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(完整版)集成电路设计复习题及解答

(完整版)集成电路设计复习题及解答

集成电路设计复习题绪论1.画出集成电路设计与制造的主要流程框架。

2.集成电路分类情况如何?集成电路设计1.层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次2.什么是集成电路设计?集成电路设计流程。

(三个设计步骤:系统功能设计逻辑和电路设计版图设计)3.模拟电路和数字电路设计各自的特点和流程4.版图验证和检查包括哪些内容?如何实现?5.版图设计规则的概念,主要内容以及表示方法。

为什么需要指定版图设计规则?6.集成电路设计方法分类? (全定制、半定制、PLD)7.标准单元/ 门阵列的概念,优点/缺点,设计流程8.PLD设计方法的特点,FPGA/CPLD的概念9.试述门阵列和标准单元设计方法的概念和它们之间的异同点。

10.标准单元库中的单元的主要描述形式有哪些?分别在IC设计的什么阶段应用?11.集成电路的可测性设计是指什么?Soc设计复习题1. 什么是SoC?2. SoC设计的发展趋势及面临的挑战?3. SoC设计的特点?4. SoC设计与传统的ASIC设计最大的不同是什么?5. 什么是软硬件协同设计?6. 常用的可测性设计方法有哪些?7. IP 的基本概念和IP分类8. 什么是可综合RTL代码?9. 么是同步电路,什么是异步电路,各有什么特点?10. 逻辑综合的概念。

11. 什么是触发器的建立时间( Setup Time ),试画图进行说明。

12. 什么是触发器的保持时间( Hold Time ),试画图进行说明。

13. 什么是验证,什么是测试,两者有何区别?14. 试画图简要说明扫描测试原理。

绪论1、画出集成电路设计与制造的主要流程框架。

2、集成电路分类情况如何?双极型数字模拟混合电路按应用领域分类集成电路设计1.层次化、结构化设计概念,集成电路设计域和设计层次分层分级设计和模块化设计.将一个复杂的集成电路系统的设计问题分解为复杂性较低的设计级别,集成电路MSI按规模分LSI 类VLSIULSIGSI数字电按功能分类模拟电路组合逻辑电路路时序逻辑电路路线性电路路非线性电路单片集成按结构分类混合集成SSIPMOS电M路OS 型NMOSCMOSB iMOSB iMOS 型B iCMOS电厚路膜混合集成电路薄路膜混合集成电路这个级别可以再分解到复杂性更低的设计级别;这样的分解一直继续到使最终的设计级别的复杂性足够低,也就是说,能相当容易地由这一级设计出的单元逐级组织起复杂的系统。

高考通用技术专题29 555集成电路及其应用二(选择题)练习

高考通用技术专题29 555集成电路及其应用二(选择题)练习

专题29555集成电路及其应用二(选择题)【基础巩固篇】1.如图所示是小明为学校自习室设计的门控灯电路,当自习室内光线暗时,门打开灯L点亮,当光线亮时,不管开不开门灯L都不会点亮。

G1为常开型干簧管,门打开时干簧管断开,关闭时闭合,555芯片使用5脚时输入输出特性如图所示。

下列关于该电路的说法中不正确...的是()555芯片使用5脚时特性A.要使灯L在光线还没有很暗时就能通过开门控制开灯,则可以调小R4实现控制B.光线暗时,开门灯L无法点亮,可能是由于R6开路C.灯L点亮后,适当调小R1,A点电位基本不变D.按下S1,可以将灯L关闭2.如图所示为小明设计的负载保护模拟电路,当检测到流经负载的电流值超过上限值时,负载被断开,故障指示灯V2亮。

其中NE555集成电路5脚电位定义为Vct。

根据电路图及描述,下列对该电路分析正确的是()555逻辑功能A.整个工作过程中,V3不可能工作在放大状态B.电路断开负载后,若电流恢复正常,负载会自动恢复原工作状态C.R5虚焊,则故障指示灯V2始终无法发光D.将R p触头下移,允许流过负载的上限电流增大3.如图所示为小明设计的水温控制电路。

