(第二章)半导体物理2010
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半导体物理学第二章

r相对介电常数
5 杂质的补偿作用
• 同时掺入P型和n型两种杂质,它们会相互抵消。 • 若ND>NA,则为n型半导体,n= ND-NA ; • 反之为P型,p= NA-ND。 • 其净杂质浓度称之为“有效杂质浓度”。 • 值得注意的是,当两种杂质的含量均较高且浓度基本相同
时,材料容易被误认为是“高纯半导体”,实际上,过多 的杂质含量会使半导体的性能变差,不能用于制造器件。
空位缺陷的最近邻有四个原子,每个原子有一个不成对 的电子,为不饱和的共价键,有接受电子的倾向,表现 出受主的作用。反之,间隙缺陷有四个可以失去的价电 子,表现为施主。
热缺陷产生的原因
• 系统的热平衡取决于自由能 F= U-TS。而S=klnW,设 熵是由组态变化引起。在N个原子的晶体中,有n个空位, 则排列方式为W=(N+n)!/N!n!种。
• 结论:掺磷(5价),施主,电子导电,n型半导体。
半导体的掺杂
施主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子, 并成为带正电的离子。如Si中的P 和As
ED
As
N型半导体
施主能级
EC ED
EV
3 受主杂质 受主能级
• 在硅中掺入3价的硼B,硼原子有3个价电子,与周围四个 硅原子形成共价鍵,缺少一个电子,必须从周围获得一 个电子,成为负电中心B-。
主要讨论杂质和缺陷:
杂质的影响:105个硅原子中有一个杂质硼原子,室温电 导率增加103个数量级。 缺陷的影响:硅平面器件要求位错密度控制在103cm2以下。 原因1.破坏了周期性势场; 2.在禁带中引入了杂质能级。
与理想情况的偏离的影响
• 极微量的杂质和缺陷,会对半导体材料 的物理性质和化学性质产生决定性的影 响,同时也严重影响半导体器件的质量。 – 1个B原子/ 1 0 5 个Si原子 在室温下电导率提高1 0 3 倍 – Si单晶位错密度要求低于 103cm2
5 杂质的补偿作用
• 同时掺入P型和n型两种杂质,它们会相互抵消。 • 若ND>NA,则为n型半导体,n= ND-NA ; • 反之为P型,p= NA-ND。 • 其净杂质浓度称之为“有效杂质浓度”。 • 值得注意的是,当两种杂质的含量均较高且浓度基本相同
时,材料容易被误认为是“高纯半导体”,实际上,过多 的杂质含量会使半导体的性能变差,不能用于制造器件。
空位缺陷的最近邻有四个原子,每个原子有一个不成对 的电子,为不饱和的共价键,有接受电子的倾向,表现 出受主的作用。反之,间隙缺陷有四个可以失去的价电 子,表现为施主。
热缺陷产生的原因
• 系统的热平衡取决于自由能 F= U-TS。而S=klnW,设 熵是由组态变化引起。在N个原子的晶体中,有n个空位, 则排列方式为W=(N+n)!/N!n!种。
• 结论:掺磷(5价),施主,电子导电,n型半导体。
半导体的掺杂
施主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子, 并成为带正电的离子。如Si中的P 和As
ED
As
N型半导体
施主能级
EC ED
EV
3 受主杂质 受主能级
• 在硅中掺入3价的硼B,硼原子有3个价电子,与周围四个 硅原子形成共价鍵,缺少一个电子,必须从周围获得一 个电子,成为负电中心B-。
主要讨论杂质和缺陷:
杂质的影响:105个硅原子中有一个杂质硼原子,室温电 导率增加103个数量级。 缺陷的影响:硅平面器件要求位错密度控制在103cm2以下。 原因1.破坏了周期性势场; 2.在禁带中引入了杂质能级。
