铁电存储器原理及应用比较
FeRAM铁电存储器魏双

特点
射频识别系统 在非接触式存储器领域里,FeRAM提供一个理想的解决方案。低功耗访 问在射频识别系统中至关重要,因为能源消耗是以距离成指数下降的。 想要以最小的能耗读写标签数据就必须保持标签有足够近的距离。通 过对射频发射机和接收机改进写入距离,降低运动的灵敏性以及降低 射频功率需求,使需要写入的应用获得优势。 诊断和维护系统 在一个复杂的系统里,记录系统失效时的操作历史和系统状态是非常 宝贵的。如果没有这些数据,能够准确的解决或执行需求指令是很困 难的。由于FeRAM具备高耐久性的特点,可以生成一个理想的系统日志。 从计算机工作站到工业过程控制等的系统,都能从FeRAM中获益
制造工艺
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置 于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化的方 法完成铁电存储器的制造。
特点
FeRAM具有快速写入、高耐久性、低功耗的特性,以下列举了FeRAM在一 些领域中与其他存储器相比的主要优势: 频繁掉电环境 任何非易失性存储器可以保留配置。可是,配置更改或电源失效情况随 时可能发生,因此,更高写入耐性的FeRAM允许无限的变更记录。任何时 间系统状态改变,都将写入新的状态。这样可以在电源关闭可用的时间 很短或立即失效时状态被写入存储器。 高噪声环境 在嘈杂的环境下向EEPROM写数据是很困难的。在剧烈的噪音或功率波动 情况下,EEPROM的写入时间过长会出现漏洞(以毫秒衡量),在此期间 写入可能被中断。错误的概率跟窗口的大小成正比。FeRAM的写入执行窗 口少于200ns。
结构原理
铁电存储器工作原理
FeRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储 ,铁电晶体的结构如图所示。铁电效应是指在 铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子 在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态; 当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来 的位置。这是由于晶体的中间层是一个高能阶 ,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高 能阶到达另一稳定位置,因此FeRAM保持数据 不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新 。由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振 极化特性,与电磁作用无关,所以FeRAM存储 器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素) 的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具 有非易失性的存储特性。
(整理)铁电存储器工作原理及应用

铁电存储器工作原理及应用摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。
将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。
最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。
关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术1 背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb 的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。
最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。
2 FRAM原理FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。
铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。
这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。
由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。
FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。
2.1 FRAM存储单元结构FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。
前期的FRAM的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为“双管双容”(2T2C),每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。
FeRAM铁电存储器魏双

结构原理
铁电存储器器件结构
