液晶显示器制造工艺流程基础技术
lcd工艺流程
lcd工艺流程LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）是一种基于液晶技术制造的平面显示器，已广泛用于电视、计算机显示器和移动设备等领域。
下面将介绍LCD的工艺流程。
1. 制备玻璃基板：首先，将玻璃基板进行清洗和抛光处理，以去除表面的杂质和污垢。
然后，通过化学气相沉积（CVD）方法在玻璃基板上沉积一层透明导电膜，通常使用的是氧化铟锡（ITO）。
2. 制备基板对位：将两片处理好的玻璃基板对位放置在一起，中间用薄膜隔开。
然后，通过加热和压力将两片基板牢固地粘合在一起，形成一个类似于夹心饼干的结构。
3. 制备液晶材料：制备液晶材料需要合成液晶分子并进行纯化处理。
液晶分子通常通过有机合成方法制备，然后使用溶剂将其纯化。
4. 填充液晶材料：将制备好的液晶材料倒入夹在两片基板之间的空隙中。
液晶层的厚度通常是几微米，所以需要通过对基板施加电场或其他方式来调整液晶层的厚度。
5. 封装：将夹有液晶材料的两片基板进行封装处理，防止液晶材料蒸发或受到外界的干扰。
通常使用的封装方法是将基板放在真空环境中，并利用高温和高压将两片基板密封在一起。
6. 制备透明电极：在封装完成后，需要在液晶显示器的顶部和底部分别制备透明电极。
透明电极通常是通过化学蒸镀或物理镀膜方法在玻璃基板上沉积一层薄膜，通常使用的是氧化锡（SnO2）。
7. 制备像素结构：在液晶显示器中，每个像素都由液晶分子和透明电极构成。
通过制备像素结构，可以将每个像素与控制电路相连，并形成液晶显示的图像。
像素结构的制备通常包括光刻、沉积透明绝缘层、开口和填充色彩滤波器等步骤。
8. 封装和测试：在像素结构制备完成后，将液晶显示器进行封装和测试。
封装通常包括将显示器放入外壳中，并与驱动电路和其他部件连接起来。
测试则主要是通过对显示器进行电压和图像的测试，确保其正常工作。
以上就是LCD的主要工艺流程。
通过以上工艺步骤，可以制造出高质量的LCD显示器，并广泛应用于各个领域。
液晶显示器制造工艺流程基础技术
液晶显示器制造工艺流程基础技术一．工艺流程简述：前段工位：ITO玻璃的投入（grading）玻璃清洗与干燥（CLEANING）涂光刻胶（PR COAT）前烘烤（PREBREAK）曝光（DEVELOP）显影（MAIN CURE）蚀刻（ETCHING）STRIP CLEAN）图检（INSP）清洗干燥（CLEAN） TOP涂布（TOP COAT）UV烘烤（UV CURE）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）PI PRINT）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING烘烤（CUPING FURNACE）喷衬垫料（SPACER SPRAY）对位压合（ASSEMBL Y）固化（SEAL MAIN CURING）1．ITO图形的蚀刻：（ITO玻璃的投入到图检完成）A．ITO玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO玻璃装入传递篮具中，要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求，切记ITO层面一定要向上插入篮具中。
B．玻璃的清洗与干燥：将用清洗剂以及去离子水（DI水）等洗净ITO玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。
C．涂光刻胶：在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图）光刻胶膜D．以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。
