简述电子超纯水设备工艺步骤内容详解
二级反渗透EDI超纯水设备工艺流程介绍
二级反渗透EDI超纯水设备工艺流程介绍EDI超纯水设备是一种应用于电子、化工、制药等领域的反渗透纯水设备。
其工艺流程包括预处理、反渗透、EDI、精处理等环节。
下面我来详细介绍EDI超纯水设备工艺流程的每个环节。
一、预处理环节：预处理环节的主要作用是去除水中的悬浮物、有机物、胶体物和部分溶解物等杂质，以减少对反渗透膜的污染，保护膜的使用寿命。
预处理设备通常包括砂滤器、活性炭过滤器和软化器等。
首先，水经过砂滤器，通过物理过滤作用去除较大的颗粒物；然后，水进入活性炭过滤器，去除水中的有机物和残留的氯；最后，水进入软化器，去除水中的硬度物质，例如钙、镁离子等。
二、反渗透环节：反渗透环节是实现水的初步纯化，使大部分离子和溶解物被拦截，产生低盐度的RO水。
反渗透设备通常由膜组件、高压泵和控制系统等组成。
在反渗透膜作用下，水中的动力学压力将驱使水分子通过膜的微孔，而溶质则被阻拦在膜的一侧。
这样，大部分盐离子、微生物、有机物等杂质被拦截在膜的一侧，产生的RO水具有较低的电导率和溶质浓度。
三、EDI环节：四、精处理环节：精处理环节主要是对经过EDI的超纯水进行精确控制和调整，以确保所需的纯度和质量。
精处理设备通常包括精密过滤器、紫外线杀菌器、臭氧发生器和加热杀菌装置等。
首先，超纯水经过精密过滤器，去除水中的微小颗粒和细菌；然后，通过紫外线杀菌器进行杀菌消毒；接着，使用臭氧发生器进行进一步的杀菌和氧化处理；最后，超纯水经过加热杀菌装置，以确保水的温度和卫生要求。
以上就是EDI超纯水设备工艺流程的介绍。
通过预处理、反渗透、EDI和精处理等环节的连续作用，EDI超纯水设备能够将普通自来水中的杂质和溶质进行有效去除，得到电阻率高、离子含量低的纯净水，从而满足不同领域对高纯水质的要求。
简述EDI超纯水设备技术工艺流程分析
简述EDI超纯水设备技术工艺流程分析EDI电渗析系统根据不同的源水水质采用不同的工艺。
一般自来水经一级反渗透系统处理后，产水电导率<10μS/cm，经二级反渗透系统后产水电导率<5μS/cm甚至更低，在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI超纯水设备可以制备超纯水，使电阻率达到18兆欧(电导率=1/电阻率)。
技术工艺分析：1、采用RO反渗透+EDI离子交换系统相结合的成熟工艺，具有运行可靠、操作维护方便。
2、与传统工艺相比具有运行稳定优点(离子交换器的再生周期大大延长)，与最新工艺相比无须再生，耗材。
3、前置RO反渗透工艺技术先进，可靠。
并运用成熟的EDI 工艺，使水质出水更趋于稳定安全。
系统工艺流程预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。
工艺出水标准超纯化水标准、医疗生物水标准、显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)。
集成电路PCB用纯水水质、光电技术、航空技术、半导体高晶硅制取及化合物提取。
设备的特点：超纯水处理系统、超纯水处理设备应用在反渗透系统之后，取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。
EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点：1、无需酸碱再生, 不会因再生而停机，水质稳定，无污水排放：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，且需要安全储存酸碱的车间，再生时有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。
而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。
保护了环境。
2、运行费用低，连续、简单的操作，容易实现全自动控制：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3、厂房面积小，降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。
EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明
EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明1. 引言EDI（Electrodeionization）技术是一种高效、低成本的水处理技术，通过电场和离子交换膜的作用，将离子从水中去除，从而获得超纯水。
本文将介绍EDI超纯水设备的工艺流程，以及该设备的操作方法和注意事项。
2. 设备工艺流程EDI超纯水设备的工艺流程如下所示：1.预处理：首先，需要对进水进行预处理，包括去除悬浮物、有机物和游离氯等。
这可以通过沉淀、过滤和活性炭吸附等步骤来实现。
2.反渗透：接下来，将预处理后的水进一步处理，使用反渗透（RO）膜去除大部分的离子和溶解物质。
RO膜是一种半透膜，能够过滤掉离子和溶解物，但保留水分子。
