材料电阻率的测量(四探针法)

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材料物理性能实验六四探针法测半导体电阻率

材料物理性能实验六四探针法测半导体电阻率

材料物理性能实验六四探针法测半导体电阻率引言:材料的电阻率是衡量材料导电性能的重要指标之一、在半导体材料中,由于带电载流子的特殊特性,其电阻率与探测方法有一定的关联。

因此,对于半导体材料的电阻率测试与分析是十分关键的。

实验目的:通过四探针法测量半导体样品的电阻率,分析半导体电阻率的特点。

实验器材与材料:1.半导体样品2.四探针测试仪3.电源4.万用表5.连接线实验步骤:1.将四探针测试仪的四个探针插入半导体样品的表面,探针之间应呈正方形或矩形排列,并保持一定的间距。

2.打开四探针测试仪,选择合适的电流和电压范围,并进行零点校准。

3.调节电源,使电流通过半导体样品。

4.采集电压和电流的数值,并记录下来。

5.换一个电流方向,重复步骤46.将采集到的数据带入电阻率的计算公式,并计算出半导体样品的电阻率。

7.执行多次实验,取平均值得到更准确的结果。

数据处理:根据步骤6,将采集到的电压和电流数值带入下面的公式计算半导体样品的电阻率:ρ=(V*a)/(I*l)其中,ρ为电阻率,V为电压,I为电流,a为电流方向上的电流距离,l为垂直电流方向上的电流距离。

讨论与分析:通过实验测量得到的半导体样品的电阻率与其物理性质有关。

半导体的电阻率通常较高,且受温度的影响较大。

在常温下,半导体的电阻率通常较大,因为带电载流子在晶体内处于散乱运动的状态,导致电阻增大。

当温度升高时,带电载流子的能量增大,散射减少,电阻率减小。

此外,不同类型的半导体(n型或p型)其电阻率也有所不同。

实验注意事项:1.进行四探针法测量时,应保持探针与半导体样品的接触良好,防止有氧化层或其他杂质影响测量结果。

2.在调节电流和电压范围时,应注意不要超过半导体样品所能承受的最大值,以免损坏样品。

3.进行多次实验取平均值时,应尽量保持实验条件的一致性,以获得准确的结果。

结论:通过实验测量得到的半导体样品电阻率可用于分析半导体的导电特性。

半导体的电阻率通常较高且温度敏感。

四探针法测量电阻率

四探针法测量电阻率
实验二 四探针法测量电阻率
一、引言 电阻率是反映半导体材料导电性能的重要参数之一.虽然测量电阻率的方法很多, 但由于四探针法设备简单、操作方便、精确度高、测量范围广,而且对样品形状无严 格要求,不仅能测量大块材料的电阻率,也能测量异形层、扩散层、离子注入层及外 延层的电阻率,因此在科学研究及实际生产中得到广泛利用。 本实验是用四探针法测量硅单晶材料的电阻率及 pn 结扩散层的方块电阻。通过 实验,掌握四探针法测量电阻率的基本原理和方法以及对具有各种几何形状样品的修 正,并了解影响测量结果的各种因素。 二、原理 1、 四探针法测量单晶材料的电阻率 最常用的四探针法是将四根金属探针的针尖排在同一直线上的直线型四探针法,如 图 2.1 所示。当四根探针同时压在一块相对于探针间距可视为半无穷大的半导体平坦表 面上时,如果探针接触处的材料是均匀的,并可忽略电流在探针处的少子注入,则当电 流 I 由探针流入样品时,可视为点电流源,在半无穷大的均匀样品中所产生的电力线具 有球面对称性,即等势面为一系列以点电流源为中心的半球面。样品中距离点电源 r 处 的电流密度 j,电场ε和电位 V 分别为
0
式中 q 为电子电荷,u 为扩散层中多数载流子的迁移率。因此,可引入扩散层平均电阻 率 ,可以证明,
R X j C 0
三、实验装置
V23 X j ............(15) I
实验装置主要由三部分组成:四探针头、电流调节装置、电压测试仪。 1、 四探针头 四根探针头要等距离地排列在一直线上,探针间距要固定(通常约为 1mm 左右) , 游移度要小。探针头地曲率半径约为 50um 左右,探针之间的电绝缘性能要好。为了 使探针和样品形成较好的欧姆接触,要求探针与待测材料有较低的接触电势差,而且 探针和样品之间要加一定的压力(每根探针压力为 100-200g) 。因此,探针要用导电 性能好的硬质、耐磨金属制成,通常采用钨、碳化钨、锇铱合金、合金钢等。 2、 电流调节装置 四探针法的测试电路如图 2.2 所示。