与理想情况的偏离的影响
• 极微量的杂质和缺陷,会对半导体材料 的物理性质和化学性质产生决定性的影 响,同时也严重影响半导体器件的质量。 – 1个B原子/ 1 0 5 个Si原子 在室温下电导率提高1 0 3 倍 – Si单晶位错密度要求低于 103cm2
半导体物理学-第二章-半导体中的杂质和缺陷

m* mo
1
r2
moq4
8
2 o
h2
m* mo
1
r2
E0
施主杂质电离能
ED
mn*q 4
8
r2
2 0
h
2
mn* m0
E0
2 r
受主杂质电离能
E A
m*p q 4
8
r2
2 0
h
2
m*p m0
E0
2 r
对于Si中的P原子,剩余电子的运动半径 约为24.4 Å: ( r )Si 12 me* 0.26mo
剩余电子本质上是 在晶体中运动
对于Si、Ge掺P
m* eSi
0.26m0 ,
m* eGe
0.12m0 rSi 12, rGe 16, r2 100
Ec ED Ev
施主能级靠近导带底部
ED
me* mo
1
r2
E0
ED,Si 0.025 eV ED,Ge 0.064 eV
估算结果与实测值有 相同的数量级
b:替位式杂质 特点:杂质原子的大小与被替代的晶格原子大小
可以相比,价电子壳层结构比较相近,Ⅲ和Ⅴ族元 素在Si,Ge中都是替位式
单位体积中的杂质原子数称为杂质浓度
A: 间隙式→杂质位于间隙
位置。
Si
Li:0.068nm
B:替位式→杂质占据格点 Si
位置。大小接近、电子
壳层结构相近
Si
Si:r=0.117nm B:r=0.089nm P:r=0.11nm
主要内容
§2-1 元素半导体中的杂质能级
1. 浅能级杂质能级和杂质电离; 2. 浅能级杂质电离能的计算; 3. 杂质补偿作用 4. 深能级杂质的特点和作用
半导体物理第二章概述

半导体的导带和价带中,有很多能级存在,间隔 很小,约10-22eV,可以认为是准连续的。
• 状态密度:能带中能量E--E+dE之间有dZ个量子态。
dZ g (E) = dE
即状态密度是能带中能量E附近单位 能量间隔内的量子态数目
怎样理解状态密度?
1、理想晶体的k空间的状态密度
(1):一维晶体(一维单原子链) 设它由N个原子组成,晶格常数为a,晶体的长为L=aN, 起点在x处
一定到达某点,只给出到达各点的统计分布。粒子在
某点出现的几率与波函数的强度
*成正比
2
5、 自由电子波函数 解自由电子薛定谔方程可得自由电子波函数与能量:
( x) Ae 式中k
i ( kx t ) 2
,
E
k
2
2m0
2
,m0 为电子惯性质量,ห้องสมุดไป่ตู้角频率
自由电子速度
·
· 2
L
·
0
· 2
L
·
k
(2).三维立方晶体
设晶体的边长为L,L=N× a,体积为V=L3
K空间中的状态分布
kz
kx
• • • • • • 2 • • L • • • • •• •• • • • • • • • • • • • • • • •
3
• • • • • • • • • • • • • •
* 0 。 2、对于能带底,E(k)>E(0),顾 mn
半导体中的电子
k2 E (k ) E (0) * 2mn
1 d 2E 1 * 2 2 dk k 0 mn
2
自由电子能量:
k2 E 2m
第2章 半导体物理概论

《半导体材料及工艺》
河南科技大学
第二章 半导体物理概论
2.1 半导体中电子的能量状态 2.2 半导体的导电性 2.3 半导体中的额外载流子
2.1 半导体中电子的能量状态
2.1.1 能带理论 2.1.2 半导体的能带结构 2.1.3 半导体中的载流子 2.1.4 载流子的有效质量
2.1.1 能带理论
2.1.2 半导体的能带结构
禁带宽度:导带底与价带顶之间的间隙。
