第二章晶体结构缺陷

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2-第二章晶体结构缺陷-1

2-第二章晶体结构缺陷-1

化学平衡方法计算热缺陷浓度
MgO晶体中形成 晶体中形成Schttky缺陷: 缺陷: 晶体中形成 缺陷
Mg Mg + OO
" " VMg + VO + Mg S + OS
0
" " K S = [VMg ][VO ] " " [VMg ] = [VO ]
V
" Mg
Байду номын сангаас
+V
" O
表面位置可 以不加表示
本章内容
2.1 晶体的点缺陷 2.2 晶体的线缺陷 2.3 晶体的面缺陷 2.4 固溶体
2.1点缺陷 点缺陷
1.点缺陷分类 1.点缺陷分类 2.点缺陷的符号表征 2.点缺陷的符号表征 3.缺陷反应表示法 3.缺陷反应表示法 4.热缺陷浓度的计算 4.热缺陷浓度的计算
1.点缺陷分类 1.点缺陷分类
以正离子 正离子为基准,缺陷反应方程式为: 正离子
CaCl 2 → Ca + Cl Cl + Cli '
KCl . K
以负离子 负离子为基准,则缺陷反应方程式为: 负离子
CaCl 2 → Ca + VK '+2Cl Cl
KCl . K
基本规律: 基本规律: 低价正离子占据高价正离子位置时, 低价正离子占据高价正离子位置时,该位 置带有负电荷 为了保持电中性, 负电荷, 置带有负电荷,为了保持电中性,会产生 负离子空位或间隙正离子。 负离子空位或间隙正离子。 高价正离子占据低价正离子位置时, 高价正离子占据低价正离子位置时,该位 置带有正电荷 为了保持电中性, 正电荷, 置带有正电荷,为了保持电中性,会产生 正离子空位或间隙负离子。 正离子空位或间隙负离子。

电子材料物理第二章晶体中的缺陷与扩散

电子材料物理第二章晶体中的缺陷与扩散

2.2.2扩散的宏观规律
菲克第一定律说明了与杂质扩散有关的因素,下面结合硅 器件平面工艺的实际,在得出菲克第二定律的基础上,推 导杂质在不同初始条件和边界条件下浓度分布.在硅器件 平面工艺中,由于杂质扩散浓度一般不深,它所形成的pn 结看成是平行平面,故可把扩散流近似看做沿垂直于这一 平面方向(x方向)进行,于是式(2.1)简化为
由菲克第二定律:
C t

D
2C
2
用分离变量法求得方程的通解为
c X (x)T (c) [ Asin x B cos x]exp( 2 Dt )
为方程特征值,A和B为待定常数
其边界初始条件为:
① c=0,0<x<h (h为样品厚度)
② c= c0,x=0 , h,t>0 扩散开始的瞬间 ③ c= c,0 t=0
有限表面源扩散是指在扩散过程中杂质源限
定于扩散前淀积于硅片表面极薄层内的杂质 总量Q没有补充或减少,依靠这些有限的杂质 向硅片内进行的扩散。
N D 2 N (x)
t
x 2
0,在x ,t 0
(扩散方程)
初始条件:N
(x,0)

Q


Ns, 在0

x


,t

0
2)点缺陷的准化学反应和质量作用定律
以某种化学反应式的形式描述晶格中点缺陷的形成过程-----准 化学反应.
书写准化学反应式的规则(以MO为例) 1)MO晶体中子晶格M的格点数等于子晶格O的格点数. 2)反应过程中,MO两种晶格的格点数同增/同减. 3)反应式两边质量守恒(空格点质量为0) 4)如果晶体中存在填隙原子,应在反应式中引入填隙空格点 5)电中性规则(正负电荷相等)

