测迁移率的方法
测迁移率的方法

测量方法(1)渡越时间(TOP)法适用于具有较好的光生载流子功能的材料的载流子迁移率的测量,可以测量有机材料的低迁移率。
在样品上加适当直流电压,选侧适当脉冲宽度的脉冲光,通过透明电极激励样品产生薄层的电子一空穴对。
空穴被拉到负电极方向,作薄层运动。
设薄层状况不变,则运动速度为μE。
如假定样品中只有有限的陷阱,且陷阱密度均匀,则电量损失与载流子寿命τ有关,此时下电极上将因载流子运动形成感应电流,且随时间增加。
在t 时刻有:若式中L 为样品厚度电场足够强,t≤τ,且渡越时间t0<τ。
则在t0 时刻,电压将产生明显变化,由实验可测得,又有式中L、V 和t0 皆为实验可测量的物理量,因此μ值可求。
(2)霍尔效应法主要适用于较大的无机半导体载流子迁移率的测量。
将一块通有电流I 的半导体薄片置于磁感应强度为B 的磁场中,则在垂直于电流和磁场的薄片两端产生一个正比于电流和磁感应强度的电势U,这称为霍尔效应。
由于空穴、电子电荷符号相反,霍尔效应可直接区分载流子的导电类型,测量到的电场可以表示为式中R 为霍尔系数,由霍尔效应可以计算得出电流密度、电场垂直漂移速度分量等,以求的R,进而确定μ。
3)电压衰减法通过监控电晕充电试样的表面电压衰减来测量载流子的迁移率。
充电试样存积的电荷从顶面向接地的底电极泄漏,最初向下流动的电荷具有良好的前沿,可以确定通过厚度为L 的样品的时间,进而可确定材料的μ值。
(4)辐射诱发导电率(SIC)法导电机理为空间电荷限制导电性材料。
在此方法中,研究样品上面一半经受连续的电子束激发辐照,产生稳态SIC,下面一半材料起着注入接触作用。
然后再把此空间电荷限制电流(SCLC)流向下方电极。
根据理论分析SCLC 电导电流与迁移率的关系为J=pμε1ε0V2/εDd3 (7) 测量电子束电流、辐照能量和施加电压函数的信号电流,即可推算出μ值。
(5)表面波传输法被测量的半导体薄膜放在有压电晶体产生的场表面波场范围内,则与场表面波相联系的电场耦合到半导体薄膜中并且驱动载流子沿着声表面波传输方向移动,设置在样品上两个分开的电极检测到声一电流或电压,表达式为Iae=μP/Lv.(8) 式中P 为声功率,L 为待测样品两极间距离,v 为表面声波速。
电解质溶液中离子迁移速率的测量方法

电解质溶液中离子迁移速率的测量方法电解质溶液中离子迁移速率的测量是一项重要的实验技术,可以用于研究离子在液相中的传输过程,以及评估电解质材料的导电性能。
本文将介绍几种常见的测量方法,并对各自的优缺点进行分析。
一、离子迁移速率测量方法之电导法电导法是最常用的离子迁移速率测量方法之一。
该方法利用电解质溶液中离子所带来的电流导电性来间接反映离子的迁移速率。
具体操作时,将两个电极插入电解质溶液中,施加一定的电压并测量通过溶液的电流。
根据欧姆定律,电流与电压成正比,通过测量电流和电压的关系,可以计算出离子的迁移速率。
优点:电导法测量简便快捷,不需要复杂的设备和操作。
同时,该方法不会对离子的迁移速率产生直接影响,测量结果相对准确。
缺点:电导法只能测量离子的总迁移速率,无法区分不同离子的贡献。
此外,电解质溶液中离子浓度的变化会对测量结果产生影响。
二、离子迁移速率测量方法之扩散法扩散法是测量离子迁移速率的常用方法之一。
该方法基于离子自由扩散的现象,利用离子在浓度梯度下由高浓度区向低浓度区传输的速度来反映离子的迁移速率。
具体操作时,将两个电解质溶液分开,通过半透膜或离子选择性电极形成浓度梯度,并测量离子从一个溶液向另一个溶液扩散的速度。
优点:扩散法可以研究不同离子的迁移速率,对于混合离子溶液的测量较为准确。
此外,该方法操作简单,无需复杂设备。
缺点:扩散法需要一段时间才能达到平衡状态,且对于离子浓度较低的溶液,样品的准备较为困难。
此外,扩散法对于颗粒较大或电荷量较大的离子的测量存在较大误差。
三、离子迁移速率测量方法之电泳法电泳法是一种常用的测量离子迁移速率的方法。
