化学药物杂质研究的技术指导原则
审评中心关于校正因子的说明

审评中心关于校正因子的说明20111207栏目化药药物评价>>化药质量控制标题HPLC法校正因子研究中的几个问题作者张哲峰部门化药药学二部正文内容HPLC法具有将不同物质分离后逐一定量的分离分析能力,在药品有关物质检测中发挥着越来越重要的作用,成为药品杂质控制中常用而有效的手段之一。
在杂质对照品法、加校正因子的主成分自身对照法、不加校正因子的主成分自身对照法、峰面积归一化法等几种常用的杂质定量方式中,校正因子的研究对于选择合适定量方式,准确定量杂质具有重要意义,因而成为杂质分析方法研究中的重要内容之一。
但从目前注册申报资料实际情况来看,校正因子的研究和使用中尚存在一些需要进一步思考和关注的问题。
1.校正因子的定义及特点一般来讲,HPLC定量测定中,物质的检测量W与色谱响应值(峰面积等)A之间的比值称为绝对校正因子,即单位响应值(峰面积等)所对应的被测物质的量(浓度或质量);而某物质i与所选定的参照物质s 的绝对校正因子之比,即为相对校正因子,即通常所讲的校正因子。
目前校正因子主要用于“加校正因子的主成分自身对照法”定量相关特定杂质,这种定量方式因考虑了杂质与主成分的绝对校正因子的不同所引起的测定误差,将标准物质的赋值信息转化为常数,固化在质量标准中,且不需长期提供标准物质,因而成为现阶段杂质控制较为理想可行的手段。
但这种方法有时会因不同仪器及色谱条件的波动,可产生一定范围的误差,需进行充分的方法耐用性验证,并结合色谱峰定位控制等措施,将误差控制在一定范围内。
2.校正因子的测定在校正因子的研究和使用中,标准物质、色谱条件、溶剂、检测波长等均是重要的影响因素,研究中需要予以关注。
2.1 校正因子的测定需要用到特定杂质及主成分的标准物质,这些标准物质应具备量值准确的特点,符合标准物质(对照品)的相关要求;其次,确定校正因子的分析方法应与最终确定的质量标准方法一致,色谱条件等需经筛选优化后确定,如有变更,需考虑对校正因子的影响,必要时重新确定;第三,要关注影响待测物UV吸收的各种因素,如溶液制备所用溶剂最好与最终确定的流动相相同,检测波长最好在特定杂质及主成分UV曲线的峰或谷处,避开吸收值急剧变化波段,以保证测定方法具有较好的耐用性,并保持测定结果的恒定。
CDE培训课件杂质研究及案例分析课程

限度实验:至少应关注和验证专属性、检测限、耐用性
充分的方法验证
专属性研究
原料药合成中间体、粗品等的分离度考察 原料药及其制剂的强制破坏实验 制剂的辅料干扰实验 杂质加入实验 和药典方法或经论证的其它方法进行比较 峰纯度检查(二极管阵列检测、质谱检测)
前提:被仿品的杂质已得到充分研究,安全性已得到
论证
仿制药杂质研究的特点
杂质对比研究结果分析
杂质谱与被仿品一致或杂质种类较被仿品少,无超过鉴定 限度的新杂质;各杂质含量不超过被仿品
——试制品的杂质控制达到了研究目标 杂质谱与被仿品一致或杂质种类较被仿品少,无超过鉴定
限度的新杂质;但已知杂质含量超过了被仿品 ——改进工艺,降低杂质含量
..\..\化学药品指导原则\化学药物杂质研究技术指导原则.pdf
例:盐酸帕罗西汀
F
O
O
N , HCl , 1/2H2O
O
EP、USP收载,列出7个已知杂质A-G
HPLC法:控制杂质A(去氟物)0.3%,其它单一杂 质0.1%,总杂质不得过0.5%
手性HPLC控制杂质D(对映异构体)不得过0.2%
以EP标准中的检验方法及限度为参考依据,进行必要的方法 验证
试制样品杂质检查结果符合EP标准要求,无超过鉴定限度的 其它杂质——达到研究目标
若杂质谱与EP标准一致,但杂质量超过限度要求——完善工 艺(精制:优化工艺参数;控制起始原料及中间体质量)
出现超过鉴定限度(0.1%)的新杂质——鉴定结构,分析原 因,修改完善工艺,降低杂质量至0.1%以下。
HPLC法实验结果
杂质达7%以上
方法的比较研究显示,TLC法不适于本品的有关物质检查
新原料药中的杂质研究指南

