三氧化钨光解水催化剂结构与性能关系
三氧化钨 离子光催化-概述说明以及解释
三氧化钨离子光催化-概述说明以及解释1. 引言1.1 概述概述部分是对文章主题进行简要介绍和背景阐述的部分。
本文将探讨三氧化钨离子光催化的相关研究和应用。
近年来，随着环境问题的日益凸显，寻找高效、清洁和可持续的环境治理技术变得愈发迫切。
离子光催化作为一种新兴的环境治理技术，已经吸引了广泛的研究兴趣。
三氧化钨是一种具有特殊结构和性质的过渡金属氧化物。
它在离子光催化领域展现出了良好的光催化性能和应用潜力。
通过光催化过程，三氧化钨能够有效地分解有机污染物和无机污染物，使其转化为无害的物质，从而实现环境污染物的降解和净化。
本文将首先介绍三氧化钨的基本性质，包括其晶体结构、光学性质和电子结构等方面。
随后，将详细探讨离子光催化的原理，包括光生电荷分离、活性氧物种的生成以及光催化反应的动力学过程等内容。
通过了解离子光催化的机制和三氧化钨的特性，我们可以更好地理解和探索其在环境治理中的应用前景。
在结论部分，将重点探讨离子光催化在环境治理中的应用。
通过考察已有的相关研究成果和实际应用案例，我们可以评估离子光催化技术在环境治理领域中的效果和潜力。
同时，也将探讨三氧化钨作为光催化材料的潜在应用前景，包括其在废水处理、大气污染控制和可再生能源领域等方面的可能性。
总之，本文将系统地介绍三氧化钨离子光催化的基本原理和应用前景。
通过深入研究该领域的最新进展和探索，我们有望为环境治理提供一种高效、清洁和可持续的解决方案。
加深我们对离子光催化技术和三氧化钨材料的理解，有助于促进环境保护和可持续发展的实现。
文章结构部分的内容可以如下编写：1.2 文章结构本文共分为三个部分，即引言、正文和结论。
下面将对每个部分的内容进行介绍。
1.2.1 引言部分引言部分主要包括概述、文章结构和目的三个小节。
在概述中，将简要介绍三氧化钨离子光催化的研究背景和意义。
可以提到目前环境污染日益严重，对环境治理和资源利用提出了更高的要求，离子光催化作为一种新兴的技术被广泛应用于环境治理领域。
三氧化钨氧化钴光催化
三氧化钨氧化钴光催化三氧化钨和氧化钴光催化一、引言光催化是一种利用光能将有机污染物降解为无害物质的过程，其中三氧化钨（WO3）和氧化钴（Co3O4）是两种广泛用于光催化的材料。
近年来，随着环保意识的增强，光催化技术在污水处理、空气净化等领域的应用越来越受到关注。
本文将对三氧化钨和氧化钴的光催化性能进行综述，并探讨其在实际应用中的优缺点。
二、三氧化钨的光催化性能三氧化钨是一种宽带隙半导体材料，具有较高的光吸收系数和良好的化学稳定性。
在光催化过程中，三氧化钨能够将光能转化为化学能，促进有机污染物的降解。
研究表明，WO3在紫外光照射下能够有效降解有机染料、农药等污染物。
此外，通过掺杂、形貌控制等改性手段可以提高WO3的光催化活性。
三、氧化钴的光催化性能氧化钴是一种窄带隙半导体材料，在可见光照射下具有较好的光催化活性。
Co3O4可以有效地降解有机染料、硝基芳烃等有毒物质。
与其他光催化材料相比，Co3O4在可见光区域的响应范围更广，因此在太阳光下具有更好的应用前景。
此外，Co3O4还可以通过与金属离子复合、制备异质结等手段提高其光催化活性。
四、三氧化钨和氧化钴光催化的优缺点三氧化钨和氧化钴作为光催化材料具有各自的优缺点。
WO3具有较高的化学稳定性和较好的耐候性，但在太阳光下对有机污染物的降解效率较低。
Co3O4在可见光下具有较好的光催化活性，但在实际应用中易发生团聚现象，降低其光催化性能。