3.电去离子：RO膜后的水进入EDI单元，EDI单元由一个阳离子交换膜和一个阴离子交换膜组成。
水分子在膜间通过强电场作用下离子交换膜，从而将阳离子和阴离子分离开。
最终获得高纯度的超纯水。
4.消毒：得到的超纯水需要进行消毒处理，以确保无菌纯净。
常见的消毒方法包括紫外线照射和臭氧处理。
3. 设备操作说明EDI超纯水设备的操作步骤如下：1.开机准备：检查设备是否完好，并确保其连接正常。
检查预处理系统和反渗透系统的运行状态。
2.开启预处理系统：按照预处理系统的操作说明，将预处理设备打开。
确保预处理设备正常运行，对进水进行必要的处理。
3.开启反渗透系统：按照反渗透系统的操作说明，将反渗透设备打开。
调整系统参数，确保RO膜的正常运行。
监测压力、流量和浓度等指标，确保系统工作正常。
4.开启EDI单元：打开EDI单元，并调整电场强度。
根据设备的说明书设置电场强度和运行参数。
5.监测参数：定期监测超纯水输出的参数，包括电导率、溶解氧等。
确保超纯水质量符合要求。
6.设备维护：定期维护设备，包括清洗预处理系统、反渗透系统和EDI单元。
定期更换膜元件和离子交换树脂，以保证设备的正常运行。
7.关闭设备：当设备不再使用时，按照操作规程关闭设备。
先关闭EDI单元，再关闭反渗透系统和预处理系统。
电子行业反渗透超纯水设备工艺流程详解
一、电子工业用超纯水概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路 板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、年夜范围、超年夜 范围集成电路需用年夜批的高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导 率小于0.2μ s/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无 机物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成 度越高，对水质的请求也越高。今朝我国电子工业部把电子级水 质技巧分为五个行业尺度，分辨为18MΩ .cm、15MΩ .cm、 10MΩ .cm、2MΩ .cm、0.5MΩ .cm，以区分分歧水质
净得瑞宗旨
专业专 注
创造卓 越客户至 上谢!基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器(保送介质的管道中 清除介质中杂质的一种过滤装置)→慎密过滤器(或称保安过滤 器)(保送介质的管道中清除介质中杂质的一种过滤装置)→原水箱 →阳床→阴床→混床(混杂离子交换柱(承装混床树脂(普通也称离 子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子 交换剂))的容器)的简称)(复床)→纯水箱→纯水泵(把原念头的机 械能变为水能量从而达到抽送水的机械)(吸进和排出流体的机 械)→后置慎密过滤器(或称保安过滤器)(保送介质的管道中清除介 质中杂质的一种过滤装置)→用水滴。
二、电子行业超纯水设备工艺流程
1、采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒 的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制 成的无机单体颗粒的离子交换剂))(用化学法将高分子共聚物制成的 无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离子交换剂)制备超纯水(水中导电 介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)的传统水处理(经由过 程物化方法往除水中一些物质的过程)方法。
EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明资料下载
EDI超纯水设备工艺介绍与操作说明资料下载EDI（Electrodeionization）超纯水设备是一种利用电渗析和离子膜选择性渗透的工艺，通过电场和离子交换树脂的协同作用，将水中的离子聚集在一个位置上，以达到提高水质的目的。
EDI工艺主要由三个步骤组成：前处理、EDI和后处理。
下面是EDI超纯水设备工艺的详细介绍和操作说明。
一、前处理前处理是将水源进行初步处理，去除大颗粒悬浮物、有机物和部分溶解性离子，以减少对EDI模块的负担。
常见的前处理工艺包括砂滤、活性炭吸附、反渗透等。
工艺流程如下：1.砂滤：将水源经过砂滤系统，去除较大颗粒悬浮物和杂质。
2.活性炭吸附：将水源通过活性炭吸附系统，去除有机物质和部分溶解性气体。
3.反渗透：将水源通过反渗透系统，去除溶解性离子和微量有机物。
二、EDI工艺EDI工艺是超纯水制备的核心步骤，主要通过电场和离子交换树脂来去除水中离子。
EDI工艺一般包括两个部分：首先是阳离子交换器，通过离子交换树脂吸附水中的阳离子；然后是阴离子交换器，通过离子交换树脂吸附水中的阴离子。
工艺流程如下：1.阳离子交换器：将进水通过阳离子交换器，去除大部分阳离子。