为了实现将水温控制在60 ℃~70 ℃之间,小明先接通开关S,将R p1调至最大,R p2调至最小,接下来的操作合理的是()A.将R t放入60 ℃水中,调小R p1直到V1亮;将水升温到70 ℃,调大R p2直到V2亮B.将R t放入60 ℃水中,调小R p2直到V1亮;将水升温到70 ℃,调大R p1直到V2亮C.将R t放入70 ℃水中,调大R p1直到V2亮;将水降温到60 ℃,调小R p2直到V1亮D.将R t放入70 ℃水中,调大R p2直到V2亮;将水降温到60 ℃,调小R p1直到V 1亮4.如图所示是小明设计的鱼缸温度区间控制电路。

下列分析正确的是( )A.R t 应采用正温度系数热敏电阻B.设置上下限温度时,应先调上限,再调下限C.调小R p3,下限温度可能升高D.若V 2短路,加热器可能一直不加热5.如图所示是小明设计的光控电路,当光线过亮时报警。

集成电路版图设计_实验四习题

集成电路版图设计_实验四习题

集成电路版图设计_实验四习题
实验四:
1、新建版图文件后需要进行栅格设置,栅格设置的路径是: ;
2、调用库中的NMOS器件,设置Length= ;Total width= ;Gate
connection= ;bodytie Type= , 方向为;
3、调用库中的PMOS器件,设置Length= ;Total width= ;Gate
connection= ;bodytie Type= , 方向为;
4、采用金属层和工具绘制电源VDD线和地线GND;
5、采用金属层连接PMOS和NMOS的栅极;
6、拉伸线条的命令是,快捷键是;
7、移动元器件的命令是,快捷键是;
8、缩小视图的命令是,快捷键是;
9、添加标尺的命令是,快捷键是;
10、Creat label采用的图层名称是;
10、对版图做DRC检查,命令的路径是;
11、说明DRC检查需要做哪些设置?gpdk090DRC规则加载的路径是什么?
12、DRC通常会做哪些规则检查?
13、LVS如何设置?。

1+X集成电路理论练习题库含参考答案

1+X集成电路理论练习题库含参考答案

1+X集成电路理论练习题库含参考答案一、单选题(共39题,每题1分,共39分)1.进行芯片检测工艺的芯片外观检查时,将工作台整理干净后,根据物流提供的()到待检查品货架上领取待外检的芯片。

A、中转箱号B、晶圆测试随件单C、芯片名称D、芯片测试随件单正确答案:A2.在Altium Designer软件设计完电路图后,设计制作样品电路需要用到的文件是()。

A、BOMB、PCBC、ICTD、Gerber正确答案:A3.平移式分选机设备分选完成后,进入( )环节。

A、上料B、测试C、外观检查D、真空入库正确答案:C答案解析:平移式分选机设备芯片检测工艺的操作步骤一般为:上料→测试→分选→外观检查→真空包装。

4.晶圆检测工艺中,进行晶圆烘烤时,温度一般设置在()℃。

A、120B、110C、150D、130正确答案:A5.封装工艺的电镀工序中,完成前期的清洗后,下一步操作是()。

A、高温退火B、装料C、后期清洗D、电镀正确答案:D6.使用转塔式分选设备进行芯片测试时,其测试环节的流程正确的是()。

A、芯片分选→测前光检→测后光检→测试B、测前光检→测后光检→测试→芯片分选C、测前光检→测试→测后光检→芯片分选D、测前光检→测后光检→芯片分选→测试正确答案:C7.在原理图编辑器内,执行Tools→Footprint Manager命令,显示()。

A、工程变更命令对话框B、Messages窗口C、Navigator面板D、封装管理器检查对话框正确答案:D8.减薄工艺的正确流程是()。

A、清洗→压片→原始厚度测量→上蜡粘片→二次厚度测量→抛光→减薄→去蜡→清洗B、清洗→上蜡粘片→原始厚度测量→压片→二次厚度测量→抛光→减薄→去蜡→清洗C、清洗→压片→原始厚度测量→上蜡粘片→二次厚度测量→减薄→抛光→去蜡→清洗D、清洗→原始厚度测量→上蜡粘片→压片→二次厚度测量→减薄→抛光→去蜡→清洗正确答案:D9.封装按材料分一般可分为塑料封装、()和陶瓷封装等。

1+X集成电路理论练习题库(含答案)