该方法基于离子在电场中受力运动,通过测量离子在电场中移动的距离和时间来反映离子的迁移速率。
具体操作时,将电解质溶液置于电场中,施加一定的电压和电场强度,测量离子移动的距离和时间。
优点:电泳法可以准确测量不同离子的迁移速率,对于复杂溶液体系的测量效果较好。
此外,该方法测量结果可直接得到离子的移动速率。
第二章-迁移率测量-3-SCLC-2012

2、较高电压区 1)Pure space-charge limited conduction with no traps (Pure SCLC regime, Pure SCLC导电区)
电流 J = 9/8q ε0 εr μ V 2 / d 3 (Child’s law)
3.6、通过I-V曲线的SCLC区计算(拟合)迁移率
举例1:Z. An, et al., Adv. Mater. 17 (2005) 2580. ITO (+)/PDI 2/ITO (-) electron dominated device
先出现欧姆导电区,后出现SCLC导电区。
使用如下经验公式:
where ε0 is 自由空间电容率 and εr is 相对介电常数. 2)Space-charge limited conduction with traps
电流 J = 9/8q ε0 εr Θ μ V 2 / d 3 (Mott–Gurney equation) where Θ is a factor smaller than unity (shallow traps and
无欧姆导电区,直接出现SCLC导电区
三个假设条件:
1)属于Pure SCLC导电,Θ =1 2) εr = 3
3)不考虑迁移率的场强依赖性
举例3:P.W.M. Blom, et al., Adv. Funct. Mater. 13 (2003) 43.
ITO (+)/PEDOT:PSS/PCBM/LiF/Al (-) electron dominated device 无欧姆导电区,直接出现SCLC导电区
测迁移率--划痕法

2.3 划痕法检测细胞迁移
(1)选择第3-5代生长良好的VSMCs,胰蛋白酶制备细胞悬液,调整细胞密度为1.0x105/ml,均匀接种于6孔板中。
在铺板前,在板的背面用记号笔划5-6道平行的横线。
(2)待细胞贴壁生长至70-80%汇合时,吸弃原含10%血清的培养液,换用含0.3%血清的DMEM培养液继续培养24h,使VSMCs同步化,处于G0/G1期。
(3)用无菌的200μl枪头管尖(约0.7 mm)在各培养板细胞生长单层相同位置划垂直或平行直线,与以上的横线要垂直,造成几条“伤口"。
PBS清洗2次,去除被枪头管尖破坏而脱落的细胞并照相(每个时间点都在相同的位置)。
(4)进行吡哆胺及替米沙坦对VSMCs迁移实验时,分为对照组、AngⅡ组、P组、T组及TP组,分别于P 组中加入1mmol/L吡哆胺,T组中加入10-7mol/L替米沙坦及TP组中加入1mmol/L吡哆胺和10-7mol/L替米沙坦,2小时后,于AngⅡ组、P组、T组及TP组中分别加入10-7mol/L AngⅡ。
(5)于24h时观察各组细胞迁移情况,计算100倍显微镜下4个独立视野中超过划线的细胞数,实验重复3次,重复照相,并计算平均值。
吡哆胺及替米沙坦对VSMCs 迁移的影响
划痕法检测VSMCs 迁移细胞数,见图4。
图 4 倒置相差显微镜下(X100),0h 即刚划痕时未见细胞超越边缘线,24h 时各组
均可见数量不等的细胞超越边缘线,向空白区生长。
AngⅡ组迁移细胞数即细胞迁移水平较对照组显著升高(P﹤0.01),P 组、T 组及TP
组较AngⅡ组显著下降(P﹤0.01),且TP组较P 组及T 组显著下降(P﹤0.01),见图5。
半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法

半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法半绝缘砷化镓(GaAs)晶体是一种非常重要的半导体材料,在电子器件和光电器件中得到广泛的应用。
