场发射环境扫描电镜能谱仪电子束背散射衍射仪配置及技术规格表

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产品技术规格和要求表

产品技术规格和要求表
△3.5.信号强度稳定性:在一个十分钟的分析周期中,对铜样品的63Cu同位素进行十次测量,最大峰强度的相对标准偏差(1σ)小于3%。
△3.6.谱峰稳定性:对于Cu基样品,在分辨率>4000时,通过对63Cu在三十分钟内进行三十次测量,计算峰中心位置的相对标准偏差值(1σ)小于30 ppm;
△3.7.丰度灵敏度:对于Cu基样品,在分辨率>4000时,62Cu相对63Cu的丰度灵敏度<100ppb;
1.3质量分析系统:
a.双聚焦磁式结构,对于磁场要求稳定,谱峰漂移不超过30 ppm / 30min,且连续可调;
b.全质量扫描:在15分钟内完成对所有元素ppm级的扫描。
1.4检测系统:
a.低噪音,电子倍增器和法拉第Байду номын сангаас检测器系统,保证两个检测器从高强度至低强度的自动切换,响应时间< 3s;
△b.不小于12个数量级线性动态范围,从ppt到百分含量在一次扫描中完成。须提供官网测试数据或应用文献证明
1.5真空系统:
a.由分子泵(或者离子泵)、机械泵组成的多级真空系统。要求辉光放电室在样品载入后10分钟内将真空抽到≤ 8x10-4mbar;分析室:真空卸除后,重新启动要求在24小时内将真空抽到≤5×10-7mbar;
b.离子源和分析器配有隔离阀,保护真空系统;
c.真空系统全自动连锁保护;
d.所有真空规均独立控制、实时检测系统真空度。
△c.为减小磁性材料样品对放电环境的影响,稳定放电的电压连续可调,最低值应小于0.1kV;稳定放电的电流连续可调,最低值应小于0.1mA;
△d.可以分析低熔点样品(如金属铟和镓);
e.气体背景:碳、氧、氮< 1ppm;
f.独立真空机制,拆卸、清洗方便;

场发射环境电镜配置及技术规格表

场发射环境电镜配置及技术规格表

场发射环境扫描电镜配置及技术规格表附件1:货物需求一览表––样品台移动重复精度:2um(X/Y方向)––样品室尺寸:≥250mm;兼容性高,预留EDS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。

1.6检测器––高真空模式,E-T二次电子探头;––低真空模式,大视场低真空气体二次电子探头(LFD)––环境真空下模式,气体二次电子探头(GSED)––高灵敏度,低电压固体背散射电子检测器––样品室红外CCD相机1.7图像处理器––图像处理:最大4096×3536像素––图像文件格式:TIFF(8位或16位),BMP或JPEG ––单窗口或四窗口图像显示,四活动窗口,实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合。

––256帧平均或积分,数字动画记录––基于以太网架构的数据传输系统;––Intel双核控制和操作计算机系统,Windows7操作系统;中央处理器:CPU:Intel酷睿i7 4.0GHz。

内存:4G;独立显卡,2G显存;界接口:串行、并行、SCSI、USB 3。

0接口、网络;硬盘1 TB;DVD刻录;––软件平台适用于Windows7操作系统––显示器:24寸LCD显示器1。

8 真空系统––涡轮分子泵250l/sec和2个离子泵,两个无油机械泵;––“穿过透镜”的压差真空系统,低真空模式下抽气区域不少于3个;––样品室真空度:高真空模式下<6×10—4Pa,低真空模式下〈10~130Pa,环境真空模式下<10~4000Pa1。