四探针法导电材料电导率电阻率的测量

四探针法导电材料电导率电阻率的测量

四探针法导电材料电导率电阻率的测量
一、目的要求
1.了解材料的电阻率、电导率的测量方法
2. 掌握材料电导率与电阻率的关系
3.加深理解影响材料导电性能的因素
二、基本原理
欧姆定律
式中R为导体的电阻,L、S分别为导体的长度和横截面积;ρ为导体的电阻率,电阻率与材料本质有关。

电阻率与电导率关系为
σ的单位为西门子每米S/m。

电性能的测量主要是测量材料的电导率σ及电阻率ρ。

操作过程:四根金属探针排成一直线,以1红、2黄、3蓝、4绿、的顺序连接电化学工作站的电极线,以一定压力压在半导体材料上,在1、4两根探针间通过电流I,在2、3探针间产生电位差V。

方法:导电材料电导率电阻率测量
参数设置:试样面积:20*25cm,探针间距不大于2mm.
试样厚度:按实际厚度填入。

电压量程和电流量成可以自动和手动填入。

仪器运行后,界面自动显示电导率和电阻率,10秒钟自动停止,图形固定于界面,结果显示在界面的右侧。

测量结束后,点击右侧最上方的文件---另存为,保存到硬盘以备查看。

四探针法测电阻率原理

四探针法测电阻率原理

四探针法测电阻率原理四探针法是一种常用的测量材料电阻率的方法,它通过在材料表面使用四根探针进行电阻率测量,可以得到较为准确的电阻率数值。

四探针法的原理相对简单,但是在实际操作中需要注意一些细节,下面将详细介绍四探针法测电阻率的原理及其操作步骤。

首先,让我们来了解一下四探针法的原理。

四探针法是利用四个电极进行电阻率测量的方法,其中两个电极用于加电流,而另外两个电极则用于测量电压。

通过这种方式,可以消除电极接触电阻对测量结果的影响,从而得到较为准确的电阻率数值。

在进行测量时,需要保持电流电极之间的距离小于电压电极之间的距离,以确保电流在电压电极之间均匀分布,从而避免测量误差。

在实际操作中,四探针法的测量步骤如下,首先,将四个探针分别插入待测材料表面,其中两个探针用于加电流,另外两个探针则用于测量电压。

接下来,通过外部电源向电流探针施加一定电流,同时使用电压表测量电压探针之间的电压。

根据欧姆定律,通过测量得到的电流和电压值,可以计算出材料的电阻率。

四探针法测量电阻率的优点在于可以消除电极接触电阻对测量结果的影响,从而得到较为准确的电阻率数值。

此外,四探针法适用于各种材料的电阻率测量,包括金属、半导体和导体等材料。

因此,四探针法在科研和工程领域中得到了广泛的应用。

总之,四探针法是一种常用的测量材料电阻率的方法,通过在材料表面使用四个探针进行电阻率测量,可以得到较为准确的电阻率数值。

在实际操作中,需要注意保持电流电极之间的距离小于电压电极之间的距离,以确保电流在电压电极之间均匀分布,从而避免测量误差。

四探针法测量电阻率的优点在于可以消除电极接触电阻对测量结果的影响,适用于各种材料的电阻率测量,因此在科研和工程领域中得到了广泛的应用。

四探针法测电阻率

四探针法测电阻率

四探针法测量导体的电阻率电阻率的测量是导体材料常规参数测量项目之一。

测量电阻率的方法很多,如二探针法、三探针法、四探针法、电容---电压法、扩展电阻法等. 四探针法则是一种广泛采用的标准方法,在半导体工艺中最为常用,其主要优点在于设备简单,操作方便,精确度高,对样品的几何尺寸无严格要求.并且四探针法测量电阻率有个非常大的优点,它不需要较准;有时用其它方法测量电阻率时还用四探针法较准。

