氨基磺酸镍电镀镍工艺
电镀镍工艺

1、作用与特性PCB(是英文Printed Circuie Board印制线路板的简称)上用镀镍来作为贵金属和贱金属的衬底镀层,对某些单面印制板,也常用作面层。
对于重负荷磨损的一些表面,如开关触点、触片或插头金,用镍来作为金的衬底镀层,可大大提高耐磨性。
当用来作为阻挡层时,镍能有效地防止铜和其它金属之间的扩散。
哑镍/金组合镀层常常用来作为抗蚀刻的金属镀层,而且能适应热压焊与钎焊的要求,唯读只有镍能够作为含氨类蚀刻剂的抗蚀镀层,而不需热压焊又要求镀层光亮的PCB,通常采用光镍/金镀层.镍镀层厚度一般不低于2.5微米,通常采用4—5微米。
PCB低应力镍的淀积层,通常是用改性型的瓦特镍镀液和具有降低应力作用的添加剂的一些氨基磺酸镍镀液来镀制.我们常说的PCB镀镍有光镍和哑镍(也称低应力镍或半光亮镍),通常要求镀层均匀细致,孔隙率低,应力低,延展性好的特点。
2、氨基磺酸镍(氨镍)氨基磺酸镍广泛用来作为金属化孔电镀和印制插头接触片上的衬底镀层。
所获得的淀积层的内应力低、硬度高,且具有极为优越的延展性.将一种去应力剂加入镀液中,所得到的镀层将稍有一点应力。
有多种不同配方的氨基磺酸盐镀液,典型的氨基磺酸镍镀液配方如下表。
由于镀层的应力低,所以获得广泛的应用,但氨基磺酸镍稳定性差,其成本相对高.3、改性的瓦特镍(硫镍)改性瓦特镍配方,采用硫酸镍,连同加入溴化镍或氯化镍。
由于内应力的原因,所以大都选用溴化镍。
它可以生产出一个半光亮的、稍有一点内应力、延展性好的镀层;并且这种镀层为随后的电镀很容易活化,成本相对底。
4、镀液各组分的作用:主盐──氨基磺酸镍与硫酸镍为镍液中的主盐,镍盐主要是提供镀镍所需的镍金属离子并兼起着导电盐的作用.镀镍液的浓度随供应厂商不同而稍有不同,镍盐允许含量的变化较大.镍盐含量高,可以使用较高的阴极电流密度,沉积速度快,常用作高速镀厚镍.但是浓度过高将降低阴极极化,分散能力差,而且镀液的带出损失大.镍盐含量低沉积速度低,但是分散能力很好,能获得结晶细致光亮镀层。
电镀镍工艺手册

电镀镍工艺手册通过电解或化学方法在金属或某些非金属上镀上一层镍的方法,称为镀镍。
镀镍分电镀镍和化学镀镍。
下面是店铺精心为你们整理的电镀镍工艺手册的相关内容,希望你们会喜欢!电镀镍工艺手册1、作用与特性PCB(是英文Printed Circuie Board印制线路板的简称)上用镀镍来作为贵金属和贱金属的衬底镀层,对某些单面印制板,也常用作面层。
对于重负荷磨损的一些表面,如开关触点、触片或插头金,用镍来作为金的衬底镀层,可大大提高耐磨性。
当用来作为阻挡层时,镍能有效地防止铜和其它金属之间的扩散。
哑镍/金组合镀层常常用来作为抗蚀刻的金属镀层,而且能适应热压焊与钎焊的要求,唯读只有镍能够作为含氨类蚀刻剂的抗蚀镀层,而不需热压焊又要求镀层光亮的PCB,通常采用光镍/金镀层。
镍镀层厚度一般不低于2.5微米,通常采用4-5微米。
PCB低应力镍的淀积层,通常是用改性型的瓦特镍镀液和具有降低应力作用的添加剂的一些氨基磺酸镍镀液来镀制。
我们常说的PCB镀镍有光镍和哑镍(也称低应力镍或半光亮镍),通常要求镀层均匀细致,孔隙率低,应力低,延展性好的特点。
2、氨基磺酸镍(氨镍)氨基磺酸镍广泛用来作为金属化孔电镀和印制插头接触片上的衬底镀层。
所获得的淀积层的内应力低、硬度高,且具有极为优越的延展性。
将一种去应力剂加入镀液中,所得到的镀层将稍有一点应力。
有多种不同配方的氨基磺酸盐镀液,典型的氨基磺酸镍镀液配方如下表。
由于镀层的应力低,所以获得广泛的应用,但氨基磺酸镍稳定性差,其成本相对高。
3、改性的瓦特镍(硫镍)改性瓦特镍配方,采用硫酸镍,连同加入溴化镍或氯化镍。
由于内应力的原因,所以大都选用溴化镍。
它可以生产出一个半光亮的、稍有一点内应力、延展性好的镀层;并且这种镀层为随后的电镀很容易活化,成本相对底。
4、镀液各组分的作用:主盐──氨基磺酸镍与硫酸镍为镍液中的主盐,镍盐主要是提供镀镍所需的镍金属离子并兼起着导电盐的作用。
电镀工艺主要参数对氨基磺酸镍镀层的影响

22 搅 拌 的 影 响 .