目前铁电存储器最常见的器件结构是 Planar (平面式)和Sபைடு நூலகம்ack(堆叠式)结 构,两者的区别在于铁电电容的位置 和电容与MOS管互连的方式。在平面式 结构中,将电容置于场氧上面,通过 金属铝,将电容上电极和MOS管有源区 相连,工艺相对简单,但单元面积较 大;而在堆叠式结构中,将电容置于 有源区,通过塞子(Plug)将电容下电 极和MOS管源端相连,需要CMP工艺, 集成密度较高。另外,堆叠式结构可 以采用铁电电容制作在金属线上的做 法,从而减少铁电电容在形成过程中 对工艺的相互影响。
应用
三、非易失性缓冲
铁电存贮器(FeRAM)可以在其它存储器之前快速存储数据。在此情况 下,信息从一个子系统非实时地传送到另一个子系统去。由于资料的 重要性, 缓冲区内的数据在掉电时不能丢失,在某些情况下,目标系 统是一个较大容量的存储装置。FeRAM以其擦写速度快、擦写次数多使 数据在传送之前得到存储。 典型应用:工业系统、银行自动提款机 (ATM), 税控机, 商业结算系 统 (POS), 传真机,未来将应用于硬盘非易失性高速缓冲存储器。
应用
二、参数设置与存储 FeRAM通过实时存储数据帮助系统设计者解决了突然断电数据丢失的问 题。参数存储用于跟踪系统在过去时间内的改变,它的目的包括在上电 状态时恢复系统状态或者确认一个系统错误。总的来说,数据采集是系 统或子系统的功能,不论何种系统类型,设置参数存储都是一种底层的 系统功能。 典型应用: 影印机,打印机,工业控制,机顶盒,网络设备和大型家用电 器
制造工艺
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置 于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化的方 法完成铁电存储器的制造。
铁电存储器 [自动保存的]
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二、FRAM原理及特点
写入方法与DRAM稍有不同。DRAM利用电容器中有无电荷记录数据,因此使用名 为位线的布线单向加压。而FeRAM由于必须双向加压,因此除位线以外,还添加 了名为板线的线路。写入“1”时,由板线向位线加压。写入“0”时则反过来由 位线向板线加压。 读取方法也不同于DRAM。DRAM根据电容器中有无电荷判定 “1”或“0”。而FeRAM则不能直接读出电容器的状态。因此读取时通过强行写 入“1”,来判定“0”还是“1”。数据为1时由于状态不变,因此电荷移动少。 而数据为0时由于状态发生反转,因此会产生大的电荷移动。利用这种电荷差判 定1和0, FeRAM在读取时也进行写入动作。
铁电存储器成品图
五、FRAM与其它存储技术比较
FRAM与E2PROM FRAM可以作为E2PROM的第二种选择,它除了 E2PROM的性能外,访问速度要快得多。
FRAM与SRAM 从速度、价格及使用方便来看SRAM优于FRAM,但 是从整个设计来看,FRAM还有一定的优势。 非易失性的FRAM可以保存启动程序和配置信息。如 果应用中所有存储器的最大访问速度是70ns,那么可以 使用一片FRAM完成这个系统,使系统结构更加简单。
但是在铁电电容中反复写入会使之加速老化。
也就是说不仅是写入时,读取时FeRAM也会产生 老化,并且FeRAM在读取时与DRAM一样,是破坏 性读取,所以也需要像DRAM那样进行回写操作
FRAM的读操作
FRAM读操作过程是:在存储单元电容上施加一已 知电场,如果原来晶体的中心原子的位置和施加的电 场方向后使中心原子达到的位置相同,则中心原子不 会移动;若不相同,则中心原子将越过晶体中间层的 高能阶到达另一位置,则在充电波形上就会出现一个 尖峰,即产生原子移动的比没有产生移动的多了一个 尖峰,把这个充电波形 同参考位的充电波形进行比较, 便可以判断检测的存储单元中的内容是“1”或“0”。。
完美的铁电存储器

完美的铁电存储器一. Fujitsu铁电存储器(FRAM) 技术原理日本Fujitsu公司是全球最大的铁电存储器(FRAM)供货商,至2010年12月31日,全球已经累计出货17亿颗铁电存储器!Fujitsu公司铁电存储器(FRAM)的核心技术是铁晶体管材料,这一特殊材料使得铁电存储产品同时拥有随机存取内存(RAM) 和非挥发性存贮产品(ROM)的特性。
铁晶体管材料的工作原理是:当我们把电场加载到铁晶体管材料上,晶阵中的中心原子会沿着电场方向运动,到达稳定状态,晶阵中的每个自由浮动的中心原子只有两个稳定状态,一个我们拿来记忆逻辑中的0、另一个记亿1,中心原子能在常温,没有电场的情况下停留在此状态达一百年以上。
铁电存储器不需要定时刷新,能在断电情况下保存资料。
二、Fujitsu铁电存储器(FRAM) 技术优点传统半导体内存有两大体系:挥发性内存(Volatile Memory),和非挥发性内存(Non-volatile Memory)。
挥发性内存如SRAM和DRAM 在没有电源的情况下都不能保存资料,但这种内存拥有高性能、易用等优点。
非挥发性内存像 EPROM、 EEPROM和 FLASH 能在断电后仍保存资料,但由于所有这些内存均起源自只读存储器 (ROM) 技术,所以您不难想象得到它们都有不易写入的缺点,确切的来说,这些缺点包括写入缓慢、有限次写入次数、写入时需要特大功耗等等。
FRAM第一个最明显的优点是FRAM可跟随总线(Bus Speed)速度写入,若比较起 EEPROM/Flash的最大不同的是 FRAM在写入后无须任何等待时间(NoDelayTM Write),而 EEPROM/Flash须要等 3~10毫秒 (mS) 才能写进下一笔资料。