为了实现高性能和可靠性,对半绝缘砷化镓晶体的电学性质需要进行精确的测试和分析。
其中,电阻率、霍尔系数和迁移率是三个重要的参数。
本篇文章就为大家详细介绍半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法,其中包含相关参考内容。
一、半绝缘砷化镓电阻率测试方法半绝缘砷化镓电阻率测试方法一般采用四探针法,其原理是利用四根电极在半导体表面形成一个封闭区域,然后通过对两个相对的探针施加恒定电压,利用剩余两个探针测量电流。
然后根据欧姆定律计算半导体材料的电阻率。
以下是半绝缘砷化镓电阻率测试方法的参考内容:1. 测试仪器:(1)四探针测试仪(2)恒流源(3)数字万用表2. 测试步骤:(1)将半绝缘砷化镓样品放入测试夹具中,并夹紧。
(2)将四根探针依次插入样品表面,形成一个封闭区域。
(3)调节恒流源,使得两个相对的探针电压保持恒定。
(4)利用数字万用表测量另外两个探针的电流,并记录下来。
(5)根据欧姆定律计算半导体材料的电阻率。
二、半绝缘砷化镓霍尔系数测试方法半绝缘砷化镓霍尔系数测试方法是利用霍尔效应来测量半导体材料的电学性质。
该方法一般也采用四探针技术,但是在形成封闭区域的过程中,会施加一个垂直于半导体表面的磁场,因此电流在磁场作用下会发生偏转,并产生横向电场。
测量该横向电场与所施加磁场之间的关系,就可以计算出半导体材料的霍尔系数。
以下是半绝缘砷化镓霍尔系数测试方法的参考内容:1. 测试仪器:(1)霍尔效应测试仪(2)恒流源(3)数字电压表(4)强磁场制备设备2. 测试步骤:(1)将半绝缘砷化镓样品放入测试夹具中,并夹紧。
(2)将四根探针依次插入样品表面,并施加恒定电流。
(3)在样品表面施加一个垂直于表面的强磁场,调节强度。
(4)利用数字电压表测量两个相对的探针之间的横向电场大小。
第二章-迁移率测量-1-TOF-2012

第二章有机半导体材料载流子迁移率测试方法一、电荷渡越时间法(TOF)电荷渡越时间法(Time of Flight二、场效应晶体管表征法(FET)Field Effect Transistor三、空间电荷受限的电流法(SCLC)Space-Charge-Limited-Current四、瞬态电致发光Transient Electroluminescence一电荷渡越时间法(Time of Flight TOF 、电荷渡越时间法(Time of Flight, TOF)1.1、TOF的早期11TOF mobility 最早被称为drift(漂流)mobility 1954年被用于测量离子在气体中的迁移率(M.A. Biondi, L.M. Chanin, Phys. Rev.1954, 94, 910.)年被电在液体中的率1959年被用于测量电子在液体中的迁移率(O.H. LeBlanc, J. Chem. Phys.1959, 30, 1443.) 1960年被用于测量载流子在有机固体中的迁移率(R.G. Kepler, Phys. Rev.1960, 119, 1226.)(p y)Charge carrier production and mobility in anthracene crystals(R.G. Kepler, Phys. Rev.1960, 119, 1226.)Charge carrier production and mobility in anthracene crystals Charge carrier production and mobility in anthracene crystals1、蒽单晶,尺寸1-2 mm蒽单晶尺寸2、2 μs light pulse(Xenon flash tube)(Xenon flash tube)3、Under 10−5mmHgA光电流检测脉冲激光L金属电极透明玻璃半导体薄膜迁移率(μ):空穴迁移率μh ,正偏压,透明电极ITO为正极电子迁移率μe,负偏压,透明电极ITO为负极迁移率(μ)计算公式:1、μ= L2/ (t×V)TRL :半导体厚度t TR :渡越时间TOF法测量迁移率的关键TRV :电压是测量出渡越时间tTR。
