研究生材料科学研究与分析方法-电镜部分复习重点(2014)

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材料分析方法重点总结

材料分析方法重点总结

材料分析⽅法重点总结1.(1)试说明电⼦束⼊射固体样品表⾯激发的主要信号、主要特点和⽤途。

(2)扫描电镜的分辨率受哪些因素影响? 给出典型信号成像的分辨率(轻元素滴状作⽤体积),并说明原因。

(3)⼆次电⼦(SE)信号主要⽤于分析样品表⾯形貌,说明其衬度形成原理。

(4)⽤⼆次电⼦像和背散射电⼦像在显⽰表⾯形貌衬度时有何相同与不同之处?答:(1)背散射电⼦:能量⾼;来⾃样品表⾯⼏百nm深度范围;其产额随原⼦序数增⼤⽽增多.⽤作形貌分析、成分分析以及结构分析。

⼆次电⼦:能量较低;来⾃表层5-10nm深度范围;对样品表⾯形貌⼗分敏感.不能进⾏成分分析.主要⽤于分析样品表⾯形貌。

吸收电⼦:其衬度恰好和SE或BE信号调制图像衬度相反;与背散射电⼦的衬度互补.吸收电⼦能产⽣原⼦序数衬度,即可⽤来进⾏定性的微区成分分析.透射电⼦:透射电⼦信号由微区的厚度、成分和晶体结构决定.可进⾏微区成分分析.特征X射线: ⽤特征值进⾏成分分析,来⾃样品较深的区域俄歇电⼦: 各元素的俄歇电⼦能量值低;来⾃样品表⾯1-2nm范围。

适合做表⾯分析.(2)影响因素:电⼦束束斑⼤⼩,检测信号类型,检测部位原⼦序数.信号⼆次电⼦背散射电⼦吸收电⼦特征X射线俄歇电⼦分辨率 5~10 50~200 100~1000 100~1000 5~10对轻元素,电⼦束与样品作⽤产⽣⼀个滴状作⽤体积(P222图)。

⼊射电⼦在被样品吸收或散射出样品表⾯之前将在这个体积中活动。

AE和SE因其本⾝能量较低,平均⾃由程很短,因此,俄歇电⼦的激发表层深度:0.5~2 nm,激发⼆次电⼦的层深:5~10 nm,在这个浅层范围,⼊射电⼦不发⽣横向扩展,因此,AE和SE只能在与束斑直径相当的园柱体内被激发出来,因为束斑直径就是⼀个成象检测单元的⼤⼩,所以它们的分辨率就相当于束斑直径。

BE在较深的扩展体积内弹射出,其分辨率⼤为降低。

X射线在更深、更为扩展后的体积内激发,那么其分辨率⽐BE更低。

电镜复习资料

电镜复习资料

一、电子束与样品的作用1为什么电子显微分析方法在材料研究中非常有用。

答:电子显微镜用于电子作光源,波长很短,且用电磁透镜聚焦,显著提高了分辨率,比光学显微镜提高了1000倍,可以对很小范围内的区域进行电子像、晶体结构、化学成分分析研究;样品不必复制,直接进行观察,可以观察试样表面形貌,试样内部的组织与成分。

2电子与样品作用产生的信号是如何被利用的?扫描电镜利用哪几个信号?答:(1)高能电子束与试样物质相互作用,产生各种信号,这些信号被相应的接收器接收,经过放大器放大后送到显像管的栅极上,调制显像管的亮度,可以获得样品成分的内部结构的丰富信息。

(2)二次电子,背散射电子,吸收电子,特征X 射线,俄歇电子,阴极荧光谱。

3、属于弹性散射的信号有哪几个?答:背散射电子,大部分透射电子。

4、荧光X 射线、二次电子和背散射电子哪一个在样品上扩展的体积最大?答:荧光X 射线,深度0.5~5um ,作用体积大约0.1~1um5在铝合金中距离样品表面0.5um 的亚表层有一块富铜相。