因此，针对这两种材料的不足之处，需要进一步开展改性研究，以提高其在太阳光下的光催化效果。
五、结论综上所述，三氧化钨和氧化钴作为光催化材料在降解有机污染物方面具有良好的应用前景。
为了实现更广泛的实际应用，需要进一步深入研究这两种材料的结构与性能关系，探索改性方法，提高其光催化活性。
同时，结合其他技术手段如电化学、生物技术等，可以拓展光催化技术的应用领域，为解决环境污染问题提供更多有效途径。
C掺杂WO_(3-x)的制备及其光解水活性研究
Ａ ａｉ ｓｈ 等首先通过理论计算证实 了非金属掺杂光催 化剂的可行性【；ｕ 等【 Ｓｎ １ ｏ ｌ ｌ 】 喷雾热解法以葡萄糖 利用 为碳源制备 了 Ｃ掺杂 ＷＯ 薄膜 ，发现 Ｃ掺杂在一
定程度上降低 了 ＷＯ 的禁带宽度 ，并明显提高 了 ，
ＷＯ 的光响应 电流 。
型能量散射 ｘ 射线光谱 （ Ｄ ） 一 Ｅ Ｓ 检测光催化剂的化 学组成及 Ｃ ＷＯ 的 Ｃ元素含量 ；采用北京普析通 — ， 用 Ｔ 一９１ Ｕ １０ 紫外可见分光光度计 （ ａＯ 为参 比标 ＢＳ 准 白板 ） 对样 品进行紫外可见漫反射光谱（ Ｒ ） Ｄ Ｓ 分 析。
第 ２ 卷第 ４ ５ 期 ２ｌ ０Ｏ年 ８月
１
文章 编号 ：０９０ ２（ １） —０７０ １０－６２ ００ ４０２－ ４ ２ ０
Ｃ 杂 Ｗ ｏ 的制备及其 光解水 活性研 究 掺
王 旋 Ｌ 郭 芹 ， ｚ ， 李耀 民 ｓ王 ， 晨 李文章 李 洁 ， ，
关键 词 ： 三氧化钨； 碳掺杂； 氧空位 ； 光解水
中图分类号 ：Ｑ２． ０４． Ｔ ４６ ：６３ ６ ８ ３
文献标识码 ： Ａ
０ 引
言
１ 实验部 分
将一定量钨酸和 Ｈｏ 混合后在 ４ ℃下搅拌形 ２： ０
作为重要的战略有色金属 ，钨资源的利用和高
附加值深加工意义重大。Ｗｏ 是常见 的光催化析氧 ３
（＿ １ 中南大学 有色金属资源化学教育部重点实验室， 南 长沙 ４ ０ ８ ； ． 阳铝镁设计研究 院， 宁 沈 阳 Ｉ００ ； 湖 １０ ３２ 沈 辽 １０ １ ３ ． 中南大学 材料科学与工程学院 ， 湖南 长沙 ４ ｏ ８ ） １ｏ ３
摘 要 ： 通过溶胶一 凝胶法制备了单斜 ｗ０ 及 ｃ掺杂ｗ０ ， ＳＭ、Ｒ 、Ｒ 、 Ｐ 等对样品进行了表征， 采用 Ｅ Ｘ Ｄ Ｄ Ｓｘ ｓ 考察
六方相三氧化钨纳米线的制备及其光催化性能研究
六方相三氧化钨纳米线的制备及其光催化性能研究杨娇;刘伟;智星;尹翔【摘要】以Na2WO4·2H2O和HCl为原料,K2C2O4和K2SO4分别作为结构导向剂,通过水热法在150℃下反应12 h,制备出六方相WO3纳米线.对比了结构导向对产物结构和形貌的影响,研究了WO3在紫外光照射下降解亚甲基蓝溶液的光催化活性.结果表明,以K2C2O4为结构导向时制备的WO3纳米线具有更高的比表面积和较好的光催化活性.%Hexagonal WO3 nanowires were synthesized by hydrothermal method using Na2WO4·2H2O and HC1 as raw materials,K2C2O4 and K2SO4 as structure-directing agents respectively. The hydrothermal reaction was conducted at 150℃ for 12 h. The effect of the structure-directing agents on