9 冷却系统––配有循环水冷却器1.10其他配件或易损件––配置相关配件或易损件(备用灯丝+光阑3套)。

2附件2.1 X射线能谱仪(EDS)1)探测器––探头类型:电制冷硅漂移(SDD)探测器,采用场效应管(FET)集成设计的高速SDD芯片,有效探测器面积≥30mm2––能量分辨率:在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV,轻元素分辨率:C—K/57eV,F—K/67eV––单一处理单元能同时支持两个及多个探测器––测定元素范围:4号元素硼Be到95号元素镅Am––2)能谱仪及图像系统––能谱仪处理单元与计算机采用分立式设计,完整的能谱定性定量系统,带图像系统,能进行线面扫描;––电子数字图像最大清晰度:8192×6400;––全谱智能面分布图清晰度4096*4096,单探测器输出最大计数率大于600,000CPS,可处理最大计数率大于1,500,000CPS。

高分辨场发射扫描电镜技术参数

高分辨场发射扫描电镜技术参数

高分辨场发射扫描电镜技术参数一、二次电子分辨率:0.8 nm (加速电压 15 kV)1.1nm (着陆电压 1 kV)二、放大倍率:40 到900k三、电子光学:1.电子枪:场发射电子枪2.加速电压: 0.5 到 30 kV,3.透镜系统:三级以上电磁透镜系统4.物镜光阑:四孔或大于四孔可调光阑(内置加热自清洁功能,)5.消像散器:八级电磁系统(X,Y)6.探测器:低位(Lower)、高位(Upper)、和顶位(Top)至少三个探测器进行二次电子/背散射电子的接收(配置光学导航摄像探头,配备红外CCD探头)四、样品室和样品台:样品台控制:高精度五轴马达台移动范围指标:X≧100 mm, Y≧80 mm, Z 20mm1. X、Y轴重复精度优于0.5微米。

2.样品台控制:图形界面控制;样品位置记忆功能;图片导航功能3.样品仓接口:不少于10个附件预留口并带有附件返控接口4.可进样尺寸:直径不小于100mm五、显示系统1.用户界面:电脑显示器上的图形用户界面2.电脑:操作系统:微软Windows 7 专业版3.显示器:进口24.1寸专业图像处理液晶显示器2台4.扫描模式:二维图像显示;选区模式;点分析模式;线积分;隔行扫描,漂移补偿帧积分5.图像显示模式:大屏显示模式 (1280 960)四屏同时显示模式 (640 480)选区显示模式(图像调整时使用)6.图像存储保存格式:BMP,TIFF(8位,16位,24位),JPEG,存储像素不小于6k X 4k六、真空系统1.真空控制:完全自动气动阀系统2.真空泵:离子泵: 2或3个进口涡轮分子泵: 1(主抽气)前级干泵: 13.真空度:样品室:﹤10-4 Pa七、保护措施断电保护、断水保护、漏气保护,配有进口空压机和冷却循环水系统,分别用于冷却扫描电镜镜筒及其它部件,要求配备2小时不间断电源系统备用场发射灯丝1根,物镜光阑1套八、防污染措施液氮冷阱,集成式等离子清洗装置(利用电镜主机软件操控)九、工作条件1.电源:220V/50 Hz,2.环境条件:室温:17℃~ 23℃3.相对湿度: 80 %4.仪器运行的持久性:可连续运行十、能谱仪技术参数1.能谱探测器:传感器面积≥100mm2。

场发射扫描电镜及能谱仪的使用实验报告

场发射扫描电镜及能谱仪的使用实验报告

场发射扫描电镜及能谱仪的使用实验报告本次实验是使用场发射扫描电镜及能谱仪,在该实验中,我们使用了分别大小不同的4种不同样品,来研究场发射扫描电镜的原理和能谱仪的使用方法以及样品的成分。

首先,我们使用场发射扫描电镜来观察样品的表面形态。

在观察的过程中,我们需要将样品放置在扫描电子显像样品台上,示波器显示出各类电子的轨迹和位置,样品的表面形态被非常清楚地显示在了电子显像器上。

在观察样品表面形态的过程中,我们发现样品的表面形态非常复杂,有些微观结构上的细节在肉眼里并不能看得出来,但是在电杆极电子轨道的照射下,这些细节清晰可见,非常充分地展现了物质的微观结构。