第二章晶体结构缺陷

第二章晶体结构缺陷

既然存在阳离子的空位,Ca2+一般 因此第一个反应最为合理。 就会首先填充空位,而不是挤到间 隙位置去使得晶体的不稳定因素增 15 加
固溶体式子的写法: 固溶体式子的写法:
CaCl CaCl CaCl
2 2 2
′ KCl → Ca • + V K + 2 Cl Cl K → Ca
1)离子空位:正常结点位没有质点,VM” ,VX‥ 离子空位:正常结点位没有质点,V 2)间隙离子: Mi‥ , Xi” 间隙离子: 3)错位(反结构): MX,XM 错位(反结构): 4)取代离子: 取代离子: 外来杂质CaCl进入KCl晶体中,若取代则Ca 外来杂质CaCl进入KCl晶体中,若取代则CaK. 外来杂质CaO进入ZrO 晶体中,若取代则Ca 外来杂质CaO进入ZrO2晶体中,若取代则CaZr 5)电荷缺陷: 电荷缺陷: 自由电子 e’表示有效负电荷(无特定位置) e’表示有效负电荷(无特定位置) 电子空穴 h· 表示有效正电荷 6)缔合中心:空位堆,间隙堆 缔合中心:
特点: 特点:1)气氛引起的电子缺陷,具有半导体性能,晶体带色; 2)缺陷浓度与气氛的性质、大小有关,也与温度有关 (k~T) k~T)
22
四、线缺陷
1 概念: 概念: 位错:由于应力作用使晶体内部质点排列变形、原子 位错:由于应力作用使晶体内部质点排列变形、原子 行列间发生滑移所形成的线状缺陷。 行列间发生滑移所形成的线状缺陷。 1934年由泰勒提出,1950年证实。 1934年由泰勒提出,1950年证实。 位错线:滑移面和未滑移面的交界线EF。 位错线:滑移面和未滑移面的交界线EF。 位错特点:具有伯格斯矢量。 方向——滑移方向; 大小——滑移距离 方向——滑移方向; 大小——滑移距离

第二章晶体结构缺陷

第二章晶体结构缺陷

2FeFe 2h
Oo 2h


3OO
VF''e

VF''e
从中可见,铁离子空位本身带负电,为了保持电中性;
两个电子空穴被吸引到这空位的周围,形成一种V一色心。
根据质量作用定律
K

[OO ][h ]2[VFe ''] P 1/ 2
O2
[OO●]≈1 [h●]=2[VFe’’] 由此可得: [h●]∝PO21/6
1
[e]

P6 O2
如果Zn离子化程度不足,可以有 -2.1 Zn(g) Zni. e
-2.3
[Zni.
]

P1/ 2 Zn
(此为另一1 种模型)
[e]

P4 O2
logσ
上述-2.反5实应测进Zn行O的电同导时率,与进氧行分氧压化的反关应系:支持了
单电荷间隙的模型1 ,即后一种是正确的。
把这种经过辐照而变色的晶体加热,能使缺陷扩散掉, 使辐照破坏得到修复,晶体失去颜色。
举例
现象:白色的 Y2O3 在真空中煅烧,变成黑色,再退火,又变成白
色。
原因:晶体中存在缺陷,阴离子空位能捕获自由电子,阳离子空位能 捕
获电子空穴,被捕获的电子或空穴处在某一激发态能级上,易受激而发出 一定频率的光,从而宏观上显示特定的颜色。
缺陷反应方程式应如下:
2TiO2
-
1 2
O2

