X射线光电子能谱分析

合集下载

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(XPS)是一种常用的表面分析技术,它通过测量材料表面的X射线光电子能谱来研究材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。

XPS技术具有高表面分辨率、高化学分辨率和宽能量范围等优点,被广泛应用于材料科学、表面科学和界面科学等领域。

下面将详细介绍XPS的原理、仪器结构、测量步骤以及应用。

XPS的原理:XPS基于光电效应,即当光子与物质相互作用时,能够使物质中的电子获得足够的能量从而被抛出。

通过测量被抛出的光电子的能量以及其强度,可以得到材料表面的各种信息。

XPS谱图由两个平行的轴表示,一个是电子能量轴,用来表示光电子的能量,另一个是计数轴,用来表示光电子的强度。

XPS的仪器结构:XPS的典型仪器结构包括光源、透镜系统、分析室、光电子能谱仪、多道分析器和检测器等部分。

其中,光源产生具有特定能量和强度的X射线,透镜系统用于聚焦X射线到样品表面,分析室用于保持真空环境,并可进行样品的表面清洁和预处理,光电子能谱仪用于测量光电子能谱,多道分析器用于对光电子的能量进行分析,检测器用于测量光电子的强度。

XPS的测量步骤:1.样品表面处理:对于有机材料,样品表面可能存在有机污染物,需要通过加热或离子轰击等方法进行表面清洁。

对于无机材料,一般不需要进行表面处理。

2.真空抽取:将样品放入真空室中,并进行抽取,以保证测量时的真空环境。

3.光源和透镜系统调节:调节光源的能量和透镜系统的聚焦,使其能够产生精确的X射线束。

4.测量样品表面:将样品置于X射线束中,测量样品表面的X射线光电子能谱。

5.数据分析:对测量得到的光电子能谱进行分析,得到材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。

XPS的应用:1.表面化学组成分析:XPS可以确定材料表面的元素组成和化学状态,对于催化剂、薄膜材料等具有重要意义。

2.表面形貌研究:通过测量不同位置的XPS谱图,可以了解材料表面的形貌特征,如晶体结构、晶粒尺寸等。

X射线光电子能谱

X射线光电子能谱

光电子 (e-)
X射线 (h)
与电子所在壳层的平均半径r,入射光子的频率和受激原子的原子序数Z有关。 一般来说,在入射光子的能量一定的情况下: 1、同一原子中半径越小的壳层,光电效应截面越大;电子结合能与入射光子的 能量越接近,光电效应截面越大。 2、不同原子中同一壳层的电子,原子序数越大,光电效应截面越大。
h A A*, e
光电子 (e-)
X射线 (h)
在某些情况下,还会引起俄歇电子的发 射。(为什么?)俄歇电子发射对于材 料的结构分析很有用处。
X射线光电子能谱分析的基本原理
1、光电效应(光致发射或者光电离):
当光子与材料相互作用时,从原子中各 个能级发射出的光电子的数目是不同的, 有一定的几率。光电效应的几率用光电 截面表示,定义为某能级的电子对入 射光子的有效能量转移面积,或者一定 能量的光子从某个能级激发出一个光电 子的几率。
Eb h Ek
对于固体材料,电子的结合能定义为把电子从所在的能级转移到费米能级(0K 时固体能带中充满电子的最高能级)所需要的能量。另外,固体中电子从费米能 级跃迁到自由电子能级(真空能级)所需要的能量成为逸出功,即功函数。所以, 入射光子的能量h分为三部分:电子结合能Eb,逸出功Ws,自由电子的动能Ek。 所以:
另外,原子中的电子既有轨道运动又有自旋运动。它们之间存在着耦合(电磁相
互)作用,使得能级发生分裂。对于 >0的内壳层,这种分裂可以用内量子数j来
表示。其数值为:
j
l ms
l
1 2
所以:对于 =0,j=1/2。对于 >0,则j= +½或者 -½。也就是说,除了s能 级不发生分裂外,其他能级均分裂为两个能级:在XPS谱图中出现双峰。

