真空电镀原理简介
真空电镀幻彩的原理

真空电镀幻彩的原理
真空电镀幻彩的原理是利用高真空环境下的物理过程,将金属蒸汽沉积在物体表面,形成一层薄膜。
这个薄膜可以反射、折射和透射特定波长的光线,并具有特殊的幻彩效果。
具体原理如下:
1. 真空环境:在真空状态下,通过抽取空气并加热金属材料,可以将金属转化为蒸汽形式。
真空环境可以防止氧化和杂质对镀膜过程的干扰。
2. 电子束蒸发:采用电子束轰击金属源,使其升温并蒸发。
金属蒸汽会扩散到真空腔室内。
3. 中和电子:通过引入离子源在腔室内产生离子束,这些离子可以与蒸汽中的电子结合,以维持电荷中性。
4. 沉积薄膜:在被镀物体上,金属蒸汽遇到表面会凝结形成一层薄膜。
这个薄膜的厚度可以通过控制沉积时间来调节。
5. 幻彩效果:沉积的金属薄膜会使光线发生多次反射、折射和透射,不同波长的光线会互相干涉和衍射,形成幻彩效果。
这是由于金属薄膜的厚度与光的波长之间存在着波长特性的相对关系。
通过控制蒸发材料和差异性的金属镀膜厚度,在不同的观察角度和光照条件下,可以产生出不同的幻彩效果。
真空电镀幻彩广泛应用于眼镜、手机、钟表等产品的表面涂层装饰。
真空电镀原理

在高真空度的条件下,高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面,形成镀层。
氩气为保护性气体,防止氧化反应影响镀层质量。
真空电镀原理:一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘水银柱高的压力,大气压为 760 Torr)。
其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。
颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。
如镀膜过厚时,会产生白化的状态。
颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr<!--[if !supportFoot<!--[endif]-->l<!--[if !supportFootnotes]-->[1] <!--[endif]-->v#W?n8D<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->G.e关于镀膜的形成,首先利用强大电流将镀膜源 (钨丝) 加热,然后把挂在钨丝上的铝片或铝线熔解。
铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。
熔解的铝为铝原子,以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上,经冷却结晶后从而变为铝薄膜。
因此设定钨丝为定数时,由真空度至蒸发铝的飞散方向、钨丝的温度,钨丝到被镀件的距离等;依其镀膜条件,镀膜的性能也除着改变而发生变化。
一如前述,镀膜在10 –4 Torr左右下进行,如真空度过低时,其蒸发中的铝遇到残留的气体或者碰着钨丝被加热时产生的气体,发生冲突而冷却,形成的铝粒(非常小的铝粒子集合体) 会附着于被镀膜件上。
此时所形成的镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽,也会大大降低镀膜与底油的密着性。
如真空度高,而且钨丝的温度亦高时,蒸发铝的运动能量也因此会提高,被镀膜件表面所附着的会是纯铝 (并没有残留气体),而且密度非常高,镀膜性能因此而得到提升 (包括密着性等)B. 涂料及雾化:依各种镀膜条件形成不同的镀膜。
真空电镀

有关真空电镀的一点知识真空电镀(NCVM):在近3000摄氏度的真空镀膜炉内,将金属化为气体,这些气体会附在 胶件或其他待镀件的表面,形成电镀膜层,所以“真空电镀”又称“蒸镀”。
设备:真空镀膜炉,+自动喷涂线(两次喷涂)。
( 德国雅宝,约100万欧元/台,炉直径1.8米,可容600挂/炉,电镀时胶件在绕炉 心轴公转的同时也会自转,电镀时间为半小时左右。
当然还有其他品牌或国产机, 价位、容量与效果会不一样。
)适用塑胶材质(常用):ABS、PC、ABS+PC、PMMA。
模具表面要求:至少省到2000#的砂纸或以上,8u”以下的纹深电镀后都会被覆盖成亮面。
亮面镀工作程序:用透明UV打底漆(厚度约10u”)+电镀金属膜层(厚度约0.3-0.5u”) +透明UV面漆(厚度约10u”)彩镀工作程序:用透明UV打底漆(厚度约10u”)+电镀金属膜层(厚度约0.3-0.5u”) +调好颜色的UV面漆(厚度约10u”)不导电真空镀与导电真空镀:前者电镀的是金属铟(属不能连续导电金属),后者镀的是金属铝。
CD纹与拉丝纹:完全决定于电铸模表面,只有纹深在8u”以上才有效果。
亮面与雾面:完全决定于电铸模表面,只有纹深在8u”以上才有效果。
在同一块表面上, 真空电镀无法实现亮面与雾面并存,水镀可以。
表面丝印:可以实现,要用特殊的油墨。
镭雕:素材一般用透明材质,镀层背面丝印颜色,字符也雕在镀层背面。
性能指标测试:百格、硬度、RCV值、耐酒精性、高低温以及盐雾测试标准与UV油漆相同。
以上材料供参考,其中难免有不正确的地方,大家可能有更深刻的认识。
在此抛砖引玉,还望大家不惜赐教,共同探讨,谢谢!。
PVD —真空电镀介绍