2Ti' Ti

VO

2OO
2TiTi

4OO

2Ti' Ti

VO

3Oo

第二章-晶体结构与晶体中的缺陷

第二章-晶体结构与晶体中的缺陷
• 层间结合力强,水分子不易进入层间,与水拌和体积不膨 胀,泥料可塑性差(黏土-水系统解释)。
• 层内力远远大于层间力,容易形成片状解理。
• ⑷ 蒙脱石结构
• 单元层间:范德华力,弱。 • [SiO4]4-中的Si4+被Al3+取代(
同晶取代)为平衡电价,吸 附低价正离子,易解吸,使 颗粒荷电,因此使陶瓷制品 因带某些离子具有放射性。 • 性质: • 加水体积膨胀,泥料可塑性 好。
因子看,A位离子越大, B位离子才能较大。
理想立方钙钛矿结构中离子的位置
§2.2 硅酸盐晶体结构
一、硅酸盐结构特点与分类 硅酸盐是数量极大的一类无机物。硅酸盐晶体可以 按硅(铝)氧骨干的形式分成岛状结构、组群状结 构、链状结构、层状结构和架状结构。它们都具有 下列结构特点: 1)结构中Si4+之间没有直接的键,而是通过O2-连接 起来的 2)结构是以硅氧四面体为结构的基础 3)每一个O2-只能连接2个硅氧四面体 4)硅氧四面体间只能共顶连接,而不能共棱和共面 连接
陶瓷材料如MgO,CaO, NiO,
CoO,MnO和PbO等都形成
该结构。岩盐型结构还是若干
复杂层状化合物结构的一部分。
根据鲍林静电价规则,
S=Z/n NaCl: 每一个Na+静电键强度是 1/6。正负离子的配位数相等, 都是6。因此键强度总和达到氯 离子的价电荷数(6x(1/6)=1) MgO: 阳离子Mg2+的静电键强 度是2/6 ,键强度总和等于氧离子 O2-的电价6x(2/6)=2
缺陷的含义:通常把晶体点阵结构中周期 性势场的畸变称为晶体的结构缺陷。 理想晶体:质点严格按照空间点阵排列。 实际晶体:存在着各种各样的结构的不完 整性。
晶体结构缺陷的类型

第二章 金属晶体的缺陷

第二章 金属晶体的缺陷

应用时需求出空位或间隙原子的形成能。 点缺陷的形成能包括电子能(缺陷对晶体中电 子状态的影响)和畸变能。 空位形成能中,电子能是主要的;间隙原子, 则畸变能使主要的。 在金属晶体中,间隙原子的形成能较空位形成 能高几倍,在通常情况下,晶体中间隙原子数 目甚少,相对于空位可忽略。
3.点缺陷的移动


zz v( xx yy )
xy yx
xz zx yz zy 0
图2-18 刃型位错周围的应力场
3.位错的应变能
晶体中位错的存在引起点阵畸变,导致能量的增高,此 增量称为位错的应变能。 W 1 [ xx xx yy yy zz zz xy xy xz xz yz yz ] (2-4) V 2 Gb b z , z 螺型位错只有切应力分量: 2 r 2 r 1 由式(2-4)得: dW z z dV 而 dV 2 rdr L 2 2 设位错中心区的半径为r0,位错应力场作用半径为R,则: W 2 R Gb dr dW L 0 ( L ) r0 4 r
1)螺型位错应力场
切应变: z
z z

b 2 r
相应的切应力:
Gb G z 2 r
图2-17 螺型位错的 连续介质模型
圆柱体在X、Y方向没有位移:
rr zz r r rz zr 0
2)刃型位错应力场
2.平衡条件下的空位浓度C 晶体中的空位是处在不断产生和消失的过程,以下是应 用统计热力学方法计算平衡条件下的空位浓度。 由热力学知道自由能 F U TS
F nuv T (nS f Sc )
Sc k ln

第二章晶体构与晶体中的缺陷

第二章晶体构与晶体中的缺陷

第二章 晶体结构与晶体中的缺陷1、证明等径圆球面心立方最密堆积的空隙率为25.9%。

解:设球半径为a ,则球的体积为4/3πa 3,求的z=4,则球的总体积(晶胞)4×4/3πa 3,立方体晶胞体积:33216)22(a a =,空间利用率=球所占体积/空间体积=74.1%,空隙率=1-74.1%=25.9%。

2、金属镁原子作六方密堆积,测得它的密度为1.74克/厘米3,求它的晶胞体积。

解:ρ=m/V =1.74g/cm 3,V=1.37×10-22。

3、 根据半径比关系,说明下列离子与O 2-配位时的配位数各是多少? 解:Si 4+ 4; K + 12; Al 3+ 6; Mg 2+ 6。

4、一个面心立方紧密堆积的金属晶体,其原子量为M ,密度是8.94g/cm 3。

试计算其晶格常数和原子间距。

解:根据密度定义,晶格常数)(0906.0)(10906.094.810023.6/(43/13/183230nm M cm M M a =⨯=⨯⨯=- 原子间距= )(0641.02/0906.0)4/2(223/13/1nm M M a r ==⨯=5、 试根据原子半径R 计算面心立方晶胞、六方晶胞、体心立方晶胞的体积。