新原料药中的杂质1. PREAMBLE 序言本文件旨在为化学合成的新原料药(这些新原料药尚未在任何地区或成员国注册)在注册申请时,对其杂质的含量和界定的申报提供指导。
本报导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药。
本文件不涵盖生物/生物制品、肽、寡聚核苷酸。
放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。
新原料药中的杂质分两个方面阐述:化学方面:包括对杂质的分类和鉴定、杂质生成、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。
安全性方面:对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。
2. CLASSIFICATION OF IMPURITIES 杂质的分类杂质可分为下列类型:•有机杂质(与工艺和药物有关的)•无机杂质•残留溶剂有机杂质可能会在新原料药的生产过程和(或)储存期间有所增加。
这些杂质可能是已确定的或者是未确定的、挥发性的或者非挥发性的。
它包括:•起始物•副产物•中间体•降解产物•试剂、配位体、催化剂无机杂质可能来源于生产过程,它们一般是已知的和确定的。
包括:•试剂、配位体、催化剂•重金属或其他残留金属•无机盐•其他物质(例如:过滤介质、活性炭等)溶剂是在新原料药合成过程中用于制备溶液或混悬液的有机或无机液体,由于它们一般具有已知毒性,故容易选择控制方法(见ICH指导原则Q3C残留溶剂项下)。
不包括在本文件中的杂质为:(1)外源性污染物(不应该存在于新原料药中,可以用GMP来控制);(2)多晶型;(3)对映体杂质。
3. RATIONALE FOR THE REPORTING AND CONTROL OF IMPURITIES杂质报告和控制的说明3.1 Organic Impurities 有机杂质申报者应对新原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生的那些实际存在的和潜在的杂质进行概述。
该描述应建立在对合成所涉及的化学反应、由原材料引入的杂质及可能的降解产物进行合理地、科学地评估的基础上。
审评中心关于校正因子的说明

20111207栏目化药药物评价>>化药质量控制标题HPLC法校正因子研究中的几个问题作者张哲峰部门化药药学二部正文内容HPLC法具有将不同物质分离后逐一定量的分离分析能力,在药品有关物质检测中发挥着越来越重要的作用,成为药品杂质控制中常用而有效的手段之一。
在杂质对照品法、加校正因子的主成分自身对照法、不加校正因子的主成分自身对照法、峰面积归一化法等几种常用的杂质定量方式中,校正因子的研究对于选择合适定量方式,准确定量杂质具有重要意义,因而成为杂质分析方法研究中的重要内容之一。
但从目前注册申报资料实际情况来看,校正因子的研究和使用中尚存在一些需要进一步思考和关注的问题。
1.校正因子的定义及特点一般来讲,HPLC定量测定中,物质的检测量W与色谱响应值(峰面积等)A之间的比值称为绝对校正因子,即单位响应值(峰面积等)所对应的被测物质的量(浓度或质量);而某物质i与所选定的参照物质s的绝对校正因子之比,即为相对校正因子,即通常所讲的校正因子。
目前校正因子主要用于“加校正因子的主成分自身对照法”定量相关特定杂质,这种定量方式因考虑了杂质与主成分的绝对校正因子的不同所引起的测定误差,将标准物质的赋值信息转化为常数,固化在质量标准中,且不需长期提供标准物质,因而成为现阶段杂质控制较为理想可行的手段。
但这种方法有时会因不同仪器及色谱条件的波动,可产生一定范围的误差,需进行充分的方法耐用性验证,并结合色谱峰定位控制等措施,将误差控制在一定范围内。
2.校正因子的测定在校正因子的研究和使用中,标准物质、色谱条件、溶剂、检测波长等均是重要的影响因素,研究中需要予以关注。