搅 拌 一 般 有 空 气 搅 拌 、 械 搅 拌 和 镀 液 循 环 机 搅 拌 。空 气 搅 拌 方 式 适 合 对 镀 层 要 求 不 高 的 电 镀 , 优 点 是 成 本 低 ; 点 不 适 应 高 温 度 型 、 层 其 缺 镀 质 量 要 求 高 的镀 液 , 为 空 气 的 引入 必 然 会 引入 因 杂 质 , 响 溶 液 的 成 分 , 一 方 面 空 气 会 带 走 水 影 另 分 、 度 对 溶 液 控 制 是 不 利 于 的 。氨 基 磺 酸 镍 主 温 要 采 用 机 械 阴 极 移 动 和 过 滤 循 环 搅 拌 量 中方 式 进 行 搅 拌 , 注 意 的 是 搅 拌 速 度 , 极 移 动 一 般 要 阴 在 2 ~2 0 5次 / n 过 滤 循 环 在 每 小 时 槽 体 你 溶 mi , 液 循 环 3次 左 右 , 拌 过 快 、 慢 都 不 利 于 电 镀 搅 过 层 的形 成 , 慢 电镀 层 表 面 不 均 与 , 快 不 利 于 过 过
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近 年 来 随着 全 球 电 子 行 业 的 迅 猛 发 展 、 电子
收稿 日期 : 0 10 — 8 修 回 日期 :0 10 — 3 2 1 - 70 2 1 -80
基磺 酸 盐镀 液 是 一种 多 用 途 的 镀 液 ,存 较 低 的温
度 和较 小 的 电流 密 度 操 作 时 ,能 够 得 到 应 力 较 小 甚 至无 应 力 的镀 层 ,在 一般 条件 下 操 作 应 力 也 较
电流密度对氨基磺酸镍电镀镍镀层的影响

以电流密度大时 , 镀层孑 隙率也增大 , L 表面风暴漩涡 状的针孑 缺陷增大。 L
( 转第 6 下 0页 )
厚度 增 加 缺 陷越 明显 也 越 多, 孑 直 径 在 l 针 L 0—
第8 期
邹
森, : 等 电流密度对氨基磺酸镍 电镀镍镀层 的影响
・5 5・
电流密度对氨基磺酸镍电镀镍镀层的影响
邹 森 , 亚 明 , 凤梅 李 杨
( 中国 电子科 技 集 团公 司 第 二研 究所 , 西 太原 山 002 3 0 4)
摘要 : 为了解不同电流密度对氨基磺酸镍镀层 的影响 . 分析 了电流 密度在 0 I~2 A m . 0 /d 时 , 氨基磺 酸镍镀 镍层的外 观、 硬度 、 应
2 0 电炉 中加 热 4 , 4% h 然后 放 入 室温 冷 水 速 冷 , 果 结 全部不 起皮 、 开 裂 。 不
15 3 硬 度 ..
添 加 剂 (K 2 ) C一 1 萘 三磺 酸 钠
p H
温 度
按 G 99 B 7 0—8 8标 准 , 粗 造 度 R 对 a<0 0 1 .2 m x
于 电镀 镍 。
15 样 品的检 测 .
15 1 外 观 . .