是否可以用二次电子或者背散射电子看到它?请详细解释原因答:可以用背散射电子看到,二次电子不行二次电子从表面5~10nm 层发射出来,逃逸深度浅,二次电子的产额随原子序数的变化不如背散射电子那么明显,对原子序数的变化不敏感;背散射电子一般从试样0.1~1um 深处发射出来,能反映试样离表面较深处的情况;对试样的原子序数变化敏感,产额随原子序数的增加而增加,始于观察成分的空间分布。

二、扫描电镜及应用1.高分辨扫描电镜要采用场发射电子枪作为电子源的原因是什么?答:扫描电镜的分辨率与电子的波长关系不大,与电子在试样上的最小扫描范围有关,电子束斑越小,分辨率越高,但还必须越高。

但还必须保证电子束斑小时,电子束具有足够的强度。

2.解释扫描电镜放大倍率的控制方法答:M=l/L 显像管中电子束在荧光屏上最大扫描距离和电子束在试样上最大扫描距离的比,l 不变,改变L ,通过调节扫描线圈上的电流进行,减少扫描线圈的电流,电子束偏转角度小,在试样上移动距离变小,放大倍数增加。

材料测试与研究方法重点

材料测试与研究方法重点

材料测试与研究方法重点一.名词解释相对强度:同一衍射图中各个衍射线的绝对强度的比值。

积分强度:扣除背影强度后衍射峰下的累积强度。

透射电镜的点线分辨率:点分辨率表示电镜所能分辨的两个点之间的最小距离;线分辨率表示电镜所能分辨的两条线之间的最小距离。

拉曼效应:散射光的散射强度中约有1%的光频率与入射光束的频率不同。

除了在入射光频率处有一强的瑞利散射线以外,在他的较高(反斯托克斯线)和较低频率(斯托克斯线)还有比他弱的多的谱线。

化学位移:由于原子所处的化学环境不同,而引起的原子内壳层电子结合能的变化,在谱图上表现为谱线的位移。

Moseley定律:对于一定线性系的某条谱线而言其波长与原子序数平方近似成反比关系。

差热分析:在程序控制温度下,测量物质和参比物的温度差与温度关系的一种方法。

(DTA)差示扫描量热法:把试样和参比物的温度差保持为零时,所需要的能量对时间关系的一种技术。

(DSC)拉曼位移:拉曼散射光与入射光频率之差。

系统消光:把由于Fhkl=0而使衍射线有规律的消失的现象称为系统消光。

x射线衍射方向:是两种相干波的光程差是波长整数倍的方向。

明暗场像:用物镜光栏挡去衍射束,让透射束成像,有衍射的为暗像,无衍射的为明像,这样形成的为明场像;用物镜光栏挡去透射束和其余衍射束,让一束强衍射成像,则无衍射的为暗像,又衍射的为明像,这样形成的为暗场像。

二次电子:在入射电子作用下被轰出并离开样品表面的原子的核外电子。

背散射电子:入射电子与试样相互作用经多次散射后,重新逸出试样表面的电子。

光电效应:当具有一定能量hv的入射光子与样品的原子互相作用时,单个光子把全部能量交换给原子某壳层上一个受束缚的电子,这个电子就获得能量。

如果该能量大于电子的结合能Eb,该电子就将脱离原来受束缚的能级;若还有多余的能量可以使电子克服功函数w,则电子就成为自由电子,并获得一定动能Ek并且hv=Eb+Ek+W。