铁电存储器(FRAM)的第二大优点是近乎无限次读写。
当 EEPROM/Flash只能应付十万次 (10的5次方)至一百万次写入时,新一代的铁电存储器(FRAM)已达到一百亿个亿次(10的 10次方)的写入寿命。
铁电存储器FM24C04原理及应用

f b iE e t c P w rT s n & Reerh I s tt, h n 4 0 7 C ia Hu e lcr o e et g i i sac n tue Wu a 3 0 7, hn ) i
Ab t a t T i ri l d s rb s F ro l c rc Ra d m c s Me r e h o o y n h s r c : h s a t e e c e e r e e t n o Ac e s c i i mo y t c n l g a d t e a v n a e , o a e w t o e me r t c n l g , e h tc l i t d c s h h r — d a t g s c mp r d i h h t r mo y e h o o mp ai a l n r u e t e a d y y o wa e,h p r to n h p lc t n f F r t e o e a i n a d t e a p i a i s o RAM M 2 C 4 p o u e y o F 4 0 r d c d b Ra r n C r . mto o p Ke y wo d f ro l c rc r n o a c s me r ; i h e d r c r a / r t n r t d — r s:e r e e ti a d m c e s mo h g n u a e e d w i y n e; o w i e e
无 限次 写 入等 超级 特性 。
可 见 ,这 一 特 殊 材 料 使 得 铁 电 存 储 产 品 同 时拥 有 随 机 存 取 存 储 器 ( AM) 非 易 失 性 存 储 产 品 的 特 R 和
铁电随机存储器(FRAM)的工作原理

FRAM技术Faler整理 2007-4-2FRAM的工作原理FRAM技术的核心是将微小的铁电晶体集成进电容内,使到FRAM产品能够象快速的非易失性RAM那样工作。
通过施加电场,铁电晶体的电极化在两个稳定状态之间变换。
内部电路将这种电极化的方向感知为高或低的逻辑状态。
每个方向都是稳定的,即使在电场撤除后仍然保持不变,因此能将数据保存在存储器中而无需定期更新。
相对于其它类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。
传统的主流半导体存储器可以分为两类--易失性和非易失性。
易失性的存储器包括静态存储器SRAM(static random access memory)和动态存储器DRAM(dynamic random access memory)。
SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。
RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下会失去所保存的数据。
非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。
然而所有的主流的非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。
所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。
这些技术包括有EPROM(几乎已经废止)、EEPROM和Flash。
这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。
铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。
铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁--一种非易失性的RAM。
当一个电场被加到铁电晶体时,中心原子顺着电场的方向在晶体里移动。
当原子移动时,它通过一个能量壁垒,从而引起电荷击穿。
内部电路感应到电荷击穿并设置存储器。
移去电场后,中心原子保持不动,存储器的状态也得以保存。
铁电存储器不需要定时更新,掉电后数据能够继续保存,速度快而且不容易写坏。
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。
铁电薄膜被放置于CMOS 基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化后完成铁电制造过程。
铁电存储器工作原理和器件结构

铁电存储器工作原理和器件结构摘要:铁电存储器与传统的非易失性存储器相比,具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此在一些特殊应用领域具有很好的市场。
文章介绍了铁电存储器的基本工作原理,并介绍了两种主流的铁电材料。
文章还介绍了铁电存储器的电路结构,包括2T2C、1T1C、1T2C以及链式结构,并说明了铁电存储器的读写过程。
铁电存储器的器件结构主要有Planar 结构和Stacked 结构两种。