( ) 电流密度 小于 4 /m 2 当 A d 时 , 层 质 量 较 镀
好 , 泽均 匀 、 针 孔 缺 陷 和 毛 刺 现 象 。大 于 8 A 色 无 /
S W 电子显 微镜 10 E 00倍下 观察 :
・
5 ・ 6
山 东 化 工 S A D N H MIA D S R H N 0 G C E C LI U T Y N
电流密度对氨基磺酸镍电镀镍镀层的影响

电流密度对氨基磺酸镍电镀镍镀层的影响邹森,李亚明,杨凤梅(中国电子科技集团公司第二研究所,山西太原030024) 摘要:为了解不同电流密度对氨基磺酸镍镀层的影响,分析了电流密度在0.1~20A/dm2时,氨基磺酸镍镀镍层的外观、硬度、应力和沉积速率。
在工艺范围内,随电流密度的增加沉积速率增加、镀层硬度降低、孔隙率变大、表面出现针孔缺陷、应力变大,随后讨论了出现各种情况的原因。
关键词:氨基磺酸镍;电镀;电流密度中图分类号:TQ153.1+2文献标识码:A文章编号:1008-021X(2011)08-0055-02近年来随着全球电子行业的迅猛发展、电子产品的品质要求更是精益求精。
越来越多的厂家对电镀金属层的品质要求也越来越高,镀层内应力低,延展性良好,极限强度高、硬度高、均匀性佳的镀液正被众多的厂家大力倡导和推广。
氨基磺酸镍镀液能获得比传统的硫酸镍镀液机械性能更优良的金属镀层,它的镀层内应力低、极限强度高、沉积速度快、孔隙率低、再配合添加剂的使用能得到更佳的外观,适用于印制电路板或电铸。
氨基磺酸盐镀液是一种多用途的镀液,在较低的温度和较小的电流密度操作时,能够得到应力较小甚至无应力的镀层,在一般条件下操作应力也较瓦特型溶液小。
氨基磺酸镍镀液只要添加少量的应力减少剂,就能够明显地降低镀层应力。
所谓的高速镀镍实际上就是一种高浓度的氨基磺酸镍溶液,它不含有机物或其他添加剂,镀层应力主要通过温度和电流调节,其最大的优点是可在大电流密度下操作[1]。
氨基磺酸镍镀镍主要是功能性电镀,所以镀层的机械性能就非常重要。
影响镀层机械性能的因素很多,一般有温度、电流密度、pH值、溶液 Ni2+的浓度等等。
1·实验部分1.1工艺流程镀镍工艺流程如下:碱性活化→三联水洗→酸洗→水洗→电镀镍→水洗→纯水洗→热纯水洗→检验1.2氨基磺酸盐镀镍工艺参数镀镍工艺参数见表1。
1.3前处理主要工序参数(1)碱性活化工序[2]氢氧化钠20~30g/L,乳化剂1~3g/L,磷酸三钠20~30g/L,温度50~55℃,3~5min。
氨基磺酸盐镀镍

氨基磺酸盐镀镍1.氨基磺酸盐镀镍最突出的优点是镍镀层韧性好,内应力小。
但也不是在这种镀液中就能获取无应力的镀层,只是相对与其他镀镍溶液而言,它的应力要小。
镀层应力大小与镀液的pH值、温度、电流密和应力消除剂是否加入有关,如镀液温度较低和电流密度小的条件下操作得到的镀层几乎无应力。
但当温度和电流密度提高时,镀层会户产生压应力。
当然,这一应力要比普通镀镍溶液中得到的镍镀层。
因为低温和电流密度小的操作条件下效率太低,所以在考虑到既要顾及生产效率的前[提下,又要获得应力小的镀层,往往加人应力消除剂来达到目的。
常用的应力消除剂有糖精、萘磺酸深圳电镀设备i或钻盐。
由于糖精和萘磺酸要分解,分解后产生有机物,也会增加镀层的应力,所以现在多用钻盐来作应力消除剂。
氨基磺酸盐镀镍溶液主要用于电铸镍、、钢带和印制板镀金前的镀镍。
这种镀液还有允许电流密度大沉积速度快和镀液分散能力优于硫酸盐镀镍溶优点。
其缺点是配方成本高。
镀液Lfi虱尚j,冈j;z;增加镀层的内应力。
如果采用含硫的S镍块作阳极可不必加氯化物。
对于普通纯镍板作阳椒,善其其溶解瞬性,适当加些氯化物还是秆亨其必要的,{加入量不能太高,一般不超过5L。