该过程称为光电效应。

二,简答题1.X射线谱有哪两种类型?其含义是什么?两种类型:连续x射线谱和特征x射线谱。

材料研究方法重点总结

材料研究方法重点总结

材料研究方法重点1、光学显微分析技术:1.1 光率体:什么是光率体?光率体的用途。

定义:为了反映光波在晶体中传播时,其偏振方向与折射率值之间的关系,所建立的抽象立体几何图像的光性指示体。

其做法是设想自晶体中心起,沿光波的各个振动方向,按比例截取相应的折射率值,在把各个线段的端点联系起来。

实际上光率体是利用晶体各个不同方向上的切片,在折光仪上测出各个光波振动方向上的相应折射率值所作的立体图。

应用:反应了晶体光学性质的最本质特点,形状简单,应用方便,是一切光学现象的基础。

偏光显微镜鉴别晶体矿物都是以光率体在矿物中的方位为依据的。

1.2 光性方位:p19。

光学方位是什么,有什么作用?各中晶体的光学方位特点?1.光率体的主轴与晶体的晶面、结晶轴以及晶楞之间的关系称之为光性方位。

作用:不同的晶体的光性方位不同,而同一晶体的光性方位基本固定,故确定光性方位可以鉴定晶体的类型。

2.三方、四方和六方晶系(中级晶轴)晶体的光率均属于一轴光率体。

其光率体为旋转椭球体,其旋转轴(光轴)与结晶轴(c轴)相当,也与晶系的高次对称轴重合,光率体的中心与晶体中心重合。

3.二轴晶光率体为三轴椭球体,具有三个相互垂直的二次对称轴(主轴),三个对称面(主轴面)和一个对称中心。

其对称要素3L23PC与斜方晶系的最高对称性相当。

故,斜方晶系的光性方位特点是:光率体的三根主轴与晶体的三根结晶轴重合,但至于哪一根主轴与那一根结晶轴重合,因晶体不同而不同。

光率体的三个主轴面与晶体的三个对称面重合。

4.单斜晶系的光性方位与斜方晶系不同,单斜晶系的最高对称型为L2PC.其光性方位的特点是:光率体主轴之一与晶体的二次对称轴重合,光率体的三个主轴面之一与晶体的对称面重合,光率体的另外两个主轴与晶体的另外两个晶轴斜交(即相交一定角度)。

5.三斜晶系晶体中,仅有一个对称中心c可与光率体的对称中心c重合,其晶体的光学方位特点:光率体的三个主轴与晶体的三根结晶轴斜交,其斜交角度因矿物不同而不同。

电镜复习材料

电镜复习材料

电镜复习材料第一章概述1、电子显微镜的发展德国人Ruska 1938年制造出一台真正实用的电子显微镜,其分辨率为10nm ,比光镜提高了20倍。

由于Ruska 在电子显微镜方面作出的巨大贡献,他被誉为电子显微镜之父。

2、电子显微镜发展的理论基础Broglie 的粒子波动性理论Busch 的电磁场对电子具有会聚作用的理论3、电子显微镜的类型(知道,了解)透射电子显微镜(transmission electron microscope ,TEM )扫描电子显微镜(scanning electron microscope ,SEM )扫描透射电镜(scanning electron microscope, STEM )分析电子显微镜(analysis electron microscope, AEM )高压电子显微镜(high voltage electron, HVEM )扫描隧道显微镜(scanning tunneling microscope ,STM )原子力显微镜(atomic force microscope ,AFM )第二章电子显微镜的基本理论1、分辨率和有效放大倍数的关系M 有=δ人眼/δ仪 2、影响分辨率的因素Λ为照明光的波长;a 为孔径角的一半,n 为透镜和样品之间介质的折射率。

其中n 。

Sina 称为数值孔径。

3、电子束的特性:电子束是由带负电荷的电子组成的一种阴极射线流,高速运动的电子也具有粒子性和波动性。

电子束的波动性和可折射性是构成电镜的理论基础。

4、电子波的波长和加速电压、分辨率的关系加速电压越高,电子波的波长越短。

电子波的波长越高,分辨率越高。

5、电子束与样品的相互作用:电子束轰击样品时,与样品物质原子及核外电子发生弹性或非弹性散射作用,产生带有样品信息的各种电子讯号。

电子束与样品的相互作用是电子在样品中运动、扩散、激发以及能量传递的复杂的物理过程。

电子束和样品相互作用后产生的各种信息:透射电子(TE )、二次电子(SE )、背散射电子(BE )、俄歇电子(AE )、 X 射线等电子信号透射电子:根据透射电子所带的样品信息转换成图像二次电子:可以反映样品表面的形貌,是扫描电镜成像的基础背散射电子:可以反映样品的表面形貌和成分的差异。

