硅晶体中的平衡载流子与非平衡载流子
硅材料基础知识

基础课件-硅材料基础知识硅材料基础知识主要内容:一、概述二、硅的结构、分类与来源三、硅的物理性质四、硅的化学性质五、硅的物理参数及测量六、硅的应用及注意事项一、概述硅材料的基础知识,课程包括较多,有固体物理、量子力学、半导体物理、半导体化学、半导体器件工艺、半导体材料等方面的知识;内容较多,如半导体电子状态和能级、载流子的发布、导电性、非平衡载流子、P-N结、金属与半导体的接触、表面理论、光电效应、磁电效压阻效应、异质结等。
这里只介绍半导体材料的最基本的内容。
1、材料按导电性能划分,可分为:导体、绝缘体、半导体三类。
导体——容易导电的材料。
如各种金属、石墨等。
一般的,电阻率<0.2Ω·cm 绝缘体——很难导电的材料。
如橡胶、玻璃、背板、EVA、SiO2、Si3N4等。
一般的,电阻率>20000Ω·cm半导体——介于两者之间的材料。
如Si、Ge、GaAs、ZnO等,它具有一些独特的性质。
注:a、金属靠电子导电,溶液靠离子导电,半导体导电靠电子或空穴导电。
b、空穴就是电子的缺少。
2、半导体材料,按组成结构可分为:元素半导体、化合物半导体、非晶半导体、有机半导体。
3、半导体器件对材料的要求:3.1禁带宽度适中(一般0.5~1.5电子伏,硅是1.08)3.2载流子迁移率高(一般1000~5000cm2/V·s)3.3纯度高3.4电阻率要求可靠、均匀(一般0.001~100000 ,硅本征2.3×105)3.5晶体的完整性二、硅的结构、分类与来源1、硅的原子理论1.1元素周期表中,第三周期、第IVA 族元素,原子序数14,原子量28电子排布1S 22S 22P 63S 23P 2 ,化合价为+4价(+2价)1.2硅有三种同位素28Si :92.21%、29Si :4.70%、30Si :3.09%、1.3晶体结构:金刚石结构(正四面体),原子间以共价键结合。
半导体技术名词解释题

半导体技术名词解释题1、半导体:半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。
2、本征半导体:本征半导体是完全不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体。
3、直接带隙半导体:直接带隙半导体是导带底和价带顶在k空间中处于同一位置的半导体。
4、间接带隙半导体:间接带隙半导体材料导带底和价带顶在k空间中处于不同位置。
5、极性半导体:在共价键化合物半导体中,含有离子键成分的半导体为极性半导体。
6、能带、允带、禁带:当N个原子相互靠近结合成晶体后,每个电子都要受到周围原子势场的作用,其结果是每个N度简并的能级都分裂成N个彼此相距很近的能级,这N个能级组成一个能带。
此时电子不再属于某个原子而是在晶体中做共有化运动,分裂的每个能带都称为允带,允带包含价带和导带两种。
允带间因为没有能级称为禁带。
7、半导体的导带:半导体的导带是由自由电子形成的能量空间。
即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。
8、半导体的价带:价带是指半导体或绝缘体中,在0K时能被电子占满的最高能带。
9、禁带宽度:禁带宽度是指导带的最低能级和价带的最高能级之间的能。
10、带隙:带隙是导带的最低点和价带的最高点的能量之差。
11、宽禁带半导体材料:一般把禁带宽度E g≥ 2.3 eV的半导体材料归类为宽禁带半导体材料。
12、绝缘体的能带结构:绝缘体中导带和价带之间的禁带宽度比较大,价带电子难以激发并跃迁到导带上去,导带成为电子空带,而价带成为电子满带,电子在导带和价带中都不能迁移。
13、杂质能级:杂质能级是指半导体材料中的杂质使严格的周期性势场受到破坏,从而有可能产生能量在带隙中的局域化电子态,称为杂质能级。
14、替位式杂质:杂质原子进入半导体硅以后,杂质原子取代晶格原子而位于晶格点处,称为替位式杂质。
15、间隙式杂质:杂质原子进入半导体以后,杂质原子位于晶格原子间的间隙位置,称为间隙式杂质。
16、施主杂质比晶格主体原子多一个价电子的替位式杂质,它们在适当的温度下能够释放多余的价电子,从而在半导体中产生非本征自由电子并使自身电离。
半导体硅材料基础知识.1

微秒是10-6秒)。
所谓非平衡载流子是指当半导体中载流子的产生与复合处于平衡状态时,由于受某种外界条件的作用,如受到光线照射时而新增加的电子——空穴对,这部分新增加的载流子叫作非平衡载流子。