2.1 校正因子的测定需要用到特定杂质及主成分的标准物质,这些标准物质应具备量值准确的特点,符合标准物质(对照品)的相关要求;其次,确定校正因子的分析方法应与最终确定的质量标准方法一致,色谱条件等需经筛选优化后确定,如有变更,需考虑对校正因子的影响,必要时重新确定;第三,要关注影响待测物UV吸收的各种因素,如溶液制备所用溶剂最好与最终确定的流动相相同,检测波长最好在特定杂质及主成分UV曲线的峰或谷处,避开吸收值急剧变化波段,以保证测定方法具有较好的耐用性,并保持测定结果的恒定。
ICH 药品注册的国际技术要求(中文版) Q3A 新原料药中的杂质

ICH 药品注册的国际技术要求(中文版) Q3A 新原料药中的杂质新原料药中的杂质ICH三方协调指导原则在2002年2月76日ICH指导委员会上进入ICH进程的第四阶段,被推荐给三方管理当局采纳。
目录1介绍2杂质的分类3杂质报告和控制的说明3.1有机杂质3.2无机杂质3.3溶剂4分析方法5各批次产品杂质含量的报告6规范中所列的杂质检查项目7杂质的界定8术语附件1:阈值附件2:申报表中鉴定或界定的报告杂质结果表附件3:鉴定和界定判断图新原料药中的杂质1介绍本文件旨在为那些尚未在任何地区或成员国注册的化学合成的新原料药在注册时,对其杂质的含量和界定的申报提供指导。
本指导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药。
本文件不涵盖生物/生物制品、肽、寡聚核苷酸、放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。
新原料药中的杂质应分两个方面阐述:✧化学方面:包括对杂质的分类和鉴定、报告生成(report generation)、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。
✧安全性方面:对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。
2杂质的分类杂质可分为下列类型:✧有机杂质(与工艺和药物有关的)✧无机杂质✧溶剂有机杂质可能会在新原料药的生产过程和/或储存期间有所增加。
这些杂质可能是已鉴定的或者是未鉴定的、挥发性的或者非挥发性的。
包括:✧起始物✧副产物✧中间体✧降解产物✧试剂、配位体、催化剂无机杂质可能来源于生产过程,它们通常是已知的和已鉴定的,包括:✧试剂、配位体、催化剂✧重金属或其他残留金属✧无机盐✧其他物质溶剂是在新原料药合成过程中用于制备溶液或混悬液的有机或无机液体,由于他们一般具有已知毒性,故较易选择控制方法(见ICH指导原则Q3C残留溶剂项下)。
不包括在本文件中的杂质为:(1)外源性污染物;不应该存在于新原料药中,可以用GMP 来控制的;(2)多晶型;(3)对映体杂质。
化学药物原料药制备技术指导原则-笔记

化学药物原料药制备研究的技术指导原则A.起始原料和试剂的要求原料药制备研究工作的基础/终产品的质量和工艺的稳定/质量研究提供有关的杂质信息/工业生产中的劳动保护和安全生产问题。
1.起始原料的选择原则:①质量稳定、可控②有来源、标准和供货商的检验报告③必要时应根据制备工艺的要求建立内控标准④由起始原料引入的杂质、异构体,必要时应进行相关的研究并提供质量控制方法⑤具有手性的起始原料,应制订作为杂质的对映异构体或非对映异构体的限度⑥应对该起始原料在制备过程中可能引入的杂质有一定的了解2 试剂和溶剂的选择:①一般应选择毒性较低的试剂②避免使用一类溶剂③控制使用二类溶剂④同时应对所用试剂、溶剂的毒性进行说明⑤以利于在生产过程中对其进行控制⑥有利于劳动保护《化学药物有机溶剂残留量研究的技术指导原则》3 内控标准:可能存在某些杂质在反应过程中无法将其去除或者参与了反应,对终产品的质量有一定的影响。
对产品质量有一定影响的起始原料、试剂应制订内控标准,同时还应注意在工艺优化和中试过程中起始原料和重要试剂规格的改变对产品质量的影响。