电子能谱分析

电子能谱分析
电子能谱分析
第一章 X射线光电子能谱 第二章 俄歇电子能谱
固体表面的化学组成和体内不完全相同,甚至完全不同, 造成这种差别的原因主要有:
★ 表面原子(或离子)化学键部分断裂(悬挂键), 能量状态与体内不同;
★ 外来物在表面的吸附、污染; ★ 表面的氧化、腐蚀和摩擦; ★ 人为加工的表面,如离子注入、钝化和各种涂层。
1.1.2 信息能量
入射光子h与原子的某一内层电子产生非弹性散射时,其h能量将
消耗于以下几部分:
• 克服结合能Eb
• 逸出功s
• 转换为出射动能EK • 电子逸出表面时原子产生的反冲能Er • 可给出以下能量守恒关系:
h = Eb + EK + s + Er
由上述讨论可见:
• 当M>>m时,只要选择合适光束源,使光子能量h不太大,则可
因此,在实际应用中,人们要对材料和器件工作表面的 宏观性能做出正确的评价与理解,首先必须对各种条件下表 面的化学组成和化学状态进行定性和定量的测定和分析。
• 固体表面状态,包括表面成分、结构、配位、化学键性、 能带、电子态等等,对材料的许多物性以及相关的应用和 理论都有非常重要的意义。
• 人们早就十分关注固体表面问题,但一直受到实验手段的 局限,主要是缺乏在原子水平表征、研究材料成分、结构、 状态和性能的直接手段。
• 此时,忽略Er,则试样和谱仪壳材两者分别有以下能量关系:谱仪
逸出功 sp代替试样逸出功s:
试样谱仪未连接
试样谱仪连接
EKsp EK
EK + s = EKsp+ sp
EKsp
仪器的sp 是给定不变的, 可通过实测EKsp来求得试样的结合能Eb.

第七章X射线光电子能谱

第七章X射线光电子能谱

光电离几率和电子逃逸深度
• 光电离几率(光电离截面):一定能量的光子在 与原子作用时,从某个能级激发出一个电子的 几率;
• 与电子壳层平均半径,入射光子能量,原子 序数有关;
• 对于不同元素的同一壳层的电子,随原子序数 的增加而增加.
• 同一元素中,半径越小的原子壳层, 越大. • 越大,说明该能级上的电子越容易被激发,它
析技术;
• 非弹性平均自由程
• 具有一定能量的电子连续发生两次有效 的非弹性碰撞之间所经过的平均距离(nm 单位) 称为电子的非弹性平均自由程在表 面分析中是一个重要参数它与电子能量 和表面材料有关它可用来估计具有不同 特征能量的电子所携带的信息深度
• 信息深度垂直于表面的平均距离(nm单位) 有给定百分比的检测到的,电子的来源于 此范围.
➢因为Auger电子的动能是固定的,而X射线光电 子的结合能是固定的,因此,可以通过改变激发 源(如Al/Mg双阳极X射线源)的方法,观察峰位的 变化与否而识别Augar电子峰和X射线光电子峰。
Ag的光电子能谱图(MgK激发)
③X射线的伴峰:X射线一般不是单一的特 征X射线,而是还存在一些能量略高的小伴
在的能级为基础。如初态空位在K能级,L1能级上的 一个电子向下跃迁填充K空位,同时激发L3上的一个 电子发射出去便记为KL1L3。一般地说,任意一种 Auger过程均可用WiXpYq来表示。 此处,Wi, Xp和Yq
代表所对应的电子轨道
➢Auger谱线:在XPS中,可以观察到KLL, LMM, MNN和NOO四个系列的Auger线。
线,所以导致XPS中,除K1,2所激发的主谱
外,还有一些小的半峰。
④多重分裂 :当原子的价壳层有未 成对的自旋电子时,光致电离所形成 的内层空位将与之发生耦合,使体系 出现不止一个终态,表现在XPS谱图 上即为谱线分裂。

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种非常重要的表面分析技术,广泛应用于材料科学、化学、表面物理、生物技术和环境科学等领域。