对于P型硅而言:新增加的电子叫作非平衡少数载流子;而新增加的空穴叫作非平衡多数载流子。
对于N型硅而言:新增加的空穴叫作非平衡少数载流子;而新增加的电子叫作非平衡多数载流子。
当光照停止后,这些非平衡载流子并不是立即全部消失,而是逐渐被复合而消失,它们存在的平均时间就叫作非平衡载流子的寿命。
非平衡载流子的寿命长短反映了半导体材料的内在质量,如晶体结构的完整性、所含杂质以及缺陷的多少,因为硅晶体的缺陷和杂质往往是非平衡载流子的复合中心。
少子寿命是一个重要的参数,用于高能粒子探测器的FZ硅的电阻率高达上万Ωcm,少子寿命上千微秒;用于IC工业的CZ硅的电阻率一般在5—30Ωcm范围内,少子寿命值多要求在100μs以上;用于晶体管的CZ硅的电阻率一般在30—100Ωcm,少子寿命也在100μs以上;而用于太阳能电池CZ硅片的电阻率在0.5—6Ωcm,少子寿命应≥10μs。
5. 氧化量:指硅材料中氧原子的浓度。
太阳能电池要求硅中氧含量<5×1018原子个数/cm3。
6. 碳含量:指硅材料中碳原子的浓度。
太阳能电池要求硅中碳含量<5×1017原子个数/cm3。
7、晶体缺陷另外:对于IC用硅片而言还要求检测:微缺陷种类及其均匀性;电阻率均匀性;氧、碳含量的均匀性;硅片的总厚度变化TTV;硅片的局部平整度LTV等等参数。
一、我公司在采购中常见的几种硅材料1.Cell:称为电池片,常常是电池片厂家外销的产品,它实际是一个单元电池。
2.Wafer:这通常指的是硅片,可能是圆片,也可能是方片。
圆片包括:硅切片,硅磨片、硅抛光片、图形片、污渍片、缺损片。
3.Ingot:常常指的是单晶硅锭,且是圆柱形的硅锭,也有用指多晶硅铸锭的。
硅的知识

硅在元素周期表中的序号是14,相对原子量为28,密度2.32-2.34克/厘米。
常温下是固体,熔点是1410~1414度,沸点则要2355度。
硅是IV族元素,外层有四个电子,所以,外层有五个电子的V 族元素就被称为施主元素,因为多余的那个好象是做善事一样可以共大家使用,产生导电性。
而外层只有三个电子的III族元素,则被成为受主元素,因为外面少一个电子,好象有一个空穴一样,所以周围的硅原子所带有的外层的电子老是要来填满它,这样,那个空穴就好象也会到处跑,像个正电子一样,电子和空穴就被统称为载流子。
最常被用来作为施主杂质的元素是磷,主要原因是它无毒而且比较容易得到,进行掺杂也比较容易。
最常被用来作为受主杂质的元素是硼,主要原因也和磷一样,但它比磷还有一个更加明显的优点,就是,它在硅中的分凝系数很接近于1。
----这是什么意思呢?掺杂时,要将硅和杂质一起熔化,然后拉单晶。
而单晶是从上到下逐渐生长的,所有的杂质元素在硅晶体的生长时,在硅的晶体和液体的界面上(固液界面),在固体和液体中的浓度是不同的,其在固体中的浓度与在液体中的浓度之比,就称为分凝系数。
分凝系数越接近与1,则在固体和液体中的比例一样,这样所拉出的单晶的杂质浓度就越均匀。
而分凝系数越接近于零,则在固体和液体的比例差别越大,这样,先拉出来的单晶的头部,杂质就会很少,而到单晶的底部,杂质浓度就会很大。
硼在固液界面静止情况下的分凝系数为0.8,在固液界面运动的时候,会超过0.9,所以,拉制的单晶里,从头到尾,所掺杂的硼的浓度很均匀。
而磷的分凝系数为0.36,在实际拉晶时,分凝系数可以超过0.5,虽然小了些,但在V族元素里,已经是分凝系数最大的元素了硅单晶的主要技术参数硅单晶主要技术参数有导电类型、电阻率与均匀度、非平衡载流子寿命、晶向与晶向偏离度、晶体缺陷等。
导电类型导电类型由掺入的施主或受主杂质决定。
P型单晶多掺硼,N型单晶多掺磷,外延片衬底用N型单晶掺锑或砷。
半导体复习参考精彩试题

一、填空题1. 自由电子的能量与波数的关系式为(0222)(m k h k E =),孤立原子中的电子能量(大小为2220408n h q m E n ε-=的分立能级),晶体中的电子能量为(电子共有化运动)所形成的(准连续)的能带。
2. 温度一定时,对于一定的晶体,体积大的能带中的能级间隔(小),对于同一块晶体,当原子间距变大时,禁带宽度(变小)。