E．曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）UVITOF．显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。
（如图：）ITOG．坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。
LCD(液晶显示器)工艺流程
3、液晶：具有类似晶体的各向异性的液态物质。
4、取向层：液晶盒中玻璃片内侧的整个显示区覆盖着一层有机物聚酰亚胺取向薄层，这个取向层经用毛绒布定向摩擦，在薄层上会形成数纳米宽的细沟槽，从而会使长棒型的 液晶分子沿沟槽平行排列。而上下两片玻璃的取向层是相互垂直的。故在液晶层中间的液晶分子是逐渐扭曲的。
扭曲向列相液晶显示的工作原理
如下图：
（：：）无外加Hi压（U=0）
匸艺流程
一、LCD显示基本结构和原理:
TN
取向层
液爲—
过渡电极
—偏光片
一一口 玻璃基板
——电极
封接框
电极—
玻璃偏 Байду номын сангаас片
1、偏光片：偏光片有一个固定的偏光轴。偏光片的作用是只允许振动方向与其偏光轴方向相同的光通过，而振动方向与偏光轴垂直的光将被其吸收。这样，当口然光通过液晶 盒的入射偏光片（称为起偏器）后，只剩下振动方向与起偏器偏光轴相同的光，即成为线性偏振光。
tft lcd生产工艺流程
tft lcd生产工艺流程TFT LCD（Thin-Film Transistor Liquid Crystal Display）是一种采用薄膜晶体管技术制作的液晶显示器。
下面是关于TFTLCD生产工艺流程的简要介绍。
第一步：基板准备TFT LCD的制造过程首先需要准备好基板。
常见的基板材料有玻璃和塑料，通常使用的是玻璃基板。
基板会经过清洗和表面处理等步骤，确保其表面干净平整。
第二步：背板制备接下来需要制作液晶显示器的背板。
背板通常是由非晶硅等材料制成，分为多个层次，包括玻璃、金属层和透明导电层等。
这些层次通过物理沉积和化学气相沉积等方法形成。
第三步：薄膜晶体管制备在背板上制作薄膜晶体管（TFT）是制造TFT LCD的关键步骤。
首先，在背板上涂覆一层非晶硅薄膜，然后使用光刻技术将其进行精确刻画。
接着，通过光刻和铜蒸发等技术制作导线，形成TFT电路。
最后，使用激光修复技术进行检查和维修。
第四步：液晶贴合液晶贴合是将液晶层与TFT基板粘接在一起的过程。
首先，将液晶层通过喷洒、滚压或涂覆等方式涂覆在TFT基板上，然后使用蒸发技术制备对齐膜。
接着，将液晶层和TFT基板对齐，然后进行加热和压力处理，使其牢固贴合在一起。
第五步：封装在液晶贴合完成后，需要对TFT LCD进行封装。
这涉及将TFT LCD置于玻璃基板之间，形成密封结构。
然后将结构封装在金属或塑料外壳中，以保护内部结构。
第六步：测试和检验生产完毕后，对TFT LCD进行测试和检验是确保质量的关键步骤。
这包括对液晶显示器的像素、亮度、对比度和色彩等方面进行检测，并进行修复或调整。
总结：以上是TFT LCD生产工艺流程的简要介绍。
整个制造过程包括基板准备、背板制备、薄膜晶体管制备、液晶贴合、封装和测试等步骤。
每个步骤都需要高度的精确度和技术要求，以确保TFT LCD的质量和性能。
LCD基础知识及制造工艺流程介绍
LCD基础知识及制造工艺流程介绍LCD（液晶显示器）是一种运用液晶技术显示图像的平面显示设备。
它由一系列的液晶层、玻璃基板、导线及亮度调节膜等组成，能够实现高清晰度和低功耗的图像显示。
下面将介绍LCD的基础知识以及制造工艺流程。
一、LCD的基础知识1.液晶层：液晶是一种类似于液体的物质，具有一定的流动性。
液晶分为向列型液晶和向量型液晶两种。