Planar 结构制作工艺相对简单,但是集成度不高。
Stacked 结构的集成度更高,对工艺的要求也更高。
1 铁电存储器简介随着IT 技术的不断发展,对于非易失性存储器的需求越来越大,读写速度要求越来越快,功耗要求越来越小,现有的传统非易失性存储器,如EEPROM、FLASH 等已经难以满足这些需要了。
传统的主流半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。
易失性存储器包括静态存储器SRAM(Static RandomAccessMemory)和动态存储器DRAM(Dynamic RandomAccessMemory)。
SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。
RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下失去所保存的数据。
非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。
然而所有的主流非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。
正如你所猜想的一样,被称为只读存储器的东西肯定不容易进行写入操作,而事实上是根本不能写入。
所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。
这些技术包括有EPROM、EEPROM和Flash。
这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。
相对于其他类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。
铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。
铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁——一种非易失性的RAM。
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铁电存储器原理及应用比较摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。
将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。
最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。
关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术1 背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。
最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。
2 FRAM原理FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。
铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。
这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。
由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。
FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。
2.1 FRAM 存储单元结构FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。
前期的FRAM的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为“双管双容”(2T2C),每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。
2001年Ramtron设计开发了更先进的“单管单容”(1T1C)存储单元。
1T1C的FRAM所有数据位使用同一个参考位,而不是对于每一数据位使用各自独立的参考位。
1T1C的FRAM产品成本更低,而且容量更大。
简化的1T1C存储单元结构(未画出公共参考位)如图2(b)所示。
2.2 FRAM的读/写操作FRAM保存数据不是通过电容上的电荷,而是由存储单元电容中铁电晶体的中心原子位置进行记录。
直接对中心原子的位置进行检测是不能实现的。
实际的读操作过程是:在存储单元电容上施加一已知电场(即对电容充电),如果原来晶体中心原子的位置与所施加的电场方向使中心原子要达到的位置相同,中心原子不会移动;若相反,则中心原子将越过晶体中间层的高能阶到达另一位置,在充电波形上就会出现一个尖峰,即产生原子移动的比没有产生移动的多了一个类峰。
把这个充电波形同参考位(确定且已知)的充电波形进行比较,便可以判断检测的存储单元中的内容是“1”或“0”。
[!--empirenews.page--]无论是2T2C还是1T1C的FRAM,对存储单元进行读操作时,数据位状态可能改变而参考位则不会改变(这是因为读操作施加的电场方向与原参考位中原子的位置相同)。
由于读操作可能导致存储单元状态的改变,需要电路自动恢复其内容,所以每个读操作后面还伴随一个“预充”(precharge)过程来对数据位恢复,而参考位则不用恢复。