the structures and properties of the products was investigated. The WO3 nanowires were studied by degradation of meth-ylene blue solution under ultraviolet irradiation. The results showed that the WO3 nanowires prepared with K2C2O4 as structure-directing agents exhibited higher photocatalytic activity, which is due to their larger BET surface areas.【期刊名称】《应用化工》【年(卷),期】2013(042)001【总页数】4页(P8-11)【关键词】六方相三氧化钨;纳米线;水热法;光催化活性【作者】杨娇;刘伟;智星;尹翔【作者单位】中南大学化学化工学院,湖南长沙410083;中南大学化学化工学院,湖南长沙410083;中南大学化学化工学院,湖南长沙410083;中南大学化学化工学院,湖南长沙410083【正文语种】中文【中图分类】O643.3近年来，一维纳米材料(如纳米线、纳米棒、纳米管、纳米带等)由于其自身所表现的特殊效应，越来越受到人们的关注［1-3］。
C掺杂WO_3_x_的制备及其光解水活性研究
第4期Βιβλιοθήκη 王 旋，等：C 掺杂 WO3-x 的制备及其光解水活性研究
29
a
a1：W6+4 f5/2
a2
a2：W6+4 f7/2 a1
b1：W5+4 f5/2
b2：W5+4 f7/2
WO3-x
吸 收[13-15]增 加 的 结 果 。
100 80
60 40
WO3-x C-WO3-x
反 射 率/%
I/cps
b1 b2
42 40 b
38 36 结 合 能 /eV
a1：W6+4 f5/2
a2
a2：W6+4 f7/2 a1
b1：W5+4 f5/2
b2：W5+4 f7/2
34 32 C-WO3-x
b1 b2
I/cps
42 40 38 36 34 32 结 合 能 /eV
图 5 WO3-x 和 C-WO3-x 的 W4 f 区域 XPS 拟合图 低至 94.16 %。
C
C C-WO3-x
C
WO3-x
14 18 22 26 30 34 2θ/（°）
图 2 WO3-x 和 C-WO3-x 的 XRD 图谱
第 25 卷
杂有利于单斜 WO3 晶体的生长， 因而出现大的晶 粒。 以上结果还表明，C 掺杂导致了一定程度的晶格 畸变，使 C-WO3-x中具有相对高的晶格缺陷，适量的 晶格缺陷将有助于提高光催化剂的催化活性。 2.2 WO3-x 和 C-WO3-x 的化学成分及元素形态
本文采用溶胶-凝胶法制备了 C 掺杂 WO3 粉体 （C -WO3-x）， 通 过 扫 描 电 镜 （SEM）、X - 射 线 衍 射 （XRD）、紫 外 可 见 漫 反 射 （DRS）、X-射 线 光 电 子 能 谱（XPS）等对粉体催化剂进行表征，并在以 Fe3+为牺 牲剂的催化剂悬浮液体系中测试其在紫外 （UV）和 可见光（VIS）照射下的光解水析氧活性。
三氧化钨光催化体系降解亚甲基蓝及反应级数的探讨
中图分类号 ： Ｘ ７ ０ ３
文献标 识码 ： Ａ
文章编号 ： １ ６ ７ １ ． ９ ９ ０ ５ ￣０ １ ４ ） ０ ８ － ０ ０ ５ ５ ． ０ ５
