态的改变。
如:1 . 电路接通、断开电源2 . 电路中电源电压的升高或降低3 . 电路中元件参数的改变…………..换路定则:在换路瞬间,电容上的电压、电感中的电流不能突变。
t =0 时换路-0+0---换路前瞬间---换路后瞬间则:()(=C C u u )()(=L L i i +0+0-0)0(-)0-换路瞬间,电容上的电压、电感中的电流不能突变的原因:自然界物体所具有的能量不能突变,能量的积累或衰减需要一定的时间。
半导体器件原理 第六章

6.2.1 内建夹断电压、夹断电压和漏源饱 和电压
VGS
VGS
单边n沟JFET
单边p沟JFET
近似为单边突变结,设沟道宽度为a,热平衡时的耗尽层 宽度为h,内建电势为Vbi,外加栅源电压VGS,内建夹断电
压Vpo,夹断电压Vp
6.2.1 内建夹断电压、夹断电压和漏源饱和电压
空间电荷区宽度为: 1 2 s (Vbi VGS ) 2 h[ ] eN d 在阈值点, h a , p n结 的 总 电 势 称 为 内 建 断 夹电 压 , 用V po 表 示 2 sV po 1 a [ ]2 eN d 2 eN d a V po 2 s 把 形 成 沟 道 夹 断 所 加栅 的源 电 压 称 为 夹 断 电 压 ( 阈 电) 压VP Vbi V p VPo n沟 耗 尽 型 JFET , 夹 断 电 压 是 负 值 , 此 因VPO Vbi
漏电流同时决定于栅源电
压和漏源电压 饱和区: 漏电流与漏源电压无关, 只决定于栅源电压
6.1.2 MESFET的基本工作原理
MESFET ( Metal-Semiconductor FET ) 是 一 种 由
Schottky 势垒栅极构成的场效应晶体管,适用于高频 应 用 , 如 工 作 频 率 超 过 5GHz 的 放 大 器 和 振 荡 电 路 中。可以作为分立器件,也可以做成集成芯片, GaAs-MESFET是微波集成电路的核心。
ID存在,且仍由导电沟道区电特性决定
6.1.1pn-JFET
漏源I-V特性定性分析
击穿区:(VDS大到漏栅结的雪崩击穿电压 )
6.1.1pn-JFET
漏源I-V特性定性分析
2、 VGS<0的情况:(1)器件偏置特点(VDS=0)
哈工大光纤通信答案--第6章答案

第6章答案1.答:使用最大是两种类型的光电检测器:PIN光电二极管和雪崩光电二极管。
PIN光电二极管主要应用于短距离、小容量的光纤通信系统;雪崩光电二极管主要应用于长距离、大容量的光纤通信系统2.答:在外加反向电压状态下工作,原因如下:当PN结加反向电压时,由于外加电场的电压和空间电荷区的自建场的方向相同,使总的势垒增加,于是空间电荷区的载流子基本耗尽,称为耗尽区。
当入射光照射到PN结上、且光子能量hv大于半导体材料的禁带宽度Eg时,价带上的电子可以吸收光子而跃迁到导带,结果产生一对电子—空穴对。
如果这对电子—空穴对产生于耗尽区内,那么它就在外电场的作用下形成光电流。
4.答:光入射到光敏面,会在耗尽区和耗尽区附近产生受激吸收现象,从而产生电子空穴对,在外加电场作用下,在闭合电路中产生电流。
6.答:当光照射到雪崩二极管的光敏面上时,由于受激吸收而在器件内产生出一次电子空穴对。
在外加电场作用下,一次电子空穴对运动到高场区,经过反复的碰撞电离过程而形成雪崩倍增现象,从而产生出大量的二次电子空穴对。
在外加电场的作用下,一次电子空穴对和二次电子空穴对一起运动到电极。
当外部电路闭合时,就会在外部电路中有电流流过,从而完成光电变换过程。
7.答:响应度ρ在一定波长的光照射下,光电检测器的平均输出电流与入射的平均光功率之比称为响应度(或响应率)。
量子效率η定义为通过结区的载流子数与入射的光子数之比。
响应度是器件的宏观灵敏特性,量子效率是器件的微观灵敏特性。
这两个参数之间有一个换算公式:8.答:主要由体内暗电流和表面暗电流组成。
PINPD的暗电流主要指表面暗电流;APD的暗电流主要指体内暗电流;APD的暗电流要大于PINPD的暗电流;/1.24ρηλ=系统具有最大信噪比时对应的倍增因子即是最佳倍增因子。
从下面的图形可发现:小于最佳倍增因子时,信号曲线斜率大于噪声曲线斜率,而大于最佳倍增因子后,情况相反。