2.阴离子交换器：将阳离子交换后的水通过阴离子交换器，去除大部分阴离子。
3.电渗析：将阴离子交换后的水通过电场作用，使水中的离子在电场力的推动下向电极聚集。
4.清洗：定期清洗EDI设备，保证其正常运行。
三、后处理后处理是对EDI产出水进行最后的处理，以确保水质达到超纯水的要求。
常见的后处理工艺包括在线杀菌、紫外线消毒、TOC（总有机碳）去除等。
工艺流程如下：1.在线杀菌：通过加入杀菌剂或采用其他杀菌方法，对EDI产出水进行杀菌处理。
2.紫外线消毒：将EDI产出水通过紫外线灯照射，以杀灭细菌和病毒。
3.TOC去除：采用吸附剂或其他方法，去除EDI产出水中的有机物。
操作说明：1.启动前处理系统，确保砂滤、活性炭吸附和反渗透系统正常运行。
简述EDI超纯水设备工作的三个过程描述
简述EDI超纯水设备工作的三个过程描述EDI装置工作主要的三个过程：
1.淡水进水淡水室后，淡水中的离子与混床树脂发生离子交换，从而从水中脱离;
2.被交换的离子受电性吸引作用，阳离子穿过阳离子交换膜向阴极迁移，阴离子穿过阴离子交换膜向阳极迁移，并进入浓水室从而从淡水中去除。
EDI超纯水设备离子进入浓水室后，由于阳离子无法穿过因离子交换膜，因此其将被截留在浓水室，同样，阴离子无法穿过阳离子交换膜，被截留在浓水室，这样阴阳离子将随浓水流被排出模块;与此同时，由于进水中的离子被不断的去除，那么淡水
的纯度将不断的提高，待由模块出来的时候，其纯度可以达到接近理论纯水的水平。
3.水分子在电的作用下被不断的离解为H+和OH-，H+和OH-将分别使得被消耗的阳/阴树脂连续的再生。
过程1和过程3是树脂的消耗和再生的两个相反过程，这两者会在模块内部形成一个动态平衡。
进水从模块底部进入淡水室，并从顶部出来;浓水从模块底部进入模块，从模块顶部出来，浓
水经过浓水循环泵后，大部分浓水将回流到模块的浓水室中循环，小部分浓水将排放;极水的进水与浓水进水为同一水流，只是分
别进入不同的室(极水室和浓水室)，并从模块顶部排出。
图5中，淡水从模块底部进入淡水室，从顶部出来;浓水从模块顶部进入
模块，从模块底部出来;极水的进水与淡水进水为同一水流，只
是分别进入不同的室(极水室和浓水室)，并从模块顶部排出。
简述反渗透EDI超纯水系统工艺流程说明
简述反渗透EDI超纯水系统工艺流程说明反渗透EDI超纯水系统是一种通过反渗透技术和电离交换技术实现水的高纯化的工艺流程。
该流程主要由预处理、反渗透、EDI和后处理四个环节组成。
下面将对每个环节进行详细说明。
首先是预处理环节。
在预处理环节中，水会经过一系列物理、化学和生物处理来去除水中的杂质和污染物。
预处理的主要目的是保护后续环节的设备和延长设备的使用寿命。
预处理包括颗粒物过滤、活性炭吸附、软化器处理和紫外线消毒等工艺。
颗粒物过滤可以去除水中的悬浮物和微粒，活性炭吸附可以去除有机物和部分重金属，软化器处理可以去除水中的钙、镁离子，紫外线消毒可以杀灭水中的细菌和病毒。
接下来是反渗透环节。
在反渗透环节中，预处理后的水会通过高压作用下穿过反渗透膜，去除水中的离子、溶解性无机物和有机物等杂质。
在反渗透过程中，水经过一层半透膜，其中的溶解性固体和其他杂质会被截留在膜上，而纯净的水则通过膜进入下一个环节。
反渗透技术具有高效净化和低能耗的特点，常用于水质净化和海水淡化等领域。
然后是EDI环节。
在EDI环节中，经过反渗透的水会进一步通过电离交换膜进行处理。
EDI是电离交换与电渗析技术的综合应用，利用电场和离子交换树脂的特性，去除水中的离子和溶解性有机物。
EDI系统通过电离交换膜的帮助，将水中的离子转移到离子交换树脂上，并通过电渗析将离子从离子交换树脂上移除，从而将水中的离子浓缩和去除。
EDI技术不需要化学药剂，对环境友好，适用于高纯水的制备。
最后是后处理环节。
在后处理环节中，EDI处理后的水需要经过净化和消毒处理，以确保水的纯度和卫生安全。
后处理包括活性炭过滤、臭氧杀菌和紫外线消毒等工艺。
活性炭过滤可以进一步去除水中的有机物和氯气等余量化学药剂，臭氧杀菌可以杀灭水中的细菌和病毒，紫外线消毒可以杀灭水中的微生物。
综上所述，反渗透EDI超纯水系统的工艺流程主要包括预处理、反渗透、EDI和后处理四个环节。
通过这些环节的协同作用，可以实现对水进行高效纯化和去除污染物的目的，以满足特定领域对超纯水的需求。
EDI超纯水设备工艺流程-内部资料
成套EDI超纯水设备其实就是常说的超纯水制备设备，超纯水在电子制造业领域使用比较广泛，主要是因为电子产品的精密元件在制造的时候有时需要用水进行清洗或者是冷却，这就要求用水不能含有任何的导电物质，否则会出现元件损坏，所以也就造成了该行业对超纯水的极度需求。
目前，成套EDI超纯水设备制备超纯水技术大约有三种，三种工艺各有各的优点，也各有各的缺点，第一种是传统的利用离子置换树脂制备超纯水的工艺，这种工艺优点较明显，设备运行初期的资金投入少，并且设备体积较小，但是树脂工作时间长了需要再生，在再生阶段会造成大量的酸碱浪费以及污染，所以比较不环保。
现如今，超纯水系统工艺主要有三大类，其他的工艺基本上都是在这三大类的基础上进行不同结合搭配衍生出来的。
现在将这三种工艺的优缺点列于此。