本文主要讲述四探针法测量导体材料电阻率的工作原理.直流四探针法也称为四电极法,主要用于半导体材料或超导体等的低电阻率的测量。

使用的仪器以及与样品的接线如图1(a)所示。

由图可见,测试时四根金属探针与样品表面接触,外侧两根1、4为通电流探针,内侧两根2、3为测电压探针。

由电流源输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其他二根探针的电压即V23(伏)。

(a)仪器接线(b)点电流源(c)四探针排列图1 四探针法测试原理示意图若一块电阻率为ρ的均匀半导体样品,其几何尺寸相对于探针间距来说可以看作半无限大。

如图1(b)所示, 当探针引入的点电流源的电流为I ,由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面,则在半径为r 处等位面的面积为2πr 2,电流密度为J=I/2πr 2根据电导率与电流密度的关系可得E =2222JI I r r ρσπσπ==由电场强度和电位梯度以及球面对称关系, 则d E dr ϕ=- 22I d Edr dr r ρϕπ=-=-取r为无穷远处的电位为零, 则()202r r r dr d Edr r ϕρϕπ∞∞-I =-=⎰⎰⎰ 则距点电荷r 处的电势为 ()2I r r ρϕπ=上式就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离为r的点的电位与探针流过的电流和样品电阻率的关系式,它代表了一个点电流源对距离r处的点的电势的贡献.1. 非直线型四探针对于图1(c)的情形, 四根探针位于样品中央,电流从探针1流入 从探针4流出, 则可将1和4探针认为是点电流源,2和3探针的电位为:2122411()2I r r ρϕπ=- 3133411()2I r r ρϕπ=-2、3探针的电位差为:2323122413341111()2I V r r r r ρϕϕπ=-=--+ 所以可推导得四探针法测量电阻率的公式为:I V C r r r r I V 2313413241223)1111(2=+--∙=-πρ 式中,134132412)1111(2-+--=r r r r C π为探针系数,单位为cm ;r 12、r 24、r 13、r 34分别为相应探针间的距离。

四探针法测电阻率共14页

四探针法测电阻率共14页

实验四探针法测电阻率1.实验目的:学习用四探针法测量半导体材料的体电阻率和扩散薄层的电阻率及方块电阻。

2.实验内容①硅单晶片电阻率的测量:选不同电阻率及不同厚度的大单晶圆片,改变条件(光照与否),对测量结果进行比较。

②薄层电阻率的测量:对不同尺寸的单面扩散片和双面扩散片的薄层电阻率进行测量。

改变条件进行测量(与①相同),对结果进行比较。

3.实验原理:在半导体器件的研制和生产过程中常常要对半导体单晶材料的原始电阻率和经过扩散、外延等工艺处理后的薄层电阻进行测量。

测量电阻率的方法很多,有两探针法,四探针法,单探针扩展电阻法,范德堡法等,我们这里介绍的是四探针法。

因为这种方法简便可行,适于批量生产,所以目前得到了广泛应用。

所谓四探针法,就是用针间距约1毫米的四根金属探针同时压在被测样品的平整表面上如图1a所示。

利用恒流源给1、4两个探针通以小电流,然后在2、3两个探针上用高输入阻抗的静电计、电位差计、电子毫伏计或数字电压表测量电压,最后根据理论公式计算出样品的电阻率[1]式中,C为四探针的修正系数,单位为厘米,C的大小取决于四探针的排列方法和针距,探针的位置和间距确定以后,探针系数C 就是一个常数;V 23为2、3两探针之间的电压,单位为伏特;I 为通过样品的电流,单位为安培。

半导体材料的体电阻率和薄层电阻率的测量结果往往与式样的形状和尺寸密切相关,下面我们分两种情况来进行讨论。

⑴ 半无限大样品情形图1给出了四探针法测半无穷大样品电阻率的原理图,图中(a)为四探针测量电阻率的装置;(b)为半无穷大样品上探针电流的分布及等势面图形;(c)和(d)分别为正方形排列及直线排列的四探针图形。

因为四探针对半导体表面的接触均为点接触,所以,对图1(b )所示的半无穷大样品,电流I 是以探针尖为圆心呈径向放射状流入体内的。

因而电流在体内所形成的等位面为图中虚线所示的半球面。

于是,样品电阻率为ρ,半径为r ,间距为dr 的两个半球等位面间的电阻为 它们之间的电位差为 dr r IIdR dV 22πρ==。

四探针法测量材料的电阻率和电导率

四探针法测量材料的电阻率和电导率

实验七:四探针法测量材料的电阻率和电导率ID:20110010020[实验目的]:1、了解四探针电阻率测试仪的基本原理;2、了解的四探针电阻率测试仪组成、原理和使用方法;3、能对给定的物质进行实验,并对实验结果进行分析、处理[实验原理]:单晶硅体电阻率的测量测试原理:直流四探针法测试原理简介如下:当1、2、3、4根金属探针排成直线时,并以一定的压力压在半导体材料上,在1、4两处探针间通过电流I,则2、3探针间产生电位差V。