12.答:实用的直接功率检测光接收机直接从接收的光信号中恢复调制信号;前置放大器的主要作用是低噪声接收;功率放大器的主要作用是将信号幅度放大到适合再生的电信号;均衡滤波器的作用是低通滤波和消除信号波形间的码间串扰;再生器的作用是将接收到的信号恢复成标准数字信号;AGC 电路的作用是稳定光接收机输出的信号幅度;高压变换器的作用是为APD 提供合适电压,同时调整平均倍增因子, 以便进一步稳定光接收机的输出信号幅度。
哈工大器件原理第六章JFE

a
a
S
D
G
P+
n
x0
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数 1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
VDS
VGS
a
L
h1
h2
a
ID
In(y)
y
x
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数 1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
根据假设(4),耗尽层中的电位仅与x有关,故可用一维泊松方程求解,根据式(1-93b),作用在沟道y处耗尽层上的总电压(包括外加栅压及接触电势差)与该处空间电荷区宽度Xn(y)之间有如下关系:
肖克莱理论和JFET的直流特性
JFET的直流参数
JFET交流小信号参数
非均匀沟道杂质浓度分布
四极管特性
高场迁移率的影响
关于沟道夹断和速度饱和
串联电阻的影响
温度对直流特性的影响
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数 1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
肖克莱(Shockley)1952年关于JFET的理论至今仍是分析JFET和MESFET各种理论的基础。 JFET在工作时,由于栅源电压和漏源电压同时作用,沟道中电场、电位、电流分布均为二维分布(如果认为沟道无限宽),方程求解非常复杂,肖克莱提出的缓变沟道近似模型很好地简化了这个问题。 该模型的基本核心点是: ①假定沟道中电场、电位和电流分布均可用缓变沟道近似,(即沿沟道方向缓慢变化) ②认为漏极电流饱和是由于沟道夹断所引起。
输入电阻
结型场效应晶体管有较高的输入电阻,且该电阻与温度、反向偏压及辐照等因素有关。
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数 JFET的直流参数 在功率器件中,由于漏源电压很高,在沟道中形成的强电场将有可能使漂移通过沟道的载流子获得足够高的能量去碰撞电离产生新的电子-空穴对,新产生的电子继续流向漏极,使漏极电流倍增,而空穴则被负偏置的栅电极所收集,使栅极电流很快增长。 因而,在高漏源偏置的功率JFET中,往往存在着超量栅极电流。在短沟道器件中,由于沟道电场强,更容易出现载流子倍增效应。
第6章习题解答哈工大习题册

第6章非正弦周期电流电路习题解答6.1求图示倒锯齿波的傅里叶级数展开式,并画出频谱图。
.0图题6.1解:()(1/)f t A t T=-0t T<<00011()d(1/)dT TA f t t A t T tT T==-⎰⎰20[]0.52TA tt AT T=-=2(1/)cos()dTka A t T k t tTω=-⎰0202(1/)2[sin()]sin()d0TTA t T Ak t k t tTk k Tωωωω-=⨯+=⎰2(1/)sin()dTkb A t T k t tTω=-⎰0202(1/)22[cos()]cos()dπTTA t T A A Ak t k t tTk k T kT kωωωωω--=⨯-==⎰所以1()0.5sinπkAf t A k tkω∞==+∑频谱图如图(b)所示。
6.2图示电路中,电流60)it=+ A,4110FC-=,电压源S52c o s(50060)8c o s(100075)Vu t t=++++。
试求2,,R L C。