2.氨基磺酸盐镀镍与硫酸盐镀镍稍有不同之处上,硫酸盐镀镍溶液的分散能力随着硫酸盐浓度的提而变差,而氨基磺酸盐镀镍溶液则随着主盐浓度的提高而提高,但含量主大于600g/L时,电流效率会降低,因此其主盐浓度应控制在350-500矿L为适宜。
3.从氨基磺酸盐镀镍溶液中镀取的镍镀层,其孔隙率要比硫酸盐镀镍的略低,因此较薄的镍镀层耐性比硫酸盐镀镍溶液获取的为好。
4.氨基磺酸盐溶奔液温度超过r 70c以上要水解,分后成为氢氧化镍或碳酸镍,不再溶刁水,因此镀液温度宜控制在60-65℃。
5.磺酸5盐溶液中得到的镀层硬度在iso-450HV之间。
在不加添加剂的新配镀液中,得到的镀层硬度最低,仅为150HV,随着镀液中有机物的电积累,镀层硬度会逐渐提高。
氨基磺酸镍电镀液配方
当调配氨基磺酸镍电镀液时,以下是一个可能的配方示例,供你参考。
请注意,这仅作为参考,具体配方可能因应用需求和实验条件的不同而有所变化。
在实际操作中,请始终遵循化学实验室的安全操作规程,并根据需要进行实验和调整。
配方示例:1.镍盐:例如氯化镍六水合物(NiCl2·6H2O)或硝酸镍(Ni(NO3)2·6H2O),可以根据需要调整浓度。
2.氨基磺酸:作为镍离子还原剂和络合剂,可以根据需要调整浓度。
3.缓冲剂:例如乙二胺四乙酸(EDTA)或乙二胺(NH2CH2CH2NH2)等,用于控制溶液的pH值和稳定性。
4.其他添加剂:根据需要,可以添加一些表面活性剂、湿润剂、增稠剂等,以改善电镀液的性能和工艺特性。
调配步骤:1.准备一个干净的容器,确保其适用于所需溶液的体积。
2.根据所需配方,按照比例准确称量和加入镍盐和氨基磺酸。
注意,化学物质的精确测量非常重要。
3.按照配方,加入适量的缓冲剂,并根据需要调整溶液的pH值。
pH值的调整可以使用酸或碱性物质,例如稀硫酸(H2SO4)或氢氧化钠(NaOH)。
4.在搅拌下,将溶液充分混合,确保所有成分均匀分散。
5.根据实验条件,可以根据需要添加其他添加剂,并进行充分混合。
6.检查溶液的温度,根据需要进行加热或冷却,以达到所需的操作温度。
7.对于电镀液的特定应用,可能需要进一步调整配方或添加其他成分。
根据实验结果和需求,可以进行进一步的优化和调整。
重要提示:1.在实验室中操作时,务必遵循安全操作规程,佩戴个人防护设备,避免皮肤接触和吸入有害气体。
2.对于初学者或无经验的个人,最好在有经验的导师或化学专业人士的指导下进行实验操作。
3.在进行任何实验之前,了解和评估所用化学物质的危险性,并遵循正确的废物处理方法。
请记住,这只是一个示例配方,具体配方应根据实验要求和安全性进行调整。
氨基磺酸镍废水处理工艺
氨基磺酸镍废水处理工艺1. 简介氨基磺酸镍(Ni(II)-AS)是一种常见的重金属废水污染物,主要来源于电镀、化工和冶金等行业。
由于其具有毒性和潜在的环境危害,有效处理氨基磺酸镍废水对环境保护至关重要。
本文将介绍一种常用的氨基磺酸镍废水处理工艺,包括前处理、主要处理和后处理等环节,详细描述每个环节的操作步骤、设备选型以及工艺原理。
2. 前处理前处理是氨基磺酸镍废水处理的第一步,旨在去除废水中的杂质和固体颗粒物,以减少对后续处理设备的损害和堵塞。
2.1 沉淀法沉淀法是一种常用的前处理方法,通过加入适量的沉淀剂将废水中的悬浮物沉淀下来。
常用的沉淀剂包括氢氧化钙、聚合氯化铝等。
操作步骤如下:1.将废水加入沉淀槽,调节pH值至适宜范围(通常为8-10);2.加入适量的沉淀剂,并充分搅拌混合;3.静置一段时间,使悬浮物充分沉淀;4.将上清液分离出来,得到去除了一部分杂质和固体颗粒物的废水。
2.2 过滤法过滤法是另一种常用的前处理方法,通过过滤介质将废水中的固体颗粒物截留下来。
常用的过滤介质包括石英砂、活性炭等。