一般内控标准应重点考虑以下几个方面:①对名称、化学结构、理化性质要有清楚的描述;②要有具体的来源,包括生产厂家和简单的制备工艺;③提供证明其含量的数据,对所含杂质情况(包含有毒溶剂)进行定量或定性的描述;④如果需要采用起始原料或试剂进行特殊反应,对其质量应有特别的要求,如对于必须在干燥条件下进行的反应,需要对起始原料或试剂中的水分含量进行严格的要求和控制;若起始原料为手性化合物,需要对对映异构体或非对映异构体的限度有一定的要求;⑤对于不符合内控标准的起始原料或试剂,应对其精制方法进行研究,以利于对工艺和终产品的质量进行控制。
通常,在工艺稳定的条件下,所采用的起始原料、试剂的质量也应相对稳定。
B.中间体的研究及质量控制对原料药制备工艺、质量研究、结构确证研究提供重要依据《原料药结构确证研究的技术指导原则》①关键中间体对终产品的质量和安全性有一定的影响,因此对其质量进行控制十分重要。
有关物质
论谈下载某一化6产品,原标准中无有关物质项,参考原料的有关物质检查,自定HPLC法1.如何确定有关物质(或者说多大的峰才算是需要报告的有关物质)参考《化学药物杂质研究的技术指导原则》:对这个图加以理解:如主峰面积为100,最大剂量>1g,那么是不是只要杂质(除去空白辅料的峰,指空白辅料对主药无干扰时)的峰面积>0.05(即100×0.05%)就算做是需报告的有关物质了?2.有关物质的计算公式:照cp2005二部附录P30:公式应该为:但是在某产品(N久以前)原始记录中,发现公式为注:A杂为供试品溶液中杂质的峰面积;A对主为对照溶液中主成份峰面积;A供主为供试品溶液中主成份峰面积。
经与师傅讨论:纯理论上,两个公式所得到的结果应该时一样的,因为A对主×稀释倍数=A供主!那么本来一针就可以解决的问题,为什么要进两针呢?而且,在配制对照溶液的过程中,会有量取的误差和定容的误差同时存在!即:实际测得的有关物质%有可能偏大或者偏小!请教战友们是怎么看待这个问题的?3 .cp2005二部附录P30(4 不加校正因子的主成份对照法)中的一句话,感觉不妥:我是这样认为的:当供试品中的杂质与溶剂峰未完全分开时,①可能导致杂质峰与溶剂峰的积分不准确,特别是基线的一端会到0以下很多②因为供试品需要前处理,所以不可能得到与之组分一致的纯溶剂③在做方法学时就应该发现这个问题,并对流动相及溶剂加以重新选择,以使杂质跟溶剂峰能分离以上问题向大家请教!简单的说一下我的看法,欢迎指正错误。
1.是的。
2.公式1是自身对照法,公式2(N久以前)是面积归一化法,即cp2005二部附录P30中的(5),一般不用面积归一化法,具体为什么不用其在药典中有表述,也可问他人(强烈不建议问与你讨论此问题的师傅,具体为什么可PM来问),这个问题我就不在此赘述了。
面积归一化法在2004年申报也会被发补,并且原标准也采用此法仍被发补过。
药物研发的一些经验
药物研发的一些经验1、结合自身工作分析化学药物研究的现状及展望。
我国入世后,研发与创新是制药企业面临的最新课题,注册专员的往来穿梭形成了一道亮丽风景线,创新药物如雨后春笋般,频频问世。
在上市的激励和媒体的渲染下,大有气贯长虹之势。
我国真正被国际承认的创新药物不过2~3种,现行生产的药物98%是仿制品,独立自主研发的药品更少,随着科学的进步,研究有了较快的进展。
青蒿素是我国在世界首先研制成功的抗疟新药,是从植物黄花蒿中分离出来的有效草本,被世界卫生组织评价为治疗恶性疟疾唯一真正有效的药物,成为医药史上的一个创举。
近几年已有近20个一类新药相继上市,其中包括了全合成药物,如:抗肝炎一类新药百赛诺、抗前列腺增生药物爱普列特、抗缺血性脑卒中新一类药恩必普等,也有抗癌一类新药血卜啉和抗癌增敏剂甘氨双唑钠,同时也有国家中药一类新药人参皂甙Rg3和乌灵胶囊等。
随着中美《关于保护知识产权谅解备忘录》的签订,我国药品的研制重心逐渐从仿制向创新转移,一类新药有了快速的发展,生物类新药已成为一、一个瞩目的产业,而发挥创新药物的市场最大潜能至关重要。
目前,国产创新药物正处于导入阶段,距快速成长期仍有较大的路程,经济效益也尚未显示出来。