其中，向列型液晶具有电流传输性能，可用于显示器制造。
液晶层通常由两块玻璃基板夹层组成。
2.基板：LCD的基板通常由玻璃或塑料材料制成。
它是液晶显示器的结构支撑物，上面附着有液晶材料，起到固定液晶和导线的作用。
3.导线：液晶显示器中的导线用于传输电信号，驱动液晶层完成图像的显示。
导线通常由透明导电材料（如铟锡氧化物）制成，通过在基板上形成通道和窗口的方法实现。
4.亮度调节膜：亮度调节膜用于控制液晶层的透光度，实现图像亮度的调节。
它通常由聚合物、薄膜材料或金属制成。
二、LCD的制造工艺流程1.基板生产：使用特制的玻璃或塑料材料制造基板，通过磨削、抛光和清洗等步骤形成平整的表面。
2.导线制作：将透明导电材料（如铟锡氧化物）涂布在基板上，然后通过光刻技术制作出导线的图案。
这包括涂覆光刻胶、曝光、显影和洗涤等步骤。
3.形成储存电容：在导线制作完成后，在基板上制作出储存电容的结构。
这通常通过在导线上涂覆并定位特定的电介质材料，然后用导线封装住这种材料。
4.液晶层制作：将液晶材料涂布在基板上，并进行取向处理。
液晶材料的涂布可以通过刮板涂布或滚涂等方法完成。
5.封装背光模块：将背光源（通常是冷阴极荧光灯或LED）和光学片封装在一起，形成背光模块。
6.封装前端制程：在液晶层基板中制造出色彩滤光片、液晶层与色彩滤光板的层间空气封闭结构，同时加工出液晶层之间分隔固体极板和液晶层封装胶。
7.封装：将两块形成互相关系的液晶层基板合并在一起，使用封装剂将其密封。
8.后端制程：液晶显示器的后端制程包括模组组装、封装测试、调试和包装等步骤。
液晶生产工艺流程
液晶生产工艺流程液晶是一种广泛应用于电子产品中的显示技术，其生产工艺流程经过多道精密的步骤。
下面将详细介绍液晶生产的工艺流程。
1. 基板准备液晶显示屏的制作首先需要准备基板。
通常使用的基板材料有玻璃和塑料，其中玻璃基板是最常见的选择。
基板准备的工艺流程包括切割、清洗和平整化处理。
切割是将大块的玻璃材料切割成需要的尺寸，清洗是去除表面的杂质和污垢，平整化处理则是通过化学方法使基板表面更加平整。
2. 涂布对齐在基板准备完成后，接下来是涂布对齐的工艺步骤。
涂布是将一层薄膜涂覆在基板表面，通常使用的材料是聚酯薄膜。
对齐是将涂布的基板与掩膜对齐，掩膜上有着需要显示的图案。
这一步骤需要非常精密的设备和技术来确保对齐的准确性。
3. 光刻光刻是将掩膜上的图案转移到基板表面的工艺步骤。
通过将光刻胶涂覆在基板上，然后使用紫外光照射，光刻胶会在光照区域发生化学变化，形成图案。
接着使用化学溶剂去除未曝光的部分，最终得到所需的图案。
4. 蒸镀蒸镀是将金属薄膜沉积在基板表面的工艺步骤。
通常使用的金属材料有铝、银等。
蒸镀的目的是形成导电层和反射层，以提高液晶显示屏的显示效果和稳定性。
5. 涂覆液晶在蒸镀完成后，涂覆液晶是液晶显示屏制作的关键步骤。
液晶是一种特殊的有机化合物，可以根据电场的作用改变光的透过性。
涂覆液晶需要在无尘室环境下进行，确保液晶层的纯净和均匀。
6. 封装封装是将涂覆液晶的基板和另一块基板通过密封胶水封装在一起的工艺步骤。
封装胶水需要具有优良的粘接性和密封性，以确保液晶屏在使用过程中不会受到外界环境的影响。
7. 组装测试最后一步是组装测试，将封装好的液晶显示屏连接到驱动电路板和其他配件上，进行电气和光学性能的测试。
通过测试，确保液晶显示屏的品质符合要求。
通过以上工艺流程，液晶显示屏的制作完成。
这些步骤中涉及到的设备和技术都需要高度的精密度和稳定性，以确保生产出高品质的液晶显示屏产品。
液晶显示技术的不断发展和创新，也在推动着液晶生产工艺的不断完善和提升。
LCD工艺流程
LCD工艺流程LCD（液晶显示器）是一种采用液晶技术制造的平面显示器，广泛应用于电视、计算机显示器、手机等电子产品中。