操作步骤如下:1.将废水加入过滤槽,经过预处理后使其悬浮物浓度降低;2.将废水通过过滤介质,使固体颗粒物被截留在介质上;3.定期清理和更换过滤介质,以保证过滤效果。
3. 主要处理主要处理环节是对前处理后的废水进行进一步处理,以去除其中的氨基磺酸镍和其他有机污染物。
3.1 化学沉淀法化学沉淀法是一种常用的去除重金属离子的方法,通过加入适量的沉淀剂使重金属形成不溶性沉淀物,从而达到去除的目的。
操作步骤如下:1.将前处理后的废水加入反应槽;2.调节pH值至适宜范围(通常为8-10),使重金属离子处于最佳沉淀条件;3.加入适量的沉淀剂,并充分搅拌混合;4.静置一段时间,使重金属形成不溶性沉淀物;5.将上清液分离出来,得到去除了氨基磺酸镍和其他重金属离子的废水。
3.2 离子交换法离子交换法是一种常用的去除有机污染物的方法,通过将废水中的有机污染物与固体吸附剂上的离子进行交换,从而达到去除的目的。
氨基磺酸高速镀镍工艺的应用
氨基磺酸高速镀镍工艺的应用赵平堂(河南天海汽车电气有限公司,河南鹤壁458000)[关键词] 氨基磺酸;高速镀镍;电镀[中图分类号] T Q153.1 [文献标识码] B [文章编号] 1001-1560(2002)03-0051-01 [收稿日期] 2001-10-111 前 言镀镍在电镀生产中占有重要的地位,被广泛应用于防护装饰及功能性电镀中。
镀镍液的种类很多,有瓦特型镀镍,氨基磺酸镀镍,全硫酸盐镀镍,氯化物镀镍等,其中氨基磺酸镀镍以其沉积速度快,结晶细致,镀液分散性好,可获得低应力的柔韧性厚镀层,而被广泛应用于电铸、尺寸修复、印制镀金前镀镍及快速自动化生产中。
2 氨基磺酸高速镀镍液的组成及配制氨基磺酸镍Ni (NH 2S O 3)2:∶650~780g/L ,六水氯化镍(NiCl 2・6H 2O ):5~8g/L ,硼酸(H 3BO 3):35~45g/L ,湿润剂W :0.3ml/L ,添加剂M :8ml/L ,温度:50~58℃,pH 值:4.0~4.8,电流密度:5~11A/dm 2,阳极为纽扣形含硫镍圆饼或普通电解镍圆饼。
将耐酸耐温的镀槽用去离子水充分清洗,确保无氯离子及其他杂质后,加入三分之一的去离子水,用钛或聚四氟乙烯加热器加热到60℃后,加入所需量的氨基磺酸镍、六水氯化镍、硼酸、湿润剂和添加剂。
然后加去离子水至所需液位,用无油压缩空气充分搅拌后,以波浪形的阴极在0.5A/dm 2下电解到凹处由黑色变浅色为止,最后进行电镀。
3 镀液成份对工艺条件的影响(1)氨基磺酸镍 提供不断消耗的Ni 2+,其含量范围较宽,含量低时镀液分散性好,镀层结晶细致,但沉积速度慢,含量过高,镀液分散性差,镀液带出量大。
只有在含量范围内,略为偏高时,电流密度加大,沉积速度快才是有利的,以控制在750g/L 为佳。
(2)六水氯化镍 由于氯化镍的水溶性较好,当镀液中有氯离子存在时加入六水氯化镍,使得阳极溶解的Ni 2+与Cl -作用而迅速扩散,防止了阳极区Ni 2+浓度过高,这样即防止了阳极钝化,又加快了阳极的溶解,氯离子浓度过高,会导致镀层硬度及内应力过大。
电镀用氨基磺酸镍
电镀用氨基磺酸镍1范围本标准规定了电镀用氨基磺酸镍的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和安全。
本标准适用于以镍盐或金属镍为原料制得的电镀用氨基磺酸镍。
分子式:Ni(NH2SO3)2·4H2O相对分子质量:322.81(按2003年国际相对原子质量)2规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。
凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。
凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T601化学试剂标准滴定溶液的制备GB/T602化学试剂杂质测定用标准溶液的制备(GB/T602-2002,ISO6353-1:1982,Rea-gents for chemical analysis-part l:General test methods,NEQ)GB/T603化学试剂试验方法中所用制剂及制品的制备(GB/T603-2002,ISO6353-1:1982,Reagents for chemical analysis-part l:General test methods,NEQ)GB/T1250极限数值的表示方法和判定方法GB/T6678-2003化工产品采样总则GB/T6682分析实验室用水规格和试验方法(GB/T6682-2008,ISO3696:1987,MOD)GB/T9724化学试剂PH值测定通则3要求3.1外观:深绿色透明液体。
3.2氨基磺酸镍的技术指标应符合表1 的规定表1要求4 试验方法安全提示-本试验方法中使用的部分试剂具有毒性或腐蚀性,操作时须小心谨慎!如溅到皮肤上应立即用水冲洗,严重者应立即治疗。
本标准中所用的试剂和水,在没有注明其他要求时均指分析纯试剂和符合GB /T 6682规定的三级水。
试验中所用标准滴定溶液、杂质测定用标准溶液、制剂及制品,在没有注明其他要求时,均按GB /T601、GB /T602、GB /T603的规定制备。
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氨基磺酸镍电镀镍工艺
一、引言
氨基磺酸镍电镀镍工艺是一种常用的金属电镀技术,通过在镍盐溶液中加入氨基磺酸镍作为主要镀镍物质,利用电化学原理将镍离子还原成金属镍沉积在工件表面,实现镀镍的目的。
本文将介绍氨基磺酸镍电镀镍工艺的工作原理、工艺参数以及工艺优点等内容。
二、工作原理
氨基磺酸镍电镀镍工艺是一种基于电化学反应的金属电镀技术。
在镀镍过程中,将含有氨基磺酸镍的镍盐溶液作为电解液,加入适量的酸和缓冲剂。
工件作为阴极,与阳极(一般为镍板)相连,通过外加电源提供直流电流。
在电解液的作用下,镍盐溶液中的镍离子(Ni2+)在阳极释放出电子,并在阴极表面还原成金属镍沉积。
三、工艺参数
1. 镍盐溶液的配方:一般使用硫酸镍、硫酸氢镍或氯化镍等镍盐作为主要镀镍物质,配合适量的氨基磺酸镍,酸和缓冲剂。
2. 电解液的温度:通常在40-60℃之间,温度过高容易引起气泡和结晶现象,温度过低则影响电镀速度。
3. 电流密度:根据工艺要求和工件的尺寸、形状等因素确定。
电流密度过高可能导致沉积物不均匀,电流密度过低则会降低电镀速度。
4. 镀镍时间:根据工艺要求和工件的需求确定,一般数分钟至数小时不等。
四、工艺优点
1. 镀镍层均匀:氨基磺酸镍电镀镍工艺能够在工件表面均匀沉积金属镍,形成致密的镀层。
2. 良好的附着力:氨基磺酸镍电镀镍工艺能够与基材形成良好的结合,镀层与基材之间的附着力强。
3. 具有较高的硬度和耐磨性:镀镍层具有较高的硬度和耐磨性,能够提高工件的使用寿命。
4. 良好的耐腐蚀性:氨基磺酸镍电镀镍工艺形成的镀镍层能够有效防止基材被氧化、腐蚀等。
5. 环保性好:相比其他镀镍工艺,氨基磺酸镍电镀镍工艺不含有毒物质,对环境友好。
六、总结
氨基磺酸镍电镀镍工艺是一种常用的金属电镀技术,通过在镍盐溶液中加入氨基磺酸镍作为主要镀镍物质,利用电化学原理将镍离子还原成金属镍沉积在工件表面,实现镀镍的目的。
该工艺具有镀镍层均匀、附着力强、硬度高、耐磨性好、耐腐蚀性好等优点,并且环保性好。
在实际应用中,可以根据工艺要求和工件的特性选择适
合的工艺参数,以获得理想的镀镍效果。