材料的电阻率尸/Ss)(1>式中C为探针系数,由探针几何位置、样品厚度和尺寸决定,通常表示为C=F(D/S)・F(W/S),E乎,W⑵式中:F(WS)F(D/S>Fsp分别样品厚度修正因子、直径修正因子、探针间距修正系数(四探针头合格证上的F值)。

W:片厚,D:片径,S:探针间距。

[实验装置]:使用RTS-4型四探针测试仪1、电气部分:过DC-DC变换器将直流电转换成高频电流,由恒流源电路产生的高频稳定恒定直流电流其量程为0.1mA、1mA、10mA、100mA;数值连续可调,输送到1、4探针上,在样品上产生电位差,此直流电压信号由2、3探针输送到电气箱内。

再由高灵敏,高输入阻抗的直流放大器中将直流信号放大(放大量程有0.763、7.63、76.3)。

放大倍数可自动也可人工选择,放大结果通过A/D转换送入计算机显示出来。

RTS-例四探针测试仪框图如下所示。

国2四探」期试M电气刍分原理方也:2。

测试架探头及压力传动机构、样品台构成,见图3所示,探头采用精密加工,内有弹簧加力装置,测试需要对基片厚度进行测量,以便对探头升降高度进行限制。

图3测试架结构图[实验内容]:一、测试准备:将220V电源插入电源插座,开机后等十分钟在进行测量。

1 .利用标样学习测试参数确定:进入系统,打开主界面。

Q选择参数:选择测试类别(如薄圆片还是棒材电阻率等);酬入参数:片厚(mm);直径;选择电流量程。

四探针方法测电阻率(原理公式推导) PPT

四探针方法测电阻率(原理公式推导) PPT
4、薄片电阻率测量:当薄片厚度>0.5mm时, 按公式(3)进行;当薄片厚度<0.5mm时, 按公式(4)进行。
5、仪器在中断测量时应将工作选择开关置于 “短路”;电流开关置于弹出断开位置。
电阻率值可由下面公式得出:
C V IG (W S)D (d S)0G (W S)D (d S)
式中:ρ0 为块状体电阻率测量值; W:为样品厚度(um);S:探针间距(mm); G(W/S)为样品厚度修正函数,可由附录IA或附录 1B查得; D(d/S)为样品形状和测量位置的修正函数,可由附 录2查得。W/S<0.5时,实用。 当圆形硅片的厚度满足W/S<0.5时,电阻率为:
0W S2l1n2D(dS)
2、带扩散层的方块电阻测量 当半导体薄层尺寸满足于半无限大时:
V
V
R0
( )4.53
ln2 I
I
若取I = 4.53 I0,I0为该电流量程满度值, 则R0值可由数字表中直接读出的数乘上10 后得到。
<三> 仪器结构特征
• 数字式四探针测试仪主体部分由高灵敏 度直流数字电压表、恒流源、电源、DCDC电源变换器组成。为了扩大仪器功能 及方便使用,还设立了单位、小数点自 动显示电路、电流调节、自校电路和调 零电路。
• 温度影响电阻率,从面影响电阻
• p=p1(1+aT),p1为该材料0摄氏度时的电阻 率, a叫电阻的温度系数,不同材料的电阻 温度系数不同
• 由R=p*l/s p=p1(1+aT),得
• R=R1(1+aT) 同理,R1为0摄氏度时的电阻
• R=p*l/s(p—电阻率查表求;l—电阻长度 ;s—与电流垂直的电阻截面面
• 为克服测试时探针与样品接触时产生的接触 电势和整流效应的影响。本仪器设立有“粗 调”、“细调”调零电路能产生一个恒定的 电势来补偿附加电势的影响。
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材料电阻率的测量(四探针法)一:实验目的1:熟悉四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法。

2:了解影响电阻率测量的各种因素及改进措施。

二:实验仪器1:实验仪器:RTS-5 型双电测四探针测试仪RTS-5 型双电测四探针测试仪测量原理通过采用四探针双位组合测量技术,将范德堡测量方法推广应用到直线四探针上。