解:面心立方晶胞:3330216)22(R R a V ===六方晶胞(1/3):3220282/3)23/8()2(2/3R R R c a V =•••=•= 体心立方晶胞:333033/64)3/4(R R a V ===6、MgO 具有NaCl 结构。

根据O 2-半径为0.140nm 和Mg 2+半径为0.072nm ,计算球状离子所占据的体积分数和计算MgO 的密度。

并说明为什么其体积分数小于74.05%?解:在MgO 晶体中,正负离子直接相邻,a 0=2(r ++r -)=0.424(nm)体积分数=4×(4π/3)×(0.143+0.0723)/0.4243=68.52%密度=4×(24.3+16)/[6.023×1023×(0.424×10-7)3]=3.5112(g/cm 3)MgO 体积分数小于74.05%,原因在于r +/r -=0.072/0.14=0.4235>0.414,正负离子紧密接触,而负离子之间不直接接触,即正离子将负离子形成的八面体空隙撑开了,负离子不再是紧密堆积,所以其体积分数小于等径球体紧密堆积的体积分数74.05%。

第二章-晶体缺陷

第二章-晶体缺陷

第二章晶体缺陷P2问题空位形成应该遵循物质守恒,即内部原子跑到表面上。

空位形成整体是膨胀过程,但具体机制较复杂。

一方面,缺少了原子会造成整体收缩;另一方面,跑到表面的原子使体积增加,综合效果是形成一个空位导致半个原子体积的增加。

相关问题有:1.如果测量产生空位的晶体,其点阵常数是增大还是缩小?2.将点阵常数测量结果与晶体整体膨胀的事实做对比,能够发现什么与空位浓度相关的规律?提示:由简到繁是惯用的方法,故可以考虑一维晶体。

答:①增大②随着晶体整体膨胀的增加,空位浓度增加。

-——详见潘金生《材料科学基础》P213空位的测量问题溶质原子尽管造成局部的排列偏离,但并不把它算为点缺陷,为什么?答:由对“置换原子”与“空位”的比较及“间隙溶质”与“自间隙原子”的比较可知,溶质原子的加入所产生的对于标准态的偏离比较小,因此不把它算为点缺陷。

问题图2-2中的置换原子(黑色)的尺寸画得有些随意。

假定(b)图中黑原子半径比白的小5%,而(c)图中大5%,问那种情况下基体内的应变能更大些?为什么?答:(b)图中应变能更大。

①(a)图中,周围白原子点阵常数变大,呈现拉伸状态。

(b)图中,周围白原子点阵常数变小,呈现压缩状态。

②由右结合能的图像可知,在平衡位置r0左右,曲线并非对称。

产生相同的形变,压缩引起的应变能更大。

所以(b)图中应变能更大。

P4问题Al2O3溶入MgO(具有NaCl结构)中,形成的非禀性点缺陷在正离子的位置,还是相反?答:Al 2O 3溶入MgO 晶体,由于Al 离子是+3价,,而Mg 离子是+2价,所以当两个铝离子取代两个镁离子的位置后,附近的一个镁离子必须空出,形成的非禀性点缺陷在正离子的位置。

问题 图2-3(a)的画法有些问题。

更好的画法是将图中的大小方块画在一起,即正负离子空位成对出现(参见余永宁“材料科学基础”图6-5)。

为什么成对的画法更好些?答:因为①正、负电中心成对出现的时候,可以抵消一点局部电中性的无法满足。

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2) 写出AgBr形成Ag离子的弗仑克尔缺陷的反应方程式
Ag
Ag