本文将对X射线光电子能谱分析法进行详细介绍,包括基本原理、仪器分析系统和应用领域。

一、基本原理X射线光电子能谱分析法是利用X射线照射固体表面,使其产生光电子信号,并通过测量光电子的动能和数量,来确定样品表面的化学成分及其状态。

其主要基于光电效应(photoelectric effect)和X射线物理过程。

光电效应是指当光子入射到固体物质表面的时候,会将表面电子激发到导带或导带以上的能级上,并逃离固体形成受激电子。

这些逃逸的电子称为光电子,其动能与入射光子的能量有关。

X射线物理过程主要包括光子的透射、散射和与原子内电子的相互作用等。

当X射线入射到固体表面时,会发生漫反射和荧光特性,造成信号的背景噪声。

同时,X射线的能量足够高,可以与样品的内层电子发生作用,如光电子相对能谱(Photoelectron RELative Energies)和化学平移分量(Chemical Shift)等。

二、仪器分析系统X射线光电子能谱分析系统包括光源、样品室、分析仪和检测器等。

光源常用的是具有较窄X射线能谱线宽的准单色X射线源,如AlKα线或MgKα线。

样品室的真空度一般要达到10^-8Pa左右,以避免空气对样品的干扰。

分析仪是用于测量光电子动能和数量的关键部件,常见的配备有放大器、电子能谱仪和角度分辨收集器等。

放大器将来自检测器的信号放大,并进行滤波处理以滤除高频噪声。

电子能谱仪是用于测量光电子动能的装置,一般包括一个径向入射、自由运动的光电子束和一个动能分析系统。

角度分辨收集器则用于测量光电子的角度分布。

检测器用于测量光电子的数量,常见的有多种类型的二极管(如能量分辨二极管和多道分析器)和面向瞬态X射线源的时间分辨仪器。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用来表征材料表面元素化学状态和电子能级分布的表征技术。

它利用X射线照射材料表面,测量和分析材料表面光电子的能谱,通过分析能谱图可以得到有关材料的化学组成、表面化学键的种类和键长、元素的电子与核心电子之间的相互作用等信息。

本文将对X射线光电子能谱分析技术的原理、仪器设备及应用领域进行详细介绍。

X射线光电子能谱分析的原理可以用以下几个步骤来概括:首先,用X射线照射材料表面,激发材料表面的原子和分子。

然后,从激发的原子和分子中发射出光电子。

这些光电子的能量与产生它们的原子或分子的能级差有关。

最后,测量和分析这些光电子的能谱,从而得到材料表面的化学组成和电子能级分布信息。

为了进行X射线光电子能谱分析,需要使用专门的仪器设备,包括X射线源、能量分辨光电子能谱仪和电子能谱仪。

X射线源通常使用非常亮的单晶或多晶X射线管。

光电子能谱仪用来测量光电子的能谱,并将所获得的信号转化为能谱图。

电子能谱仪则用来检测、放大和记录电子能谱图。

X射线光电子能谱分析可以在多个领域应用,具有广泛的研究意义和实际应用价值。

在材料科学领域,它可以用来表征材料表面的成分和化学状态,研究材料的性质和行为;在表面科学领域,它可以研究表面的形貌和变化,探索表面的特性和反应;在催化剂和材料化学领域,它可以分析催化剂的表面状态和反应过程;在电子器件和光学器件领域,它可以研究界面和界面化学反应的机理等。