利用半导体材料光催化降解水 中污染物是 目前
比较热 门的研究课题之一 ， 光催化剂可 以在反应 中 产生具有强氧化能力的空穴 和羟基 自由基 ， 因而备
ｌ Ｏ Ｏ
１ 实验部分
１ ． １ 试剂 与 仪器
８ ０
６ ０
三 氧化 钨 （ 化学 纯 ） ， 亚 甲基 蓝 （ 分 析纯 ） 。
７ ２ ２ 分光光度计 ， 磁力搅拌器 ， 白炽灯。
１ ． ２ 实验 方法
４ ０
矮
２ Ｏ
取１ ０ ０ ｍ Ｌ一定浓度 的亚 甲基蓝溶液 于反应器 中， 称 取一 定 量 三 氧化 钨 ， 加 入适 量 Ｈ： ０ ， 放 置 于 磁 力搅拌器上 ， 用紫外灯照射进行光照反应。反应过 程中， 取样 、 离心分离 ， 取上清液在 ６ ６ ５ ｎ ｍ的波长下
２ 结果 与讨论
模拟废水 ， 加人光 受人们 的关注 。 三氧化钨是一种半导体光催化材料 ， 催化剂和 Ｈ ０ ， ， 在光照射下 ， 分别改变反应时间、 催 １ ９ ８ ５ 年， 文学洙 ［ １ 首先报道 了以三氧化钨为光催化 化剂用量 、 Ｉ － Ｉ ０ ２ 用量 、 模拟废水的初始浓度 、 ｐ Ｉ － Ｉ 值， 剂处理 印染废水的实验 。但利用三氧化钨作为光催 进行模拟废水 的光催化氧化处理 ， 讨论这些 因素对 化剂 ， 用于有机污染物的降解 ， 过去报道仍然较少 。 光催化反应 的影响。 我 国钨的蕴藏量均居世界前列 ， 其研究应用前景十 ２ ． １ ． １ 光催 化剂 用量 对光 催化 效果 的影 响 分 广 阔。 在 反应 体系 中加入不 同量的三氧化钨光催化 亚 甲基蓝作为一种碱性染料 ， 在 印染废水 中颇 剂， 并 加入 Ｈ ： ０ ： ， 在紫外灯照射 下反应 ， 每５ ａ ｒ ｉ ｎ 取 具代表性 ， 常作为光催化 降解 中的模型反应 ｆ ２ 】 。利 样１ 次， 测其吸光度 ， 计算亚甲基蓝模拟废水 的浓度 用三氧化钨作为光催化剂 ， 探讨其在 降解亚 甲基 蓝 百分 比。降解过程中浓度百分 比与时间的关系曲线 模拟废水过程 中的影响因素 ［ ３ 】 ， 并通过动力学研究 如图 １ 所示 。 为反应 器 的选 型 和放 大提 供理 论基 础 。
低量La 3+掺杂WO3的表征及其光解水催化性能的研究
ｔ ｌ （ ・ｈ ，ｗｈ ｃ ｓ１ ８ｔｍｅ ｆｔ ａ ｆｐ ｒ ０３ ￣ ｍｏ ／ Ｌ ） ｉｈ ｗａ ． ｉ ｓｏ ｈ ｔｏ ｕ ｅＷ ．
Ｋｅ ｗｏ ｄ ｙ ｒ ｓ：Ｌａ ｈ ｕｍ ；Ｔｕ ｓ ｅ ｔ ｉ ｉ ｎｔ ａｎ ｎｇ ｔ ｎ ｒｏｘ ｄｅ；Ｐｈ ｏｃ ｔ １ ｔｃ ｗａ ｅ ｐ ｉｔｎｇ；Ｏｘｙ ｎ ｏｔ ａ ａ ｙ ｉ ｔ ｒｓ ｌｔ ｉ ｇｅ
射 下光 催 化 分解 水 制 氧 的 试 验 中 ，． ５ Ｌ 。 杂 ＷＯ。的光 催 化 析 氧 速 率 高 达 １ ７￣ ｌ（ ・ ）是 ００ ％ ａ 掺 ７ ｍｏ／ Ｌ ｈ ， 未 掺 杂 ｗ０ ａ的 １８ 。 ．倍
关 键 词 ： ； 氧 化钨 ； 解 水 ； 气 镧 三 光 氧 中 图分 类 号 ： ６ ３ ０ ４ 文献标识码 ： Ａ 文 章 编 号 ：０ ７ ７４ （０ ８ Ｏ ０ ８ ０ １Ｏ — ５ ５ ２０ ） １ ４— ４
ＤＵ ｕ － ｉ ｇ，ＬＩＪｅ Ｊ ｎＰｎ ｉ ，ＣＨ ＥＮ — ａ ＱｉＹｕ ｎ，ＺＨＡ０ ｕ ｎ Ｊ ａ
（ ｌ ｇ ｆＣｈｅ ｓｒ ｎ Ｃｏｌ ｅｏ ｅ ｍｉｔｙａ ｄ Ｃｈｅ ｃ ｌＥｎｇｎ ｅ ｉｇ，Ｃｅ ｔａ ｏ ｔ ｉｅ ｓｔ ｍｉａ ｉｅ ｒｎ ｎ ｒ ｌＳ ｕ ｈ Ｕｎｖ ｒｉｙ，Ｃｈａ ｇｓ ａ４１ ０８ Ｃｈｎ ） ｎ ｈ ０ ３， ｉ ａ