五、PVD鍍膜品質管控:
2. 鍍層硬度測試:用維氏硬度機測試鍍層表面 硬度,一般硬度在HV600以上(即HRC50以 上) ,此硬度非鍍層真實的硬度,因為設備的 原因,實際上在測試時,已把鍍層打破。(實 際的硬應在HV1000以上)
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Zhongshan Worldmark Sporting Goods Company LTD .
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Zhongshan Worldmark Sporting Goods Company LTD .
二、真空電鍍原理:
# 離子鍍是蒸發鍍和濺射鍍相結合的新技術,目前用在球 頭上主是離子鍍。
# 真空鍍可以鍍金、鈦、鋯、鉻、銅等金屬,同一種金屬 能透過不同的反應氣體(O2、N2、C2H2)及氣體的比 例,會形成出不同顏色的鍍層;顏色的深、淺是靠通入 反應气體的多少來決定,而色深要比色淺的硬度硬(因通 入反應氣體少時,不能使Ti饱和反應,鍍膜中有反應Ti 和鈍Ti,而鈍Ti的硬度比反應Ti要低,造成硬度下降)。
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今泰
萬爾 思百高
TLM深黑色、灰黑色
TLM深黑色、灰黑色 深黑色、藍色、咖啡色、灰黑色
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Zhongshan Worldmark Sporting Goods LTD .
THE END! TKS!
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真空電鍍基本知识介绍
生技二課 2010年2月23日
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Zhongshan Worldmark Sporting Goods Company LTD .
真空电镀资料

真
●五.真空电镀与其他工艺搭配效果
空 效
果
與
鐳
雕
.
印 刷 、 熱 轉 印 工 藝 的 藝 術 搭 配
●六.真空電鍍件常问题点及发生原因
項次 不良現象
發生原因
改良對策
1
油污點 除油不盡
加強前制程清洗和淨電除塵
2
底漆顆粒 底漆過濾不充分;噴房無塵度不足
加強底漆過濾,防雜質混入;改善噴房 環境
3
面漆顆粒 面漆過濾不充分;噴房無塵度不足
尺寸變化大
3.物性測 試上
4.環保上 5.成本上
A.膜厚
B.耐磨性 C.耐候性 D.抗干擾 A.原料利用率 B.廢棄物產生 C.對工作環境要求上 A.加工工費用
厚,有高低電位差
好 中等(三價鉻易發霉)
差 高 較多 較高 一般
真空電鍍 大
較高 一般
強 MCVM不用鐳雕可透光
無 尺寸變化小 薄,0.3UM以下,鍍層比較
4
包裝運 輸方面
1。設計專用吸塑 盒或其他專用包裝 方式;
防產品在運輸過程中 損傷表面
圖示 /
●八.真空电镀与水电镀特性比较
項次 1.外觀 2.尺寸
比較內容 A.麗面效果可調範圍 B.高光效果 C.啞光效果深鍍性 D.金屬質感 E.透光性 A.高低電位 B.邊角位
水電鍍 小 高 好 強
需鐳雕方可透光 有
■一.真空电镀工艺原理及分类 ■二.真空電鍍设备简介及环境要求 ■三.真空電鍍制程介紹 ■四.真空电镀效果 ■五.真空電鍍与其他工艺的搭配效果 ■六.真空电镀常见问题点及发生原因 ■七.真空電鍍件对工程設計的几點要求 ■八.真空电镀与水电镀特性比较 ■九.真空电镀市场前景
真空电镀的原理

真空电镀的原理
真空电镀是一种高科技表面处理技术,它通过在真空环境下利用电化学反应对材料表面进行镀膜加工,从而改变其外观、物理性质和化学性质。
该技术广泛应用于汽车、航空航天、电子、建筑等领域,是一种重要的表面处理方式。
真空电镀的原理是利用电子束或离子束轰击材料表面,使其表面原子或分子脱离,并在真空中形成电子云。
同时,在真空中加入所需的镀层材料,然后通过放电加热、蒸发或溅射等技术使镀层材料转化为离子态,再利用高压电场将镀层材料的离子引入被镀材料表面,在表面析出成薄膜,从而完成镀层加工。
真空电镀技术的优点在于能够在真空状态下进行加工,避免了空气中的氧化作用,从而保证了镀层的质量和耐腐蚀性。
此外,真空电镀技术还可实现多种材料的镀层加工,如金属、合金、陶瓷等,从而增强了材料的功能和使用价值。
总之,真空电镀技术是一种高效、环保、精密的表面处理技术,它的应用范围广泛,能够满足不同领域对于材料表面处理的要求,并带来良好的经济效益和社会效益。
- 1 -。
真空电镀