下面是LCD工艺流程的一个简要描述。
1.制备透明导电玻璃基板：首先，通过激光剥离技术剥离玻璃表面的膜层，然后进行玻璃基板的切割、清洗和研磨等处理，最后在玻璃基板上涂布导电薄膜。
2.制备液晶分子玻璃基板：类似于透明导电玻璃基板的制备，涂布上一层液晶分子玻璃。
这种分子玻璃具有特定的定向性，可以使液晶分子在特定电场下排列有序。
3.制备液晶材料：液晶显示器使用的液晶材料一般为有机化合物，通过化学合成和纯化工艺制备而成。
4.渲染薄膜晶体管：在透明导电玻璃基板上制作薄膜晶体管（TFT）。
常用的制作方法有光刻、薄膜沉积、蚀刻等步骤。
5.制备彩色滤光片：通过光刻技术制作彩色滤光片，用于产生红、绿、蓝三原色。
6.涂布液晶材料：将液晶材料均匀涂布在液晶分子玻璃基板上，并加热处理，使液晶材料均匀分布在基板上。
7.压合：将液晶分子玻璃基板和透明导电玻璃基板背面的薄膜晶体管背部粘合在一起，并形成一个密封边缘，以防止液晶材料外泄。
8.填充液晶材料：在液晶分子玻璃基板和透明导电玻璃基板之间加入液晶材料，以形成液晶显示层。
在这个过程中要保证无灰尘和无空泡。
9.完成液晶显示面板：液晶显示面板组装完成后，对其进行光学修正、透视修正、光源等调整，并进行最终测试。
10.封装和组装：将LCD显示屏与LED背光、驱动电路等组件进行组装，形成完整的LCD显示器。
以上是LCD（液晶显示器）工艺的一个简要流程。
从制备基板到涂布液晶材料再到组装封装，每个步骤都需要严格控制参数和质量，以确保LCD显示器的稳定性和可靠性。
同时，这个流程也会受到不同制造商和产品的影响而有所不同。
LCD制造工艺流程
LCD制造工艺流程LCD（液晶显示器）是目前广泛应用于各行各业的平面显示技术。
其制造工艺流程是一个复杂而精细的过程，下面将详细介绍。
第一步：基板准备制造LCD的第一步是基板准备。
基板是一个薄而坚硬的材料，通常由玻璃或薄膜塑料制成。
基板上需要进行切割、清洗和涂层等处理，以确保其光滑和无瑕疵的表面。
第二步：涂布对齐基板准备后，会进行涂布对齐。
这一步骤是将液晶分子沉积在基板上，以形成液晶层。
液晶分子在液态时是有序排列的，通过涂布在基板上并应用电场来调整分子的排列方向。
液晶的特性决定了其在电场下的响应，从而实现了对光线的控制和调节。
第三步：曝光和固化涂布对齐完成后，液晶分子需要通过曝光和固化来固定在基板上。
曝光使用UV光照射液晶层，以使其产生化学反应并硬化。
这样可以保证液晶分子在基板上保持稳定的排布，从而实现更好的显示效果。
第四步：薄膜衬底制备在涂布和固化之后，还需要制备薄膜衬底。
薄膜衬底位于液晶层的上方，用于调节液晶分子的方向和对光的控制。
薄膜衬底通常由聚合物材料制成，通过滚涂、热处理和冷却等步骤来形成。
第五步：色彩滤光片制备为了实现彩色显示，还需要制备色彩滤光片。
色彩滤光片是一种可以选择性地透过或吸收特定光波长的材料。
它通常由染料或色素制成，通过印刷、热时间和硬化等步骤来形成。
第六步：触摸屏和背光源制造LCD时，还需要添加触摸屏和背光源。
触摸屏是一个透明的覆盖层，可以响应触摸操作并将输入信号转化为电信号。
背光源是一种为显示器提供亮度和能见度的光源，通常使用冷阴极荧光灯（CCFL）或LED背光。
第七步：组装和封装在所有组件制备完毕后，需要进行组装和封装。
这一步骤包括将基板、薄膜衬底、色彩滤光片、液晶层、触摸屏和背光源等组件进行精确的对位和组装，然后进行真空封装以保证显示器的稳定性和耐用性。
第八步：测试和质量控制组装和封装之后，制造商会对LCD进行严格的测试和质量控制。
这些测试通常包括外观检查、电性能测试、亮度和对比度测试、触摸功能测试等。