从近年跨国药企对新药市场的开发来看,其运行方式具有诸多的特点,其一是沿着已有的产品采取跟进方式,朝着系列化方向拓进,在专利产品即将到期并已成熟的市场上,逐渐投放换代产品,因势利导地进而巩固阵地。
面对市场竞争的日益加剧,我国创新药物的征程任重而道远,许多创新药物工艺冗长,反应条件苛刻,收率低、单耗高,已成为致命的弱点。
因此,成果转化的顺利进行,对产品形成规模起着决定性的作用。
化学研究的现状呈现以下几个特点:1、研究主体发生变化:一直以来,国内新药研发的主体都是科研院所,一些具有高科技含量的创新药物研发更是主要国内的药科大学及国家级新药研发基地承担。
民营药研机构迅速占领部分市场,民营性质药研机构分为两类:一类是无实验条件,只提供公共服务和技术指导的“脑力型”公司;另一类是有标准的实验室和高精设备、一流的研发力量,以技术输出为主的“技术型”公司。
ICH指南应用篇-杂质研究篇
药物研发在线高级培训班
ICH指南在药品研发与生产中的应用
五. ICH Q3A和Q3B-原料药和制剂的杂质研究
▪ 指南概要 ▪ 合成路线和合成杂质的确定 ▪ 稳定性指示的测定方法 ▪ 强制降解研究和降解产物的确定 ▪ 原料药中杂质控制限度的设置和论证 ▪ 制剂中杂质控制限度的设置和论证 ▪ 基因毒性杂质控制限度的设置和论证 ▪ 案例分析
▪ 酰卤、酸酐、酯、酰胺的水解反应机制很多是类似的,因为对酯水解的研究比较 深入,故可用它说明羧酸衍生物类药物的水解反应机制。在碱性条件下的酯水解 反应是酰氧键断裂机制。大多数发生亲核加成-消除过程:0H-先与酯羰基碳加成 。形成四面体,然后消除OR′。
▪ 在反应过程中,形成了一个四面体中间体的负离子,可以预见,若羰基附近的碳 上有吸电子基团就可以使负离子稳定而加速反应的水解,空间位阻越小,越有利 于加成反应。吸电子基团越多,吸电子能力越强,反应速率就越快。而羧酸的a 碳上空间位阻越大,或酯基中与氧连接的烷基碳上取代基越多,反应速率也就越 慢,化合物对碱水解的稳定性就越好。
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“ICH指南在药品研发与生产中的应用” 2018年1月3日
有机杂质控制限度设置
▪ 美国药典杂质:在美国药典正文(monograph)中列为特定杂质(Specified Impurities)的杂质,其控制限度应设置不高于美国药典的限度。
▪ 非美国药典杂质:如果美国药典正文没有对该杂质设置控制限度,或者美国 药典没有该药物的正文,则根据ICH的杂质指导原则Q3A(R)和Q3B(R),同时 也参考其它药典,如欧洲药典(EP)和英国药典(BP)来设置该杂质的控制 限度。就ICH的杂质指导原则来说,如果该杂质在实验测试中的实际观测水 平高于ICH的鉴定限,则必须确定为特定杂质,其控制限度必须设置为不高 于ICH的论证限(Qualification Threshold)。
化学药物质量标准建立的规范化过程技术指导原则-58页精选文档
4
制订药品质量标准的基础
☆文献资料的查阅和整理
☆有关研究资料的了解 化学结构、晶型、异构体、杂质情况、 合成工艺、制剂工艺、辅料等
03.01.2020
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药品质量标准制订的原则
1、安全有效性 毒性较大的杂质应严格控制,药物的晶型及异构体应重点研究。
2、先进性 赶超世界先进水平,选择“准确、灵敏、简便、快速”的检验方 法。经过反复试验,得到与真值相近的结果的方法,定入标准,在 准确的前提下,尽可能选择简便易行的方法,尽量避免使用有毒 试剂。
03.01.2020
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• 1、研制药物的特性
原料药一般考虑其结构特征、理化性质等;制剂应考虑不同