1+X集成电路理论练习题库(含答案)

1+X集成电路理论练习题库(含答案)一、单选题(共40题,每题1分,共40分)1、当芯片移动到气轨( )时,旋转台吸嘴吸取芯片。

A、首端B、中端C、末端D、任意位置正确答案:C答案解析:当芯片移动到气轨末端时,旋转台吸嘴的升降电机到达芯片正上方,吸嘴产生一定负压将该芯片吸起,升降电机上移并后退进入旋转台,上料完成。

2、{在扎针测试时,需要记录测试结果,根据以下入库晶圆测试随件单的信息,如果刚测完片号为5的晶圆,那么下列说法正确的是:( )。

}A、TOTAL=5968,PASS=5788B、TOTAL=6000,PASS=5820C、T0TAL=5820,FAIL=180D、TOTAL=5788,FAIL=212正确答案:B答案解析:入库晶圆测试随件单中的合格数指的是除去测试不合格及外观不合格的合格数量,因此,总数TOTAL=“合格数”+“测试不良数”+“外观剔除数”,测试合格数PASS=“合格数”+“外观剔除数”,测试不合格数FAIL=“测试不良数”。

所以对于片号为5的晶圆,TOTAL=6000,PASS=5820,FAIL=180。

3、在光刻过程中,完成涂胶后需要进行质量评估,以下不属于涂胶质量评估时,光刻胶覆盖硅片的质量缺陷的是()。

A、光刻胶的回溅B、光刻胶中有针孔C、光刻胶起皮D、光刻胶脱落正确答案:D4、低压化学气相淀积的英文缩写是()。

A、APCVDB、PECVDC、LPCVDD、HDPCVD正确答案:C答案解析:APCVD是常压化学气相淀积;PECVD是等离子体增强型化学气相淀积;LPCVD是低压化学气相淀积;HDPCVD是高密度等离子体化学气相淀积。

5、清洁车间内的墙面时要求使用()进行清洁。

A、麻布B、不掉屑餐巾纸C、无尘布D、棉正确答案:C答案解析:一周擦一次墙面,清洁车间内的墙时应使用无尘布。

无尘布由100%聚酯纤维双面编织而成,表面柔软,易于擦拭敏感表面,摩擦不脱纤维,具有良好的吸水性及清洁效率。

高考通用技术专题30 555集成电路及其应用一(非选择题)练习

高考通用技术专题30 555集成电路及其应用一(非选择题)练习

专题30555集成电路及其应用一(非选择题)【基础巩固篇】1.小明设计了如图a所示的水箱水温控制电路,能将水箱水温控制在35 ℃~40 ℃,且具有低水位保护功能。

R t1和R t2是规格完全相同的热敏电阻;IC1为电压比较器,当V+>V-时输出高电平,当V+<V-时输出低电平;IC2为555集成电路,其功能表如下表所示。

请分析电路并完成以下小题:(1)下列关于电路中元器件V1~V7的说法中,正确的是________(在下列选项中选择合适的一项,将序号填入“________”处);A.三极管V1和V2在电路中都是开关的作用B.发光二极管V3、V4和V5不可能同时发光C.二极管V6和V7在电路中都有保护其他电子元件的作用,且主要保护的是同一对象(2)若不计水的电阻,要调整低水位保护对应的水位高度,可行的方法是________(在A.调节R p3和R p4;B.调节R p5;C.调节水位探头位置中选择合适的一项,将序号填入“________”处);(3)当上限温度和下限温度调试完成后,电路正常工作时,IC2的2脚和6脚的电位高低关系是________(在A.2脚一定高于6脚;B.6脚一定高于2脚;C.一定相等;D.条件不足,无法确定中选择合适的一项,将序号填入“________”处);(4)在电路搭接完成后的调试过程中,小明不慎将555集成电路损坏,现用逻辑门电路重新设计了部分电路(低水位保护部分电路和热敏电阻类型等均不作调整)。

为保证实现与原电路一致的功能,请你从教材中学过的逻辑门中选择一个符合控制要求的,将逻辑符号画在图b虚线框1中,帮小明将电路补充完整;(5)小明认为在图c虚线框2中使用74LS02或非门集成门电路中的3个逻辑门进行线路连接并进行电路功能调试,也能实现上题中部分电路一样的功能(低水位保护部分电路和热敏电阻类型等均不作调整)。