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液晶显示器制造工艺流程基础技术一．工艺流程简述：前段工位：ITO玻璃的投入（grading）玻璃清洗与干燥（CLEANING）涂光刻胶（PR COAT）前烘烤（PREBREAK）曝光（DEVELOP）显影（MAIN CURE）蚀刻（ETCHING）STRIP CLEAN）图检（INSP）清洗干燥（CLEAN） TOP涂布（TOP COAT）UV烘烤（UV CURE）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）PI PRINT）固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN）丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING烘烤（CUPING FURNACE）喷衬垫料（SPACER SPRAY）对位压合（ASSEMBL Y）固化（SEAL MAIN CURING）1．ITO图形的蚀刻：（ITO玻璃的投入到图检完成）A．ITO玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO玻璃装入传递篮具中，要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求，切记ITO层面一定要向上插入篮具中。
B．玻璃的清洗与干燥：将用清洗剂以及去离子水（DI水）等洗净ITO玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。
C．涂光刻胶：在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图）光刻胶膜D．以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。
E．曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）UVITOF．显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。
（如图：）ITOG．坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。
H．刻蚀：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO膜蚀掉，这样就得到了所需要的ITO电极图形，如图所示：ITO注：ITO玻璃为（In2O3与SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反应，而用于蚀刻掉多余的ITO，从而得到相应的拉线电极。
I．去膜：用高浓度的碱液（NaOH溶液）作脱膜液，将玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使ITO玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ITO图形。
（即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成，如图）ITOJ．清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其它的杂质。
2．特殊制程：（TOP膜的涂布到固化后清洗）一般的TN与STN产品不要求此步骤，TOP膜的涂布工艺是在光刻工艺之后再做一次SiO2的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等等，因此大部分的高档次产品要求有TOP涂布。