直接禁带
间接禁带
直接带隙半导体
价带的极大值和导带的极小 值都位于k空间的同一点上 价带的电子跃迁到导带时, 只要求能量的改变,而电子 的准动量不发生变化,称为 直接跃迁 直接跃迁对应的半导体材料 称为直接禁带半导体 例子:GaAs,GaN,ZnO
有些半导体中,既有n型杂质又有p型杂质 N型杂质和P型杂质先相互补偿,称为杂质补偿效应
EC ED Eg EA EV
(4)载流子热平衡条件
温度一定时,两种载流子浓度乘积等于本征浓度 的平方。
np = ni
2 2 2 2
ni为本征载流子浓度 本征半导体 n型半导体 p型半导体
相邻原子壳 层形成交叠
共有化运动
多电子原子能级
晶体是由大量的原子组成,由于原子间距离很小, 原来孤立原子的各个能级将发生不同程度的交叠: 1. 电子不再完全局限于某一个原子,形成“共有化” 电子。 2. 原来孤立的能级便分裂成彼此相距很近的N个能 级,准连续的,可看作一个能带
自由电子的电子状态
+4 +4 +4
额外的电子
+4 +5 +4 +4
P替位式掺入Si中,其 中四个价电子和周围的 硅原子形成了共价键, 还剩余一个价电子 相当于形成了一个正电 中心P+和一个多余的 价电子
河南科技大学
第二章 半导体物理概论
2.1 半导体中电子的能量状态 2.2 半导体的导电性 2.3 半导体中的额外载流子
2.1 半导体中电子的能量状态
2.1.1 能带理论 2.1.2 半导体的能带结构 2.1.3 半导体中的载流子 2.1.4 载流子的有效质量
2.1.1 能带理论
2.1.2 半导体的能带结构
禁带宽度:导带底与价带顶之间的间隙。
直接禁带
间接禁带
直接带隙半导体
价带的极大值和导带的极小 值都位于k空间的同一点上 价带的电子跃迁到导带时, 只要求能量的改变,而电子 的准动量不发生变化,称为 直接跃迁 直接跃迁对应的半导体材料 称为直接禁带半导体 例子:GaAs,GaN,ZnO
有些半导体中,既有n型杂质又有p型杂质 N型杂质和P型杂质先相互补偿,称为杂质补偿效应
EC ED Eg EA EV
(4)载流子热平衡条件
温度一定时,两种载流子浓度乘积等于本征浓度 的平方。
np = ni
2 2 2 2
ni为本征载流子浓度 本征半导体 n型半导体 p型半导体
相邻原子壳 层形成交叠
共有化运动
多电子原子能级
晶体是由大量的原子组成,由于原子间距离很小, 原来孤立原子的各个能级将发生不同程度的交叠: 1. 电子不再完全局限于某一个原子,形成“共有化” 电子。 2. 原来孤立的能级便分裂成彼此相距很近的N个能 级,准连续的,可看作一个能带
自由电子的电子状态
+4 +4 +4
额外的电子
+4 +5 +4 +4
P替位式掺入Si中,其 中四个价电子和周围的 硅原子形成了共价键, 还剩余一个价电子 相当于形成了一个正电 中心P+和一个多余的 价电子
半导体第二章习题解析

等m效0玻尔半径
(Ge: ,Si:
)试,计基r 算质16G相e对r,S价i浅h电施q2常2r主rm数n*0的12束缚
2-2
硅中掺入某种施主杂质,设其电子有效质
量 mn* ,0计.2算6m电0 离能为多少?若
,其电
离能又m为n* 多 0少.4?m0这两种值中哪一种更接近实验值?
解答:利用类氢原子模型:
E Di
mn* m0
E0
2 r
E0 13.6eV , 对Si : r 12
mn*
0.26m0 , Eni
第二章
PowerPoint2003
《半导体物理》第二章
2-1 2-2 2-3 2-4 2-5 2-5(2)
2-6 2-6(2) 2-7 2-8 2-8(2)
2-1
掺入锗,硅晶体中的杂质通常有磷,铟,锑,硼, 砷,铝,镓,铋,
其中哪些是施主杂质? 哪些是受主杂质?
