玻璃镀膜之常见膜系结构
IM消影玻璃镀膜技术讲解复习进程
IM膜层调试
❖ 按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率 试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报 废的原基片玻璃。
❖ F20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层 NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参 考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段 反射指标控制。
IM膜层调试
❖膜厚变化调整规律：
❖ 消影ITO与普通ITO比较，具备同样导电性的同时还以下优点: 1. 玻璃透过率增加，反射率减小具有AR膜功能，在同等 背光源的前提下，能通过
减少环境光影响获得更好的视觉亮度； 2. 减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，提
高视觉效果。
❖ 膜层组合
消影ITO的膜层结构
1.ITO消影玻璃在λ=500~650nm范围，ITO刻蚀前 反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消 影效果即符合公式 R % R % r% 0.5
2.CIE L*a*b*反射颜色值符合公式：(UV-2401PC)
a* a*前a*后0.5 b*b*前b*后1.5
消影ITO工艺指标（内控）——透过与反射
消影ITO工艺指标——颜色指标
❖CIE L*a*b*范围（反射颜色）
反射550nm颜色值控制：
标准值： -1.0≤a*≤0 -3.0≤b*≤1.0 内控值： -1.0≤a*≤-0.5 -2.0≤b*≤0.5
注意：CIE L*a*b*颜色坐标值，a*与b*尽可能 控制在负值范围内，所做出来的产品颜色才保证 不会发黄。
IM消影玻璃镀膜技术讲 解
内容提要
❖什么是消影ITO ❖消影ITO的膜层结构 ❖消影ITO的特性 ❖消影ITO技术指标 ❖ 消影ITO玻璃: 是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEX MARGIN层)，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，可见光波长 500nm—650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率△R%<0.5%,减少ITO 区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路 的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的IM+ITO玻 璃。
镀膜玻璃基础知识培训
镀膜玻璃基础知识培训一、产品分类及产品代号1、产品分类：1）按厚度分：3，4，5，6，8，10，12mm ，15mm等类。
2）按颜色分：灰，银灰，银，金，茶，蓝，蓝绿，绿，浅蓝等颜色。
3）按等级分：优等品和合格品。
4）按基片分：透明玻璃、本体着色玻璃。
5）按原片加工方式分：普通热反射镀膜玻璃，钢化热反射镀膜玻璃和热增强热反射镀膜玻璃，离线热弯镀膜玻璃，离线钢化镀膜玻璃和离线热增强镀膜玻璃。
6）按性质分可以分为阳光控制镀膜玻璃、低辐射镀膜玻璃LOW-E。
2、玻璃基片及其代号1）根据所用玻璃基片的不同，其基片的分类及代号如下：1 –透明浮法玻璃2 –绿色着色玻璃3 –灰色着色玻璃4 –茶色着色玻璃5 –蓝色着色玻璃6 –蓝绿色着色玻璃7 –天蓝色着色玻璃2）相同型号或颜色的玻璃基片来自不同厂家或同一厂家不同的着色原片时，在产品代号的最末加一个英文字母来区别。
3、产品代号1）产品代号为五部分的紧密排列，分别表示产品生产厂家、反射特征、基片类型、生产工艺编号和基片生产厂家或特性。
2）第一部分用一个大写英文字母“C”表示南玻集团产品。