3．取向涂布（涂取向剂到清洗完成）此步工艺为在蚀刻完成的ITO玻璃表面涂覆取向层，并用特定的方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向（排列），此步骤是液晶显示器生产的特有技术。
A．涂取向剂：将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用选择涂覆的方法，在ITO玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向层，同时对取向层做固化处理。
（一般在显示区）B．固化：通过高温处理使取向层固化。
C．取向摩擦：用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。
如TN型号摩擦取向：45度D．清洗：取向摩擦后的玻璃上会留下绒布线等污染物，需要采取特殊的清洗步骤来消除污染物。
4．空盒制作：（丝网印刷到固化）此步工艺是把两片导电玻璃对叠，利用封接材料贴合起来并固化，制成间隙为特定厚度的玻璃盒。
制盒技术是制造液晶显示器的最为关键的技术之一。
（必须严格控制液晶盒的间距）A．丝印边框及银点：将封接材料（封框胶）用丝网印刷的方法分别对上板印上边框胶和和下板玻璃印是导电胶。
B．喷衬垫料：在下玻璃上均匀分布支撑材料。
将一定尺寸的衬垫料（一般为几个微米）均匀分散在玻璃表面，制盒时就靠这些材料保证玻璃之间的间距即盒厚。
C．对位压合：按对位标记上与下玻璃对位粘合，将对应的两片玻璃面对面用封接材料粘合起来。
D．固化：在高温下使封接材料固化。
固化时一般在上下玻璃上加上一定的压力，以使液晶盒间距（厚度保持均匀）。
后段工位：切割（SCRIBING）Y轴裂片（BREAK OFF）灌注液晶（LC INJECTION）END SEALING）X轴裂片（BREAK OFF）磨边一次清洗（CLEAN）HEATING）光台目检（VISUAL INSP）电测图形检验（ELECTRICAL）二次清洗（CLEAN）特殊制程（POLYGON）背印（BACK PRINTING）干墨（CURE）贴片（POLARIZER ASSEMBLY）热压（CLEAVER）成检外观检判（FQC）上引线（BIT PIN）终检（FINAL INSP）包装（PACKING）入库（IN STOCK）二．液晶显示器制造前工序工艺以及相关的注意事项：1．清洗与干燥工艺：作业流程：玻璃装篮测导电层方向洗洁精洗，碱液清洗（超声）高纯水清洗（超声）醇脱水（超声）离心甩干烘箱烘干在清洗前先检验ITO玻璃原材料的方块电阻等指标是否满足工艺技术的要求，同时要检测ITO面是否向上（采用万用表的欧姆档来测试玻璃表面是否导通：指针偏转则表面为ITO面）来料ITO玻璃主要的污染物为：灰尘，油脂等，一定温度的碱液对ITO玻璃有很好的清洗作用，高纯水清洗可去除溶于水的杂质及一些灰尘，同时还能够上工序的碱液去除掉，而超声波的清洗作用，在于利用水分子在超声波的作用下发生振动摩擦，使玻璃表面粘附的杂质松动而脱落。
水洗后的玻璃要进行干燥处理，方法为风刀吹去玻璃表面的水然后经过红外光烘箱干燥。
玻璃基板的污物种类不同，针对不同的污物种类选择不同的清洗方式：油污类--------------有机清洗，紫外光清洗有机物--------------弱碱液清洗，等离子体无机物--------------弱酸，气流，喷淋残留微粒子------------超声，喷淋，气流注意事项：1．有机溶剂必须储存在阴凉的地方，不要靠近明火；2．易挥发且有毒性，使用时尽量少接触皮肤或者吸入体内；3．不慎着火，用沙，泡沫，二氧化碳灭火器灭火。
清洗与干燥的工作原理：ITO导电玻璃进行洁净处理，ITO导电玻璃在其制作，包装，运输过程中很容易被灰，油脂等杂质污染，未经洁净处理的玻璃无法保证工艺的质量要求，而这些杂质是依靠静电吸附在玻璃表面，比较容易去除。