总结起来,X射线光电子能谱分析是一种非常重要的表征技术,可以提供关于材料表面的成分、化学状态和电子能级分布等信息。

通过XPS技术,可以探索材料的性质、表面的形貌以及材料的化学反应机理等,对于材料科学、表面科学、催化剂和电子光学器件等领域的研究和应用具有重要意义。

X射线光电子能谱及其应用简介

X射线光电子能谱及其应用简介

XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
S的2p峰在不同化学状态下的结合能值
XPS应用
化合态识别
XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
C1s在不同化学状态下半峰高宽的变化
CF4
C6H6
CO
CH4
半 峰 高 宽 0.52
0.57
0.65
0.72
(eV)
THANkS
结合能( Eb):电子克服原子核束缚和周围电子的作
用,到达费米能级所需要的能量。
费米(Fermi)能级:T=0K固体能带中充满电子的最高能级
真空能级:K电子达到该能级时完全自由而不受核的作用
2021/10/10
Page 2
XPS的基本原理
2021/10/10
Page 3
XPS基本原理
对于固体样品,计算结合能的参考点不 是选真空中的静止电子,而是选用费米 能级,由内层电子跃迁到费米能级消耗 的能量为结合能 Eb,由费米能级进入 真空成为自由电子所需的能量为功函数 Φ,剩余的能量成为自由电子的动能Ek,
2021/10/10
12
筒镜形电子能量分析器
筒镜分析器示意图
2021/10/10
13
真空系统
电子能谱仪的真空系统有两个基本功能。
1、使样品室和分析 器保持一定的真空 度,以便使样品发 射出来的电子的平 均自由程相对于谱 仪的内部尺寸足够 大,减少电子在运 动过程中同残留气 体分子发生碰撞而 损失信号强度。
hv=Ek+Eb+Φ

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是一种重要的表面分析技术,广泛应用于物质表面成分、电子态和化学状态的研究。

本文将从XPS的原理、仪器构成、数据分析以及应用等方面进行详细介绍。

XPS原理基于光电效应,即当材料表面受到X射线照射后,光电子从表面脱离。

这些脱离的光电子具有一定的动能,其动能与被照射材料的原子核和电子状态相关。

通过测量脱离光电子的动能和相应的能谱,可以获得材料表面的成分和电子结构等信息。

XPS仪器通常由X射线源、光学系统、光电子能谱仪以及数据采集与分析系统组成。

X射线源通常采用非常纯净的铝或镁,通过加热产生X射线,其能量通常在0.5-2.5 keV范围内。

光学系统将X射线聚焦在材料表面,使其与表面相互作用。

此外,还需要一个真空系统以及样品调节装置,以保证实验过程的可靠性。

在光电子能谱仪中,光电子在进入光学透镜之后,通过缝隙进入光谱学荧光屏,其中光电子会击中荧光屏产生荧光,然后荧光被光电二极管或者多道采集系统接收。

通过测量光谱的能量分布,可以得到XPS的能谱图像。

数据采集与分析系统用于处理和分析得到的XPS数据。

根据样品组成和光电子的能量分布,可以识别和测量各种元素的化学状态和含量。

此外,还可以通过能级分别效应等技术,研究材料的表面电子结构和化学键性质。

XPS在材料科学和表面化学等领域具有广泛的应用。

首先,XPS被广泛应用于材料表面组分分析。

通过测量光电子的能量分布,可以确定元素的存在和相对含量,从而判断材料的组成。

其次,XPS可以提供元素的化学状态信息,即原子与其他元素的化学键类型和性质。

这对于研究各种材料的界面和表面反应具有重要意义。

此外,XPS还可以通过研究表面电荷分布和电子能带结构等信息,研究材料的电子结构与性质。

总结来说,X射线光电子能谱是一种重要的表面分析技术,可以提供材料的组分、化学状态以及电子结构等信息。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy analysis)1887年,Heinrich Rudolf Hertz发现了光电效应。

二十年后的1907年,P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系。

待测物受X光照射后内部电子吸收光能而脱离待测物表面(光电子),透过对光电子能量的分析可了解待测物组成,XPS主要应用是测定电子的结合能来实现对表面元素的定性分析,包括价态。

XPS(X射线光电子能谱)的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。

被光子激发出来的电子称为光电子。

可以测量光电子的能量,以光电子的动能为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图。

从而获得试样有关信息。

X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)。

其主要应用:1,元素的定性分析。

可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。

2,元素的定量分析。

根据能谱图中光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度。

3,固体表面分析。

包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。

4,化合物的结构。

可以对内层电子结合能的化学位移精确测量,提供化学键和电荷分布方面的信息。

5,分子生物学中的应用。

Ex:利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co。

应用举例:1.确定金属氧化物表面膜中金属原子的氧化状态;2.鉴别表面石墨或碳化物的碳;(一)X光电子能谱分析的基本原理:X光电子能谱分析的基本原理:一定能量的X光照射到样品表面,和待测物质发生作用,可以使待测物质原子中的电子脱离原子成为自由电子。