材料研究方法-复习资料

材料研究方法-复习资料

绪论1、材料研究方法中,研究物相组成的主要有哪些方法?研究结构特征主要有那些方法?物相组成分析:非图像分析-成分谱分析(色谱分析;热普分析;能谱分析;光谱分析);衍射法(X射线衍射法;电子衍射法;中子衍射法)结构特征分析:图像分析法-显微术(光学显微术;透射电子显微术;场离子显微术;扫描电子显微术;扫描隧道显微术)X射线衍射1、试述X射线的定义、性质,X射线的产生、特点?定义:X射线是一种波长为0.01纳米到10纳米之间的电磁波。

性质:具有波粒二象性。

波动性:以一定的频率和波长在空间传播;粒子性:由大量的不连续粒子流(光子)构成,每个光子具能量。

产生:高速运动的电子与物体碰撞时,发生能量转换,电子运动受阻失去动能,小部分-X射线,大部分-热能。

特点:1)穿透力强。

2)能使底片感光。

3)能使荧光物质发光。

4)能使气体电离。

5)对生物细胞有杀伤作用。

2、X射线定性相分析的目的和原理是什么?步骤是什么?目的:判定物质中的物相组成。

原理:1)每种结晶物质具有特定的衍射花样。

2)多相试样的衍射花样是由所含各物相的衍射花样机械叠加。

基本步骤:1)通过用粉末衍射法或粉末照相法等获取被测试物质的衍射图像。

2)计算或查找出衍射图谱上每根峰的d值与I值。

3)利用I值最大的三根强线的对应d 值查找索引,找出基本符合的物相名称及卡片号。

4)将实测的d、I值与卡片上的数据一一对照,若基本符合,就可定为该物相。

3、X射线谱——X射线随波长而变化的关系曲线。

4、连续X射线——波长连续变化的X射线。

5、标识X射线——具有特定波长的X射线。

透射电镜和扫描电镜1、分辨本领——显微镜能分辨的样品上两点间的最小距离。

2、景深——透镜对高低不平的试样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。

3、二次电子——被入射电子轰击出来的样品核外电子。

4、背散射电子——被固体样品中院子反射回来的一部分入射电子。

5、衍射衬度——晶体中各部分因满足衍射条件的程度不同而引起的衬度。

材料研究方法重点

材料研究方法重点

材料研究方法重点第四章电子显微分析这一章节是出题很多的一个章节电子显微分析主要由三部分组成4.2 透射电镜 4.3 扫描电镜 4.4 电子探针仪4.1引言中重要的内容有两个知识点.一个是分辨本领的定义以及光学显微镜分辨本领的极限,这个知识点过去就考过.另外一个知识点是透射电镜分辨本领的影响因素.理解此处内容要注意图4.2 历年真题有:9. 为何电子显微分析可以获得较光学显微分析高得多的分辨率。

这道题比较容易解答。

答案就在4.1的第一页。

4.2 透射电镜(TEM)TEM有两个知识点必须掌握(一)射电镜样品制备原理(4.2.3)(二)射电镜的三个衬度1.质厚衬度(4.2.4)质厚衬度的内容都应该熟记于心,尤其是图4.19质厚衬度形成原理,应能完整画出。