半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法

半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率测试方法半绝缘砷化镓是一种特殊的材料,具有很高的电子迁移率和较小的禁带宽度,因此在半导体器件中有着广泛的应用。
要评估半绝缘砷化镓材料的性能,最常用的方法是通过测量其电阻率、霍尔系数和迁移率来进行。
在本文中,我们将介绍半绝缘砷化镓电阻率、霍尔系数和迁移率的测试方法以及相关的参考内容。
1. 半绝缘砷化镓电阻率测试方法半绝缘砷化镓的电阻率可以通过四探针法或两探针法进行测试。
其中,四探针法是最精确的方法,可以得到非常准确的电阻率值。
具体测试步骤如下:1)将待测试的半绝缘砷化镓样品切成四方形,并在其四个角落固定铜针。
2)通过电流源将电流输送到两个铜针间,同时测量这两个针间的电压。
3)将电流源接到另外两个铜针间,同时测量这两个针间的电压。
4)通过计算得出电阻率的值,公式为:ρ = (πab)/ln(2L/a) ,其中a、b、L分别代表四边形的长、宽和两个针间的距离。
2. 半绝缘砷化镓霍尔系数测试方法霍尔系数是评估半绝缘砷化镓性质的重要参数之一,它可以通过霍尔效应来测量。
具体测试步骤如下:1)将待测试的半绝缘砷化镓样品通过三根引线连接到电流源和电压表上。
2)在半绝缘砷化镓样品上施加一个垂直于电流方向的磁场,这个磁场可以通过一个永磁体或电磁铁产生,同时测量样品两端的电压。
3)通过测量得出电流、电压和磁场的值,可以通过公式Rxy= Vxy/I(B/H),求得霍尔系数值,其中Vxy表示垂直于电流方向的电压,I表示电流强度,B表示磁场强度,H表示半导体厚度。
3. 半绝缘砷化镓迁移率测试方法半绝缘砷化镓的迁移率是影响器件性能的重要参数之一,它可以通过霍尔系数和电阻率来计算,具体测试步骤如下:1)通过霍尔系数测量得到半绝缘砷化镓样品中电子的迁移度。
2)通过电阻率和霍尔系数计算出电子的迁移率,公式为μ = Rxy/(ρe) ,其中Rxy表示霍尔系数,ρe表示电子的电阻率。
总结:半绝缘砷化镓是一种重要的半导体材料,其性质可以通过电阻率、霍尔系数和迁移率来评估。
空间电荷限制电流法测迁移率

空间电荷限制电流法测迁移率这空间电荷限制电流法呢,简单说就是通过测量材料中电流的变化,来判断它们的迁移率。
电流在材料里流动,就像小朋友在滑滑梯上,开始的时候呼啸而下,后来由于滑梯的摩擦力,速度就慢下来了。
这时候,电流的变化其实是材料内部电荷相互作用的结果。
想象一下,电荷们就像是一群热情的小伙伴,刚开始的时候在一起玩得不亦乐乎,突然遇到了一个难关,嘿嘿,大家就得想办法一起合作,才能继续玩下去。
如何测量呢?这里有个小技巧。
我们得用一个电极,把它放到材料里,就像是把一个小朋友的手伸进去滑梯,看看他滑下来需要多长时间。
然后我们再通过外加电场,推动电流的流动。
这样一来,电流的强度就会随着时间的推移,表现出不同的状态,真是让人眼前一亮。
大家都知道,电流和电压的关系就像是小朋友和零食的关系,越是能量充足,电流就越欢快。
而且这空间电荷的存在,可以说是一个双刃剑。
它既能帮助我们更好地理解材料的性质,又可能让实验变得复杂得像是一锅麻辣火锅。
咱们在实验过程中,得小心翼翼,像是在抓一只小兔子,不能让它受伤。
这样我们才能准确地测出迁移率。
实验的时候,得关注到每一个细节,就像做饭要掌握火候,一不小心,可能就要重来一次。
谁愿意重头再来呢?所以,咱们要做好准备,认真对待每一次实验。
在实验室里,大家聚在一起,讨论着数据,兴奋得像过年一样。
每当得出一个新结果,仿佛就在狂欢派对上,大家都忍不住欢呼。