该过程可用下式表示:hn=Ek+Eb+Er 其中: hn:X光子的能量;Ek:光电子的能量;Eb:电子的结合能;Er:原子的反冲能量。

其中Er很小,可以忽略。

对于固体样品,计算结合能的参考点不是选真空中的静止电子,而是选用费米能级,由内层电子跃迁到费米能级消耗的能量为结合能Eb,由费米能级进入真空成为自由电子所需的能量为功函数Φ,剩余的能量成为自由电子的动能Ek。

式又可表示为:hn=Ek+Eb+Φ(10.4)Eb= hn- Ek-Φ(10.5)仪器材料的功函数Φ是一个定值,约为4eV,入射X光子能量已知,这样,如果测出电子的动能Ek,便可得到固体样品电子的结合能。

各种原子,分子的轨道电子结合能是一定的。

因此,通过对样品产生的光子能量的测定,就可以了解样品中元素的组成。

元素所处的化学环境不同,其结合能会有微小的差别,这种由化学环境不同引起的结合能的微小差别叫化学位移,由化学位移的大小可以确定元素所处的状态。

例如某元素失去电子成为离子后,其结合能会增加,如果得到电子成为负离子,则结合能会降低。

因此,利用化学位移值可以分析元素的化合价和存在形式。

(二)电子能谱法的特点( 1 )可以分析除H 和He 以外的所有元素;可以直接测定来自样品单个能级光电发射电子的能量分布,且直接得到电子能级结构的信息。

( 2 )从能量范围看,如果把红外光谱提供的信息称之为“分子指纹”,那么电子能谱提供的信息可称作“原子指纹”。

它提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级。

而相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰少,元素定性的标识性强。

( 3 )是一种无损分析。

( 4 )是一种高灵敏超微量表面分析技术。

分析所需试样约10 -8 g 即可,绝对灵敏度高达10 -18 g ,样品分析深度约2nm 。

(三) X 射线光电子能谱法的应用( 1 )元素定性分析各种元素都有它的特征的电子结合能,因此在能谱图中就出现特征谱线,可以根据这些谱线在能谱图中的位置来鉴定周期表中除H 和He 以外的所有元素。

通过对样品进行全扫描,在一次测定中就可以检出全部或大部分元素。

( 2 )元素定量分折X 射线光电子能谱定量分析的依据是光电子谱线的强度(光电子蜂的面积)反映了原于的含量或相对浓度。

在实际分析中,采用与标准样品相比较的方法来对元素进行定量分析,其分析精度达1 %~2 %。

( 3 )固体表面分析固体表面是指最外层的 1 ~10 个原子层,其厚度大概是(0.1~1) n nm 。

人们早已认识到在固体表面存在有一个与团体内部的组成和性质不同的相。

表面研究包括分析表面的元素组成和化学组成,原子价态,表面能态分布。

测定表面原子的电子云分布和能级结构等。

X 射线光电子能谱是最常用的工具。

在表面吸附、催化、金属的氧化和腐蚀、半导体、电极钝化、薄膜材料等方面都有应用。

( 4 )化合物结构签定X 射线光电子能谱法对于内壳层电子结合能化学位移的精确测量,能提供化学键和电荷分布方面的信息。

(四)下面重点介绍一下X射线在表面分析中的原理及应用X射线光电子能谱法(X-ray Photoelectron Spectrom-----XPS)在表面分析领域中是一种崭新的方法。

虽然用X射线照射固体材料并测量由此引起的电子动能的分布早在本世纪初就有报道,但当时可达到的分辩率还不足以观测到光电子能谱上的实际光峰。

直到1958年,以Siegbahn为首的一个瑞典研究小组首次观测到光峰现象,并发现此方法可以用来研究元素的种类及其化学状态,故而取名“化学分析光电子能谱(Eletron Spectroscopy for Chemical Analysis-ESCA)。