晶体原子状态的切换时间小于1ns,读操作的时间小于70ns,加上“预充”时间60ns,一个完整的读操作时间约为130ns。
图2 写操作和读操作十分类似,只要施加所要的方向的电场改变铁电晶体的状态就可以了,而无需进行恢复。
但是写操作仍要保留一个“预充”时间,所以总的时间与读操作相同。
FRAM的写操作与其它非易失性存储器的写操作相比,速度要快得多,而且功耗小。
2.3 FRAM的读写时序在FRAM读操作后必须有个“预充电”过程,来恢复数据位。
增加预充电时间后,FRAM一个完整的读操作周期为130ns,如图3(a)所示。
这是与SRAM和E2PROM不同的地方。
图3(b)为写时序。
3 FRAM与其它存储技术比较目前Ramtron公司的FRAM主要包括两大类:串行FRAM和并行FRAM。
其中串行FRAM 又分I2C两线方式的FM24××系列和SPI三线方式的FM25xx系列。
串行FRAM与传统的24xx、25xx型的E2PROM引脚及时序兼容,可以直接替换,如Microchip、Xicor公司的同型号产品;并行FRAM价格较高但速度快,由于存在“预充”问题,在时序上有所不同,不能和传统的
SRAM直接替换。
FRAM产品具有RAM和ROM优点,读写速度快并可以像非易失性存储器一样使用。
因铁电晶体的固有缺点,访问次数是有限的,超出限度,FRAM就不再具有非易失性。
Ramtron给出的最大访问次数是100亿次(10 10),但是并不是说在超过这个次数之后,FRAM 就会报废,而是它仅仅没有了非易失性,但它仍可像普通RAM一样使用。
(1)FRAM与E2PROMFRAM 可以作为E2PROM的第二种选择。
它除了E2PROM的性能外,访问速度要快得多。
但是决定使用FRAM之前,必须确定系统中一旦超出对FRAM的100亿次访问之后绝对不会有危险。
图3 (2)FRAM与SRAM从速度、价格及使用方便来看,SRAM优于FRAM;但是从整个设计来看,FRAM 还有一定的优势。
假设设计中需要大约3KB的SRAM,还要几百个字节用来保存启动代码的E2PROM配置。
非易失性的FRAM可以保存启动程序和配置信息。
如果应用中所有存储器的最大访问速度是70ns,那么可以使用1片FRAM完成这个系统,使系统结构更加简单。
(3)FRAM 与DRAMDRAM适用于那些密度和价格比速度更重要的场合。
例如DRAM是图形显示存储器的最佳选择,有大量的像素需要存储,而恢复时间并不是很重要。
如果不需要下次开机时保存上次内容,使用易失性的DRAM存储器就可以。
DRAM的作用与成本是FRAM无法比拟的。
事实证明,DRAM不是FRAM所能取代的。
[!--empirenews.page--](4)FRAM与Flash现在最常用的程序存储器是Flash,它使用十分方便而且越来越便宜,程序存储器必须是非易失性的,并且要相对低廉,还要比较容易改写。
而使用FRAM会受访问次数的限制。
4 FRAM与单片机接口下面介绍并行FRAM——FM1808与8051/52—的实际应用。
4.1 预充电信号的产生在大多数的8051系统中,对存储器的片选信号CE通常允许在多个读写访问操作时保持为低。
但这对FM1808不适用,必须在每次访问时CE由硬件产生一个正跳变。
标准8051核的一个机器周期包括12个时钟周期,ALE信号在每个机器周期中有效两次,除了对外部[1][2]下一页数据存储器访问时仅有效一次。
8051对外部存储器的读或写操作需要两个机器周期。
快速型8051如DS87C520或W77E58的一个机器周期仅需4个时钟周期,而在一些新的,如Philips 的8051中,一个机器周期为6个时钟周期,在任何一个机器周期中ALE信号都有效两次。
尽管有这些不同,仍可以用ALE信号和地址片选来产生可用作FRAM访问的CE信号。
要保证对FM1808的正确访问,必须注意两点:第一,FRAM的访问时间必须大于70ns;第二,ALE的高电平宽度必须大于60ns。
对于标准的8051/52,ALE信号的宽度因不同厂家略有不同。
一些快速的8051/52系列,如Dallas的DS87C520,Winbond的W77E58则更窄一些。
图4 根据前面的介绍,要实现对FM1808的正常操作,对于标准8051/52来说,主频不能高于20MHz;而对于高速型的8051/52,主频不应高于23MHz。
4.2 FM1808与8051的接口电路FM1808与8051接口电路如图4所示。
这里使用8051的ALE信号和由地址产生CE的片选信号相“或”来产生CE的正跳变。
2片32K×8的FRAM存储器,A15与ALE通过74FC32相“或”作为U2的片选,取反后作为U3的片选。
所以,U2的地址为0~7FFFH,U3的地址为8000H~FFFFH。
8051的RD信号与PSEN信号相“与”后作为U3的输出允许,所以U3作为程序或数据存储器使用。
当J1跳接块在右边时,U2与U3用法相同;而J1跳接在左边时,U2仅作为程序存储器。
要保证代码不会意外地被改写,仅需断开J2即可。
需要注意的是,由于逻辑门电路都有6~8ns的延时时间,在主频较高时对应使用快速型逻辑芯片(F系列)。
结语FRAM产品为我们提供了可使用的存储器的一种新选择,在原来使用E2PROM的应用中表现会更出色,为某些原来认为需要使用SRAM的E2PROM的应用系统找到一种新的途径。
但是由于最大访问次数的限制,要成为理想的通用存储器,FRAM还有很长的路要走。