硅·机械材料
硅材料基础知识
基础课件－硅材料基础知识硅材料基础知识主要内容：一、概述二、硅的结构、分类与来源三、硅的物理性质四、硅的化学性质五、硅的物理参数及测量六、硅的应用及注意事项一、概述硅材料的基础知识，课程包括较多，有固体物理、量子力学、半导体物理、半导体化学、半导体器件工艺、半导体材料等方面的知识；内容较多，如半导体电子状态和能级、载流子的发布、导电性、非平衡载流子、P－N结、金属与半导体的接触、表面理论、光电效应、磁电效压阻效应、异质结等。
这里只介绍半导体材料的最基本的内容。
1、材料按导电性能划分，可分为：导体、绝缘体、半导体三类。
导体——容易导电的材料。
如各种金属、石墨等。
一般的，电阻率<0.2Ω·cm 绝缘体——很难导电的材料。
如橡胶、玻璃、背板、EVA、SiO2、Si3N4等。
一般的，电阻率>20000Ω·cm半导体——介于两者之间的材料。
如Si、Ge、GaAs、ZnO等，它具有一些独特的性质。
注：a、金属靠电子导电，溶液靠离子导电，半导体导电靠电子或空穴导电。
b、空穴就是电子的缺少。
2、半导体材料，按组成结构可分为：元素半导体、化合物半导体、非晶半导体、有机半导体。
3、半导体器件对材料的要求：3.1禁带宽度适中（一般0.5～1.5电子伏，硅是1.08）3.2载流子迁移率高（一般1000～5000cm2/V·s）3.3纯度高3.4电阻率要求可靠、均匀（一般0.001～100000 ，硅本征2.3×105）3.5晶体的完整性二、硅的结构、分类与来源1、硅的原子理论1.1元素周期表中，第三周期、第IVA 族元素，原子序数14，原子量28电子排布1S 22S 22P 63S 23P 2 ,化合价为＋4价（＋2价）1.2硅有三种同位素28Si ：92.21％、29Si ：4.70％、30Si ：3.09％、1.3晶体结构：金刚石结构（正四面体），原子间以共价键结合。
高纯硅的用途
高纯硅的用途
高纯硅是一种重要的材料，其衍生物和混合物可以用于各种应用，包括电子、光学、磁性、机械和医药领域。
高纯硅是由硅元素（Si）制成的，其熔点非常高，在1420℃以上。
此外，它具有良好的热稳
定性和化学稳定性，通常用作建筑和特种电子材料。
高纯硅的用途
高纯硅的应用非常广泛，它可以用于各种电子产品的制造，以及多种光学和机械装置的制造。
1.子应用
高纯硅是用于制造电子元件和零件，如集成电路（IC）、电路板
和元件，广泛应用于微电子和终端产品，其中包括处理器、半导体器件、消费电子产品和特种计算机系统。
2.学应用
高纯硅可用于制造玻璃/塑料薄膜和激光窗口，以改善镜头的像
效果和图像质量；它也用于制造太阳能电池的光学件，以捕捉太阳能，用于日光灯和太阳能制冷用途；它还可用于制造成像设备和多种传感器，以检测复杂环境条件。
3.性应用
高纯硅可用于制造磁性材料，如铁电材料、自旋轨道记忆存储器芯片和磁头，用于磁性密码存储记忆；它可用于制造磁滤波器和磁分离器，以改善电子系统的特性；它还可用于制造磁流变液体，以调节机械装置的流量。
4.药应用
高纯硅可用于生物技术的临床诊断，可用于制造生化传感器和仪器，以检测细胞表面和体内各种物质的存在；它也可用于制造材料，以生产医药、保健和化妆品的原料；最后，它可用于制造植入物和人工组织，用于矫形，也可用于研究眼科手术技术。
结论
高纯硅是一种重要的材料，可用于制造各种电子产品、光学装置、磁性材料和医疗器械。