目前XPS和ESCA已公认为是同义词而不再加以区别。

XPS的主要特点是它能在不太高的真空度下进行表面分析研究,这是其它方法都做不到的。

当用电子束激发时,如用AES法,必须使用超高真空,以防止样品上形成碳的沉积物而掩盖被测表面。

X射线比较柔和的特性使我们有可能在中等真空程度下对表面观察若干小时而不会影响测试结果。

此外,化学位移效应也是XPS法不同于其它方法的另一特点,即采用直观的化学认识即可解释XPS中的化学位移,相比之下,在AES中解释起来就困难的多。

1 基本原理用X射线照射固体时,由于光电效应,原子的某一能级的电子被击出物体之外,此电子称为光电子。

如果X射线光子的能量为hν,电子在该能级上的结合能为Eb,射出固体后的动能为Ec,则它们之间的关系为:hν=Eb+Ec+Ws 式中Ws为功函数,它表示固体中的束缚电子除克服各别原子核对它的吸引外,还必须克服整个晶体对它的吸引才能逸出样品表面,即电子逸出表面所做的功。

上式可另表示为:Eb=hν-Ec-Ws 可见,当入射X射线能量一定后,若测出功函数和电子的动能,即可求出电子的结合能。

由于只有表面处的光电子才能从固体中逸出,因而测得的电子结合能必然反应了表面化学成份的情况。

这正是光电子能谱仪的基本测试原理。

2 仪器组成XPS是精确测量物质受X射线激发产生光电子能量分布的仪器。

具有真空系统、离子枪、进样系统、能量分析器以及探测器等部件。

XPS中的射线源通常采用AlKα(1486.6eV )和MgK α(1253.8eV),它们具有强度高,自然宽度小(分别为830meV和680meV)。

CrKα和CuKα辐射虽然能量更高,但由于其自然宽度大于2eV,不能用于高分辩率的观测。

为了获得更高的观测精度,还使用了晶体单色器(利用其对固定波长的色散效果),但这将使X射线的强度由此降低。

由X射线从样品中激发出的光电子,经电子能量分析器,按电子的能量展谱,再进入电子探测器,最后用X Y记录仪记录光电子能谱。

在光电子能谱仪上测得的是电子的动能,为了求得电子在原子内的结合能,还必须知道功函数Ws。

它不仅与物质的性质有关,还与仪器有关,可以用标准样品对仪器进行标定,求出功函数。

3 应用简介XPS电子能谱曲线的横坐标是电子结合能,纵坐标是光电子的测量强度(如下图所示)。

可以根据XPS电子结合能标准手册对被分析元素进行鉴定。

XPS是当代谱学领域中最活跃的分支之一,虽然只有十几年的历史,但其发展速度很快,在电子工业、化学化工、能源、冶金、生物医学和环境中得到了广泛应用。

除了可以根据测得的电子结合能确定样品的化学成份外,XPS最重要的应用在于确定元素的化合状态。

当元素处于化合物状态时,与纯元素相比,电子的结合能有一些小的变化,称为化学位移,表现在电子能谱曲线上就是谱峰发生少量平移。

测量化学位移,可以了解原子的状态和化学键的情况。

例如Al2O3中的3价铝与纯铝(0价)的电子结合能存在大约3电子伏特的化学位移,而氧化铜(CuO)与氧化亚铜(Cu2O)存在大约1.6电子伏特的化学位移。

这样就可以通过化学位移的测量确定元素的化合状态,从而更好地研究表面成份的变化情况。

X光电子能谱法是一种表面分析方法,提供的是样品表面的元素含量与形态,而不是样品整体的成分。

其信息深度约为3-5nm。

如果利用离子作为剥离手段,利用XPS作为分析方法,则可以实现对样品的深度分析。

固体样品中除氢、氦之外的所有元素都可以进行XPS分析。

(1)通过测定物质的表层(约10nm),可以获得物质表层的构成元素和化学结合状态等方面的信息。

解析基板表层附着物,解析金属薄膜等的氧化状态,计算自然氧化膜厚度,解析CF系醋酸膜,评价金属材料的腐蚀,测定磁盘润滑膜厚度,解析各种反应生成物宽幅扫描测定(2).应用角度分解法进行的分析通过改变光电子的取出角度,可以采用非破坏性的方法得到深度方向的信息。

另外,浅化光电子的取出角度,可以提高超表层的灵敏度。

局部扫描测定用途:对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析。

固体样品表面的组成、化学状态分析,广泛应用于元素分析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、元素价态鉴定。

此外在对氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包袱等微观机理研究;污染化学、尘埃粒子研究等的环保测定;分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究等方面有所应用。

相关文档
最新文档