如CCS108S3）第二部分两个大写字母表示以透明玻璃为基片时，产品呈现的反射色特征及成膜性质。
4）第三部分用一个阿拉伯数字表示基片的分类。
5）第四部分数字表示产品以6mm透明玻璃为基片时，该颜色的透过率。
6）第五部分用一个大写字母表示基片的生产厂家或特性。
如S表示南玻的白玻。
F表示F绿玻。
如CSY208F中的C表示南玻产品，SY表示灰色产品。
2表示绿色着色玻璃，08表示该产品的透过率在8%。
F代表F绿原片。
二、从膜代号上怎样区分阳光控制玻璃和LOW-E镀膜玻璃？整体来讲，阳光控制玻璃的膜代号是英文字母和数字直接连在一起的，中间没有“—”符号，（但老的膜代号是不带C的英文字母+“—”+数字构成，如TBG-20）。
LOW-E镀膜玻璃的膜代号是英文字母+数字+“—”+数字构成，如CEF16-49S/TS。
光学镀膜膜系类型 -回复
光学镀膜膜系类型-回复光学镀膜膜系类型指的是在光学元件表面通过镀膜技术形成的一层薄膜，用于调节光学元件的光学性能。
膜系类型的选择对于光学性能的影响至关重要。
本文将一步一步回答有关光学镀膜膜系类型的问题，以帮助读者更好地理解该主题。
第一步：了解光学镀膜的基本原理在进行光学镀膜膜系类型的探讨之前，我们首先需要了解光学镀膜的基本原理。
光学镀膜主要通过操控光的干涉效应来改变光的传播性能。
通过在光学元件表面上镀上一定的膜层，可以增强或减弱特定波长的光的反射或透射。
通过精确控制膜层的折射率、厚度以及层序，可以实现对光学性能的精确调控。
第二步：介绍光学镀膜的应用光学镀膜具有广泛的应用，涵盖了光学元件制造、激光技术、光通信、显示技术等众多领域。
在这些应用中，光学镀膜的膜系类型直接影响着光学元件的反射率、透过率、光学透明性以及耐久性等性能。
第三步：分类光学镀膜膜系类型光学镀膜膜系类型可以根据不同的分类标准进行划分。
按照光学镀膜的功能，可将其分为反射膜系和透射膜系。
反射膜系主要用于改变光的反射性能，用于增强光学元件的反射率。
而透射膜系则用于控制光线的透射性能，以提高光学元件的透过率。
此外，还可以根据光学镀膜的波长范围将其分为可见光镀膜、紫外光镀膜、红外光镀膜等类型。
第四步：详细介绍反射膜系的类型在反射膜系中，最常见的类型包括单层反射膜系、金属多层反射膜系和介质多层反射膜系。
单层反射膜系由单一材料的一层薄膜组成，用于特定波长范围内的光学性能控制。
金属多层反射膜系则由多个金属及其氧化物层交替堆积组成，用于特定波长范围内的反射增强。
介质多层反射膜系由多个介质材料层交替堆积组成，用于特定波长范围内的反射增强或增强特定波长的反射。
第五步：详细介绍透射膜系的类型在透射膜系中，主要包括单层透射膜系和介质多层透射膜系。
单层透射膜系由单一材料的一层薄膜组成，用于特定波长范围内的透射性能调节。
介质多层透射膜系由多个介质材料层交替堆积组成，用于增强或抑制特定波长范围内的透射。
(参考资料)3-2光学薄膜系统设计
在整个透射带，透过率在两个极值之间振荡：
R1
0－g 0 +g
2
膜厚4的偶数倍，
膜层变为虚设层
R2
0－E2 0 + E2
g g
2
膜厚4的奇数倍
产生波纹的原因： 1）等效光学导纳失配(波纹的幅度)(R1-R20)； 2）等效位相厚度随波长变化。
压缩波纹的方法
R1
0－g 0 +g
2
,
R2
通常波纹幅度大小是由等效折射率与基片和入射介质的匹配程度决定的而波纹的密度是由周期数多少决定的因为周期数多那么这个等效层的厚度就大高级次干涉峰就会靠的很近波纹就密
§2.4 干涉截止虑光片
1）什么叫干涉截止滤光片：利用多光束干涉原理，让某一 波长范围的光束高透，而让偏离这一波长区域的光束变为 高反的光学膜片。
主要参数： 中心波长（峰值波长）； 中心波长处的透过率； 通带宽度：透射率降为峰值透过率一半的波长宽度。
两种典型结构： 1）由一长波通膜系和一短波通膜系的重叠带波段形成的通 带。其特点为较宽的截止带和较深的截止度，但不易得到窄 的通带宽度。 2）Fabry-perot（F-P）干涉仪式的滤光膜系。其特点为可得 到很窄的通带宽度，但截止带也较窄，截止度也浅。
2 2 arcsin(1 R )
0 m
2R
中心波长的峰值透射率：
Tmax
T1T2 (1 R)2
当反射膜没有吸收、散射损失，而且反射膜是完全对称时， 滤光片的透射率和光洁基板一样高。