它的应用非常广泛，对于提高人类生活质量和降低环境污染都有重要作用。
氧硅铝铁钙
氧硅铝铁钙
氧化硅、铝、铁和钙是机械工程中广泛使用的四种重要材料，它们都具有在高温、消耗和摩擦条件下仍能有效运行的优异性能，能够抵抗侵蚀和腐蚀。
首先，氧化硅是机械工程中常用的一种陶瓷材料，它由过氧化硅组成，是一种耐高温的优秀的耐磨材料，具有抗腐蚀阻燃的特性，能够很好的抵御汽油和燃料。
此外，它能够耐用和耐使用，所以它通常被用于制造转子、轴承等高速运转部件，因其抗高温和耐磨性，可以在恶劣的高温、高压和高湿条件下运转得非常顺畅，确保机械设备的可靠性和稳定性。
其次，铝是机械技术中常用的一种金属材料，它具有轻质、高强度、低密度等优点，是构成细小、轻便的机械结构的理想材料。
它具有抗腐蚀性强，不易氧化，同时受辐射等影响较小等优点，因此通常用于制造各种重要结构体，如磁器、机床等。
此外，铁是机械技术中使用最普遍的金属材料，铁主要含有碳和磷等元素。
它有优秀的延性、承载能力和耐磨性，适用于机械动力传动部件，如轴、凸轮等。
最后，钙是一种常用材料，它具有优异的强度、延性、耐磨性等性能，同时也具有耐化学腐蚀的特性。
此外，它还具有良好的耐冲击性，因此通常用于制造航空航天轴承、飞机发动机、军用发动机等机械装备零部件。
以上就是氧化硅、铝、铁和钙在机械工程中的作用，它们都具有抗腐蚀、耐磨、耐振、耐高温、耐压等优良性能，能够很好的解决机械设备的磨损、振动、强度、耐久性等问题，为保证机械设备运行效率和安全做出了杰出贡献。
有机硅新材料
有机硅新材料
有机硅是一种具有碳硅键的有机化合物，其分子结构中含有硅元素。
有机硅新材料是指以有机硅作为主要原料，通过化学合成或改性制备而成的新型材料。
有机硅新材料具有许多优良特性，被广泛应用于建筑、医药、化工、电子等领域。
首先，有机硅新材料具有优异的耐高温性能。
由于硅元素的特殊性质，有机硅新材料在高温环境下依然能够保持稳定的性能，不易熔化或变形，因此被广泛应用于航空航天、汽车制造等领域。
其次，有机硅新材料具有良好的耐腐蚀性能。
由于硅元素与氧气结合形成的二氧化硅具有很强的稳定性，因此有机硅新材料在酸碱等腐蚀性介质中表现出较好的耐蚀性，适用于化工设备、管道等领域。
此外，有机硅新材料还具有优异的绝缘性能和机械性能。
由于硅元素与有机基团的结合，使得有机硅新材料在电气绝缘和机械强度方面表现出色，广泛应用于电子电器、建筑材料等领域。
另外，有机硅新材料还具有良好的粘接性能和表面活性。
有机硅新材料可以通过改性制备成各种类型的胶水、润滑剂、表面处理剂等，被广泛应用于家居装饰、汽车制造、纺织印染等领域。
综上所述，有机硅新材料具有耐高温、耐腐蚀、绝缘、粘接等优异性能，被广泛应用于各个领域。
随着科学技术的不断发展，有机硅新材料的应用领域将会更加广泛，为人类社会的发展进步提供更多的可能性。
金属硅特点
金属硅特点金属硅是一种常见的无机化合物，它的化学式为Si。
金属硅具有许多独特的特点和性质，使其在多个领域得到广泛应用。
下面将从导电性、热稳定性、化学稳定性和机械性能四个方面详细介绍金属硅的特点。
金属硅具有优良的导电性。
金属硅是一种半导体材料，其电导率介于导体和绝缘体之间。
在室温下，金属硅的电导率约为1-100 Ω^-1·cm^-1，这使得金属硅可以用于制备电子元器件和集成电路等电子设备。
此外，金属硅的导电性还可以通过掺杂来调节，使其具有不同的导电性能，进一步扩展了其应用范围。