u2C图题6.2解:由于电流中只含基波分量且与电源基波分量具有相同的初相位,则可知右侧部分对基波分量相当于短路,对二次谐波分量相当于开路。
基波作用时电路中相当于只有电阻作用,可得(1)10U R I==ΩLC 部分的总阻抗为 121211(j )()j j 11j j j L C C Z L C C ωωωωωω+=++由右侧部分对基波分量相当于短路可得此时等效阻抗的分子为零或分母无穷大,由阻抗表达式可知阻抗分子为零可行,可得11j 0j L C ωω+= 带入已知条件得 2110.04H L C ω== 由右侧部分对二次谐波分量相当于开路可得此时等效阻抗的分母为零或分子无穷大,由阻抗表达式可知阻抗分母为零可行,可得1211j20j2j2L C C ωωω++=带入已知条件得 21F 33μF 30000C =≈ 6.3 图示电路N 为无独立源网络,[100cos(45)50cos225cos(345)]V u t t t =-+++ ,(80cos 20cos 210cos3)mA i t t t =++。
哈尔滨工程大学 自动控制原理 第6章 线性定常系统的反馈结构及状态观测器

显然对于任意的K阵以及所有的 , 显然对于任意的 阵以及所有的s,有 阵以及所有的
rank [(s I − A+ BK ) B ] = rank[(s I − A) B ] 根据系统可控性的PBH秩判据可知,其可控性在状 秩判据可知, 根据系统可控性的 秩判据可知 态反馈前后保持不变。 态反馈前后保持不变。
2) 将输出量反馈至状态微分 将输出量反馈至状态微分的系统结构图: 将输出量反馈至状态微分的系统结构图: u B + +
ɺ x
+
∫ A H
x
C
y
输出反馈(少见 系统的状态空间描述为 输出反馈 少见)系统的状态空间描述为: 少见 系统的状态空间描述为:
ɺ x = Ax + Bu − Hy = (A− HC ) x + Bu , y = Cx
第6章 线性定常系统的反馈结构及状态观测器
无法显示图像。计算机可能没有足够的内存以打开该图像,也可 能是该图像已损坏。请重新启动计算机,然后重新打开该文件。 如果仍然显示红色“x” ,则可能需要删除该图像,然后重新将其插 入。
第六章 线性定常系统的反馈结构 及状态观测器 6.1 线性定常系统常用的反馈结构 及其对系统特性的影响 6.2 系统的极点配置 6.3 全维状态观测器及其设计 6.4 分离特性
第6章 线性定常系统的反馈结构及状态观测器
无法显示图像。计算机可能没有足够的内存以打开该图像,也可 能是该图像已损坏。请重新启动计算机,然后重新打开该文件。 如果仍然显示红色“x” ,则可能需要删除该图像,然后重新将其插 入。
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10
6.1 JFET的基本工作原理
3. JFET的特性曲线
n沟JFET 输出特性
11
6.1 JFET的基本工作原理
3. JFET的特性曲线
转移特性
12
6.1 JFET的基本工作原理
4. MESFET
MESFET的工作原理和JFET相同,只是用金-半接触取代了PN结
5. 四极管特性
9. 温度对直流特性的影响
4
第六章 结型场效应晶体管
6.3 JFET的交流特性
1. 交流小信号等效电路 2. JFET和MESFET中的电容 3. JFET的频率参数
6.4 JFET的功率特性
1. 最大输出功率PM 2. 最大输出电流IF 3. 漏源击穿电压BVDS 4. 热阻Rth
6.5 JFET结构举例
1. MESFET
2. JFET 3. V型槽硅功率JFET
5
6.1 JFET的基本工作原理
1. JFET的基本结构
栅极G 源极S 漏极D N沟道 P沟道 增强型 耗尽型
6
6.1 JFET的基本工作原理
1. JFET的基本结构
7
6.1 JFET的基本工作原理
1. JFET的基本结构
xm xn
变换
2 0 (VD V ) qN D
(1-93b)
(6-3) (6-4)
求导
qN D 2 Vt ( y) xn ( y ) 2 0 dVt ( y) qND xn ( y ) dxn ( y) 0