3. 玻尔兹曼分布适用于(非简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p()ex p()(00T k E T k E E f F B -⋅=),费米分布适用于(简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p(11)(0T k E E E f F -+=),当EF 满足(T k E E T k E E V F F C 0022≤-≤-或)时,必须考虑该分布。
4. 半导体材料中的(能带结构(直接复合))、(杂质和缺陷等复合中心(间接复合))、(样品形状和表面状态(表面复合))等会影响非平衡载流子的寿命,寿命值的大小反映了材料晶格的(完整性),是衡量材料的一个重要指标。
5. Si 属于(间接)带隙半导体。
导带极小值位于布里渊区的(<100>方向)上由布里渊区中心点Г到边界X 点的(0.85倍)处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<100>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(6)个这样的等能面。
6. Ge 属于(间接)带隙半导体。
导带极小值位于布里渊区的(<111>方向)上由布里渊区边界L 点处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<111>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(4)个这样的等能面。
7. GaAs 属于(直接)带隙半导体。
导带极小值位于布里渊区中心点Г处,极值附近的等能面是(球面),在简约布里渊区,共有(1)个这样的等能面。
在布里渊区的(<111>方向)边界L 点处,存在高于能谷值0.29eV 的次低能谷,简约布里渊区一共有(8)个这样的能谷。
实验光电导衰退法测量单晶硅非平衡少数载流子寿命

应在样品与电极接触处涂以自来水,注意切勿涂到光照面上。 用弹力橡皮与样
2
品接触,旋紧螺丝,使样品紧压
在电板上。 根据被测样品的寿命值范围
选 择 光 源 : τ<10μS; 选 用 红 外 光 源:τ>10μS 选用氙灯光源。
根据被测样品的电阻率选 择电表量程开关ρ>100Ώcm 选 择“高阻”挡,ρ<100Ώ cm 选用 “低阻”挡。
同而异,因此精度稍差。
高频光电导衰退法是国际通用方法。 本实验采用这种方法来测量非平衡少子的寿命,
它的优点是样品无须切割为一定的几何形状,对样品的几何尺寸要求不太严格,测量时不
必制作欧姆电极,因此样品较少受到污染,测试方法也较为简单,缺点是仪器线路比较复
杂,受干拢也大些。
本实验的目的在于熟悉高频光电导衰退法的测量原理,熟悉测量设备, 掌握测量方法。
一、实验原理
实验的原理框图见 12-1,从图看出, 高频源提供的高频电流流经被测样品。
当氙光源或红外光
源的脉冲光照射被测样 被
测
品时,单晶硅光照表面以 硅
单
及光贯穿深度范围内将 晶
高频源 脉冲光源
产生非平衡光生载流子,
这将使得样品产生附加
光电导,使样品的总电阻
取 样
下降。当高频信号源为恒
器
压输出时,流过样品的高
3
打开示波器电源,再起动单
实际曲线(起始段不吻合,衰减 340% ~ 50%以后与理想曲线吻合)
e—1= 0.37
时标打点
预先做好的标准指 数衰退曲线
o
规定的τ值取数范围
t
预先规定的坐标原点
晶仪,如选用氙灯光源,这时应 听见每秒一次的触发电离声氙灯
6. 第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

上式反映,无论电子还是空穴,非平衡载流子越多, 准费米能级偏离EF就越远。
EC EFn EFn EF EFn Ei n N C exp( ) n0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T EFp EV EF EFp Ei EFp p N v exp( ) p0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T
EC EF n0 N C exp( ) k0T EF EV p0 NV exp( ) k0T
半导体处于非平衡状态时,就不再存在统一的 费米能级。
引入 导带费米能级 价带费米能级
准费米能级
电子准费米能级(EFn) 空穴准费米能级(EFp)
引入准费米能级,非平衡状态下的载流 子浓度用与平衡载流子浓度类似公式表达