金属硅具有良好的热稳定性。
金属硅的熔点较高，约为1414℃，并且在高温下仍能保持较好的化学稳定性和结构稳定性。
这使得金属硅可以在高温环境下工作，例如用于制备高温传感器和高温电子元件等。
此外，金属硅还具有较低的热膨胀系数和良好的热导性，使其在热工业领域有广泛应用。
第三，金属硅具有较好的化学稳定性。
金属硅在常温下与大多数非金属元素和常见化合物反应不产生明显的化学反应。
它可以在氧气、水和大多数酸碱溶液中稳定存在，这使得金属硅可以用于制备耐腐蚀材料和化学反应容器等。
此外，金属硅还可以与一些金属形成合金，增强其力学性能和耐腐蚀性能。
金属硅具有良好的机械性能。
金属硅具有较高的硬度、较高的抗拉强度和较好的韧性。
它的硬度可达到6-7，相对于钢铁等常见金属来说较高。
金属硅还具有较高的抗拉强度，可以抵抗较大的拉力。
此外，金属硅的韧性较好，可以在外力作用下发生一定程度的变形而不断裂。
这些优良的机械性能使得金属硅可以用于制备高强度结构材料和耐磨材料等。
金属硅具有导电性好、热稳定性强、化学稳定性好和机械性能优越等特点。
这些特点使得金属硅在电子、热工业、化工和材料等领域得到广泛应用。
未来随着科技的不断发展，金属硅的特点将进一步被挖掘和应用，为人类带来更多的科技进步和便利。
硅的材料特性及应用价值
硅的材料特性及应用价值硅是一种常见的无机非金属材料，也是地壳中含量较多的元素之一。
硅具有许多独特的材料特性和广泛的应用价值。
在以下几个方面进行详细的介绍。
首先，硅具有良好的热稳定性和化学稳定性。
硅的熔点高达1414，能够在高温下保持相对的稳定性，不易熔化或分解。
同时，硅也具有较强的耐腐蚀性，能够在酸、碱和大部分溶剂的环境中长期稳定存在。
这些特性使得硅在高温、腐蚀环境下的应用具有优势。
例如，硅可以用于制造高温热交换器、耐酸、耐碱的化学设备等。
其次，硅具有良好的电学特性。
硅是一种半导体材料，具有负温度系数的电阻特性，即随着温度的升高，电阻值会下降。
这一特点使得硅被广泛应用于电子器件领域。
硅材料可以制成晶体管、集成电路等电子元件，用于制作计算机、手机、电视等电子产品。
此外，硅还具有良好的光学特性。
硅的透射率高，对大部分的可见光都具有较好的透明性。
同时，硅也是一种光电材料，具有反光、吸光和光致发光等特性，能够广泛应用于光电子器件领域。
例如，硅可以用于制造光纤通信中的光纤、光纤放大器以及光开关等设备。
此外，硅还具有较好的机械特性。
硅的强度和硬度都相对较高，同时还具有较好的韧性和抗疲劳性。
因此，硅可以用于制造耐磨、耐冲击的结构材料。
例如，硅可以用于制造半导体设备中的机械零件和模具等。
最后，硅还具有比较丰富的资源储量和较低的成本。
由于硅在地壳中的含量较高，因此硅资源比较丰富，不易短缺。
与其他一些材料相比，硅的生产成本相对较低，能够满足大规模生产的需求。
总结来说，硅材料具有独特的材料特性和广泛的应用价值。
硅的热稳定性、化学稳定性、电学特性、光学特性和机械特性使其应用于高温、腐蚀环境、电子器件、光电子器件和结构材料等领域。
此外，硅资源丰富、成本低廉，为大规模应用提供了保障。
因此，硅具有非常重要的应用价值和市场前景。
硅(Si)
不纯硅石的变体，是天然硅酸盐岩石风化后的产物。硅约占地壳总重 量的 27.72％，其丰度仅次于氧。
