世昂磁控溅射仪操作指南 修改[dxy]

的位置有无异常，靶位是否正常，所有仪表电源开关处于关闭状态。 c. 检查真空室气路截止阀、充气阀是否关闭，检查真空室各接口螺栓是否
拎紧。 d. 查看水冷机的水位及其与各部分，包括分子泵、靶位的接口是否牢固，
检查有无漏水现象。 e. 查看Ar气、N2气气瓶是否处于关闭状态，查看气体余量。
3 注意事项： a.开机前检查各供水系统，各开关、阀的位置。 b.所有操作要详细阅读相关说明书。 c.实验过程中应时刻留意分子泵的运行状况。分子泵停转后，应立即关闭冷
1. 在进入实验室之后，为保证实验人员的安全，实验步骤的规范，以及出于对 仪器的保护，穿好实验服，戴口罩，手套，准备开始实验。
2.进行实验之前，检查实验仪器是否处于正常状态，包括： a. 查看大型设备使用登记表，以及实验记录本，查看上次实验过程中是否
有异常，上次实验日期及溅射材料。并做好使用登记。 b. 检查设备各线路、气路是否完好，供电、供水是否正常，各开关、阀门
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注意：1.整个实验过程要求戴手套。吹的过程中，气枪与玻璃表面成一定角度（大 约 30 度）并戴口罩；
2.在配置浓硫酸和双氧水溶液时，注意安全，穿实验服，规范操作并且带 橡胶手套；
3.基片清洗完毕后尽量尽快使用，且不能翻转、震动样品盒避免损伤基片。
第二部分：磁控溅射操作流程 2.1 开机抽真空步骤：
1.检查插板阀（溅射室与样品室之间）、闸板阀（分子泵上面）、样品室和溅射 室充气阀是否关闭，还应检查各部件的链接情况，如冷却水，电路、气路 等。检 查完毕，各阀门没有异常之后可以开始抽真空。
2.打开“总电源”，为控制面板供电，打开“总供电”，为设备供电。接通电源 之后，检查各指示灯是否正常，如果发生异常，寻找原因，保证实验正常进行。
2.清洗。将样平台（腔内部分）拆下来，和基片夹、挡板等放入被稀释的盐酸溶
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液中浸泡十分钟左右，然后用砂纸打磨每个部件，直到部件表面干净且呈金属光 泽，然后用自来水冲洗干净，冲洗过后，将部件放入铺有铝箔的烘箱内干燥(干 燥时间：半小时左右，温度：80℃)等干燥完成之后，将部件取出，用酒精棉擦 拭，然后用N2气吹干，经负责人检查合格后进行安装。
1.送入基片继续抽真空到实验要求（e-4Pa）真ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ度后，准备开始溅射。先检查 仪器有无异常，靶位、挡板是否处在正确位置（靶位降下，挡板关闭）。 具体操作：打开烘烤照明电源，将功能选择选为“照明”，观察腔体内部，确定 挡板关闭，即挡板盖在靶材表面。
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烘烤照明控制面板
2.打开基片加热电源，为基片加热到指定温度。若样品选择室温溅射则省略此步 骤。 具体操作：打开电源后，根据实验具体要求设定好程序（设定过程可参考说明书）， 按下启动、运行按钮，开始运行程序。
却水，以避免泵内形成冷凝水。 d.在实验过程中，如果发现异常，非专业不要擅自处理，应该及时和老师或
相关人员联系，尽快解决。 e.在镀膜完成后，磁控靶的冷却水不能立即停止，要等到靶表面冷却后再停
止供应，防止靶被烧坏。 f.在打开腔体时，注意通风，腔体内的气体对人体有害。 g.由于溅射过程会使得腔体外壁积累电荷，所以不要赤手接触腔体外壁，防
插板阀
旋转插板阀的过程中，在打开与 关闭的临界状态时应缓慢旋转
4.将磁棒上的基片夹通过磁力杆由样品室送入溅射室腔体，经过一系列操作，使 基片夹固定在样品台上，将磁力杆退出，然后关闭插板阀。继续抽真空。
溅射室内部照片
基片夹通过磁棒送入腔体
样品送入的过程完成。
基片夹被固定在样品台上，磁棒退出
2.3 溅射过程：
第二部分：磁控溅射操作流程 ....................................................................................................... 4 2.1 开机抽真空步骤： ........................................................................................................ 4 2.2 送入样品步骤： ........................................................................................................... 6 2.3 溅射过程： ................................................................................................................... 8 2.4 样品取出步骤： ......................................................................................................... 13 2.5 停止仪器 ..................................................................................................................... 14