解答:
磷,砷,铋,锑为Ⅴ族元素,为施主杂质 硼,铝,镓,铟为Ⅲ族元素,为受主杂质。
解答: 施主能级和受主能级分别以D和A表示: 如下图:
硅晶体中(eV)
锗晶体中(eV)
类型
Au D A
Ag D A
Cu A Fe D Zn A Cd A Ni A
位置
类型
EV 0.35
D
EC 0.54
A
EV 0.32
A
EC 0.29
A EV 0.24, EV 0.37, EV 0.52
E1
a
Z
2 e ff
25 128
5 4
Z eff
E2
aZ
2 eff
将 E2 0.055 2.475 2 0.3365 eV EAi2
半导体物理 第二章 杂质能级剖析

EA
m
E0 m0 r 2
* p
可得同一个数量级 ED 0.025eV (Si)
§2.1.5 杂质的补偿作用
杂质补偿:半导体中存在施主杂质和受主杂质时, 它们底共同作用会使载流子减少,这种作用称为 杂质补偿。在制造半导体器件底过程中,通过采 用杂质补偿底方法来改变半导体某个区域底导电 类型或电阻率。
施主杂质的电离过程,可以 用能带图表示 如图2-4所示.当电子得到能ED 量后,就从施主的束缚态跃 迁到导带成为导电电子,所 以电子被施主杂质束缚时的 能量比导带底 E 低 。 E 将被施主杂质束缚的电子的 E 能量状态称为施主能级,记 为 ED ,所以施主能级位于 离导带底很近的禁带中
§2.1.3 受主杂质 受主能级
使空穴挣脱束缚成为导电空穴所需要的能量称为 受主杂质电离能 受主杂质电离后成为不可移动的带负电的受主离 子,同时向价带提供空穴,使半导体成为空穴导 电的p型半导体。
§2.1.3 受主杂质 受主能级
受主杂质的电离过程,可 以用能带图表示 如图2-6所示.当空穴得到 EA 后,就从受主的束 能量 缚态跃迁到价带成为导电 空穴,所以电子被受主杂 EV 质束缚时的能量比价带顶 高 E 。将被受主杂质 束缚的空穴的能量状态称 为受主能级,记为 ,所 E 以受主能级位于离价带顶 很近的禁带中
§2.1.2 施主杂质 施主能级
上述电子脱离杂质原子的束缚成为导电电子的 过程称为杂质电离 使个多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需 要的能量称为杂质电离能 施主杂质电离后成为不可移动的带正电的施主 离子,同时向导带提供电子,使半导体成为电 子导电的n型半导体。
§2.1.2 施主杂质 施主能级
§2.1.4 浅能级杂质电离能的简单计算
半导体物理第二章(1)
速度饱和效应的物理解释 在强电场作用下,载流子直接从电场获取能量,并传给晶格。 此过程稳定后,载流子平均动能高于晶格的平均动能,也高 于另电场作用下的动能。即成为 热载流子。
根据运动电子速度与温度的关系
(2.1.23) 及其速度与迁移率的关系 (2.1.24)
可将电子迁移率表示为电子温度的函数,即
j q ( pn 0 DP /τ
p
n p 0 Dn /τ n )(e qu / kt 1)
式中,pn0和np0分别代表pn结n区和p区的热平衡少数载流 子密度,Dp、Dn和Ʈp、Ʈn分别代表它们的扩散系数和寿 命。上式表明,双极器件的电流控制能力受制于少数载流 子的扩散系数,而载流子的扩散系数与迁移率之间通过爱 因斯坦关系D=µkt/q相联系。在确定温度下,扩散系数的 大小由迁移率唯一决定。
式中,Wb为n基区的宽度。
由于晶体管的截止频率正比于渡越时间,渡越时间与 迁移率正比。 则:晶体管的截止频率与其基区材料的载流子的迁移 率成正比。
载流子迁移率大小的影响因素 众所周知,在非零温度和零电场条件下,半导体中 的自由载流子作着无规热运动,尽管其热速度可能 很高,但其宏观位移为零;当外加一非零电场于半 导体之上时,其中的载流子将从电场获得沿电场方 向或反电场方向的加速度,但其漂移速度并不会随 着时间的推移而无限累积,而是保持在一个与电场 大小有关的定值。 这里,散射对载流子的运动方 式起着重要作用。在电场不是很强的情况下,裁流 子的平均漂移速度与电场大小成正比。其比例常数 即迁移率。显然,迁移率的大少与散射机构有关。