硅是非金属元素，有无定形和晶体两种同素异形体，晶体硅具有 金属光泽和某些金属特性，因此常被称为准金属元素。硅是一种重要 的半导体材料，掺微量杂质的硅单晶可用来制造大功率晶体管、整流 器和太阳能电池等。二氧化硅（硅石）是最普遍的化合物，在自然界 中分布极广，构成各种矿物和岩石。最重要的晶体硅石是石英。大而 透明的石英晶体叫水晶，黑色几乎不透明的石英晶体叫墨晶。石英的 硬度为 7。石英玻璃能透过紫外线，可以用来制造汞蒸气紫外光灯和 光学仪器。自然界中还有无定形的硅，叫做硅藻土，常用作甘油炸药 （硝化甘油）的吸附体，也可作绝热、隔音材料。普通的砂子是制造 玻璃、陶瓷、水泥和耐火材料等的原料。硅酸干燥脱水后的产物为硅 胶，它有很强的吸附能力，能吸收各种气体，因此常用来作吸附剂、 干燥剂和部分催化剂的载体。
元素描述：
由无定型和晶体两种同素异形体。具有明显的金属光泽，呈灰色， 密度 2.32-2.34 克/厘米 3，熔点 1410℃，沸点 2355℃，具有金刚石 的晶体结构，电离能 8.151 电子伏特。加热下能同单质的卤素、氮、
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碳等非金属作用，也能同某些金属如 Mg、Ca、Fe、Pt 等作用。生成 硅化物。不溶于一般无机酸中，可溶于碱溶液中，并有氢气放出，形 成相应的碱金属硅酸盐溶液，于赤热温度下，与水蒸气能发生作用。 硅在自然界分布很广，在地壳中的原子百分含量为 16.7%。是组成岩 石矿物的一个基本元素，以石英砂和硅酸盐出现。
元素来源： 用镁还原二氧化硅可得无定形硅。用碳在电炉中还原二氧化硅可 得晶体硅。电子工业中用的高纯硅则是用氢气还原三氯氢硅或四氯化 硅而制得。 元素用途： 用于制造高硅铸铁、硅钢等合金，有机硅化合物和四氯化硅等， 是一种重要的半导体材料，掺有微量杂质得硅单晶可用来制造大功率 的晶体管，整流器和太阳能电池等。 元素辅助资料： 硅在地壳中的含量是除氧外最多的元素。如果说碳是组成一切有 机生命的基础，那么硅对于地壳来说，占有同样的位置，因为地壳的 主要部分都是由含硅的岩石层构成的。这些岩石几乎全部是由硅石和 各种硅酸盐组成。 长石、云母、黏土、橄榄石、角闪石等等都是硅酸盐类；水晶、 玛瑙、碧石、蛋白石、石英、砂子以及燧石等等都是硅石。但是，硅
有机硅新材料
有机硅新材料
有机硅材料是以硅为主要元素的材料，由有机基团和硅基团组成。
它具有独特的化学结构和优异的物理性能，已经广泛应用于许多领域。
有机硅材料的主要特点是具有优异的耐热性和耐寒性。
它能耐受高温，高达300°C以上，同时也能在极低温度下保持良好
的柔软性和弹性。
这使得有机硅材料在高温和低温环境下都能发挥出色的性能，非常适用于极端工况。
此外，有机硅材料还具有优异的电气性能。
它的电绝缘性能好，可以阻隔电流的流动，具有很高的绝缘电阻和击穿电压。
同时，有机硅材料还具有较低的介电损耗和热膨胀系数，能够有效减小电器元件的能量损耗，并提高元件的稳定性和可靠性。
有机硅材料还具有出色的化学稳定性和抗老化性能。
它能够耐受许多化学物质的侵蚀和氧化，并能在长期暴露于紫外线和氧气下保持良好的性能。
这使得有机硅材料在户外环境和化学工业中得到广泛应用，如防水密封材料、涂料和防腐材料等。
同时，有机硅材料还具有良好的机械性能。
它具有很高的抗拉强度、耐磨性和抗冲击性，能够承受较大的外部力的作用，不易变形和劣化。
这使得有机硅材料在工程结构和机械零件领域得到广泛应用。