使耗尽层改变一定厚度所需要的电压改变量随耗尽层厚 度增大而增大,且与耗尽层边界处空间电荷密度成正比。
2
(1)FET具有普通双极晶体管所具有的特点,如体积小,重量轻 (2)FET是一种电压控制器件(通过输入电压的改变按制输出电流, 而双极型晶体管为电流控制器件。 (3)FET的直流输入阻抗很高,一般可达109—1015Ω (4)FET类型多、偏置电压的极性灵活、动态范围大、其各级间可 以采用直接耦合的形式,因而在电路设计中可提供较大的灵活性。 (5)噪声低,因而FET特别适合于要求高灵敏度、低噪声的场合, 如检测各种微弱信号的仪器、仪表、医疗器械等。 (6)热稳定性好。因为FET是一种多子器件,且可有正的、负的及 正负交叉的零温度系数工作点。只要在设计电路时使器件工作在零温 度系数工作点附近,即可消除温度的影响。 (7)抗辐射能力强,这也因为FET是多子器件。这一特点使其持别 适用于航天器等承受强烈核辐射、宇宙射线辐射的装备中。 (8)与双极晶体管相比,制作工序少、工艺简单,有利于提高产 品合格率、降低成本。
频范围。故讨论直流特性以JFET为主,交流特性以MESFET为例。
14
6.1 JFET的基本工作原理
4. MESFET
15
6.1 JFET的基本工作原理
表6-1 JFET和MESFET的电路符号
P沟道 D 耗尽型 G S D 增强型 G G G S D N沟道 D
箭头代表沟 道电流方向 短粗线代表 沟道
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
2. JFET的直流参数
最大饱和漏极电流IDSS
I Dsat
VGS=VD时的漏极电流,又称最大漏 源饱和电流。
2 2a 3W n q 2 N D 3h12 2h13 [1 2 3 ] 6 0 L a a
VD VGS VD VGS 3 2 I DSS [1 3( ) 2( ) ] V p0 V p0 I DSS 2a W n q N 6 0 L
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6.1 JFET的基本工作原理
4. MESFET
GaAs与Si相比,电子迁移率大5倍,峰值漂移速度大一倍,
所以在GaAs材料制备及其外延和光刻工艺发展成熟之后 , GaAs-MESFET很快在高频领域内得到了广泛的应用。它在工作
频率、低噪声、高饱和电平、高可靠性等许多方面大大超过了
硅微波双极晶体管。 由于JFET与MESFET在电学特性上相仿,而后者又主要用于高
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
2. JFET的直流参数
夹断电压
阈电压VT
JFET沟道厚度因栅p+-n结耗尽层厚度扩展而变薄,当栅 结上的外加反向偏压 VGS 使p+-n结耗尽层厚度等于沟道 厚度一半(h=a)时,整个沟道被夹断,此时的 VGS 称为 JFET的夹断电压,记为 Vp。
xn xm [ V p0
ID
23
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
V ( y) I n ( y)dy 2Wq n N D [a h( y)] dxn xn
利用边界条件 xn h1
y 0
1
dVt ( y) qND xn ( y ) dxn ( y) 0
2 2 0 I D G0 VDS 3a qND 其中,G0 2aWq n N D L
V V V 3 V V 3 (6-11) 2 2 D GS D GS DS
(6-12)
根据缓变沟道近似得到的JFET沟道夹断前的电流-电压方程
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
肖克莱(Shockley)1952年关于JFET的理论至今仍是分析JFET 和MESFET各种理论的基础。 JFET在工作时,由于栅源电压和漏源电压同时作用,沟道中 电场、电位、电流分布均为二维分布(如果认为沟道无限宽),方 程求解非常复杂,肖克莱提出的缓变沟道近似模型很好地简化了 这个问题。 该模型的基本核心点是:
2 0 (VD V p ) qN D