在实际应用中,萨支唐等曾提出过一个比较简单的模型来描述 仅考虑电离杂质散射时硅中载流子的迁移牢同温度和电离杂质 浓度的关系,其形如:
在实际应用中,可以使用如下具有普遍适用性的经验公式来 计算不同温度T和不同掺杂浓度(ND十NA)条件下的半导体材 料中载流于迁移率:
半导体物理 第二章 PN结 图文
国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-4 外延工艺:
外延是一种薄膜生长工艺,外延生长是在单晶衬底上沿晶体 原来晶向向外延伸生长一层薄膜单晶层。
外延工艺可以在一种单晶材料上生长另一种单晶材料薄膜。
外延工艺可以方便地形成不同导电类型,不同杂质浓度,杂 质分布陡峭的外延层。
外延技术:汽相外延(PVD,CVD)、液相外延(LPE)、分 子束外延(MBE)、热壁外延(HWE)、原子层外延技术。
硅平面工艺的主体
国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-1 氧化工艺:
1957年,人们发现硅表面的二氧化硅层具有阻止杂质向硅内 扩散的作用。这一发现直接导致了氧化工艺的出现。 二氧化硅薄膜的作用: (1)对杂质扩散的掩蔽作用; (2)作为MOS器件的绝缘栅材料; (3)器件表面钝化作用; (4)集成电路中的隔离介质和绝缘介质; (5)集成电路中电容器元件的绝缘介质。 硅表面二氧化硅薄膜的生长方法: 热氧化和化学气相沉积方法。
N(x) (a)
Na
Nd xj
(b) -a(x - xj)
引言
扩 SiO2 散 结 N-Si
杂质扩散
P
N-Si
N-Si
由扩散法形成的P-N结,杂质浓度从P区到N区是
逐渐变化的,通常称之为缓变结,如图所示。设 P-N结位置在x=xj处,则结中的杂质分布可表示为: x
Na Nd (x xj), Na Nd (x xj)
Al
液体
Al
P
N-Si
N-Si
N-Si
把一小粒铝放在一块N型单晶硅片上, 加热到一定温度,形成铝硅的熔融体, 然后降低温度,熔融体开始凝固,在N 型硅片上形成含有高浓度铝的P型硅薄 层,它和N型硅衬底的交界面即为P-N 结(称之为铝硅合金结)。
半导体物理学第二章
2.1 硅、锗中的杂质能级
当杂质进入半导体以后, Q: 当杂质进入半导体以后,分布在什 么位置? 么位置?
以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子,若 以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子, 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8个原子 占据晶胞的百分数为: 占据晶胞的百分数为:
金在锗中的能级
2.2 三-五族化合物中的杂质能级
和硅、锗一样,当杂质进入三- 和硅、锗一样,当杂质进入三-五族 化合物中, 化合物中,仍然是间隙式杂质和替位 式杂质,不过具体情况更为复杂些。 式杂质,不过具体情况更为复杂些。
杂质既可以取代三族元素, 杂质既可以取代三族元素,也可以取 代五族元素。
间隙原子和空位一方面不断地产生同时两 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 以上两种由温度决定的点缺陷又称为热 缺陷,总是同时存在的。 缺陷,总是同时存在的。 由于原子须具有较大的能量才能挤入间隙 位置,以及它迁移时激活能很小, 位置,以及它迁移时激活能很小,所以晶体 中空位比间隙原于多得多, 中空位比间隙原于多得多,因而空位是常见 的点缺陷。 的点缺陷。
半导体物理学
理学院物理科学与技术系
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
2.1 2.2 2.3 硅、锗中的杂质能级 三-五族化合物中的杂质能级 缺陷、位错能级 缺陷、
在实际应用的半导体材料中, 在实际应用的半导体材料中,总是存在 偏离理想的情况。 偏离理想的情况。