A．有机溶剂去污原理：（去除油脂类物质）油脂不溶于水，但它可溶于甲苯，丙酮，乙醇等有机溶剂，其中甲苯的去污能力最强，所以先用甲苯洗，但甲苯不能残留在玻璃的表面。
因甲苯可溶于丙酮，可再用丙酮进行清洗，把残余的油脂清洗掉，同时甲苯也溶解，同样丙酮也不能够残留在玻璃表面，因丙酮溶于乙醇，所以继续用乙醇进行清洗，乙醇可以与水相溶解，最后用大量的去离子水把乙醇溶解。
因此清洗流程为：甲苯丙酮乙醇去离子水（有机化学中的相近相溶原理）B．洗洁精的去污原理：洗洁精（表面活性剂）能够使不相溶的液体成为乳浊液。
通过此乳化作用将油脂包围在水中而形成乳浊液来达到去污作用，玻璃经过洗洁精去油污后，再依次用大量的自来水，去离子水冲洗就可以达到洁净玻璃表面的目的。
C．干燥工艺原理：经过清洗后的玻璃，表面沾有水或者有机溶剂等清洗液，这将会对后续工序造成不良影响，特别是光刻工艺会产生浮胶，钻刻，图形不清晰等，因此玻璃必须经过干燥处理。
常用的有：烘干法：净化烤箱中110~120度烘烤数小时，使表面的水分变为水蒸气而除去（不能有水渍，同时空气的净化度与水的纯度要求较高）甩干法：能过离心干燥器来达到干燥玻璃表面的目的（TN型）有机溶剂脱水法：利用相近相溶原理可知水与乙醇，异丙醇等醇类完全互溶，异丙醇与氟里昂等有机溶剂互溶，因此按照水异丙醇氟里昂的顺序进行脱水就可以干燥玻璃表面。
（成本太高）风刀吹干法：STN线上是一种高效省时的干燥玻璃表面的方法，用高纯水淋洗过的玻璃随生产线传送到风刀位置，由数个高压喷嘴把经过净化处理的空气以适当的倾斜角成刀片状吹向玻璃表面，迅即吹干玻璃。
高纯水制备流程：普通水粗过滤活性碳过滤电渗析离子交换（离子交换树脂）紫外光杀菌微也过滤高纯水离子交换树脂再生为： 阴离子树脂：５％￣１０％ＮａＯＨ溶液 阳离子树脂：４％￣６％ＨＣＬ溶液 水的纯度测量： 电导仪测量水中电阻率的大小来衡量，要求在５＊１０６Ωｃｍ以上，当低于此值时会对产品质量带来不良影响，此时高纯水停止使用，应对阴阳离子树脂或者电渗析进行再生处理。
超声波清洗： 特点：速度快，质量高，易于实现自动化，特别适有于清洗表面形状比较复杂的工件，对声反射强烈的材料，其清洗效果较好。
作用机理：通过超声空化作用，存在于液体中的微气泡（空气核）在声场的作用下振动，当声压达到一定的值时，气泡将迅速增长，然后突然闭合，在气泡闭合时产生冲击波，在其周围产生上千个大气压的压力，破坏不溶性污物而使它们分散在清洗液中。
２．光刻工艺 按照产品质设计的要求，在导电玻璃上涂覆感光胶，并进行曝光，然后利用光刻胶的保护作用，对ＩＴＯ导电层进行选择性地化学腐蚀，从而在ＩＴＯ导电玻璃上得到与掩模版完全对应的图形。
最为普遍采用的光刻方法是接触曝光法。
工艺流程： 涂光刻胶 前烘 曝光 显影 坚膜 刻蚀 剥离去膜 水洗 光刻胶的配制： 配比原则： 既要使光刻胶具有良好的抗蚀能力，又要有较高的分辨率。
光刻胶中溶剂用量的多少决定着光刻胶的稀稠，从而影响光刻胶的厚薄，较稀的胶，光刻胶膜较薄，分辨率高，图形较为清晰。
配制在暗室中红光或者黄光下进行，用量筒按配方比例将原胶及溶剂分别量好，再将溶剂倒入原胶，用玻璃棒充分搅拌均匀混合，再把配制好的光刻胶中未能够溶解的固态杂质微粒滤除（目的在于改善胶膜与掩模版的接触以减少胶膜针孔和提高分辩率），装在暗色的玻璃瓶中，并保存在阴凉和干燥的暗箱中。
涂胶：在使用前一定先把胶从低温条件下取出，在使用场地放置至瓶内胶的温度与环境温度相同时方可打开瓶盖，使用前必须进行粘度测试，（粘度的调整采用稀释的方法，加入一定量的稀释剂），玻璃表面状况对光刻胶的接触与粘附具有较大的影响，因此清洗后的玻璃经过紫外线照射对其表面进行活化处理，然后再涂光刻胶。
要求：不能够有脱落现象；涂层厚度均匀；涂层表面状态不能有条纹，针孔，突起等缺陷。
方法：辊涂，必须在洁净条件下进行，温度１９￣２５度，湿度６０％，不含紫外光成分的黄灯下进行操作。