接着,我们使用场发射扫描电镜来对样品的表面进行能谱分析。

能谱仪是将能量较低的电子通过质谱仪来进行测量,通过利用不同电子在材料中相互作用时发生的产生与到达位置的变化,可以精确地测量到样品中不同元素的元素组成比例。

通过能谱仪的测量,我们得到了样品的化学元素组成和相对含量,从而进一步确认样品的型号和质
量。

在使用能谱仪进行样品分析的过程中,我们需要注意到样品表面
的污染和样品本身的含水率等因素,这些都可能导致测试结果的偏差。

总的来说,使用场发射扫描电镜和能谱仪进行样品分析是一种非
常有效的分析方法。

场发射扫描电镜不仅可以将物质的微观结构清晰
地呈现出来,还可以用来确认样品的型号,而能谱仪则可以帮助我们
进一步了解样品的元素组成和含量,这对于对样品进行研究和分析非
常有帮助。

当然,在进行分析前,我们还需要对每个样品的具体情况
进行细致的分析和考虑,并采取相应的措施来避免测试误差的发生,
保证测试结果的准确性。

超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件

超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件

附件:超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件*本包透射电子显微镜配套附件包括CCD成像附件、铍双倾(杆)台、普通单倾(杆)台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件。

为保证所有配套附件能用于同一台电子显微镜上,要求必须由电子显微镜厂商打包投标。

1. 工作条件1.1 电力供应:220V(10%),50Hz,1φ; 380V(10%),50Hz,3φ1.2 工作温度:15℃-25℃1.3 工作湿度:< 60%1.4 安装在200KV的透射电子显微镜或场发射扫描电子显微镜2.主要功能本包招标的超高分辨场发射透射电子显微镜的所有配套附件,包括透射电镜CCD相机、铍双倾台、普通单倾台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件,必须能安装在200KV超高分辨场发射透射电子显微镜上并进行联机使用。

3. 技术要求及配置3.1透射电镜CCD相机3.1.1 主要功能透射电镜专用CCD相机是用于拍摄透射电镜显微图像和电子衍射的数字化图像记录设备,其拍摄的图像应拥有高质量的分辨率,并应具备数字化图像处理的功能;且能同时满足材料科学和生物、医学科学研究的要求。

*3.1.2 耦合方式:1:1光纤耦合,HCR技术(高衬度分辨率);*31.3 CCD感应器:像素≥2K×2K(400 万像素以上),单像素≤14μm,CCD 实际接受面积≥28.7mm×28.7mm3.1.4安装位置:轴上,底部安装*3.1.5 相机保护:CCD 机头可自动伸缩,具有可扩充电子能量损失谱仪的接口3.1.6 闪烁体:标准多晶磷3.1.7 读取噪音:≤5 counts3.1.8 读取方式:多通道同时输出(≥4通道)3.1.9 操作电压:最高可达200kV3.1.10 读出速度:全分辨率模式≥0.8 帧/秒,4×binning下≥5 fps3.1.11 Binning功能:1,2,3,4,6,8×3.1.12 动态范围:≥16bit3.1.13 冷却方式:半导体制冷,冷却温度为<-20℃3.1.14 抗炫功能:有3.1.15 Digital streaming video 功能:有*3.1.16 具备拍摄显微图像和电子衍射的功能*3.1.17 拍摄衍射花样的接受角:单色度正负5电子伏时大于100mrad,单色度正负10电子伏时大于150mrad3.1.18 图像采集、处理软件:Digital Micrograph软件包和DIFPac软件包,除基本*.jpg,*.tiff,*bmp等存储格式外,还具有*.dm3 专用存储格式3.2 透射电镜用铍双倾样品杆3.2.1 特点:铍材质,用于做EDS分析时,消除常规样品杆Cu形成的EDS 谱中的Cu背底。

扫描电镜要点总结(蔡司Gemini450电镜各模式和探头使用参数介绍)

扫描电镜要点总结(蔡司Gemini450电镜各模式和探头使用参数介绍)