当反射膜有吸收、散射损失时，假定反射膜是完全对称时，
Tmax
T12 (1 R12 )2
(T12
T122 A12 )2
12
IM消影玻璃镀膜技术讲解
a* a * 前 a * 后 0.5 b* b * 前 b * 后 1.5
消影ITO工艺指标（内控）——透过与反射
类别 400nm
≥89%
≤11.% 89.5~91%
450nm
≥89%
≤9.8% 89.5~91%
550nm
≥90%
≤9% 90.3~91%
650nm
≥90%
反射率增大，反之，偏薄则会整体下降，趋向平直，反射 率减小。 当SiO2层偏厚，反射曲线随着膜厚的增加而下降，且 450nm以下越向下弯，反射率减小。超过90nm厚度后， 400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时，反射率增大，随着厚 度减小，450nm以下的曲线逐步向上抬高。 当两层都薄时，曲线变为从400nm向700nm倾斜；当两层 都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。
IM膜层调试 按工艺指导书参考工艺卡，设定各层使用的功率 试镀，工艺片采用0.7mm薄片，基板采用客户报 废的原基片玻璃。 F20检测薄的膜层时偏差较大，因此，第一层 NB2O5膜厚并不准确，调试过程只做光谱曲线参 考，主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段 反射指标控制。
IM膜层调试 膜厚变化调整规律： 当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬，
IM膜层调试（颜色控制)
颜色值控制负值范围方法： 1、当发现颜色值出现正值，说明600nm之后的 反射增加了，查看反射曲线，如反射率在控制范 围，只需将第二层膜厚减小，使反射曲线的反射 率从450nm向650nm递减，一般情况都可以纠正过 。 2、假如反射率曲线都很低，除了减少第二层膜厚 之外，第一层适当的增加膜厚。
参考附件： 正常工艺曲线
参考附件：正常工艺曲线
UV-2450曲线
光伏玻璃镀膜常见问题及分析
光伏玻璃镀膜常见问题及分析摘要：随着传统化石能源的减少和污染的加重，各国开始大力发展光伏发电。
光伏玻璃作为光伏组件的主要材料之一，其性能对光伏组件发电功率有着较大影响。
SiO减反射膜层主要为纳米SiO颗粒构成的多孔膜层，是硅源经过一系列的溶胶-凝胶化学反应和热处理过程后所形成的光学功能膜层。
采用辊涂镀膜方法，将减反射膜层施镀于超白压延玻璃上，可以将超白压延玻璃对太阳光的透过率由91.5%提升至93.5%以上。
相应的，晶硅电池组件输出功率也会有2%～4%的提升。
关键词：光伏玻璃;镀膜;问题;分析引言太阳能作为一种取之不尽的清洁能源应用广泛。
目前能够有效利用太阳能之一的是太阳能电池。
太阳能电池板表面需要面板玻璃进行保护，因此，提升光伏玻璃面板的透光率能有效提高玻璃的发电功率。
沈军等研究了用溶胶-凝胶法在玻璃表面镀制一层减反射（AR）薄膜，可以将入射光强度提高5%以上。
但其复杂的工艺以及机械强度的缺陷，大大限制了它的应用。
2010年以来，随着光伏行业的发展，大规模工业化减反射镀膜技术确立起来。
中建材、福莱特、信义、安彩高科等企业均已经建立成熟的减反射镀膜生产线。
根据安彩高科内部以及客户数据，单层减反射镀膜能提高组件发电功率2.5%以上，是光伏组件必不可少的材料之一。
1透过率性能光伏减反射镀膜玻璃的透过率性能对光伏组件的发电功率具有直接影响，决定了光能到达电池片表面的多少，所以透过率性能是衡量其质量标准的核心指标之一。
根据GB/T30984.1—2015《太阳能用玻璃第1部分：超白压花玻璃》标准要求，在晶硅光伏电池响应区间380~1100nm波段内，光伏减反射镀膜玻璃的透过率要求≥93%。
在实际应用过程中，光伏组件厂商对透过率的要求高于国家标准。
随着减反射镀膜玻璃技术的进步，减反射镀膜玻璃产品的透过率性能得到提升，基本能够满足组件厂商的透过率技术要求。
光伏减反射镀膜玻璃的透过率性能受基片透过率、减反射膜层增透性能及基片花纹等因素影响。