在沿用第(4)小题虚线框1中逻辑门的前提下,请将虚线框2中所缺线条连接完整。

高考通用技术专题31 555集成电路及其应用二(非选择题)练习

高考通用技术专题31 555集成电路及其应用二(非选择题)练习

专题31555集成电路及其应用二(非选择题)【基础巩固篇】1.如图a所示是小明设计的蔬菜大棚土壤湿度控制电路,当水箱水位在b以上时且土壤湿度低于下限湿度,继电器J1吸合,电机M1启动将水箱中的水往土壤浇灌,当湿度高于上限湿度时,继电器J1释放。

水箱水位在b以下时,电机M1停止工作,继电器J2吸合,电机M2启动,将水池中的水抽入水箱中,水箱水位达到a时,继电器J2释放,电机M2停止工作。

请根据要求完成下列各题。

(1)小明发现当水箱水位在b以上时,无论湿度高低,电机M1无法启动工作,下列故障原因中可能的是(A.二极管VD1虚焊;B.电阻R1阻值太大;C.三极管VT1击穿);(2)若要使土壤湿度上限不变,下限调低,合理的措施是(A.先调大R p1,再调小R p4;B.先调小R p1,再调大R p4;C.先调大R p2,再调大R p4);(3)请用一块四二输入与非门集成门电路设计虚线框1中的逻辑电路,实现电路功能;(4)使用过程中比较器损坏了,小明准备用555芯片设计电路来实现控制功能。

请在小明所设计的电路图b的虚线框2中将电路连线图补画完整。

图a图b2.如图a所示是小明设计的自动开、关窗电路。

其中RS为湿敏电阻,下雨或光线暗时电机M正转(电流从“+”到“-”),窗户关闭;无雨且光线亮时,电机M反转(电流从“-”到“+”),窗户打开。

S1、S2为常闭开关,窗户完全关闭时S1断开、完全开启时S2断开;IC1为电压比较器,V+>V-时输出高电平,V+<V-时输出低电平。

555芯片5脚的电位用Vct表示。

请完成以下任务:555功能表2脚6脚4脚3脚>12Vct>Vct高电平低电平>12Vct<Vct高电平保持<12Vct任意高电平高电平任意任意低电平低电平(1)下雨时比较器输出(在 A.高电平;B.低电平中选择合适的选项,将序号填入“”处);(2)适当调大R p1阻值,下雨时的湿度设定值将会(在A.变大;B.不变;C.变小中选择合适的选项,将序号填入“”处);适当调大R p3阻值,光照度的设定值将会(在A.变大;B.不变;C.变小中选择合适的选项,将序号填入“”处);(3)请选用一个合适的逻辑门,补全虚线框1中电路;(4)小明发现电机M无法正常工作,经检测,是三极管V2损坏,现准备用2个NPN型三极管和1个电阻来替代原来的三极管。

《集成电路设计(第2版)》习题答案10-12章

《集成电路设计(第2版)》习题答案10-12章
尝试编写一个时钟发生器程序。 时钟发生器 CLKGEN 利用外来时钟信号 clk 生成一系列时钟信号 clk1,alu_ena,fench,并送 往 CPU 的其他部件。其中,fetch 是控制信号,clk 的 8 分频信号。当 fetch 高电平时,使 clk 能触发 CPU 控制开始执行一条指令;同时 fetch 信号还将 CLK1 CLKGEN 控制地址多路器输出指令地址和数据地址。Clk 信号用作 CLK ALU_CLK 指令寄存器、累加器、状态控制器的时钟信号。Alu_ena RESET FETCH 则用于控制算术逻辑运算单元的操作。 图是时钟发生器的 原理图。 ‘timescale 1ns/1ns module clk_gen(clk,reset,fetch,alu_ena); input clk,reset; output fetch,aluena; wire clk,reset; reg[7:0] state; parameter S1=8’b00000001; S2=8’b00000010; S3=8’b00000100; S4=8’b00001000; S5=8’b00010000; S6=8’b00100000; S7=8’b01000000; S8=8’b10000000; always @(posedge clk) if(reset) begin fetch<=0; alu_ena<=0; state<=idle; end else begin case(state) S1: begin alu_ena<=1; state<=S2; end S2: begin alu_ena<=0; state<=S3;
图10.40 反相器链驱动结构 4.列出CMOS存储器的分类和各自的特点。 分类: 半导体存储器按数据存取方式的不同可分为随机存储器 (RAM) 和只读存储器 (ROM) . 基 于单个数据存储单元的工作原理,RAM 主要分为两大类:动态存储器(DRAM)和静态存储器 (SRAM)。 而在ROM中根据数据存储(写入数据)方式的不同, 可分为掩膜ROM 和可编ROM(PROM)。 可编程ROM 又可进一步分为熔丝型ROM、 可擦除PROM(EPROM)、 电可擦除PROM(EEPROM)和闪存 (Flash),下图概括了存储器的分类。
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集成电路设计练习题2009