2.衍射衬度(4.2.6)衍射衬度远离需要掌握。

图4.24衍射效应光路原理也很重要。

4.2.6.2衍射衬度光路分析作为阅读内容就可以了,这方面内容的理论性太强了,同济大学的考题很难把这方面的内容涉及到。

3.位相衬度(4.5.2)位相衬度非考纲内容中,但掌握它就基本上掌握了透射电镜的基本原理,它是三个基本衬度利于对透镜的进一步了解。

4.2.5透射电镜的电子衍射为透射电镜中的另一重点内容。

TEM中的电子衍射能够给出晶体样品内部结构信息,可以确定某一微区的点阵类型,点阵常数和晶向关系等晶体学类型。

使 TEM即可以观察晶体样品微区组织形态,又可对其进行原位晶体结构分析。

.2.5.2TEM电子衍射的特点也可能出上一道比较TEM与电子衍射的特点与XRD电子衍射的特点的题目。

这里去年出题了,题目是:详述电子衍射和X射线衍射的异同点这道题是研究生复习题中的原题。

下面是一个好消息:4.2.5.3简单电子衍射花样的分析,4.2.5.4多晶衍射花样的分析这些内容作为阅读内容就行了。

这方面的内容不会直接出:给出图4.27的衍射花样花样,让分析它属于那种晶系?这样的题。

但是要知道的是:除了XRD这个确定物相的手段外,还要知道TEM电子衍射这个手段。

材料分析方法重点总结

材料分析方法重点总结

1.透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?答:主要有三种光阑:①聚光镜光阑。

在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。

作用:限制照明孔径角。

②物镜光阑。

安装在物镜后焦面。

作用: 提高像衬度;减小孔径角从而减像差;进行暗场成像。

③选区光阑:放在物镜的像平面位置。

作用: 对样品进行微区衍射分析。

2.决定X 射线强度的关系式是试说明式中各参数的物理意义?3.比较物相定量分析的外标法、内标法、K 值法、直接比较法和全谱拟合法的优缺点?答:外标法就是待测物相的纯物质作为标样以不同的质量比例另外进行标定,并作曲线图。

外标法适合于特定两相混合物的定量分析,尤其是同质多相(同素异构体)混合物的定量分析。

内标法是在待测试样中掺入一定量试样中没有的纯物质作为标准进行定量分析,其目的是为了消除基体效应。

内标法最大的特点是通过加入内标来消除基体效应的影响,它的原理简单,容易理解。

但它也是要作标准曲线,在实践起来有一定的困难。

K 值法是内标法延伸。

K 值法同样要在样品中加入标准物质作为内标,人们经常也称之为清洗剂。

K 值法不作标准曲线,而是选用刚玉Al O 作为标准物质,直接比较法通过将待测相与试样中存在的另一个相的衍射峰进行对比,求得其含量的。

直接法好处在于它不要纯物质作标准曲线,也不要标准物质,它适合于金属样品的定量测量。

4磁透镜的像差是怎样产生的? 如何来消除和减少像差?像差分为球差,像散,色差.球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的.增大透镜的激磁电流可减小球差.像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿.色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的.稳定加速电压和透镜电流可减小色差5别从原理、衍射特点及应用方面比较X 射线衍射和透射电镜中的电子衍射在材料结构分析中的异同点。

原理: X射线照射晶体,电子受迫振动产生相干散射;同一原子内各电子散射波相互干涉形成原子散射波;晶体内原子呈周期排列,因而各原子散射波间也存在固定的位相关系而产生干涉作用,在某些方向上发生相长干涉,即形成衍射。

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电镜部分重点复习内容:
1.根据衍射分辨率的公式,并给出各参数物理意义?分别说明提高光学显微镜和透射电子显微镜的方法和途径?
答: 衍射分辨率的公式为:α
λsin 61.00n r ≈∆,其中λ为入射光的波长;n 为样品与物镜之间介质的折射率;α为孔径半角。

对于具体某一光学显微镜来说:其λ不能改变,故提高其分辨率可以增大n 和α的值。

对于具体某一透射电子显微镜来说:其n 值不能改变,故提高其分辨率可以减小λ以及增大α值,不过α值的改变量很小。

2.解释景深和焦长,并说明电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?
答:
景深定义:当像平面固定时(像距不变),能维持物像清晰的范围内, 允许物平面(样品)沿透镜主轴移动的最大距离Df 。