玻璃镀膜技术
玻璃镀膜技术摘要：玻璃镀膜技术是一种提高玻璃表面性能和功能的技术，通过在玻璃表面形成一层透明的薄膜，改变玻璃的光学、电学、热学等性质，从而实现不同的功能。
本文将介绍玻璃镀膜技术的原理、分类、应用以及未来发展趋势。
第一章：引言近年来，随着科技的发展和人们对生活质量的要求不断提高，对玻璃的要求也越来越高。
玻璃是一种常见的建筑装饰材料和制造工业产品的重要材料，然而，普通玻璃的性能往往不能满足一些特殊需求，如耐热、耐候、透明度等。
因此，开发出一种能够改善普通玻璃性能的技术变得至关重要。
玻璃镀膜技术就是针对这一需求而发展起来的一种技术。
第二章：玻璃镀膜技术的原理玻璃镀膜技术通过在玻璃表面形成一层透明的薄膜，改变玻璃的光学、电学、热学等性质。
据具体的应用需求，玻璃镀膜主要可以分为光学薄膜、电镀薄膜和热镀膜三类。
其中，光学薄膜技术主要是通过控制薄膜的光学性能，如透光率、反射率等，改变玻璃的光学性质，实现特定的功能。
电镀薄膜技术则是利用电化学原理，在玻璃表面形成金属薄膜，来改变玻璃的电学性质。
而热镀膜技术则是将所需的材料加热到一定温度，使其蒸发并在玻璃表面形成薄膜。
通过这些基础的制备方法，可以制备出具有不同性质的玻璃镀膜。
第三章：玻璃镀膜技术的分类根据不同的应用需求，玻璃镀膜技术可以分为多个分类。
首先是光学镀膜技术，该技术主要用于电子显示器、太阳能电池等领域，通过控制膜层的厚度和折射率来实现特定的光学性能。
其次是防反射镀膜技术，该技术主要用于减少玻璃表面的反射率，提高透光率，广泛应用于眼镜、触摸屏等领域。
还有导电镀膜技术，可以在玻璃表面形成导电膜，用于制作触摸屏、液晶显示器等电子产品。
最后是陶瓷镀膜技术，该技术能够增强玻璃的力学性能，提高玻璃的抗压强度和耐磨性能，适用于汽车、建筑等领域。
第四章：玻璃镀膜技术的应用玻璃镀膜技术在各个领域都有着广泛的应用。
在电子领域，玻璃镀膜技术能够制备出高透光率、低反射率的玻璃，用于液晶显示器、触摸屏等产品中，提高显示效果和触摸灵敏度。
信东玻工【2014】JP10号镀膜主推膜系一览表
工程专用 工程专用
15 XEGY0156-D 灰色
绿色系列 16 XETS0243-D 绿色
蓝灰系列 17 XETL0160-D 蓝灰
二、可推广热反射产品
系列
序号
膜代号 反射颜色
1
XSTY0165-D 浅灰
工程专用
恒大华府绿 老编码为 XE17639
工程专用
备注
可钢
2
XSTY0150-D 灰色
可钢
TY 系列
5.07 4.72 4.45 4.59 0.37 0.33 0.31 266 4.97 4.64 4.34 4.48 0.40 0.36 0.34 283 5.12 4.76 4.50 4.64 0.44 0.41 0.37 310 5.46 5.05 4.88 5.02 0.51 0.48 0.44 362 5.73 5.28 5.16 5.31 0.61 0.58 0.52 422 5.73 5.28 5.16 5.31 0.53 0.5 0.45 374
3 XDTB0161-D
可
4 XDTG0156-D
蓝灰 蓝灰 灰色
适合白玻、超白 适合白玻、超白 适合白玻、超白
钢 5 XDTG0155-D
蓝灰
6 XDTG0160-D
灰色
7 XDBG0148-D
蓝灰
8 XDTS0142-D
银灰
9 XEDN0175-D
无色
10 XEDN0169-D
无色
11 XD123964-01-D 浅灰
蓝色系列
2 XETB0170-D 3 XETB0160-D 4 XETB0150-D
蓝色 蓝色 蓝灰
XSLB0160-D
XSTB0148-D (可钢)
玻璃镀膜技术
玻璃镀膜技术1. 简介玻璃镀膜技术是一种将薄膜材料附着在玻璃表面的工艺。
通过这种技术，可以改变玻璃的光学性质、机械性能和化学稳定性，从而满足不同应用领域对玻璃的需求。
玻璃镀膜技术广泛应用于建筑、汽车、光学仪器等领域。
2. 玻璃镀膜的分类根据功能和应用需求的不同，玻璃镀膜可以分为以下几类：2.1 光学镀膜光学镀膜是将一层或多层透明材料（如金属、氧化物等）附着在玻璃表面，以改变光的传播和反射特性。
常见的光学镀膜包括反射镀膜、抗反射镀膜和滤光镀膜等。