你瞧,科学的世界充满了惊喜和挑战,正如生活中的每一天,都是一次新的冒险。
通过不断的试验,我们不仅能知道材料的迁移率,还能理解它们在不同环境下的表现,真是让人感到无比满足。
更妙的是,通过这个方法,我们能对电子器件的设计提供指导,真是事半功倍。
在如今这个信息爆炸的时代,掌握材料的电学特性,能让我们的技术如虎添翼。
想象一下,如果每个电子器件都能发挥到极致,那我们的生活将会变得多么便捷!不再为手机没电而烦恼,随时随地都能与世界保持连接。
科技进步的背后,是无数科研人员的努力和汗水,真心让人敬佩。
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测量方法
(1)渡越时间(TOP)法
适用于具有较好的光生载流子功能的材料的载流子迁移率的测量,可以测量有机材料的低迁移率。
在样品上加适当直流电压,选侧适当脉冲宽度的脉冲光,通过透明电极激励样品产生薄层的电子一空穴对。
空穴被拉到负电极方向,作薄层运动。
设薄层状况不变,则运动速度为μE。
如假定样品中只有有限的陷阱,且陷阱密度均匀,则电量损失与载流子寿命τ有关,此时下电极上将因载流子运动形成感应电流,且随时间增加。
在t 时刻有:若式中L 为样品厚度电场足够强,t≤τ,且渡越时间t0<τ。
则在t0 时刻,电压将产生明显变化,由实验可测得,又有式中L、V 和t0 皆为实验可测量的物理量,因此μ值可求。
(2)霍尔效应法
主要适用于较大的无机半导体载流子迁移率的测量。
将一块通有电流I 的半导体薄片置于磁感应强度为B 的磁场中,则在垂直于电流和磁场的薄片两端产生一个正比于电流和磁感应强度的电势U,这称为霍尔效应。
由于空穴、电子电荷符号相反,霍尔效应可直接区分载流子的导电类型,测量到的电场可以表示为式中R 为霍尔系数,由霍尔效应可以计算得出电流密度、电场垂直漂移速度分量等,以求的R,进而确定μ。
3)电压衰减法
通过监控电晕充电试样的表面电压衰减来测量载流子的迁移率。
充电试样存积的电荷从顶面向接地的底电极泄漏,最初向下流动的电荷具有良好的前沿,可以确定通过厚度为L 的样品的时间,进而可确定材料的μ值。
(4)辐射诱发导电率(SIC)法
导电机理为空间电荷限制导电性材料。
在此方法中,研究样品上面一半经受连续的电子束激发辐照,产生稳态SIC,下面一半材料起着注入接触作用。
然后再把此空间电荷限制电流(SCLC)流向下方电极。
根据理论分析SCLC 电导电流与迁移率的关系为J=pμε1ε0V2/εDd3 (7) 测量电子束电流、辐照能量和施加电压函数的信号电流,即可推算出μ值。
(5)表面波传输法
被测量的半导体薄膜放在有压电晶体产生的场表面波场范围内,则与场表面波相联系的电场耦合到半导体薄膜中并且驱动载流子沿着声表面波传输方向移动,设置在样品上两个分开的电极检测到声一电流或电压,表达式为Iae=μP/Lv.(8) 式中P 为声功率,L 为待测样品两极间距离,v 为表面声波速。
有此式便可推出μ值。
(6)外加电场极性反转法(6)外加电场极性反转法
在极性完全封闭时加外电场,离子将在电极附近聚集呈薄板状,引起空间电荷效应。
当将外电场极性反转时,载流子将以板状向另一电极迁移。
由于加在载流子薄层前、后沿的电场影响,因而在极性反转后t 时间时,电流达到最大值。
t 相当于载流子薄层在样品中行走的时间,结合样品的厚度、电场等情况,即可确定μ值。
(7)电流一电压特性法本方法主要适用于工作于常温下的MOSFET 反型层载流子迁移率的测量。
对于一般的MOSFET 工作于高温时,漏源电流Ids 等于沟道电流Ich 与泄漏电流Ir 两者之和,但当其工作于常温时,泄漏电流Ir 急剧减小,近似为零,使得漏源电流Ids 即为沟道电流Ich。
因此,对于一般的MOSFET 反型层载流子迁移率,可以根据测量线性区I—V 特性求的。
总结综上所述,本文共指出了七中载流子迁移率的测量方法,除此之外,还可采用漂移实验、分析离子扩散、分析热释电流极化电荷瞬态响应等方法进行载流子迁移率的测量。