焦长定义:固定样品的条件下(物距不变),象平面沿透镜主轴移动时仍能保持物像清晰的距离范围,用DL 表示。

景深ααr r D f ∆∆≈=0
02t an 2,因此影响景深的因素是电磁透镜的分辨率
r ∆0和孔径半角α。

焦长M r D L 202α∆=,因此影响焦长的因素是电磁
透镜的分辨率r ∆0,放大倍数M 以及孔径半角α。

3.解释电子显微镜的像差有哪些,如何减少像差?
包括球差、像散以及色差。

答:
减小球差可以通过减小球差系数C S和电磁透镜的孔径半角 。

消除像散的方法是可以安装消像散器。

减小色差的方法是可以通过稳定加速电压和透射电流来减弱。

4.AFM的工作模式及各自优缺点?
答:
三种操作模式
1.接触模式;
针尖与样品表面距离小(<1nm),利用原子间的极微弱的排斥力(10e-8~10e-6N );
可获得高解析度图像;
样品变形,针尖受损;
不适合表面软的材料.
2.非接触模式;
针尖距样品表面5nm—20nm
不损伤样品表面和针尖,可测试表面柔软样品;
分辨率低;
误判的现象
3.轻敲模式.
探针在Z轴维持固定频率振动,当振动到谷底时与样品表面接触; 分辨率几乎与接触模式相同;
对样品和针尖破坏小。

5.原子力显微镜、透射电子显微镜和扫描电子显微镜的分辨率各是多少?加速电压为100KV和200KV时电子束的波长各是多少?答:
种类原子力显微镜透射电子显微
镜扫描电子显微镜
分辨率原子级(0.1nm) 点分辨
(0.3~0.5nm)
晶格分辨
(0.1~0.2nm) 6~10nm (FESEM1nm)
电压波长100KV 0.00370nm
200KV 0.00251nm
德布罗意公式:
6.简述原子力显微镜的工作原理、优缺点以及在材料研究中的应用?
答:
工作原理:将一个对微弱力极敏感的微悬臂一端固定,另一端有一微小的针尖,针尖与样品表面轻轻接触,由于针尖尖端原子与样品表面原子间存在极微弱的排斥力,通过在扫描时控制这种力的恒定,带有针尖的微悬臂将对应于针尖与样品表面原子间作用力的等位面而在垂直于样品的表面方向起伏运动。

利用光学检测法或隧道电流检测法,可测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化,从而可以获得样品表面形貌的信息。

优点:AFM提供真正的三维表面图。

同时,AFM不需要对样品的任何特殊处理,如镀铜或碳,这种处理对样品会造成不可逆转的伤害。

第三,电子显微镜需要运行在高真空条件下,原子力显微镜在常压下甚至在液体环境下都可以良好工作。

这样可以用来研究生物宏观分子,甚至活的生物组织。

缺点:成像范围太小,速度慢,受探头的影响太大
应用:材料三维形貌的观察,粉体材料的分析,纳米材料的分析(纳米粒子的粒径、形貌、分散和团聚状况),成分分析。

7.简要说明高能电子束与样品相互作用产生的主要信号、信号产生的机理及其可反映的样品结构信息是什么?
答:
样品在电子束的轰击下,会产生如图所示的各种信号
a.背散射电子
背散射电子是入射电子进入试样后,被表层固体样品中的原子核或核外电子反弹回来的电子,它包括弹射散射和非弹性散射电子。

有的电子经一次散射就逸出表面,有点电子经过多次散射才反射出来。

特征:
1)弹性背散射电子远比非弹性背散射电子所占的份额多;
2)能量高,例如弹性背散射,能量达数千至数万ev ;
3)背散射电子束来自样品表面几百nm深度范围;
4)其产额随原子序数增大而增多;
5)用作形貌分析、成分分析(原子序数衬度)以及结构分析(通道花样)。

b.二次电子
二次电子是入射电子在单电子激发过程被入射电子轰击出来的试样电子,二次电子的能量很低,一般小于50eV,它只能从很薄的试样表层内激发出来,表层深度小于10nm,更深的二次电子由于能量小而无力逸出表面。