反射镀膜可提高玻璃的反射率，常用于太阳能电池板；抗反射镀膜可降低玻璃表面的反射率，提高透光性，常用于光学仪器和显示屏；滤光镀膜可选择性地吸收或反射特定波长的光线。
2.2 防护镀膜防护镀膜是通过在玻璃表面形成一层保护膜，提高其耐磨损、耐酸碱和耐腐蚀性能。
常见的防护镀膜有硅氧烷涂层、钛酸盐涂层和钢化玻璃等。
硅氧烷涂层可提高玻璃表面的亲水性，使水滴迅速滑落，常用于建筑幕墙和汽车前挡风玻璃；钛酸盐涂层可增强玻璃的硬度和耐刮擦性能，常用于手机屏幕保护膜；钢化玻璃通过加热和快速冷却处理，使其具有更高的强度和耐冲击性。
2.3 功能镀膜功能镀膜是为了赋予玻璃特定的功能而进行的镀膜。
常见的功能镀膜有导电镀膜、隔热镀膜和自洁镀膜等。
导电镀膜可使玻璃具有导电性，常用于触摸屏和电子显示器；隔热镀膜可降低玻璃的热传导性能，提高建筑物的能效；自洁镀膜可使玻璃表面具有良好的自清洁性，减少污染物的附着。
3. 玻璃镀膜技术玻璃镀膜技术主要包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种方法。
3.1 物理气相沉积（PVD）物理气相沉积是利用高能粒子或原子束将材料从固体源中剥离，并以高速冲击到玻璃表面形成涂层。
常见的物理气相沉积方法有溅射、电子束蒸发和离子束沉积等。
这些方法可以在真空环境下进行，控制沉积速率和厚度分布。
3.2 化学气相沉积（CVD）化学气相沉积是通过将蒸发的前体气体在表面发生化学反应，使材料沉积在玻璃表面。
(整理)镀膜工艺
第一节镀膜玻璃一、镀膜工艺镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。
我公司采用的是阴极真空磁控溅射法，通过磁控溅射，在优质浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。
通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。
1．镀膜原理阴极真空磁控溅射的特点：膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。
溅射镀膜利用2个原理：辉光放电、连续撞击。
溅射过程是建立在气体放电基础上的，放电从低压下开始的，气体离子与靶材相互作用，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片（玻璃）上沉积下来，凝结成一层薄膜。
当气体通入真空室后，气体在低气压高电压的情况下迅速被电离，Ar原子电离为Ar+和e-，带正电的Ar+离子在电场的作用下向阴极运动，最终撞击靶材，把能量传递给靶材。
当较多的Ar+离子撞击靶材，靶材表面原子所受到的撞击力大于靶材内部应力时，靶表面原子就从靶表面析出。
带负电的电子e-在电场作用下向带正电的阳极运动，而阴极上是装有磁体的，真空室内同时具有磁场，电子在电磁场的作用下作圆周运动，而真空室内不断的在补充气体，电子会撞击补充的气体分子，加速气体分子的电离，电子撞击气体分子后能量减小，运动半径减小，多次撞击后能量消失，故电子的运动轨迹是螺旋形。
常见的溅射有两种：不反应溅射和反应溅射。
不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。
因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体，一般使用氩气（Ar），称为工作气体。
不反应溅射一般都用在镀金属膜层上，导电性能越好的材料，溅射速率越高。
反应溅射就是在反应气体环境中镀膜，溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。
反应溅射一般沉积不导电的膜层，例如：SnOx，ZnOx，SiOx，SiNx等。
在反应溅射系统中，一般都加入Ar加速反应速度，即提高溅射速率。
在反应溅射气氛中，加入工作气体越多，溅射速率越高，当加入的工作气体过多时，反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉，膜层内就会含有金属，我们把这种状态叫翻转。