扫描电镜要点总结(蔡司Gemini450电镜各模式和探头使用参数介绍)扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM)是一种高分辨率的显微镜,能够通过扫描样品表面的电子束来获取高清晰度的图像。

蔡司Gemini 450是一种常见的扫描电子显微镜,拥有多种模式和探头,下面将对其各模式和探头的使用参数进行介绍。

1.高真空模式:-工作距离:3-20毫米之间可调。

-放大倍率:高达1,000,000倍。

-检测器:二次电子检测器、能量分散X射线(EDX)探测器等。

高真空模式适用于大多数样品,特别是金属、半导体等导电材料。

该模式下的电子束会扫描样品表面,从而产生二次电子图像。

EDX探测器可用于进行元素成分分析。

2.低真空模式:-气压范围:从10到130帕斯卡(Pa)。

-工作距离:5-25毫米之间可调。

-放大倍率:高达100,000倍。

低真空模式适用于非导电材料以及生物样品等需要避免高真空环境的样品。

低真空模式下,可以使用水冷样品冷凝器来减少样品的水膜蒸发。

3.非接触模式:-工作距离:约为30微米。

-放大倍率:高达100,000倍。

非接触模式使用非接触方式扫描样品表面,减少了对样品的损伤。

它适用于对样品表面要求严格的情况下,如软性材料或纳米材料等。

4.电子背散射模式:-工作距离:约为3毫米。

-放大倍率:高达300,000倍。

电子背散射模式用于观察样品的表面形态和材料本身的晶体结构。

通过背散射电子来获取高对比度的图像。

探头是扫描电镜中十分重要的组成部分,蔡司Gemini 450电镜提供了多种探头供选择,具有不同的特点和应用范围。

1.热阴极电子枪:-适用于常规高真空模式下的成像。

-具有较高的亮度和小的发射面积。

2.场发射电子枪:-适用于较低真空模式下的成像。

-具有更小的亮度和更小的发射面积。

3.高抛射场发射电子枪:-适用于非接触模式。

-具有更大的发射面积,可以提供更高的电子流,为非接触模式下的成像提供更好的性能。

SU8200场发射扫描电镜技术说明文件

SU8200场发射扫描电镜技术说明文件

SU8200场发射扫描电镜技术说明文件一、二次电子分辨率:0.8 nm (加速电压 15 kV,工作距离4 mm)1.1 nm (着陆电压 1 kV,工作距离1.5 mm)(减速模式)以上分辨率的测试都是基于日立电镜的分辨率测试标样(蒸金磁带样品,蒸金碳样品)二、放大倍率:低倍模式:⨯20 到⨯2k高倍模式:⨯100 到⨯1000k三、电子光学:1.电子枪:冷场发射电子枪(带有柔性flash功能)2.加速电压: 0.5 到 30 kV着陆电压: 0.01到 2 kV3.透镜系统三级电磁透镜系统4.物镜光阑四孔可调光阑(置加热自清洁功能)5.扫描线圈二级电磁式偏转线圈(高倍模式)一级电磁式偏转线圈(低倍模式)6.消像散器八级电磁系统(X,Y)7.探测器:低位(Lower)、高位(Upper)、和顶位(Top)三种探测器进行二次电子/背散射电子的接收能谱系统 (选配)8.束闸电磁型9.电位移:±12 μm (工作距离8 mm)注意:工作距离改变时,电位移围会改变四、样品室和样品台:1.样品台控制:五轴马达台2.可移动围和样品尺寸:3.可安装样品高度4.换样预抽室5.样品台控制:图形界面控制自动样品更换位置定位功能样品台移动轨迹存储功能优中心旋转功能图片导航功能五、显示系统1.用户界面电脑显示器上的图形用户界面2.电脑操作系统:微软Windows 7 专业版(32位)操作台:鼠标、键盘、旋钮板、样品台控制方法(标配轨迹球,或选配操纵杆)3.显示器24.1寸液晶显示器或同等配置的显示器(屏幕:1,920×1,200像素)4.