其中90%来自于外层价电子。

特征:
1)二次电子能量较低。

一般不超过50 ev,大部分几ev;
2)来自表层5—10nm深度范围;
3)图像无阴影效应;
4)对样品表面化状态十分敏感,因此能有效地反映样品表面的形貌;5)SE的产额δ≒K/cosθ,K为常数,θ为入射电子束与试样表面法线之间的夹角,θ角越大,产额越高,所以对试样表面状态非常敏感;SE的产额还与加速电压、试样组成等有关。

6)其产额与原子序数间没有明显的依赖关系。

因此,不能进行成分分析。

c.吸收电子
有一部分电子进入试样后,经过多次散射,能量耗尽,被试样吸收,这些电子称为吸收电子。

试样吸收电子之前是电中性的,吸收电子后带上负电荷。

特征:
1)吸收电子信号调制成图像,其衬度恰好和SE或BE信号调制图像衬度相反
2)与背散射电子的衬度互补。

入射电子束射入一个多元素样品中时,因Se产额与原子序数无关,则背散射电子较多的部位(Z较大)其吸收电子的数量就减少,反之亦然;
3)吸收电子能产生原子序数衬度,即可用来进行定性的微区成分分析。

d.透射电子
对于薄试样(一般小于100nm),入射电子可透过试样。

如果在试样的
下方放一个接收器,便可接收到透射电子,这些电子带有所穿过的样品信息,成像后可以得到样品的内部结构信息。

e.特征X射线
如果入射电子激发试样原子的内层电子,是原子处于激发态或离子态,它有恢复到低能基态的趋势。

其中一种方式是外层电子跃迁到内层的电子空位,同时以X射线的形式释放出来。

这种X射线称为特征X射线。

原子的内层电子受到激发后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和特征波长的一种电磁波辐射。

当冲向阳极靶的电子具有足够能量将内层电子击出成为自由电子(二次电子),这时原子就处于高能的不稳定状态,必然自发的向稳态过渡。

当K层出现空位,原子处于K激发态,若L层电子跃迁到K层,原子转变到L激发态,其能量差以X射线光量子的形式辐射出来,这就是特征X射线。

Ⅰ.L层→K层的跃迁发射Kα谱线
Ⅱ.若M层电子向K层空位补充,则产生辐射波长更短的Kβ谱线f.俄歇电子
如果原子内层电子在能级跃过程中释放出来的能量ΔE并不以X射
线的形式发射出去,而是用这部分能量把空位层的另一个电子发射出去(或空位层的外层电子发射出去),这一个被电离的电子称为俄歇电子。

特征:
1)各元素的俄歇电子能量值很低,50~1500ev ;
2)来自样品表面1—2nm范围。

其平均自由程很小(<1 nm ),较深区域产生的俄歇电子向表面运动时必然会因碰撞损失能量而失去特征值的特点。

因此,只有在距表面1nm左右范围内逸出的俄歇电子才具有特征能量。

因此它适合做表面分析。

8.比较二次电子和背散射电子的异同及主要用途?
答:
背散射电子是被样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子,包括弹性散射和非弹性散射,弹性散射的电子远比非弹性散射的数量多。

弹性散射电子来自样品表层几百纳米的深度范围,由于它的产额随样品原子序数增大而增多,所以不仅可以用来分析形貌,,还可以用来分析成分。

二次电子在入射电子束的作用下,被轰击出来并离开样品表面的原子核外电子。

它的能量比较小,一般只有在表层5-10纳米的深度范围才能发射出来,所以它对样品的表面十分敏感,能有效的显示样品表面形貌。

但二次电子的产额与原子序数无关,就不能用于成分分析。

背散射电子和二次电子的区别:
背散射电子来源于入射电子,分为弹性散射和非弹性背散射电子,弹性散射电子的能量等于入射电子的能量,非弹性散射背散射电子能量小于入射电子;背散射电子数量与材料元素种类有关。

主要发生在离试样表面300nm区域。

二次电子来源于试样表面,是入射电子击打出来的,不是来源于入射
电子。

能量较低,二次电子发射的数量与材料的形貌有关。

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