1)原子并不是静止的; 原子并不是静止的; 原子并不是静止的 2)半导体材料并不是纯净的 半导体材料并不是纯净的; 半导体材料并不是纯净的 3)晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷
半导体物理第二章
反键态
3p
导带
sp3
3s 成键态 价带
半导体物理第二章
晶体中的电子与孤立原子中的电子不同,也和自由运动 的电子不同。孤立原子中的电子是在该原子的核和其他 电子的势场中运动,自由电子是在一恒定为零的势场中 运动,而晶体中的电子是在严格周期性重复排列的原子 间运动。
研究发现,电子在周期性势场中运动的基本特点和自由 电子的运动十分相似。下面先简单介绍一个自由电子的 运动。
➢ 组成晶体的原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子 相似,常称为准自由电子。而内层电子的共有化运动较弱,其行 为与孤立原子中的电子相似。
半导体物理第二章
E-k关系
对于无限晶体,波失 k 可以连续取值;对于某一确定的 k值,
薛定谔方程存在一系列分立的能量本征值Enk和相应的本征函数
nk (r) ,能量本征值En随ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ矢 k 是连续变化的。可以用 k
• 随着原子与原子愈来愈近,电子轨道交叠愈多,电子不 再完全局限于一定的原子,而可以在整个晶体中运动 (电子共有化)。电子兼有原子运动和共有化运动。只 有在最外层电子的共有化特征才是显著的。
半导体物理第二章
原子能级与能带的对应
❖ 对于原子的内层电子,其电子
E
轨道很小,因而形成的能带较
窄。这时,原子能级与能带之
半导体物理第二章
多电子问题 单电子问题
为了计算具体晶体中的本征态和相应的能量本征值,必须得 到包括和原子核以及和其它电子的相互作用在内的周期势场 U(x), 并对单个电子求解薛定谔方程。
2 [
2U(x) ](x)E(x)
2m
这是一个自洽问题,因为势场U(x)依赖于晶体中电子所处的 具体状态,称为自洽势。
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§2.2 半导体中的缺陷能级(defect levels)
§2.2.1 点缺陷(热缺陷)point defects/ thermaldefects 点缺陷的种类: 弗仑克耳缺陷:原子空位和间隙原子同时存在 肖特基缺陷:晶体中只有晶格原子空位 间隙原子缺陷:只有间隙原子而无原子空位
§2.2.1 点缺陷
§2.1.1 硅锗晶体中的杂质能级
间隙式杂质和替位式杂 质 杂质原子进入半导体后,以 两种方式存在 一种方式是杂质原子位于品 格原子间的间隙位臵,常称 为间隙式杂质(A) 另一种方式是杂质原子取代 晶格原子而位于晶格点处, 常称为替位式杂质(B)
§2.1.1 硅锗晶体中的杂质能级
两种杂质特点: 间隙式杂质原子小于晶体原子 替位式杂质: 1)杂质原子的大小与被取代的晶格原子的大小 比较相近 2)价电子壳层结构比较相近 如:III、V族元素在硅、锗中均为替位式杂质
m* E0 p EA 2 m0 r
§2.1.5 杂质的补偿作用
杂质补偿:半导体中同时存在施主杂质和受主杂 质时,它们的共同作用会使载流子减少,这种作 用称为杂质补偿。在制造半导体器件的过程中, 通过采用杂质补偿的方法来改变半导体某个区域 的导电类型或电阻率。(参看书中图2.7) 1)N D N A :剩余杂质 N D N A
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
理想半导体: 1、原子严格地周期性排列,晶体具有完整的晶 格结构。 2、晶体中无杂质,无缺陷。 3、电子在周期场中作共有化运动,形成允带和 禁带——电子能量只能处在允带中的能级上, 禁带中无能级。由本征激发提供载流子 本征半导体——晶体具有完整的(完美的) 晶格结构,无任何杂质和缺陷。
杂质浓度:单位体积内的杂质原子数