总之，有机硅新材料凭借其独特的化学结构和优异的物理性能，已经成为许多领域的重要材料。
随着科技的发展和研究的深入，
相信有机硅材料将发展出更多新的性能和应用领域，为人类的生活和工作带来更多的便利和创新。
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微机械加工蚀刻技术
尽管新技术和老技术的新颖应用不断被开发用于 微结构，最强大和最灵活的处理工具将继续被蚀 刻。有无数的化学腐蚀剂能腐蚀硅。要确定适当 的掩模材料，它们可以是各项同性或者各向异性 的，可以是依赖掺杂剂或者不依赖的，并有对硅 有不同程度的选择性
常见的潮湿硅蚀刻的特点的简短的总结
EDP（电子数据处理）有三个属性，这使得它不可缺少微机械加工
活动结果
一、此次实践活动的目的在于了 解国防企业农村饮水安全状况的 现状和近年来的工作成效，同时 对中央一号文件精神进行大力宣 传和弘扬。 二、此次实践，旨在让同学们走出 课堂，学习到更多课堂中学不到的 知识，扩展见识面。
`三、此次实践，旨在响来自中央一 号文件，以启东市为例调查农村 用水质量状况。
竞发
收获哪些？ （活动感想） 做哪些？ （活动流程） 怎么做？（活动行程安排）
为何做？（活动目的及意义）
活动有什么意义：
`
活动做些什么？
一、在研究所进行学习参观
二、听取校友的意见和经验指导
三、宣传工作 四、分析总结
活动做些什么？
奋勉
谱春秋
励志
武汉船用机械有限责任公司 航天科工集团第九研究院国营机械厂 中国航天科工集团公司
了解国防单位，收集国防单位 相关资料和校友信息；采访校友， 宣传报道长期工作在国防科技第一 线的广大校友的先进事迹，并鼓励 和引导学生积极献身于国防事业。
宣传工作
分析总结
（1）发展问题 （2）收入问题 （ 3）
在老师指导下，对实践 内容进行分析总结，以论 文形式展现实践成果。
对以上实践内容进行 分析总结
来不被明显施压和磨损的设备可能 会相当大。然而，即便如此，薄硅 片应该受到一些技术的机械支持比 如在正常的处理和运输过程中抑制 阳极键对玻璃冲击的影响
如果传统锯、磨、或 其他机械操作是必要 的,那么受影响的表面 和边缘应随后刻蚀来 清除高度受损区域
坚固的,硬的,耐腐蚀的 薄膜涂层如CVD碳化 硅或氮化硅应该应用于 防止对硅本身的直接机 械接触,尤其是在涉及 到高压力和/或磨损的 应用程序上
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硅彻底改变人们对电子的思维方式 硅是微观力学的基础 硅微电子的小型化
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硅多学科应用的弊端
硅彻底改变人们对电子的思维方式
由惠普销售的高带 宽频率合成器的关 键探测器组件是一 个硅晶片，它的悬 臂梁已经被刻蚀来 从而为二极管探测 器提供热隔离区域。
德州仪器已经销 售了一个在几个 计算机终端盒绘 图机产品上的热 点头，其中活跃 印刷元素研磨地 接触纸是一种硅 集成电路芯片。 至少有8个企业生产 和销售以硅为基础 的调压计传感器 （制造业长达10 年），一些有源器 件或整个电路集成 在同一硅芯片上， 一些价值高达 10000磅。
硅能实现高可靠性的机械组件