扫描模式:二维图像显示选区模式点分析模式平均浓度分析模式图像显示模式大屏显示模式 (1280 ⨯ 960)单屏显示模式 (800 ⨯ 600)双屏同时显示模式 (800 ⨯ 600)四屏同时显示模式 (640 ⨯ 480)选区显示模式(图像调整时使用)5.电子光学对中:电子束对中光阑对中像散对中低倍对中6.扫描模式积分扫描快扫慢扫缩小区域扫高清捕图积分捕图荷电抑制扫描(CS扫描)7.扫描速度TV:两级扫描速度(Rapid1~Rapid2)快扫:两级扫描速度(Fast1~Fast2)慢扫:七级扫描速度(Slow1~Slow7)CS扫描:七级扫描速度(CSS1~CSS7)选区扫描8.自动调节功能:ABCC (自动亮度/对比度调节),自动聚焦9.信号和图像处理功能:通过积分,图像的信噪比提高桢积分(最大积分数量:1,024)(TV和快扫模式)彩色图像显示两种颜色混合图像显示(实时)伪彩图像显示(保存图像)存储图像处理•渐变转换•Gamma 调节•多重滤波处理10.图像存储:图像存储尺寸:640 ⨯ 480,800 ⨯ 600,1,280 ⨯ 960,2,560 ⨯ 1,920,5,120 ⨯ 3,840像素保存格式:BMP,TIFF(8位),JPEG11.图像打印自由布局打印功能12.保存数据图像的处理图像管理和处理(SEM Data Manager) :•图片数据库管理•缩略图显示•多种图片处理功能13.其他功能:束闸功能(图像冻结时)光栅旋转/倾斜补偿测量功能 (实时图像或存储图像)参数显示 (照片号、加速电压、放大倍率、微标尺、工作距离、日期、时间)参数条被底:透明、黑色数据输入和标注(圆,矩形,箭头,尺寸线)14.外部设备接口:USB 接口网卡接口15.X射线分析功能扫描模式:●点扫描●面扫描●DBC接口(选配)六、真空系统1.真空控制:完全自动气动阀系统2.真空泵:离子泵: 60 L/s ⨯ 1, 20 L/s ⨯ 2磁悬浮分子泵: 300 L/min ⨯ 1(主抽气)机械泵*为减轻污染,推荐使用干泵3.真空量规:全量程量规,皮拉宁规两个(控制真空系统),宁规一个4.真空度:电子枪:﹤10-8 Pa样品室:﹤10-4 Pa5.样品交换室:六寸预抽室七、保护措施断电保护、断水保护、漏气保护八、循环水冷却水循环流速:1.0~1.5 L/min (冷却物镜)水压:50~100 kPa水温:10 to 20 ︒C (10分钟最大可变化0.5度)九、防污染措施液氮冷阱十、SU8200系列扫描电镜(SU8220,SU8230,SU8240)主机 (1)显示单元 (1)机械泵 (1)空压机 (1)标配专用工具....................... 1 套耗材及配件......................... 1 套操作手册........................... 1 套十一、尺寸及重量长⨯宽⨯高重量主机(SU8220) 990 850 1,710 mm 665 kg 主机(SU8230)990 850 1,745 mm 740 kg 主机(SU8240) 990 850 1,745 mm 745 kg 显示单元 1,120 1,100 1,200mm 275 Kg 空压机 210 420 520 mm 16 kg 减震器 200 180 160 mm 40 kg 十二、主要选项附件探测器:顶探头过滤器YAG型BSE探测器(SU8220/ SU8230/SU8240)扫透探测器(SU8220/ SU8230/SU8240)半导体型BSE探测器(SU8220/ SU8230/SU8240)视频放大单元光电倍增单元法拉第杯能谱CD测量功能:实时CD测量功能已保存图像的CD测量功能(图像管理选项)打印机(用户自配)外部设备控制:DBC(外部信号扫描)外部通讯接口键盘/鼠标通用功能其他:冷却循环水压缩机EDX系统变压器说明书。