] a
1 2
qN D a 2 VD V p 2 0
N或a越大, Vp 的 绝 对 值 将越大,即沟 道越难夹断。
本征夹断电压 Vp0=VD-Vp表示整个沟道由栅源电压夹断时,栅p夹断电压VP
n结上的电压降,为区别起见,称为本征夹断电压。
26
22
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
当沟道中不存在载流子浓度梯度时,可由欧姆定律写出:
J n ( y ) n ( y) E y I n ( y ) A( y )q n N D
V ( y ) y
1
A( y) 2[a h( y)]W
24
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
以VDS=VDsat时,h2=a代入所得到的非饱和区电流-电压方程,得
I Dsat
2 2a 3W n q 2 N D 3h12 2h13 [1 2 3 ] 6 0 L a a
V VGS V VGS 3 2 I DSS [1 3( D ) 2( D ) ] V p0 V p0 I DSS V p0
S
S
16
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6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数 1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
2. JFET的直流参数
3. JFET交流小信号参数 4. 非均匀沟道杂质浓度分布 5. 四极管特性 6. 高场迁移率的影响
7. 关于沟道夹断和速度饱和
8. 串联电阻的影响 9. 温度对直流特性的影响
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1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
VGS G P+ h1 y x n In(y) a a h2
x0
S
D L VDS
a ID
21
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
根据假设(4),耗尽层中的电位仅与x有关,故可用一维泊松 方程求解,根据式(1-93b),作用在沟道y处耗尽层上的总电压 (包括外加栅压及接触电势差)与该处空间电荷区宽度 Xn(y)之间 有如下关系:
下篇 场效应晶体管
场效应晶体管是区别于结型晶体管的另一大类晶体 管。它通过改变垂直于导电沟道的电场强度来控制沟道 的导电能力,从而调制通过沟道的电流。由于场效应晶
体管的工作电流仅由多数载流子输运,故又称之为“单
极型(场效应)晶体管”
1
根据其结构(主要指栅极结构)和制作工艺,FET可分为三类: (1)结型栅场效应晶体管(缩写JFET),由于原理上近似,有时也
①假定沟道中电场、电位和电流分布均可用缓变沟道近似,
(即沿沟道方向缓慢变化) ②认为漏极电流饱和是由于沟道夹断所引起。
19
6.2 JFET的直流特性与低频小信号参数
1. 肖克莱理论和JFET的直流特性
为了分析简单起见做了一些可以修正的假设,其主要假设如 下(以n沟JFET为例): (1)忽略源接触电极与沟道源端之间、漏接触电极与沟道漏端 之间的电压降; (2)忽略沟道边缘扩展开的耗尽区,源极和漏极之间的电流只 有y分量; (3)p+栅区与n型沟道区杂质浓度NA、ND 都是均匀分布的,且 NA>>ND,即栅结为单边突变结;
8
6.1 JFET的基本工作原理
2. JFET的基本工作原理
L L 平衡态沟道电阻: R A qn N D 2(a x0 )W
G
P+
(6-1)
IDS
IDsat
VGS=0 B C
S
n
L
P+
2a
D
A
I'Dsat
VGS<0
G
V'Dsat VDsat
VDS
9
6.1 JFET的基本工作原理
3
第六章 结型场效应晶体管
6.1 JFET的基本工作原理
1. JFET的基本结构 2. JFET的基本工作原理 3. JFET的特性曲线 4. MESFET