薄膜制备技术基础(原著第4版)

薄膜制备技术基础（原著第4版）

作者：[日]麻蒔立男

出版社：化学工业出版

出版日期：2009年5月

开本：16开

册数：1册

光盘数：0

定价：39.8元

优惠价：36元

进入20世纪，书籍已成为传播知识、科学技术和保存文化的主要工具。随着科学技术日新月异地发展，传播知识信息手段，除了书籍、报刊外，其他工具也逐渐产生和发展起来。但书籍的作用，是其他传播工具或手段所不能代替的。在当代, 无论是中国，还是其他国家，书籍仍然是促进社会政治、经济、文化发展必不可少的重要传播工具。

详细介绍：

第1章薄膜技术

1 1生物计算(bio computing)和薄膜技术

1 2医用微型机械

1 3人工脑的实现（μ Electronics）

1 4大型显示的实现

1 5原子操控

1 6薄膜技术概略

参考文献

第2章真空的基础

2 1真空的定义

2 2真空的单位

2 3气体的性质

2 3 1平均速率 Va

2 3 2分子直径δ

2 3 3平均自由程 L

2 3 4碰撞频率 Z

2 4气体的流动和流导

2 4 1孔的流导

2 4 2长管的流导（L/a≥100）

2 4 3短管的流导

2 4 4流导的合成

2 5蒸发速率

参考文献

第3章真空泵和真空测量

3 1真空泵

3 1 1油封式旋片机械泵

3 1 2油扩散泵

3 1 3吸附泵

3 1 4溅射离子泵

3 1 5升华泵

3 1 6冷凝泵

3 1 7涡轮泵（分子泵）和复合涡轮泵3 1 8干式机械泵

3 2真空测量仪器——全压计

3 2 1热导型真空计

3 2 2电离真空计——电离规

3 2 3磁控管真空计

3 2 4盖斯勒（Geissler）规管

3 2 5隔膜真空计

3 2 6石英晶振真空计

3 2 7组合式真空规

3 2 8真空计的安装方法

3 3真空测量仪器——分压计

3 3 1磁偏转型质谱仪

3 3 2四极质谱仪

3 3 3有机物质质量分析IAMS法

参考文献

第4章真空系统

4 1抽气的原理

4 2材料的放气

4 3抽气时间的推算

4 4用于制备薄膜的真空系统

4 4 1残留气体

4 4 2用于制备薄膜的真空系统

4 5真空检漏

4 5 1检漏方法

4 5 2检漏应用实例

参考文献

第5章薄膜基础

5 1气体与固体

5 1 1化学吸附和物理吸附

5 1 2吸附几率和吸附（弛豫）时间

5 2薄膜的生长

5 2 1核生长

5 2 2单层生长

5 3外延 基板晶体和生长晶体之间的晶向关系5 3 1外延生长的温度

5 3 2基板晶体的解理

5 3 3真空度的影响

5 3 4残留气体的影响

5 3 5蒸发速率的影响

5 3 6基板表面的缺陷——电子束照射的影响5 3 7电场的影响

5 3 8离子的影响

5 3 9膜厚的影响

5 3 10晶格失配

5 4非晶膜层

5 4 1一般材料的非晶化（非薄膜）

5 4 2非晶的定义

5 4 3非晶薄膜

5 4 4非晶Si膜的多晶化

5 5薄膜的基本性质

5 5 1电导

5 5 2电阻率的温度系数（TCR）

5 5 3薄膜的密度

5 5 4时效变化

5 5 5电解质膜

5 6薄膜的内部应力

5 7电致徙动

本章小结

参考文献

第6章薄膜的制备方法

6 1绪论

6 2源和膜的组分——如何获得希望的膜的组分

6 2 1蒸发和离子镀

6 2 2溅射法

6 3附着强度

6 3 1前处理

6 3 2蒸发时的条件

6 3 3蒸发法和溅射法的比较(基板不加热情况）

6 3 4蒸发、离子淀积、溅射的比较（加热、离子轰击等都进行情况）

6 4台阶覆盖率、绕进率、底部覆盖率——具有陡峭台阶的凹凸表面的薄膜制备6 5高速热处理装置（Rapid Thermal Annealing，RTA）

6 6等离子体及其在膜质的改善、新技术的开发方面的应用

6 6 1等离子体

6 6 2等离子体的产生方法

6 6 3基本形式和主要用途

6 7基板传送机构

6 8针孔和净化房

参考文献

第7章基板

7 1玻璃基板及其制造方法

7 2日常生活中的单晶制造及溶液中的晶体生长

7 3单晶提拉法——熔融液体中的晶体生长

7 3 1坩埚中冷却法

7 3 2区熔法（Zone Melting，Flot Zone,FZ法）

7 3 3旋转提拉法（切克劳斯基Czochralski, CZ法）

7 4气相生长法

7 4 1闭管中的气相生长法

7 4 2其他气相生长法

7 5石英玻璃基板

7 6柔性基板（Flexible）

参考文献

第8章蒸镀法

8 1蒸发源

8 1 1电阻加热蒸发源

8 1 2热阴极电子束蒸镀源

8 1 3中空阴极放电（HCD）的电子束蒸发源

8 2蒸发源的物质蒸气分布特性和基板的安置

8 3实际装置

8 4蒸镀时的真空度

8 5蒸镀实例

8 5 1透明导电膜In2O3 SnO2系列

8 5 2分子束外延（MBE）

8 5 3合金的蒸镀——闪蒸

8 6离子镀