场发射环境扫描电镜配置及技术规格表

场发射环境扫描电镜配置及技术规格表
––与能谱联合使用,具备图像采集系统:具有SEM成像功能,可支持多种SEM图像类型,图片尺寸不低于4096×4096;具备EBSD花样自由采集,无标样自动系统校准功能,拥有极图与反极图,取向分布,相区分与鉴定,能够分析晶界织构,以及EDS和EBSD的同步分析,离线数据再处理等软件包;标书需详细提供产品功能的软件特点。
––网络打印机:最大打印幅面:A4;打印速度:A4:达到14ppm;最高分辨率:600×600dpi;耗材类型:鼓粉一体;硒鼓寿命:2000页;首页打印时间:小于10秒;月打印负荷:达到5000页;进纸盒容量:150页手动进纸器;内存:2MB。
2.2电子束背散射衍射仪(EBSD)系统(可与EDS实现一体化)
––样品台移动重复精度:2um(X/Y方向)
––样品室尺寸:≥250mm;兼容性高,预留EDS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。
1.6检测器
––高真空模式,E-T二次电子探头;
––低真空模式,大视场低真空气体二次电子探头(LFD)
––环境真空下模式,气体二次电子探头(GSED)
––高灵敏度,低电压固体背散射电子检测器
1.9冷却系统
––配有循环水冷却器
1.10其他配件或易损件
––配置相关配件或易损件(备用灯丝+光阑3套)。
2附件
2.1X射线能谱仪(EDS)
1)探测器
––探头类型:电制冷硅漂移(SDD)探测器,采用场效应管(FET)集成设计的高速SDD芯片,有效探测器面积≥30mm2
––能量分辨率:在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV,轻元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV
可观察和检测非均相有机和无机材料样品的表面微观形貌观察及成分分析。它可以进行二次电子形貌分析和背散射电子衬度成像分析。能谱分析能够实现点分析、面分析、线扫描和面扫描,背散射电子衍射分析可以进行晶体取向成像、显微织构、晶界等分析。
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––样品室红外CCD相机
1.7图像处理器
––图像处理:最大4096×3536像素
––图像文件格式:TIFF(8位或16位),BMP或JPEG
––单窗口或四窗口图像显示,四活动窗口,实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合。
––256帧平均或积分,数字动画记录
––基于以太网架构的数据传输系统;
––Intel双核控制和操作计算机系统,Windows 7操作系统;中央处理器:CPU:Intel酷睿i74.0GHz。内存:4G;独立显卡,2G显存;界接口:串行、并行、SCSI、USB 3.0接口、网络;硬盘1TB;DVD刻录;
场发射环境扫描电镜配置及技术规格表
附件1:货物需求一览表
项目
序号
设备名称
数量
交货地点
交货期
1
场发射环境扫描电镜
1台
河南理工大学指定地点
按合同要求
附件2:设备配置及技术规格表
序号
设备名称
技术参数
功能
要求
数量
1
场发射环境扫描电镜
仪器设备的主要技术参数
1主机
1.1分辨率
1)高真空
–– 30 kV下不低于1.0 nm (SE)
––单一处理单元能同时支持两个及多个探测器
––测定元素范围:4号元素硼Be到95号元素镅Am
––峰背比优于20000:1,谱峰稳定性:1,000cps到100,000cps,Mn Ka峰谱峰漂移小于1eV,48小时内峰位漂移小于1.5eV
2)能谱仪及图像系统
––能谱仪处理单元与计算机采用分立式设计,完整的能谱定性定量系统,带图像系统,能进行线面扫描;
1.2放大倍数
––高真空模式下:14–1,000,000,连续可调
––放大倍数误差:≤3%
1.3电子光学
––高分辨肖特基场发射电子枪,具有自动对中和启动电子枪功能;在显示器中显示全部发射器参数的状态信息;灯丝寿命优于两年。
––加速电压:200 V - 30 kV,连续可调
––束流:最大200 nA并连续可调
––成像模式:二次电子像与背散射电子像,两者可以任意比率混合,自动调节和手动调节亮度、对比度。
1.4物镜光阑