剂型的特点、临床用法,复方制剂不同成分之间的相互作用, 以及辅料对制剂安全性和有效性的影响(如眼用制剂中的防腐 剂、注射剂中的抗氧剂或稳定剂等)。
• 2、制备工艺对药物质量的影响
原料药通常考虑在制备过程中所用的起始原料及试剂、制备
03.01.2020
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• 本指导原则针对药物研发的不同情况(原料药及各种制剂)和
申报的不同阶段(申请临床研究、申报生产和试行标准转正 等),阐述质量研究和质量标准制订的一般原则和内容,重点 强调药物研发的自身规律、质量研究和质量标准的阶段性,以 及质量标准建立的规范化过程。
• 本指导原则旨在引导研发者根据所研制药物的特点和药物研发
中间体及副反应产物,以及有机溶剂等对最终产品质量的影响。 制剂通常考虑所用辅料、不同工艺的影响,以及可能产生的降 解产物等。同时还应考虑生产规模的不同对产品质量的影响。
• 3、药物的稳定性
确定质量研究内容时还应参考药物稳定性的研究结果,应考
虑在贮藏过程中质量可能发生的变化和直接接触药品的包装材 料对产品质量的影响。
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化学药物杂质研究的技术指导原则一、概述任何影响药物纯度的物质统称为杂质。
杂质的研究是药品研发的一项重要内容。
它包括选择合适的分析方法,准确地分辨与测定杂质的含量并综合药学、毒理及临床研究的结果确定杂质的合理限度。
这一研究贯穿于药品研发的整个过程。
由于药品在临床使用中产生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外,有时与药品中存在的杂质也有很大关系。
例如,青霉素等抗生素中的多聚物等高分子杂质是引起过敏的主要原因。
所以规范地进行杂质的研究,并将其控制在一个安全、合理的限度范围之内,将直接关系到上市药品的质量及安全性。
本指导原则是在借鉴国外相关指导原则[1][2] 的基础上,结合我国新药研发的实际情况制定的。
目的是为我国的药品研发提供有益的指导,从而提高药品的质量,保证人民的用药安全。
由于新药研究的探索性很强,每种药品的具体研究情况差异有可能很大,本指导原则不可能涵盖杂质研究的全部,仅提供了一个基本的研究思路和方法。
特殊情况下,研究单位可在科学、合理的基础上,对杂质进行研究,只要能用科学的数据证明药品中存在的杂质可被控制在安全、合理的范围内,就达到了杂质研究的目的。
本指导原则涵盖的范围包括新的及仿制已有国家标准的化学原料药及制剂。
发酵工艺生产的抗生素类药物一般不包括在本原则的讨论范畴,但如有可能,也建议参考本原则的有关要求。
由于我国对临床研究也实行行政审批的管理,所以,本指导原则不仅适用于上述药品的上市生产申请,也适用于临床研究的申请。
二、杂质的分类药品中的杂质按其理化性质一般分为三类:有机杂质、无机杂质及残留溶剂。
按照其来源,杂质可以分为工艺杂质(包括合成中未反应完全的反应物及试剂、中间体、副产物等)、降解产物、从反应物及试剂中混入的杂质等。
按照其毒性分类,杂质又可分为毒性杂质和普通杂质等。
杂质还可按其化学结构分类,如其它甾体、其它生物碱、几何异构体、光学异构体和聚合物等。
本指导原则主要按照杂质的理化性质分类。
有机杂质包括工艺中引入的杂质和降解产物等,可能是已知的或未知的、挥发性的或不挥发性的。
由于这类杂质的化学结构一般与活性成分类似或具渊源关系,故通常又可称之为有关物质。
无机杂质是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质,这些杂质通常是已知的,主要包括:反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等。
残留溶剂是指在原料药及制剂生产过程中使用的有机溶剂,其研究可参考有机溶剂残留量研究的技术指导原则。
对映异构体杂质属于杂质范畴,有关此类杂质的研究将在手性化合物研究指导原则中另行规定,本指导原则不作重复讨论。