杂质和缺陷破坏了晶体的周期性势场,产生附 加势场,从能带的角度来说就是在禁带中引入了各 种杂质能级和缺陷能级。
§2.1.2 施主杂质 施主能级
施主杂质 V族元素在硅、锗中电离时能够释放电子而产 生导电电子并形成正电中心,称此类杂质为 施主杂质或n型杂质。 小概念:施主电离 束缚态和电离态 施主能级 n型半导体 施主电离能
§2.1.4 浅能级杂质电离能的简单计算
类氢模型
m0 q 4 En 2 2 2 2(4 0 ) n
* m0 mn 0 0 r
基态电子的电离能为 E0 E E1 13.6eV
* mn E0 ED 2 m0 r
mn电导有效质量 1 1 1 2 = [ ] mn 3 ml mt
§2.1.6 深能级杂质
深能级的基本特点: 1、含量极少,而且能级较深,不易在室温下电离, 对载流子浓度影响不大; 2、一般会产生多重能级,甚至既产生施主能级也 产生受主能级。 3、能级位臵利于促进载流子的复合,其复合作用 比浅能级杂质强,使少数载流子寿命降低,称这 些杂质为复合中心杂质。(在第五章详细讨论) 4、深能级杂质电离后对载流子起散射作用,使载 流子迁移率减少,导电性能下降。
§2.1.6 深能级杂质
深能级的形成 Ⅵ族杂质.多于两个价电子被两个正电荷的杂质中 心束缚,类似于一个氦原子,其每个电子平均受 到大于一电子电荷的正电中心的作用,从而深能 级杂质的电离能比浅能级杂质要大。在电离出一 个电子后,带有两个正电荷的杂质中心使第二个 电子电离需要更大能量,对应更深的能级,所以 Ⅵ族杂质在硅锗中一般产生两重施主能级,如锗 中的硒、碲。
§2.1.7 化合物半导体中的杂质能级
Ⅵ族杂质:与Ⅴ族晶格原子的价电子数相近, 在Ⅲ-Ⅴ族化合物中取代Ⅴ族晶格原子,与周 围晶格原子形成共价键后多余一个价电子,易 失去这个价电子成为施主杂质,一般引入浅施 主能级,如GaAs中的S、Se。可作为n型掺杂剂。 Ⅳ族杂质:既可以取代Ⅲ族晶格原子起施主作 用,又可以取代Ⅴ族晶格原子起受主作用,从 而在Ⅲ-Ⅴ族化合物中引入双重能级——双性 行为。
§2.1.7 化合物半导体中的杂质能级
Ⅲ、Ⅴ族元素:——等电子杂质
当Ⅲ族或Ⅴ族杂质掺入不是由它们本身构成的 Ⅲ-Ⅴ族化合物中,取代同族晶格原子时,既可以引 入杂质能级,也可能不引入能级,这取决于杂质种类 和Ⅲ-Ⅴ族化合物的种类。
§2.1.7 化合物半导体中的杂质能级
与晶格基质原子具有相同价电子的杂质称为等电子 杂质。等电子杂质取代晶格上的同族原子后,因为与晶 格原子的共价半径与电负性的显著差别,能够在晶体中 俘获某种载流子成为带电中心,这种带电中心叫等电子 陷阱。 例如,GaAs中,Ⅲ(或Ⅴ)族杂质取代Ga(或As)时, 不引入禁带能级。在GaP中Ⅴ族杂质N、Bi取代P就能在禁 带中引入能级,N和Bi就是等电子陷阱,等电子陷阱俘获 的载流子的能量状态就是在禁带中引入的相应能级。
实际材料中 1、总是有杂质、缺陷,使周期场破坏,在杂 质或缺陷周围引起局部性的量子态——对应 的能级常常处在禁带中,对半导体的性质起 着决定性的影响。 2、杂质电离提供载流子。
晶体中杂质来源 由于纯度有限,半导体原材料所含有的杂质 半导体单晶制备和器件制作过程中的污染 为改变半导体的性质,在器件制作过程中有目 的掺入的某些特定的化学元素原子
§2.1.4 浅能级杂质电离能的简单计算
浅能级杂质:电离能小的杂质称为浅能级杂质。 所谓浅能级,是指施主能级靠近导带底,受主能 级靠近价带顶。 室温下,掺杂浓度不很高的情况下,浅能级杂质 几乎可以可以全部电离。 五价元素磷(P)、砷(As)、锑(Sb)在硅、 锗中是浅施主杂质; 三价元素硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、铟 (In)在硅、锗中为浅受主杂质。
§2.2.2 位错
棱位错对半导体性能的影响: 1)位错线上的悬挂键可以接受电子变为负电中心, 表现为受主;悬挂键上的一个电子也可以被释放 出来而变为正电中心,此时表现为施主,即不饱 和的悬挂键具有双性行为,可以起受主作用,也 可以起施主作用。 2)位错线处晶格变形,导致能带变形; 3)位错线影响杂质分布均匀性; 4)位错线若接受电子变成负电中心,对载流子有散 射作用; 5)影响少子寿命,原因:一是能带变形,禁带宽度 减小,有利于非平衡载流子复合;二是在禁带中 产生深能级,促进载流子复合。