电镀技术作为一种功能精饰技术,其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点,已在电子产品中获得大量应用。
随着电子工业的迅猛发展,对电镀技术的要求越来越高,新技术、新产品、新工艺层出不穷。
NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术,是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀,简称VM,是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下,运用化学、物理等特定手段进行有机转换,使金属转换成粒子,沉积或吸附在塑胶材料的表面,形成膜,也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀,又称NCVM,是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。
它的加工工艺高于普通真空电镀,其加工制程比普通制程要复杂得多。
NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜,利用各相不连续之特性,得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。
首先要实现不导电,满足无线通讯产品的正常使用;其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求;最后通过UV涂料与镀膜层结合,最终保证产品的物性和耐候性,满足客户需求。
NCVM可应用于各种塑料材料,如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等,它更符合制作工艺的绿色环保要求,是无铬(Non-Chrome)电镀制品的替代技术,适用于所有需要表面处理的塑料类产品,特别适用于有讯号收发的3C产品,尤其是在天线盖附近区域,如MobilePhone、PDA、Smart Phone、GPS卫星导航、蓝芽耳机等。
NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性,采用新的镀膜技术、新的材料,做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果,起到美化工件表面之功用。
采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试,不导通或不被击穿。
正是因为它的不导电性,当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时,产生的电磁场不被导电的镀层所屯积,从而不影响手机的RF(射频)性能以及ESD(静电放电)性能,也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果,无杂音,更不会对人体产生任何影响。
真空电镀的原理

真空电镀的原理引言:在现代科技中,电镀技术被广泛应用于各个领域,其中真空电镀技术因其独特的优势而备受关注。
本文将详细介绍真空电镀的原理及其应用。
一、真空电镀的基本原理真空电镀是利用真空环境下金属薄膜的物理气相沉积过程,将金属离子沉积在基材表面,形成一层金属薄膜。
其基本原理可以概括为以下几点:1. 电子束或离子轰击:在真空室中,通过加热阴极,产生高速电子束或离子束。
这些高速粒子轰击靶材(金属块),将靶材表面的金属原子或分子击出。
2. 原子扩散:被击出的金属原子或分子在高真空环境中自由扩散,向基材表面移动。
3. 沉积:金属原子或分子在基材表面沉积,并逐渐形成一层金属薄膜。
二、真空电镀的关键技术实现有效的真空电镀过程,需要掌握以下关键技术:1. 高真空环境:真空电镀过程中,必须创造出高度真空的环境,以防止金属薄膜被杂质污染。
通常使用真空泵抽取气体,将气压降至非常低的水平,从而实现高真空条件。
2. 恰当的电子束或离子束:电子束或离子束的能量和密度对沉积速度和质量有着重要影响。
通过控制加热阴极的电流和电压,以及调节束流密度,可以达到理想的沉积效果。
3. 基材表面处理:在进行真空电镀之前,经常需要对基材表面进行一系列的准备工作,以提高金属薄膜的附着力。
常见的表面处理方法包括去污、抛光和化学处理等。
4. 薄膜质量检测:真空电镀后,需要对金属薄膜进行质量检测。
常见的检测手段有电子显微镜、X射线衍射和厚度测量仪等。
三、真空电镀的应用领域真空电镀技术在许多领域都有广泛的应用,包括:1. 电子器件:真空电镀可以制备电子器件中的导电薄膜、光学薄膜和保护膜等。
例如,将金属薄膜应用于集成电路连接器,可以提高电子器件的性能和稳定性。
2. 光学镜片:真空电镀可以用于制备光学镜片,提高其反射和透射性能。
通过在玻璃或塑料表面镀上金属薄膜,可以改变光的传播特性,实现反射镜、透镜和滤光片等光学元件的功能。
3. 饰品和装饰品:真空电镀技术可以制造出具有镀金、镀银或其他金属镀层的饰品和装饰品。
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3.品保:
真空电镀不良原因(如颗粒,凹点,麻点,碰刮伤,面皱等问题)同涂装是大同小异的.
确认:审核:作成:
教育训练教材:
真空电镀
一.原理:
利用真空炉把空气抽掉,抽到一定的压力,加电压电流让钨丝产生高温,把铝(铬.镍)蒸发成气体.
````两极
材质:钨丝
排气
真空炉
二.水镀与真空电镀的不同点:
项目
水镀
真空电镀
优点
膜厚较厚,耐磨性佳.
1.产量高,没有化学污染的问题.
2.设计素材方面不必浪费.
缺点
1.产量低,化学污染严重.
2.设计素材要考虑电流分布的情形.
膜厚比较薄,耐磨性没有水镀好.
耐磨性
175g RCA测试200回OK.
175g RCA测试200回OK.
附着力测试
不脱落
不脱落
硬度测试1H
OK
OK
膜厚范围
15um
20um以上
颜色效果
单一颜色
颜色有铝,铬,镍.
三.真空电镀的工艺流程:
四.真空电镀与各部门应该注意的事项:
1.设计:
A.真空电镀设计上须考虑实配上的问题,因为真空电镀基本的膜厚就有20um以上,如果耐磨要好的话要三
涂基本膜厚有30um以上,这点设计ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ注意.
B.料头设计希望有新产品时能和电镀部门检讨一下,方便电镀作业.
2.营运管理部:
如果有产品要试做,希望能是新开发的产品优先,不要拿快打切的产品来试做,送样试做出来也没有多少单