生产过程中引入的外来污染物、原料药的不同晶型不属于本文讨论范畴。
三、分析方法分析方法的选择直接关系到杂质测定结果的专属性与准确性,因此,在进行杂质研究时首要问题是选择合适的杂质分析方法。
(一)分析方法的选择1、有机杂质的分析方法有机杂质的检测方法包括化学法、光谱法、色谱法等,因药物结构及降解产物的不同采用不同的检测方法。
通过合适的分析技术将不同结构的杂质进行分离、检测,从而达到对杂质的有效控制。
随着分离、检测技术的发展与更新,高效、快速的分离技术与灵敏、稳定、准确、适用的检测手段相结合,几乎所有的有机杂质均能在合适的条件下得到很好的分离与检测。
在质量标准中,目前普遍采用的杂质检测方法主要为高效液相色谱法(High Performanee Liquid Chromatography;HPLC)、薄层色谱法(ThinLayer Chromatography;TLC)、气相色谱法(Gas Chromatography GC)和毛细管电泳法(Capillary Electrophoresis;CE)。
应根据药物及杂质的理化性质、化学结构、杂质的控制要求等确定适宜的检测方法。
由于各种分析方法均具有一定的局限性,因此在进行杂质分析时,应注意不同原理的分析方法间的相互补充与验证,如HPLC 与TLC 及HPLC 与CE 的互相补充,反相HPLC 系统与正相HPLC 系统的相互补充,HPLC 不同检测器检测结果的相互补充等。
2、无机杂质的分析方法无机杂质的产生主要与生产工艺过程有关。
由于许多无机杂质直接影响药品的稳定性,并可反映生产工艺本身的情况,了解药品中无机杂质的情况对评价药品生产工艺的状况有重要意义。
对于无机杂质,各国药典都收载了经典、简便而又行之有效的检测方法。
对于成熟生产工艺的仿制,可根据实际情况,采用药典收载的方法进行质量考察及控制。
对于采用新生产工艺生产的新药,鼓励采用离子色谱法及电感耦合等离子发射光谱-质谱(ICP-MS)等分析技术,对产品中可能存在的各类无机杂质进行定性、定量分析,以便对其生产工艺进行合理评价,并为制定合理的质量标准提供依据。
通常情况下,不挥发性无机杂质采用炽灼残渣法进行检测。
某些金属阳离子杂质(银、铅、汞、铜、镉、铋、锑、锡、砷、锌、钴与镍等)笼统地用重金属限度检查法进行控制。
因在药品生产中遇到铅的机会较多,且铅易积蓄中毒,故作为重金属的代表,以铅的限量表示重金属限度。
如需对某种(些)特定金属离子或上述方法不能检测到的金属离子作限度要求,可采用专属性较强的原子吸收分光光度法或具有一定专属性的经典比色法(如采用药典已收载的铁盐、铵盐、硒等的检查法检测药品中微量铁盐、铵盐和硒等杂质)。
虽然重金属检查法可同时检测砷,但因其毒性大,且易带入产品中,故需采用灵敏度高、专属性强的砷盐检查法进行专项考察和控制,各国药典收载的方法已历经多年验证,行之有效,应加以引用。
由于硫酸根离子、氯离子、硫离子等多来源于生产中所用的干燥剂、催化剂或pH 调节剂等,考察其在产品中的残留量,可反映产品纯度,故应采用药典中的经典方法进行检测。
如生产中用到剧毒物(如氰化物等),须采用药典方法检测可能引入产品中的痕量残留物。
对于药典尚未收载的无机杂质(如磷酸盐、亚磷酸盐、铝离子、铬离子等)的检测,可根据其理化特性,采用具有一定专属性、灵敏度等的方法,如离子色谱法、原子吸收分光光度法、比色法等。
(二)分析方法的验证杂质检测方法的验证应参照相关的技术指导原则进行,重点在于专属性和灵敏度的验证。
专属性系指在其它成分可能共存的情况下,采用的方法能准确测定出被测杂质的特性。
检测限是反映分析方法灵敏度的一个重要指标,所用分析方法的检测限一定要符合质量标准中对杂质限度的要求,最低检测限不得大于该杂质的报告限度。
为验证杂质分析方法的专属性,对于原料药,可根据其合成工艺,采用各步反应的中间体(尤其是后几步反应的中间体)、立体异构体、粗品、重结晶母液等作为测试品进行系统适用性研究,考察产品中各杂质峰及主成分峰相互间的分离度是否符合要求,从而验证方法对工艺杂质的分离能力。