利用电流探针和电压探针的组合变换,进行两次电测量,其最后计算结果能自动消除由样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素所引起的,对测量结果的不利影响。

因而在测试过程中,在满足基本条件下可以不考虑探针间距、样品尺寸及探针在样品表面上的位置等因素。

这种动态地对以上不利因素的自动修正,显著降低了其对测试结果的影响,从而提高了测量结果的准确度。

其优点是目前广泛使用的常规四探针测量方法根本办不到的。

2:技术指标A:测量范围电阻率:0.001~200Ω.cm(可扩展);方块电阻:0.01~2000/□(可扩展);电导率:0.005~1000s/cm;适合样品厚度:≤3.00mm;可测晶片直径:140mmX150mm (配 S-2A 型测试台);200mmX200mm (配 S-2B 型测试台);400mmX500mm (配 S-2C 型测试台);B:恒流源电流量程分为 0.1mA、1mA、10mA、100mA 四档,各档电流连续可调;C:数字电压表量程及表示形式:000.00~199.99mV;分辨力:10μV;输入阻抗:>1000MΩ;精度:±0.1%;显示:四位半红色发光管数字显示;极性、超量程自动显示;D:四探针探头基本指标间距:1±0.01mm;针间绝缘电阻: ≥1000MΩ;机械游移率: ≤0.3%;探针:碳化钨或高速钢材质,探针直径Ф0.5mm;探针压力:5~16 牛顿(总力);E:四探针探头应用参数见探头附带的合格证,合格证含三参数项:C:探针系数; F:探针间距修正因子; S:探针平均间距;F: 模拟电阻测量相对误差(按 JJG508- - 87 进行)0.1Ω、1Ω、10Ω、100Ω≤0.3%±1字;G:整机测量最大相对误差(用硅标样片:0.01-180Ω.cm测试)≤±4%;H:整机测量标准不确定度≤4%;I:外型尺寸(大约)电气主机:370mm×320mm×100mm;S-2A 型测试台:190mm×140mm×260mm;S-2B 型测试台:300mm×210mm×400mm;S-2C 型测试台:500mm×400mm×350mm;J:仪器重量(大约)电气主机:3.5kg;S-2A 型测试台:2kg;S-2B 型测试台:2.5kg;S-2C 型测试台:4kg;;K:标准使用环境温度::23±2℃;相对湿度:≤65%;无高频干扰;无强光直射;三:实验原理1:电阻率的测量是半导体材料常规参数测量项目之一2:四探针法是一种广泛采用的标准方法,在半导体工艺中最为常用,其主要优先在于设备简单,操作方便,准确度高,对样品的几何尺寸无严格要求。

双电测组合四探针法采用如下图两种组合的测量方法:(图1)将直线四探针垂直压在被测样品表面上分别进行I14V23 和合测量,测量过程如下:I13V24 组1.进行组合I14V23 测量:电流I从1针→4针,从2、3针测得电压V23+;电流换向,I从4针→1针,从2、3针测得电压V23-;计算正反向测量平均值:V23=(V23+ + V23- )/2;2.进行I13V24 组合测量:电流I从1针→3针,从2、4针测得电压 V24+;电流换向,I从3针→1针,从2、4针测得电压 V24-;计算正反向测量平均值:V24=(V24+ + V24- )/2;3. 计算(V23/V24)值;(以上 V23、V24 均以 mV 为单位);4.按以下两公式计算几何修正因子K:若 1.18<(V23 /V24)≤1.38时;K=-14.696+25.173(V23/V24)-7.872(V23/V24)2 ; (1)若1.10≤(V23/V24)≤1.18时; K=-15.85+26.15(V23/V24)-7.872(V23/V24)2 ; (2)5.计算方块电阻R□ :R□=K.(V23/I) (单位:Ω/□) ; (3)其中:I为测试电流,单位:mA;V23 为从2、3针测得电压 V23+和 V23-的平均值,单位:mV;6.若已知样品厚度W,可按下式计算样品体电阻率Ρ:Ρ=R□.W.F(W/S)/10 (单位:Ω.cm); (4)其中:R□为方块电阻值,单位:Ω/□;W 为样片厚度,单位:mm (W ≤3mm) ; S 为探针平均间距,单位:mm ; F(W/S) 为厚度修正系数;7. 计算百分变化率(以测试样品电阻率Ρ为例) : 最大百分变化(%)=ρM - ρm ×100% (5)ρm平均百分变化(%)=ρa - ρc ×100% (6)ρc径向不均匀度E(%)=2(ρM - ρm )×100% (7)ρM + ρm以上式中:ΡM 、Ρm 分别为测量的电阻率最大值与最小值,单位:Ω.cm;Ρc 为第 1、2 点(即圆片中心测量点)测量平均值,单位:Ω.cm; Ρa 为除第 1、2 点外其余各点的测量平均值,单位:Ω.cm;(若测量样品的方块电阻值,则将(5)、(6)、(7)式中的ΡM 、Ρm 、Ρa 、Ρc 分别改成RM 、Rm 、Ra 、和Rc 。