疲劳裂纹几乎都发生在被施加压力构件的表面，疲劳的速 度很大程度上取决于表面处理、形态和缺陷密度。 钝化表面的多晶金属合金（防止水的粒间扩散）比非钝化 表面表现出更高的疲劳优势，并且因为同样的原因，高层 大气的水蒸气含量在疲劳测试过程中将使疲劳强度明显降 低。
结构组件与高度磨光的表面比那些粗糙的表面加工有较高的疲劳优势
尽管优质SCS本质上是强大的，但一个特定的机械部件或装置将取决于它的晶 体取向、几何形状、表面的数量和大小、边缘、体积缺陷、以及在发展、抛 光和后续处理过程中产生和累积的应力
硅材料应该尽可能地 拥有小的体积、表面 和边缘晶体缺陷密度 以最小化潜在区域的 应力集中
所有机械加工如锯、磨、划 片、抛光应该最小化或消除。 这些操作导致边缘和表面缺 陷,从而可能导致边缘碎裂, 和/或导致内部菌株随后破 可能受到严重摩擦、磨损 损。许多微机械组件应该最 或压力的组件应尽可能小以减少机 好与晶片分开,例如,通过蚀 械结构中晶体缺陷的总数。这些从 刻,而不是减少
一方面，材料、流 程和制造技术均来 自半导体行业
另一方面，应用领 域主要是在机械工 程和设计上。
尽管SCS是一种脆性材料， 会发生突变，但他肯定 不像大家认为的那样脆 弱
硅的杨氏模量接近不锈钢和镍但是高于石英和其他大多数硼硅、钠钙、铅碱性 硅酸盐的玻璃。硅的努氏硬度和石英的接近，略低于铬。硅的单晶体有拉伸屈 服强度高于不锈钢丝至少三倍。
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它是各向异性的， 从而有可能实现可行 的独特的几何形状， 除非另有可行的
它是高度选择性的， 可以被各种材料屏蔽， 例如，二氧化硅、氮 化硅、铬和金
它是依赖掺杂剂 的，表现为一直 备受硼掺杂的硅 蚀刻速率接近零。
空穴注入到半导体 以提高硅到一个更 高的氧化的状态
羟基的 OH-附着 到带正电 的硅上
纤通信系统的高 精度定位和耦合 是由仅仅是由来 自非物质的西部 电气刻蚀硅片产 生的，因为这是 高精度要求的唯 一技术能力。
在IBM内部，墨 水喷射喷嘴阵列 和充电板总成刻 蚀硅片再次证明 高精度集成电路 技术的能力。
硅微电子的小型化
4个因素
起着
硅微电子电路是批量伪造的。集 成电路晶片的生产单位不是一个 个体可供出售的物品，但包含成 百上千的相同的芯片。
SCS许多结构或机械特点可以由沉积的钝化薄膜缓解。例如 喷溅的石英，就是利用常规的工业IC芯片钝化对杂质和轻 微的大气腐蚀的影响。最新研究的半导体集成电路的CVD沉 积（高温热解和低温射频增强型）生产了极其硬的碳化硅 薄膜，基本上零孔隙度，非常高的化学腐蚀电阻和优越的 耐磨性。由联合碳化公司销售的用于存放聚对二甲苯这种 聚合物的气体冷凝技术可以在高分子上产生针孔自由、低 孔隙度的钝化薄膜，这种高分子具有特殊的点、边、孔覆 盖能力。例如，聚对二甲苯一直使用镀层和钝化植入式生 物医学传感器和电子仪器。因为聚酰亚胺薄膜的沉积，其 他技术已经得到进步，它也已经应用于半导体行业，并且 表现出优越的钝化特征。
`
准备 的 基础
准备的基础
准备 的 基础
准备的基础
最关键的是 我们的指导老师 我们在策划的基础上 努力地加入自己的 环境工程系主任
思考
我们在策划实践内容前 在网上查阅了相关资料 询问了实践地点的设备条件 指导老师提供了宝贵意见
准备的基础
最关键的是 我们的指导老师 我们在策划的基础上 努力地加入自己的
硅的机械特性