––物镜光栏能自加热自清洁;无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑;
––光阑寿命优于两年范围:X≥50mm;Y≥50mm;Z≥50mm;T:-5~+70°,R=360°连续旋转
––电子数字图像最大清晰度:8192×6400;
––全谱智能面分布图清晰度4096*4096,单探测器输出最大计数率大于600,000CPS,可处理最大计数率大于1,500,000CPS。
3)智能化能谱分析平台
––一体化集成用户界面,所有应用软件在同一个平台上打开,支持用户自定义模式及账户管理,支持中、英文等多种操作界面。
––EBSD与EDS形成一体化系统,使用单一软件界面,以便于材料的成分和晶体结构分析;
––花样采集速度≥930 patterns点/秒(8×8 binning);
––标定成功率,任何扫描速度下,用以多晶镍(Ni)为标样,测量>99%的标定成功率;
––软件平台适用于Windows7操作系统
––显示器:24寸LCD显示器
1.8真空系统
––涡轮分子泵250l/sec和2个离子泵,两个无油机械泵;
––“穿过透镜”的压差真空系统,低真空模式下抽气区域不少于3个;
––样品室真空度:高真空模式下<6×10-4Pa,低真空模式下<10~130Pa,环境真空模式下<10~4000Pa
1.9冷却系统
––配有循环水冷却器
1.10其他配件或易损件
––配置相关配件或易损件(备用灯丝+光阑3套)。
2附件
2.1X射线能谱仪(EDS)
1)探测器
––探头类型:电制冷硅漂移(SDD)探测器,采用场效应管(FET)集成设计的高速SDD芯片,有效探测器面积≥30mm2
––能量分辨率:在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV,轻元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)*
–– 1 kV下不低于3.0 nm (SE)
2)低真空
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)
–– 3 kV下不低于3.0 nm (SE)
3)环境真空(ESEM) *
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
––网络打印机:最大打印幅面:A4;打印速度:A4:达到14ppm;最高分辨率:600×600dpi;耗材类型:鼓粉一体;硒鼓寿命:2000页;首页打印时间:小于10秒;月打印负荷:达到5000页;进纸盒容量:150页手动进纸器;内存:2MB。
2.2电子束背散射衍射仪(EBSD)系统(可与EDS实现一体化)
––样品台移动重复精度:2um(X/Y方向)
––样品室尺寸:≥250mm;兼容性高,预留EDS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。
1.6检测器
––高真空模式,E-T二次电子探头;
––低真空模式,大视场低真空气体二次电子探头(LFD)
––环境真空下模式,气体二次电子探头(GSED)
––高灵敏度,低电压固体背散射电子检测器
––定性分析:可自动标识谱峰,可设定自动标定的元素范围,可进行谱重构,对重叠峰进行可视化谱峰剥离。
––定量分析:可对抛光表面或粗糙表面定量分析。采用定量修正技术,可对倾斜样品进行修正,并增强对轻元素的修正;具备有标样定量分析及无标样定量分析方法。
4)计算机及其附件部分
––计算机工作站,EDS与EBSD共用高级工作站系统,Intel Xeon E5-2609 (3.10 GHz, 6 MB cache, 4 cores)处理器,Windows 7 64-bit操作系统,16 GB内存,1 TB硬盘,SATA SuperMulti DVD读写光驱,24”TFT-LCD Monitor,Microsoft Office 2010办公软件(最低配置);
1)EBSD探测器
–– EBSD探头,适用于场发射电镜的高速EBSD探测器,能与EDS硬件同时使用,高端的高灵敏度CCD相机,加速电压大于3kV,及束流大于500 pA时,可以采集到明显的衍射花样。30×25mm矩形荧光屏;花样像素分辨率:640×480×12位;花样采集速度:920花样/秒8×8binning,630花样/秒4×4binning;
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