点缺陷(热缺陷)特点 : ①热缺陷的数目随温度升高而增加 ②热缺陷中以肖特基缺陷为主(即原子空位为主)。 原因:三种点缺陷中形成肖特基缺陷需要的能量最 小 ③淬火后可以“冻结”高温下形成的缺陷。 ④退火后可以消除大部分缺陷。半导体器件生产工艺 中,经高温加工(如扩散)后的晶片一般都需要进 行退火处理。离子注入形成的缺陷也用退火来消除。
受主杂质释放空穴的过程称为受主电离 使空穴挣脱束缚成为导电空穴所需要的最小能 量称为受主电离能,记为ΔEA 空穴被受主杂质束缚时的能量状态称为受主能 级,记为EA 受主杂质电离后成为不可移动的带负电的受主 离子,同时向价带提供空穴,使半导体成为主 要依靠空穴导电的p型半导体(也称空穴型半导 体)。
本章主要内容回顾:
⒈掌握几个重要概念(施主杂质及相关概念、受 主杂质及相关概念、深能级);杂质补偿;深能 级的概念及特点; ⒉晶体点缺陷对半导体导电类型的影响。
§2.1.2 施主杂质 施主能级
以硅中掺磷P为例: 磷原子占据硅原子的位臵。 磷其中四个价电子与周围的四个 硅原于形成共价键,还剩余一个 多余的价电子,束缚在正电中心 P+的周围。价电子只要很少能 量就可挣脱束缚,成为导电电子 在晶格中自由运动这时磷原子就 成为少了一个价电子的磷离子P +,它是一个不能移动的正电中 心。
§2.1.6 深能级杂质
深能级杂质:非Ⅲ、Ⅴ族杂质在Si、Ge的禁带 中产生的施主能级远离导带底,受主能级远离 价带顶。杂质电离能大,能够产生多次电离。
深能级杂质在半导体禁带中可能会引入多 个能级,其中可能有施主能级,也可能有受主 能级,这与杂质原子的电子壳层结构、杂质原 子的大小、杂质在半导体中的位臵等因素都有 关系。
§2.1.6 深能级杂质
深能级的形成 Ⅰ族杂质. 一方面可以失去唯一价电子产生一个 施主能级,另一方面也能依次接受三个电子与周 围四个近邻原子形成共价键,相应产生三个由浅 到深的受主深能级。原则上Ⅰ族杂质能产生三重 受主能级,但是较深的受主能级有可能处于允带 之中,某些Ⅰ族杂质受主能级少于三个。 Ⅱ族杂质。与Ⅵ族杂质情况类似,可以产生两重 受主能级。
§2.1.3 受主杂质 受主能级
受主杂质 III族元素在硅、锗中电离时能够接受电子而 产生导电空穴并形成负电中心,称此类杂质 为受主杂质或p型杂质。
小概念:受主电离 p型半导体
受主电离能
受主能级
§2.1.3 受主杂质 受主能级
以硅中掺硼B为例: In原子占据硅原子的位臵, 与周围的四个硅原于形成共价 键时还缺一个电子,就从别处 夺取价电子,这就在Si形成了 一个空穴。这时In原子就成为 多了一个价电子的磷离子,它 是一个不能移动的负电中心。 空穴只要很少能量就可挣脱束 缚,成为导电空穴在晶格中自 由运动。
§2.1.7 化合物半导体中的杂质能级
四族元素:硅在砷化镓中会产生双性行为,即硅 的浓度较低时主要起施主杂质作用,当硅的浓度较高 时,一部分硅原子将起到受主杂质作用。
这种双性行为可作如下解释: 因为在硅杂质浓度较高时,硅原子不仅取代镓原 子起着施主杂质的作用,而且硅也取代了一部分V族 砷原子而起着受主杂质的作用,因而对于取代Ⅲ族原 子镓的硅施主杂质起到补偿作用,从而降低了有效施 主杂质的浓度,电子浓度趋于饱和。
§2.1.2 施主杂质 施主能级
施主杂质向导带释放电子的过程为施主电离 施主杂质未电离之前是电中性的称为中性态或束 缚态;电离后成为正电中心称为离化态或电离态 使多余的价电子挣脱束缚成为导电电子所需要的 最小能量称为施主电离能,施主电离能为ΔED 被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级, 记为ED,。 施主杂质电离后成为不可移动的带正电的施主离 子,同时向导带提供电子,使半导体成为主要依 靠导带电子导电的n型半导体(也称电子型半导 体)。