在多晶材料中，这些晶粒边界或表面不规则、局部应力集中的表面缺 陷可以夹杂物。很显然，完美的高结晶的SCS和极端的平滑度、完美 的表面一起，通过化学蚀刻硅，实现了具有内在的高疲劳强度的屈服 机械结构。通过附加的表面处理，脆性材料更大的优势是可以预见的 。
由于流体静压力已被证明能提高疲劳强度，任何置于压缩下的硅表面 的薄膜，应降低疲劳裂纹产生的起始概率。例如氮化硅薄膜，往往是 处于张力状态的，因此在硅表面的下面赋予了一个压缩应力。 为了增强SCS机械组件的疲劳强度，也可以采用这样的薄膜。此外， 这些薄膜的无定形材料的平滑性，均匀性和高的屈服强度应该提高整 个组件的可靠性。
各向异性的蚀刻剂，如电子数据处理（EDP），氢氧化钾，在另一方面， 表现出不同的择优腐蚀行为，尚未得到充分的解释。
化学各向异性蚀刻（或取向依赖）性质的确切机制尚不十分清楚。这种 硅蚀刻行为的主要特征是（111）的表面在比所有其他的晶面速度慢的多 的速度下被攻击（蚀刻速率比已高达1000）。
（a）典型的金字塔形的坑， （111）面为界，通过一个方孔氧 化物掩模的各向异性蚀刻，蚀刻到 （100）硅。 （b）凹坑的类型通过缓慢的凸 底切速率的各向异性蚀刻被预期了。 （c）同一掩模图案具有快速凸 底切率，如EDP。 （d）进一步蚀刻（c）产生的 悬臂梁悬浮在坑里。（e）插图的 一般规则为各向异性蚀刻削弱的假 设“足够长”蚀刻时间。
中国船舶重工集团公司第701、717、719所
在工作人员的带领下，进行学习参观， 观看各国防单位宣传短片，学习企业文化， 听取国防单位领导介绍单位发展前景和人才 策略，收集就业信息；实地参观科研、生产 环境，收集国防重点单位的宣传资料。
在研究所进行学习参观
听取校友的意见和经验指导
针对国防单位对人才的需求,听取用 人单位和校友对学校教学、科研的意 见；与校友进行座谈交流，各个校友 向我们介绍了自己在所内所在的部门、 所从事的工作、所研究的方向以及工 作几年所总结的一些经验。
在溶液中进 行络合剂的 水合二氧化 硅的反应
SCS蚀刻的基本步骤
解散反应 产物到腐 蚀液
湿法刻蚀中常用的微机械器件的几何
形状的概要。
（a）（100）表面的各向异性腐蚀。
（b）（110）表面的各向异性腐蚀。
（c）各向同性蚀刻搅拌。 （d）无搅拌各向同性蚀刻。
微机械加工蚀刻技术
混合乙烯二胺和邻苯二酚在没有水的情况下不会蚀刻硅。其他常见的硅 蚀刻剂可以以相同的方式进行分析。由于蚀刻过程基本上是一个电荷转 移机理，所以蚀刻速率可能会对依赖于掺杂剂的类型和浓度并不奇怪。 仅仅是因为移动传送更高的可用性，特别是高掺杂的材料一般预期可能 比低掺杂的硅表现出较高的蚀刻速率。
因为很多下面的结构 采用各向异性刻蚀，常常形成尖 锐的边缘。这些功能也会导致累 积和集中应力在某些几何图形上 的破坏。这些结构可能需要后续 的各向同性腐蚀或其他平滑方法 绕过这些角落
主要是为超大规 模集成制造而发展起来 的低温处理技术,如高压 和等离子辅助的氧化物 生长和CVD沉积物,将与 硅微观力学的应用程序 同样重要。由于不同掺 杂和沉积层的不同热膨 胀系数，高温循环会不 可避免地导致高应力作 用于晶片。低温处理将 缓解这些热错配应力,否 则可能导致机械条件下 的严重破损
机械工程
机械工程
张怡雯
孙昕煜
兵器科学 与技术 郭雨非 兵器科学 与技术 朱传胜
测控技术 与仪器 徐淼淼 测控技术 与仪器
陈静
周德宏主任 杜建宾主任
组长
机械工程