Ag
i

VA g
热缺陷反应规律
当晶体中剩余空隙比较小时,如NaCl型结构, 容易形成肖特基缺陷;当剩余空隙比较大时,如 CaF2型结构,易形成弗仑克尔缺陷。
(2) 杂质缺陷 一般反应式: 杂质 基质 产生的各种缺陷
1)写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程 a. 以正离子为准,Na+占据Y3+位置,带有两个单位负电荷,
N
kT
单质晶体的肖特基缺陷浓度
n exp( Gf )
N
kT
ΔGf称为缺陷 自由能
(c)
同理可得:
MX型离子晶体的肖特基缺陷浓度
n exp( Gs )
N
2kT
MX型离子晶体弗仑克尔缺陷浓度
n exp( Gf )
N
2kT
(d) (e)
四、点缺陷的化学平衡
在一定温度下,热缺陷是在不断地产生和消失过程中, 当系统达到平衡时,即缺陷数目保持不变。
为什么堆积系数小于74.05%/?
密堆积中球数和两种空隙间的关系
试写出下列缺陷方程
1、 TiO2 AL2O3
2、 CaO ThO2
3、 Y2O3 MgO
4、 Al2O3 ZrO2
第二章 晶体结构缺陷
要求掌握的主要内容:
掌握缺陷的基本概念、分类方法; 掌握缺陷的类型、含义及其特点;
由热力学可知:
G H - TS nh TS
(a)
说明: 熵变ΔS
组态熵ΔSC:由微观状态数的增加造成 振动熵ΔSV:由原子振动状态的改变造成
组态熵ΔSC
在统计热力学中, SC k ln W
式中,k ─ 波尔兹曼常数 W─ 热力学几率
n个空位在n+N个晶格位置 不同分布时排列总数目

Ⅰ区写缺陷种类

右上角写缺陷所带的有效电荷
右下角写缺陷在晶体中的位置
以离子晶体MX为例,说明缺陷化学符号的表示方法
1)离子空位:正常结点位没有质点,VM'’ 和 VX‥
2)间隙离子: Mi‥和 Xi '’
3)错位(反结构): MX和XM 4)溶质原子:
外来杂质Ca进入MgO晶格中取代Mg,则CaMg 外来杂质Ca进入MgO晶格的间隙,则Cai‥
ln(N dn
n)!

d
ln N! dn

d
ln n!] dn
当x>>1时,斯特令公式
ln x! x ln x x
d ln x! ln x dx
G
/
n

h
TSv

kT
[d ln(N n)! d(N n)
d
ln N! dn

d
ln n!] dn
h TSv kT[ln(N n) ln(n)]

Am Bn

(二)固溶体分类
(1)按溶质原子在溶剂晶格中的位置
a. 置换型固溶体
溶质原子进入晶格中正常结点位 置而取代基质中的原子。
举例:MgO-CoO、MgO-CaO、 PbTiO3-PbZrO3、Al2O3-Cr2O3
特点:在金属氧化物中,主要发 生在金属离子位置上的置换
b. 间隙型固溶体 溶质原子进入晶格中的间隙位置。
5)电荷缺陷: 自由电子 e’表示有效负电荷(无特定位置) 电子空穴 h·表示有效正电荷(无特定位置)
6)带电缺陷:不同价离子间的取代Ca进入NaCl晶格 中取代Na,则CaNa·
7)缔合中心:空位对,间隙对
4、缺陷反应方程式
基本原则: 1)质量平衡:反应式左边出现的原子、离子,也必须
以同样数量出现在反应式右边
同时一个F-占据基质晶体中F-位置,按照位置关系,基质 中正负离子格点数之比为1:3,现在只引入一个F-。
NaF YF3 NaY FF 2VF
b. 以负离子为准,假设三个F-位于基质中的F-位置上,与此 时引入三个Na+,但只有一个Na+占据Y3+位置,其余两个 Na+只能位于晶格间隙。
2)电荷平衡:两边有效电荷相同
3)位置平衡:晶体中各种格点数的固有比例关系 必须保持不变。强调基质中正负离子格点数之比保 持不变,并非原子个数比保持不变。如MaXb中M 的格点数与X的格点数之比为a:b
缺陷反应举例
(1) 热缺陷
1) 写出MgO形成肖特基缺陷的反应方程式p65
0 VMg VO
热缺陷示意图
(2) 杂质缺陷
a. 定义:外来原子进入晶体而产生的缺陷。 b. 特点:缺陷浓度与杂质含量有关,而与温度无关。
(3) 非化学计量结构缺陷
a. 定义:某些化合物的化学组成随周围环境变化而 发生组成偏离化学计量的现象。
b. 特点:由气氛或压力变化引起,缺陷浓度与气氛性质、
压力有关。
二、缺陷化学反应表示法
W