6.4.1 直接复合
直接复合:导带的电子直接落入价带与空穴复合 EC 复合 EV
EC
产生 EV
由于热激发等原因,价带中的电子有一定概率跃 迁到导带中去,产生一对电子和空穴。
1 复合率和产生率 复合率R(复合速率)有如下形式 R=rnp
比例系数r称为电子-空穴复合概率(直接复合系数)。 而 产生率=G
nen pe p pe(n p )
光导开关:超宽带反隐形冲击雷达,高功率脉冲点火系
统,瞬间辐射电磁武器,电子干扰与电子对抗等军事领域
2、非平衡载流子的复合
撤除产生非平衡载流子的外部因素后(停 止光照、外加电压,辐照等),系统将从非平 衡态恢复到平衡态,即电子-空穴对成对消失 的过程,即为非平衡载流子的复合。
h Eg
△n和△p就是非平衡载流子浓度, 也 叫过剩载流子。 △n称非平衡多子, △p为非平衡少子(p型相反)。
半导体物理之名词解释

1•迁移率参考答案:单位电场作用下,载流子获得的平均定向运动速度,反映了载流子在电场作用下的输运能力,是半导体物理中重要的概念和参数之一。
迁移率的表达式为:-1*m可见,有效质量和弛豫时间(散射)是影响迁移率的因素。
影响迁移率的主要因素有能带结构(载流子有效质量)、温度和各种散射机构。
- neq pei p2•过剩载流子参考答案:在非平衡状态下,载流子的分布函数和浓度将与热平衡时的情形不同。
非平衡状态下的载流子称为非平衡载流子。
将非平衡载流子浓度超过热平衡时浓度的部分,称为过剩载流子。
非平衡过剩载流子浓度:A n =n _n0,A p = p _p0,且满足电中性条件:A n =^p。
可以产生过剩载流子的外界影响包括光照(光注入)、外加电压(电注入)等。
2对于注入情形,通过光照或外加电压(如碰撞电离)产生过剩载流子:np n,对于抽取2情形,通过外加电压使得载流子浓度减小:n p:::n。
3. n型半导体、p型半导体N型半导体:也称为电子型半导体.N型半导体即自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体•在纯净的硅晶体中掺入五价元素(如磷),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半导体•在N型半导体中,自由电子为多子,空穴为少子,主要靠自由电子导电•自由电子主要由杂质原子提供,空穴由热激发形成•掺入的杂质越多,多子(自由电子)的浓度就越高,导电性能就越强•P型半导体:也称为空穴型半导体P型半导体即空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体•在纯净的硅晶体中掺入三价元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位子,就形成P型半导体•在P型半导体中,空穴为多子,自由电子为少子,主要靠空穴导电•空穴主要由杂质原子提供自由电子由热激发形成•掺入的杂质越多,多子(空穴)的浓度就越高,导电性能就越强•4. 能带当N个原子处于孤立状态时,相距较远时,它们的能级是简并的,当N个原子相接近形成晶体时发生原子轨道的交叠并产生能级分裂现象。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
第五章 非平衡载流子
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
§5.2 非平衡载流子的寿命 §5.3 准费米能级 §5.4 复合理论 §5.5 陷阱效应 §5.6载流子的扩散运动 载流子的扩散运动 载流子的漂移运动, §5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
n 0 = N c exp( − Ec − E F E − EV ); p 0 = N v exp( − F ) k 0T k 0T
一定。 即,温度一定,半导体载流子浓度n0, p0一定。 温度一定,半导体载流子浓度 n0, p0 :平衡载流子浓度。非简并条件下: 平衡载流子浓度。 平衡载流子浓度 非简并条件下:
寿命
统计计算
• 设从停止光照的 = 0时刻,非平衡载流子浓度 设从停止光照的t 时刻, 时刻 开始衰减, ∆p开始衰减,其衰减速率与非平衡载流子的浓 开始衰减 度成正比,比例系数为复合的散射几率。 度成正比,比例系数为复合的散射几率。 d ∆ P (t ) ∆ P (t ) 其解为: 其解为: =− dt τ