其公式意义与ΡM 、Ρm 、Ρa 、Ρc 相似) 。

四:实验步骤1、将主机、探针测试台、四探针探头、计算机连接,开启主机,启动RTS-5 双电测四探针软件测试系统2、放置样品于测试台,操作探针台压下探针,使样品接通电流3、选择对样品要进行的测试类别,及输入相关测试基本参数4、执行【测量】功能→按弹出提示窗口调节主机电位器使主机电流显示为此值→按【确定】按钮继续测量/执行【自动测量】功能→按弹出提示窗口调节主机电位器使主机电流显示为45.32μA→按【确定】按钮继续测量5、【实时采集两次组合模式下的电压值】窗口实时显示两次组合模式下电压的正反向、平均值;【统计测试数据】窗口显示样品测试点的测量数据。

如测试点的数据有异常执行【重测】功能6、对测量数据进行打印、保存、生成EXCEL 文件五:实验数据处理与分析材料电阻率的测量薄型方块电阻:因为:V 24 = (V 24++V 24-) ÷ 2 ,V23=(V23+ + V23- )/2若 1.18<(V23 /V24)≤1.38 时; K =-14.696+25.173(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2若 1.10≤(V23/V24)≤1.18 时;K =-15.85+26.15(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2所以:V 23 =7\[(5.78+5.8)\2]=1.208V24K=-14.696+25.173(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2=4.226 R□ =K·(V23/I)=4.226*(7\4.532)=6.53Ω/□ 同理可得 R□2=6.53Ω/□R□3=6.47Ω/□ R□4=6.49Ω/□ R□5=6.5Ω/□ R□6=6.49Ω/□R□7=6.67Ω/□R□8=7.29Ω/□ R□9=6.57Ω/□R□10=6.54Ω/□薄片电阻:因为:V 24 = (V 24+ +V 24-) ÷ 2 ,V23=(V23+ + V23- )/2若 1.18<(V23 /V24)≤1.38 时; K =-14.696+25.173(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2若 1.10≤(V23/V24)≤1.18 时;K =-15.85+26.15(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2Ρ=R□·W·F(W/S)/10所以:V 23 =[(69.94+69.93)\2]\57.95=1.207V24K=-14.696+25.173(V23/V24)- 7.872(V23/V24)2=4.215 R□ =K·(V23/I)=4.215*(69.935\45.32)=6.504Ω/□Ρ=R□·W·F(W/S)/10=6.504*0.2*1\10=0.130m Ω·cm六:实验结论1:由实验结果可知,此硅片的薄层方块电阻落在 6.61Ω/□的频数最大,所以方块电阻为6.61Ω/□。

2:由于薄片电阻率的测量中只有一组的数据,因此无法较为准确的得到电阻率数值。

七:思考题1:方块电阻与薄片电阻的区别:方块电阻是用来评价某块材料的导电能力的参数,往往用于半导体芯片制造.所谓方块,就是长和宽相等,厚度则视被测样品而异.方块电阻值乘以所测样品的厚度就得到它的电阻率,这是评价半导体材料内扩散浓度(载流子浓度)的重要参数.通常用四探针仪器测量.薄片电阻是一个概念,具体的数值的大小用方块电阻来表示。

八:注意事项(1)仪器接通电源,至少预热 15 分钟才能进行测量.(2)仪器如经过剧烈的环境变化或长期不使用,在首次使用时应通电预热2-3 小时,方可进行测量。

(3)在测量过程中应注意电源电压不要超过仪器的过载允许值。

(4)切记保护探针注:。

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