为了考察方法能否有效检测出原料药或制剂中的降解产物,还可根据药物的化学结构特点、制剂的处方与工艺、储存条件等选用合适的酸、碱、光、热、氧化反应等加速破坏性试验来验证分析方法的专属性,必要时可采用二极管阵列检测器、质谱检测器等检测峰的纯度。
因为在强制降解试验条件下产生的降解产物较药品货架期产生的降解产物复杂、未知杂质多,分离难度大,上述分析方法可有效地显示各色谱峰的纯度,以免因分离度不符合要求,导致分析结果的不准确。
如不具备检测峰纯度的试验条件,可通过适当调整流动相的组成或比例使各色谱峰的相对保留时间发生改变,用同一份经加速破坏试验的供试品溶液进样,然后比较流动相调整前后杂质峰的个数;也可采用TLC 法比较同一份经加速破坏试验的供试品溶液在不同展开系统下的斑点个数及位置,以此佐证杂质分析方法的专属性。
强制降解试验对于未知杂质的分离度考察是非常必要的,其目的主要是提供关于杂质(特别是降解物)与主成分的分离情况、样品稳定性及降解途径等重要信息。
在试验过程中,应注意破坏性试验要适度,应着重考察敏感条件。
如产品在一定条件下稳定,则无必要再提高条件的剧烈程度进行重复试验。
破坏试验的程度暂无统一要求,一般以强力破坏后主成分的含量仍占绝大部分为宜。
此时已产生了一定量的降解产物,与样品长期放置的降解情况相似,考察此情况下的分离度更具有实际意义。
要达到这种破坏程度,需要在研究过程中进行摸索,先通过初步试验了解样品对光、热、湿、酸、碱、氧化条件的基本稳定情况,然后进一步调整破坏性试验条件(如光照强度、酸碱浓度、破坏的时间、温度等),以得到能充分反映降解产物与主成分分离的结果和图谱。
另外,通过比较试验前后主峰面积的变化,还可粗略估算降解物对主成分的相对响应因子,了解样品在各种条件下的稳定性,为包装及贮藏条件的选择等提供信息。
对于性质相对稳定的药品,如有充分的文献依据或试验数据,则可以免做强制降解试验。
(三)有机杂质的定量方法有机杂质的检测一般多采用HPLC 法,有时也采用TLC、GC 等其它方法。
如采用HPLC法,须采用峰面积法,具体定量方法有①外标法(杂质对照品法)、② 加校正因子的主成分自身对照法、③不加校正因子的主成分自身对照法、④峰面积归一化法。
①法定量比较准确,采用时应对对照品进行评估和确认,并制订质量要求。
②法应对校正因子进行严格测定,仅适用于已知杂质的控制。
③法的前提是假定杂质与主成分的响应因子基本相同。
一般情况下,如杂质与主成分的分子结构相似,其响应因子差别不会太大。
④法简便快捷,但因各杂质与主成分响应因子不一定相同、杂质量与主成分量不一定在同一线性范围内、仪器对微量杂质和常量主成分的积分精度及准确度不相同等因素,所以在质量标准中采用有一定的局限性。
有关物质中包括已知杂质和未知杂质。
已知杂质对主成分的相对响应因子在0.9-1.1范围内[3]时,可以用主成分的自身对照法计算含量,超出0.9-1.1范围时,宜用杂质对照品法计算含量,也可用加校正因子的主成分自身对照法。
理想的定量方法为已知杂质对照品法与未知杂质不加校正因子的主成分自身对照法两者的结合。
研究人员可根据实际情况选用合适的定量方法。
在选择合适的分析方法时还应考虑生产能力及质量控制的可行性等技术因素。
尽管在附件中规定的限度精确到小数点后第二位,但并不意味着在日常的生产质控中所用的分析方法也要如此精确。
如经过必要的验证,也可采用薄层色谱法等分析方法。
在研发过程中,如果分析方法有改变,则应进行方法改变前后所得分析结果的可比性研究。
对于TLC 法,通常采用杂质对照品法和主成分自身对照法进行检控制,后者仅限于杂质斑点的颜色与主成分斑点颜色一致的情况下使用。
四、杂质检测数据的积累杂质检测数据的积累是制订质量标准中杂质限度的重要依据之一,它包括药品研制过程中所有批次样品(包括用于安全性、临床研究的样品)的杂质检测数据。
应该对大于报告限度的各杂质的检测结果进行汇总,各杂质应以编号或保留时间作为标识以便区分识别。