止静电伤害。 h.未经允许任何人不得对仪器进行任何操作。
特别注意：不能将电磁阀 I（溅射室电磁阀）和电磁阀 II（样品室电磁阀）
同时打开，避免分子泵两端的压强差过大而损坏分子泵。
1.2 腔体清理：
1.开盖。经以上检查确定仪器设备处于正常状态后打开仪器总电源、总供电，打 开溅射室真空计，观察其真空度应在 50Pa以下。关闭真空计，拎开溅射室充气 阀向溅射室腔体充入气体（先充入一定量的N2气，然后可直接充入空气）听不到 气流声后，过 1-2min后开启腔盖，按升降台控制按钮（非控制面板），溅射室上 盖则缓缓打开。
注意：整个实验过程要求戴手套、口罩。安装时，基片正面朝下，并根据需 要选择性安装掩膜。同时安装基片时要注意不能让基片的正面接触桌面，避免人 手等污染源。
基片夹的部件
安好基片的基片夹
2.安装好基片后，用气枪将基片上的灰尘吹掉，即可将基片夹放入样品室。 注意：气枪吹的过程中，气枪与基片表面成一定角度，效果较好。
3.将腔体的内部包裹一层铝箔，防止源材料溅射到腔体内壁，难以清理，从而在 其他材料溅射时成为污染源。
4.每次溅射都会使腔体的观察窗玻璃被污染，溅射前要将腔体窗口玻璃换成干净 的玻璃。（被污染的玻璃通过硫酸和双氧水混合液浸泡清洗干净。）
5.安装靶材，将选好的靶材安装在相应的靶位上。必须保证靶材和腔体绝缘（利 用万用表测试靶材与腔体之间的电阻，电阻在 1 兆欧左右表示没有短路），靶材 表面与靶罩之间的距离最多不能超过 2 毫米，且越近越好。抽真空到 5Pa 左右时 试一下能否起辉。换下来的靶材应立即真空封存。
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用气枪吹基片
将基片放入样品室
基片夹安放在样品室。
3.将基片放好之后，关上样品室窗口，打开样品室真空规，观察样品室气压，应
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该接近大气压强。此时，关闭电磁阀Ⅰ，打开电磁阀Ⅱ，观察样品室的真空达到 10pa 以下之后，关闭电磁阀Ⅱ，打开电磁阀Ⅰ，打开插板阀（标注），插板阀开 到最大。 注意：不能将电磁阀 I 和电磁阀 II 同时打开，避免分子泵两端的压强差过大而 损坏分子泵。
水 位 指 示
水冷机
如图为正常，若缺水，警报会响，注意加水。
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分子泵控制面板
5.当气压低于 1pa 时（可设定），电离规自动开启，继续抽真空至实验要求本底 真空度为 e-4pa（电离规）。分子泵运行稳定后可以对腔体进行适当的烘烤。
2.2 送入样品步骤：
1.当腔体真空度达到要求之后，将清洗好的基片从基片盒中取出，安装在在基片 夹上。
a.在打开水冷机前检查水冷机水位，以及水管和分子泵连接接是否牢固，确 定无误后再打开。
b.我们使用的分子泵加速时间应小于 6min，即 6 分钟之内达到额定转速 36000 rpm。实验过程中应时刻留意分子泵的运行状况。
c. 初次使用或长期闲置（一般 3 个月以上）后重新使用，再次启动分子泵 时，待控制器显示分子泵达到额定转速 36000r/min 时，按下“停止/复位”键。 当分子泵停止后，等待 10min，重启分子泵。重复此过程 2-3 次即可以正常启动 分子泵。
2 准备基片 将已经切割好（微细加工中心切割）的相应规格的基片进行清洗，玻璃基片
清洗步骤如下： ①取一大烧杯，加入自来水和洗涤剂，将要清洗的基片放入基片花篮中，将整个 花篮浸入烧杯中。 ②将每片基片用镊子夹起，用无尘布擦拭，擦拭完之后放回基片花篮，再擦拭下 一片，默认一面为正面，按自己的方式标记。擦拭完成之后，将洗涤剂和是自来 水倒掉，并用大量自来水冲洗烧杯中的花篮，直到没有泡沫为止。 ③用去离子水冲洗花篮，3-5 次。 ④在烧杯中按照 1:4 的比例依次加入双氧水和浓硫酸，在一百八十度下煮，直到 烧杯中的液体不再冒气泡为止（约 30 分钟）。 ⑤将废液倒入酸性液体回收处，用自来水（去离子水）冲洗烧杯中的花篮。 ⑥用去离子水冲洗花篮 3-5 次。 ⑦烧杯中加入一定量的去离子水，在超声波中清洗五分钟。（2-3 次） ⑧将去离子水倒掉，用无水乙醇超声波清洗五分钟。（2-3 次） ⑨洗完之后，将基片一片一片取出，用氮气迅速吹干，然后放入事先准备好的洁 净基片盒中，正面朝上，真空封口后储存备用。
基片加热控温电源
3.启动样品台电机转动。 具体操作：打开挡板控制电源和样品台控制电源，然后打开电脑桌面图标“镀膜 监控程序”，进入控制面板。点击“调试”菜单，在“旋转转速”栏输入 10（或 其他适当数值），点击“启动”按钮，使样品台以 10 转/min 的速度转动起来。
3.打开腔体真空计，观察电阻规的示数，此时气压应为接近大气压强。若上次 试验后没有开盖则打开真空计检查腔体内气压，一般正常应低于 50Pa，若气压 异常，则检查漏气部分，保证实验不受漏气的影响。