1、说明一个半导体集成电路成本的组成。
2、简述CMOS工艺流程。简述CMOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。
3、描述你对集成电路工艺的认识。列举几种集成电路典型工艺。工艺上常提到0.25,0.18指的是什
么?简述CMOS工艺技术的发展趋势。
4、你知道的集成电路设计的表达方式有哪几种?
5、现有一用户需要一种集成电路产品,要求该产品能够实现如下功能:y=lnx 其中,x为4位二进
制整数输入信号。 y为二进制小数输出,要求保留两位小数。电源电压为3~5v 假设公司接到该项
目后,交由你来负责该产品的设计,试讨论该产品的设计全程。
6、请谈谈对一个系统设计的总体思路。针对这个思路,你觉得应该具备哪些方面的知识?
7、描述你对集成电路设计流程的认识。
8、集成电路前端设计流程,后端设计流程,相关的工具。
9、从RTL synthesis到tape out之间的设计flow,并列出其中各步使用的tool.
10、简述FPGA等可编程逻辑器件设计流程。
11、简述半定制数字电路的设计流程。
12、简要说明并比较数字集成电路几种不同的实现方法。
13、什么是集成电路的设计规则。
14、同步电路和异步电路的区别是什么?
15、画出CMOS电路的晶体管级电路图,实现Y=AB+C(D+E)
16、在CMOS电路中,要有一个单管作为开关管精确传递模拟低电平,这个单管你会用P管还是N
管,为什么?
17、硅栅COMS工艺中N阱中做的是P管还是N管,N阱的阱电位的连接有什么要求?
18、名词解释:VLSI, CMOS, EDA, VHDL, DRC, LVS, DFT, STA
19、画出CMOS与非门的电路,并画出波形图简述其功能。
20、latch与register的区别,为什么现在多用register。行为级描述中latch如何产生的。
21、FPGA和ASIC的概念,他们的区别。
22、Please explain how we describe the resistance in semiconductor. Compare the resistance of a metal,
poly and diffusion in traditional CMOS process.(威盛笔试题circuit design-beijing-03.11.09)
23、Please show the CMOS inverter schematic, layout and its cross section with P-well process. Plot its
transfer curve (Vout-Vin). And also explain the operation region of PMOS and NMOS for each segment of
the transfer curve?
24、Please draw the transistor level schematic of a CMOS 2 input AND gate and explain which input has
faster response for output rising edge.(less delay time)。
25、To design a CMOS inverter with balance rise and fall time, please define the ration of channel width
of PMOS and NMOS and explain?
26、为什么一个标准的倒相器中P管的宽长比要比N管的宽长比大?
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27、画出CMOS晶体管的CROSS-OVER图(应该是纵剖面图),给出所有可能的传输特性和转移特