对于半导体, 对于半导体, ∆ r = ∆ ρ· l / S,而 ,
∆r ∝ ∆σ
即
∆ρ =
2 σ0
• 用示波器测量半导体两端的压降,光照时引起: 用示波器测量半导体两端的压降,光照时引起:
∆V = I∆r ∝ I∆σ ∝ ∆p
结论: 结论:示波器观察到的压降变 化来源于∆ 化来源于∆p
复合率与产生率
• 单位体积内,每个电子都有一定的几率与空穴复合,用复合几率 复合几率r 复合几率 表示。r与电子的平均热运动速率相关。空穴浓度 空穴浓度P越大,复合的空 空穴浓度 电子浓度越大,复合的电子数越多;电子空穴对 穴数越多;导带的电子浓度 电子浓度 的复合与两者成正比。复合率用R表示;产生率用G表示,s为激发 几率。
非平衡的产生
• 外场:光效应、热效应、电效应、磁效应。 外场:光效应、热效应、电效应、磁效应。 • 光效应: 光效应:
•光照,光子的能量hν若大于禁带宽度 g,将有电 光照,光子的能量 ν若大于禁带宽度E 将有电 光照 子从价带跃上导带,从而产生电子-空穴对 空穴对。 子从价带跃上导带,从而产生电子 空穴对。电 子浓度增加了∆ ,同时价带中空穴浓度增加∆ 。 子浓度增加了∆n,同时价带中空穴浓度增加∆p。 •其中 ∆n = ∆p 其中
R = r ⋅n⋅ p
R = r ⋅ n2 ⋅ p1
G = s ⋅ n1 ⋅ p2
• • • • • • •
温度一定, 一定, 值一定。 温度一定,r 一定,R 值一定。 平衡时, 产生率(generate): 平衡时,n = n0, p = p0, 产生率 : G = R = r n0 p0 = r ni2 光照停止时,非平衡载流子有净复合率: 光照停止时,非平衡载流子有净复合率: 净复合率 = 复合率 – 产生率 Ud = R – G = r ( np - ni2 ) 因产生率仅与温度有关, 因产生率仅与温度有关,且为平衡时的 复合率。因此, 复合率。因此,净复合率可以由上式算 代入上式, 出。将n = n0+∆n, p = p0+ ∆p代入上式, 代入上式 得到: 得到:
∆ p (t ) = ( ∆ p ) 0 exp( − )
t
τ
(∆p)0: 初始时刻的∆p , ∆p(t):随时间变化。 ∆ 初始时刻的∆ 随时间变化。 随时间变化
•从∆p(0)至浓度为∆p/e所花的时间为 从 至浓度为∆ 所花的时间为 至浓度为
(∆p)0 τ ∆
平均生存时间: 平均生存时间:τ “平均生存时间”------寿命 平均生存时间” 平均生存时间 寿命
第五章 非平衡载流子
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
§5.2 非平衡载流子的寿命 §5.3 准费米能级 §5.4 复合理论 §5.5 陷阱效应 §5.6载流子的扩散运动 载流子的扩散运动 载流子的漂移运动, §5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
• 半导体中,载流子浓度与温度相关 半导体中,
电子-空穴对的复合
• 复合产生的效应
1.直接复合
•基本概念:
•产生率 单位时间、单位体积内 产生率: 产生率
产生的电子-空穴对的数目;
•复合率 单位时间、单位体积内复 合的电子-空穴对 复合率: 复合率
的数目。 •直接复合 直接复合是指导带中的电子直接落入价带与空穴复合, 直接复合 导致电子空穴对的消失; 逆过程为由于热激发等原因,价带中的电子以一定的 •其逆过程 逆过程 几率跃迁到导带上去,产生电子空穴对。
N型半导体的非平衡情况
• 基本定义 • n0+∆n: 非平衡多数载流子; 非平衡多数载流子; ∆ • p0+∆p: 非平衡少数载流子。 非平衡少数载流子。 ∆ • 在小注入的情况下,常有: p0 < ∆n < n0 在小注入的情况下,常有: • 例:1 Ωcm的n型Si: cm的n型 • n0 = 5.5×1015 cm -3 , p0 = 3.1×104 cm -3 × × • 注入浓度:∆n = ∆p = 1010 cm -3 时, 注入浓度: • n ≈ n0 不变; p = p0+ ∆p ≈ 1010 cm -3 不变; 结论:小注入时,对非平衡少数载流子影响较大。 结论:小注入时,对非平衡少数载流子影响较大。
电子准费米能级和空穴准费米能级。 数学描述?