Ｃｈ ｒ ｃ ｅ ｉ ａ ｉ ｎ ａ ｄ Ｐｈ０ ０ ａ ａ ｙ ｉ ｏ ｅ ｔｅ ｏ ａ ａ ｔ ｒ ｚ ｔｏ ｎ ｔ ｃ ｔ ｌ ｔｃ Ｐｒ ｐ ｒ ｉｓ ｆ ｒ Ｐｈ０ ０ ａ ａ ｙ ｉ ｔ ｃ ｔ ｌ ｔｃ Ｗ ａ ｅ ｌｔｉ ｆ Ｌｏ Ａｍ ｏ ｎ 抖 Ｄｏ ｅ Ｏ３ ｔ ｒ Ｓｐ ｉ ｔｎｇ ｏ ｗ ｕ ｔＬａ ｐ ｄＷ
三氧化钨光催化体系降解亚甲基蓝及反应级数的探讨
三氧化钨光催化体系降解亚甲基蓝及反应级数的探讨高红;王学同【期刊名称】《化工技术与开发》【年(卷),期】2014(000)008【摘要】三氧化钨是一种半导体光催化剂，可用于降解水中污染物。
在用三氧化钨作为光催化剂处理亚甲基蓝模拟废水的反应中，通过单因素和正交实验，确定最佳处理条件为三氧化钨用量50mg、反应时间40min、H2O2用量4mL。
并通过动力学研究，确定在不同三氧化钨光催化反应体系中的降解反应级数。
%Tungsten trioxide was a semiconductor photocatalyst which could be used for degradation of pollutants in water. In the treatment of methylene blue simulation wastewater, tungsten oxide was applied as a photocatalyst, and through the single factor and orthogonal experiments, the optimal processing conditions were obtained:tungsten trioxide content 50mg, reaction time 40min, the dosage of H2O2 4mL. By the kinetics study, the degradation reaction order was determined in different tungsten oxide photocatalysis reaction system.【总页数】5页(P55-59)【作者】高红;王学同【作者单位】天津现代职业技术学院，天津 300350;天津市津南区环保局，天津300350【正文语种】中文【中图分类】X703【相关文献】1.离子交换法制备磷掺杂三氧化钨及光催化降解亚甲基蓝性能 [J], 刘东妮;张文治;杨思涵;张志华;齐晨宇;董国华;于海霞;曹艳珍2.TiO_2/H_2O_2光催化体系降解亚甲基蓝的动力学研究 [J], 丁敦煌;关鲁雄;杨松青;李伶慧3.异质结构LaFeO<sub>3</sub>-g/C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>光催化剂的合成及光催化降解亚甲基蓝的活性研究 [J], 刘浩;徐科;唐必剑;秦超;孙孝红;乐柯宁;郑芳芳;翁明金;谢齐霞4.F掺杂膨润土负载PbSnO_3复合光催化剂的制备及对亚甲基蓝的光催化降解性能 [J], 王红军;吕晨媛;方旭旭;华香;杨术明5.H_2O_2增效Ag^+掺杂ZnO纳米晶光催化体系降解亚甲基蓝 [J], 刘宏芳;江德顺;唐和清;张崎因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。