CnNn

(N n)! N!n!
式(a)可写为:
G nh T(SC nS)

nh

T[kln
(N n)! N!n!

nSv
]
(b)
d ln (N n)!
G / n h TSv kT
N!n! dn

h
TSv

kT
[
d
3、固溶体生成 1)晶体生长过程中 2)溶液或熔体析晶 3)烧结
4、固溶体、机械混合物与化合物
固溶体AxB1-x:A和B以原子尺度混合,形成单相均匀 晶态物质, A和B可按任意比例混合。
机械混合物AB:A和B以颗粒态混合,A和B分别保持 各自原有的结构和性能。
化合物AmBn:其结构不同于A或B,A和B有固定比例,
3NaF YF3 NaY

3FF

2Na
i
2)写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程
a. 以正离子为准: CaCl2 KClCak ClCl Cli
bቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ 以负离子为准:
CaCl2
KClCa
K

2ClCl

VK
杂质缺陷反应规律
1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷, 为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。
令 r1 r2 r1
这里r1和r2分别为溶剂和溶质离子半径。
一般规律:
当<15%时,溶质和溶剂之间有可能形成连续固溶体;
真实晶体
2、缺陷的分类
分类方式:
几何形态:点缺陷(零维)、线缺陷(一维) 面缺陷等(二维)、体缺陷(三维)
形成原因(过程):热缺陷、杂质缺陷、非化学计量 缺陷等
3、研究缺陷的意义
由于缺陷的存在,才使晶体表现出各种各样 的性质,使材料加工、使用过程中的各种性能得 以有效控制和改变,使材料性能的改善和复合材 料的制备得以实现。因此,了解缺陷的形成及其 运动规律,对材料工艺过程的控制,对材料性能 的改善,对于新型材料的设计、研究与开发具有 重要意义。
3
3
a 2(RMg2 RO2 ) 2(0.072 0.140) 0.424nm
所以:堆积系数=
VCaF a3

0.0522 0.4243

0.685

68.5%
nM
(2)

N0
4 (24.3 16)
3.51g / cm3
a3 6.02 1023 (0.424107 )3
肖特基缺陷 产生原因(过程) 杂质缺陷
非化学计量结构缺陷
(1) 热缺陷
a. 定义:当晶体温度高于绝对0K时,由于晶格内原 子热振动,使一部分能量较大的原子偏离 平衡位置造成缺陷。
b. 特点:由原子热振动引起,缺陷浓度与温度有关。
热缺陷:
“弗仑克尔缺陷”与“肖特基缺陷”
以苏联物理学家雅科夫·弗仑克尔(Яков Френкель)名字命名

h
TSv

kT
ln
N n
n

h
TSv

kT
ln
N
n
n
平衡时,
G / n
移项得:

h
TSv

kT
ln
n N
n

0
kT ln n (h
N n
TSv )
n exp[ (h TSv )]
N n
kT
n exp[ (h TSv )]
熟练书写点缺陷的缺陷反应方程式、化学平衡方 法计算热缺陷的浓度;
了解缺陷在材料性能的改善、新型材料的设计、 研究与开发中的意义。
概述 1、晶体的缺陷: 理想晶体:质点严格按照空间点阵排列。 实际晶体:存在着各种各样的结构的不完整性。 晶体缺陷 :实际晶体对理想晶体的各种偏离 。
理想晶体
晶体缺陷
弗仑克尔缺陷
定义:正常结点上的原子(离子)跳入间隙,形成间隙 原子,原来位置上形成空位。
特点:空位与间隙原子成对出现,体积不发生变化。
以德国物理学家沃尔特·肖特基(Walter Schottky)的名字命名
肖特基缺陷
定义:正常结点上的原子离开平衡位置迁移到晶 体表面,在原来位置形成空位。
特点:对于离子晶体,正、负离子空位数相等, 并伴随着晶体体积增加(新表面)。
课后32、MgO具有NaCl结构。晶体中Mg2+半径为 0.072nm,O2-半径为0.140nm,求
(1)MgO晶体的堆积系数; (2)计算MgO的密度。
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