n = N p = N
c
exp( exp(
− −
E E
c − E k 0T p F
n F
)
v
v
− E k 0T
)
• 只要是非简并条件 电子准费米能级不进入导 只要是非简并条件(电子准费米能级不进入导 带和空穴准费米能级不进入价带), 带和空穴准费米能级不进入价带 ,上述条件 总是适用。 与 总是适用。n与n0、ni和p与p0和pi的关系如下 与
n 0 p 0 = N c N v exp( − Eg k 0T ) ( 5 − 1)
热平衡条件下此式成立;反之,此式成立,为热平衡。 热平衡条件下此式成立;反之,此式成立,为热平衡。
本章重点: 本章重点:
• 如何使式 如何使式(5-1)不成立,以及不成立的规 不成立, 不成立 恢复热平衡的过程、 律、恢复热平衡的过程、及各种可能的 机理。 机理。 • 若使式 若使式(5-1)不成立,在确定的温度 下, 不成立, 不成立 在确定的温度T下 对特定的半导体材料(E 一定), 对特定的半导体材料 g一定 ,只有使 n0或p0突然发生变化,变化原因是各种外 突然发生变化, 场:
准费米能级的性质
• 非平衡载流子的浓度可以通过两个准费米能级 的大小表示出来:非平衡载流子的浓度越高, 的大小表示出来:非平衡载流子的浓度越高, 准费米能级的上下差距越大。其中, 型半导 准费米能级的上下差距越大。其中,n型半导 体的电子费米能级变化不大, 体的电子费米能级变化不大,而空穴费米能级 的变化较大。 的变化较大。 • 总之,偏离越大,不平衡情况越显著。两者形 总之,偏离越大,不平衡情况越显著。 成统一的费米能级时,说明半导体处于平衡态。 成统一的费米能级时,说明半导体处于平衡态。
n n n Ec − E F E F − Ei EF − EF n = N c exp( − ) = n0 exp( ) = ni exp( ) k 0T k 0T k 0T p p p E F − Ev Ei − E F EF − EF p = N v exp( − ) = p0 exp( ) = ni exp( ) k 0T k 0T k 0T
非平衡少数载流子的作用
• 非平衡少数载流子对电导率的影响: 非平衡少数载流子对电导率的影响:
σ 0 = n0 qµn + p0 qµ p
光照 前: 光照 后: 附加电导率: 附加电导率:
∆σ
σ = (n0 + ∆n)qµn + ( p0 + ∆p)qµ p
∆σ = σ − σ 0 = ∆nqµ n + ∆pqµ p ∆nqµn + ∆pqµ p n0 qµ n + p0 qµ p
•
• • • • •
热平衡是载流子的产生与复合的平衡, 热平衡是载流子的产生与复合的平衡, 温度一定时:载流子产生的速率一定, 温度一定时:载流子产生的速率一定,而复 合则与非平衡载流子的浓度有关。 合则与非平衡载流子的浓度有关。 保持平衡时: 产生率=复合率 保持平衡时: 产生率 复合率 非平衡载流子如何复合? 非平衡载流子如何复合?(本章重点) 大致上可以分为两种: (1)直接复合:电子在导带和价带之间的直接 跃迁,引起电子和空穴的直接复合; (2)间接复合:电子和空穴通过禁带的能级进 行复合,且分为体内和表面。
“ 矛盾 ? ”
•如何解决?抛弃EF ?改善 F ? 如何解决?抛弃 改善E 如何解决 •合理的解决方案:两个费米能级, EFn和EFp 合理的解决方案: 合理的解决方案 两个费米能级,
非平衡态的费米能级
• 用准费米能级描述 • 用EFn描述稳定非平衡态时的:n = n0 + ∆ n • 用EFp描述稳定非平衡态时的:p = p0 + ∆ p
相对电导率: 相对电导率:
σ0
=
µn 1 + b ∆n = ⋅ , b= b n0 µp
实验检测图: 实验检测图:
• 电路中,半导体的电阻为 , 电路中,半导体的电阻为r, 串联为电阻R, 串联为电阻 , R >> r 。外加 电压为V 电压为
I = V/(R+r),电导率σ0 电导率σ 电导率