1、EDI电子专用超纯水设备采用的第一种工艺主要使用离子交换树脂，优点显示在投入资金少，占用的地方不是很大，但缺点也非常明显，必须经常进行再生，对环境有一定的破坏。
2、第二种工艺使用反渗透技术作为预处理装置技术，这个工艺缺点比上一种工艺还要严重，初期的投入资金比上一种高出很多，唯一的优点就是EDI电子专用超纯水设备再生时间间隔相对要长，对环境同样有一定的污染性。
3、第三种工艺同样是采用反渗透作装置作为预处理设备，第三种方法这是现如今制取超纯水最经济、最环保用来制取超纯水工艺，不必进行设备再生处理，并且周围环境基本无污染。
但是其缺点在于资金投入方面相对以上两种方式还是过于高。
成套edi电去离子水设备应用的第二种技术是目前比较普遍的反渗透作为预处理再结合离子置换技术形成的一整套工艺流程，由于有反渗透作为预处理，因此资金投入相对上一种要大一些，但是经过了预处理之后的水杂质的含量少了很多，离子置换树脂再生周期也就相应加大，所以再生不再那么频繁，但是还是存在再生过程，依然不是最理想的工艺。
现如今的新型成套EDI超纯水设备均采用反渗透作为预处理结合EDI模块技术作为超纯水制备工艺，该种工艺摒弃了酸碱再生流程，能够使得设备在不间断的情况下制备超纯水，并且资金投入很少，成为目前最炙手可热的超纯水制备工艺。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
简述电子超纯水设备工艺步骤内容详解
超纯水设备可以将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。
设备产水电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。
集成电路工业中超纯水设备用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。
此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水设备产出的超纯水。
依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水设备的工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。
预处理包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节pH、活性碳过滤、脱气等。
过滤可除去 1～20微米大小的颗粒，软化和调节pH可防止反渗透膜结垢，加氯是杀菌。
活性碳过滤是除去有机物和自由氯，脱气是清除溶于水中的CO2等。
脱盐包括反渗透、离子交换。
反渗透是渗透现象的逆过程,在浓溶液上加压力,使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧反向渗透，脱盐可达98%，并能除去99%的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。
离子交换的原理是当水通过阳离子交换树脂时，水中的阳离子被阳离子交换树脂吸附，树脂上可交换的阳离子如
H离子被置换到水中，并和水中的阴离子结合成相应的无机酸，如超纯水：
这种含有无机酸的水，当下一步通过阴离子交换树脂层时，水中的阴离子被阴离子交换树脂吸附。
树脂上可交换的阴离子如OH离子被置换到水中,并与水中的H离子结合成水，即超纯水精处理包括紫外线杀菌、终端膜过滤和超滤。
紫外线消毒器紫外线杀菌是因生物体的核酸吸收紫外线光的能量而改变核酸
自身结构,破坏核酸功能而使细菌死亡。
杀菌最强的光谱波长为2600埃。
各种膜过滤能除掉直径大于 0.2微米的颗粒，但对于清除有机物则不如反渗透和超滤有效。
反渗透设备超滤是把各种选择性的分子分离。
在超滤过程中，水在压力下流过一个卷式或中空纤维膜棒。
膜孔径在10～200埃范围内,薄膜厚度为0.1～0.5微米,附在一个中孔的纤维棒内壁上，超滤能除去细菌和
0.05微米的粒子。
电子工业超纯水概述
超纯水设备广泛应用于半导体、花式棉花糖集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路。
集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。
反渗透设备目前我国电子工业
部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、
15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
电子工业超纯水设备的应用领域
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;
2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
3、实验室和中试车间用超纯水;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、光电子产品;
6、其他高科技精微产品;
7、超纯材料和超纯化学试剂
8、实验室和中试车间。