性。(Infineon笔试试题)
28、目前集成电路产业发展到IP/Soc阶段,你是怎么理解IP复用技术的?
29、可编程逻辑器件在现代电子设计中越来越重要,请问:a) 你所知道的可编程逻辑器件有哪些?
b) 试用VHDL或VERILOG描述8位D触发器逻辑。
30、评价数字集成电路设计质量的指标有哪些?他们分别用什么来表示(或衡量)?
31、你认为目前数字集成电路设计中亟待解决的问题有哪些?为什么?
32、MOSFET本征寄生电容的来源是什么。计算一个具有以下参数的NMOS管零偏置时所有相关电
容的值。
33、特征尺寸的不断缩小对MOS管的工作特点和性质以及间接的对数字电路设计指标等有什么影
响。
34、工艺尺寸的缩小对互连线有什么影响?
35、集成电路的导线引哪些寄生参数效应,他们对电路的特性有什么影响?
36、叙述静态CMOS的重要特性。
37、降低电源电压对CMOS管稳定性有何影响。
38、推导反相器一阶传播延时的表达式(一阶分析),说明减小一个门的传播延时的方法。
39、讨论晶体管尺寸与能耗之间的关系。
40、
41、对于由N个反相器组成的具有固定输入和输出电容的反相器链,为使通过反相器链的延时最小,
如何确定反向器链的尺寸及级数。
42、
43、CMOS电路的功耗与哪些因素有关,如何降低电路的功耗?
44、
45、如何降低大扇入电路的延时?
46、
47、逻辑门的动态功耗可以通过减小它的实际电容和开关活动性来降低,降低开关活动性的设计技
术有哪些?
48、
49、动态逻辑门有哪些特性?
50、时序逻辑电路(锁存器和寄存器)有静态和动态两类,试对这两类电路进行比较。
51、流水线是优化时序电路的一种重要方法,NORA-CMOS逻辑形式的流水线结构有哪些特性。
52、一般数字信号处理器由哪些模块构成,对各模块进行简要说明。
53、说明模拟和验证的区别。
54、
55、什么是Setup 和Holdup时间?setup和holdup时间,区别
56、解释setup time和hold time的定义和在时钟信号延迟时的变化。
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57、解释setup和hold time violation,画图说明,并说明解决办法。

58、如何解决亚稳态。亚稳态是指触发器无法在某个规定时间段内达到一个可确认的状态。当一个
触发器进入亚稳态时,既无法预测该单元的输出电平,也无法预测何时输出才能稳定在某个正确的
电平上。在这个稳定期间,触发器输出一些中间级电平,或者可能处于振荡状态,并且这种无用的
输出电平可以沿信号通道上的各个触发器级联式传播下去。
59、时钟周期为T,触发器D1的建立时间最大为T1max,最小为T1min。组合逻辑电路最大延迟为
T2max,最小为T2min。问触发器D2的建立时间T3和保持时间应满足什么条件。
60、给出某个一般时序电路的图,有Tsetup, Tdelay, Tck->q,还有clock的delay, 写出决定最大时钟的
因素,同时给出表达式。
61、给出一个门级的图,又给了各个门的传输延时,问关键路径是什么,还问给出输入,使得输出
依赖于关键路径。
62、
63、CMOS单元负载较大的电容时,只有提高W,这样会使W*L增加,相对前级又时一个大电容,
如何解决这一矛盾?
64、
65、在设计数字处理器IC时可采用哪些方法或技术以降低数据通路部分的功耗。
66、
67、为什么数字处理器IC中数据通路常常组织成位片式结构?
68、数字处理器IC中加法器对计算结构的性能有重要的影响,为提高多位二进制加法器的运算速
度,可以采用哪些方法或技术?
69、
70、如图,已知时序参数:寄存器最小延时(tc-q,cd)和最大传播延时(tc-q),寄存器的建立时间
(tsetup)和保持时间(thold),组合逻辑的最小延
时(tlogic,cd)和最大延时(tlogic),时钟CLK1
和CLK2上升沿相对于全局参考时钟的位置tclk1
和tclk2。时钟偏差(δ)和时钟抖动(tjitter)。求:
不考虑时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时
间和保持时间要求的时序约束表达式,以及考虑
时钟偏差和时钟抖动时满足寄存器建立时间和保持时间要求的时序约束表达式。
71、时钟偏差和时钟抖动是如何产生的,哪些因素可以造成时钟偏差,哪些可造成时钟抖动。减少
时钟偏差和抖动的设计技术有哪些?

R1DQCombinationalLogicInCLKtCLK1R2
DQ

t
CLK2

tc-qtc-q,cdtsu, tholdt
logic

t
logic,cd
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2
4
3
Power Supply

Interconnect

5
Temperature

6
Capacitive Load

7
Coupling to Adjacent Lines

1
Clock Generation

Devices

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