cadencepcell制作

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Lab-3.
Cadence --- P-cell 技巧

当我们在对一电路画Layout时，若电路很大，便需要画很多的MOS，工作将变的繁琐，
但只要利用P-cell的功能，建立常用的cell，便可省下许多繁琐工作，这便是P-cell的好处
所在。当我们电路很大时，需要画很多不同size的MOS，以下便教导各位建立一个MOS
的P-cell，当我们需要一个MOS时，只要呼叫出这cell，填入所需数据(W, L, gate number)，
便立即得到想要的MOS。

1. 先绘出一个标准的nMOS(使用0.35m制程，尽量接近坐标原点，size为最小)，如图
一。
PS.” /chip3/virtuoso/add035 /”目录内有已建好的nMOS，可以直接套用。
步骤一：键入”cp –r /chip3/virtuoso/add035 ~/.”将档案COPY到userhome内。
步骤二：键入”~/add035/icfb &”，已开启cadence。
步骤三：开启pcell (library)下nmos(pcell)的layout(view)，如图一。

图一
2. 点选LSW窗口中的Edit=>Set Valid Layers…，会出现Set Valid Layer窗口。
3. 寻找一个Layer，名为stretch，点选stretch右边之小方块，在点选OK，之后窗口LSW
会多一个stretch的选项。

1.35
0.35
0.9
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4. 点选Layout Editing窗口中的Tools=>Pcell，此时窗口中会多一个Pcell的选项。
5. 点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Stretch=>Stretch in X…后，在Ploy上牵出一条垂直
线，如图二，之后会出现Stretch in X窗口，在”Name or Expression for Stretch”内填
入”length” ，在”Reference Dimension”内填入”0.35”，且点取”Stretch Horizontally
Repeated Figures”，再点选OK，如图三。
P.S.若步骤五之垂直线划错，可以直接点取此直线，再按Delete，便可删除再重划，若欲再
修改Stretch in X窗口内数据，可以点选Layout Editing窗口中的
Pcell=>Stretch=>Modify…后，再于垂直线处连续点两下，Stretch in X窗口便会再出现。

图二
图三
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6. 点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Parameters=>Summarize，会出现Pcell Parameter
Summary窗口，显现出做了哪些Pcell之设定，之后可以随时呼叫出来检查设定是否正
确。
7. 重复步骤5，点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Stretch=>Stretch in X…后，在n
+
上牵

出一条垂直线，如图四，之后会出现Stretch in X窗口，在”Name or Expression for
Stretch”内填入”stretch”，再点选OK，如图五。

图四
图五
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8. 点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Repetition=>Repeat in X…后，点选右边的contact
层、Metal层与中间的Ploy层，如图六，点选完后，在Ploy层上连续点两下，之后会出
现Repeat in X窗口，在Repeat in X窗口中，于”Stepping Distance”中填入(length + 1)，
代表每间隔(length + 1)，重复所选的Layer，length为一欲输入变量，于”Number of
Repetitions”中填入gate，代表重复gate次所选的Layer，gate为一欲输入变量
于”Dependent Stretch”中填入stretch，代表以直线stretch为起点做延伸，stretch为步
骤6之直线，于”Adjustment to Stretch”中填入((gate – 1) * pcStepX)，代表对于直线
stretch所跨越之Layer，做延伸((gate – 1) * pcStepX)，pcStepX代表” Stepping Distance”
项之值，再点选OK，如图七。
P.S.切记，在步骤8中，所有的运算是，如 “+” 、 “-“ 、 “*” 、 “/”之前后，
都要有一个空白。若步骤七设定错，欲删除，可以点选Layout Editing窗口中的
Pcell=>Repetition=>Delete后，再点选之前设定之Layer连续点两下，欲再修改Repeat in
X窗口内数据，可以点选Layout Editing窗口中的Pcell=> Repetition =>Modify…后，再
点选之前设定之Layer连续点两下，Repeat in X窗口便会再出现。

图六
图七
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9. 点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Compile=>To Pcell后，出现Compile To Pcell窗口，
点选OK，再点选Design=>Save。

10. 点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Stretch=>Stretch in Y…后，在n
+
上牵出一条垂直线，

如图十，之后会出现Stretch in Y窗口，在”Name or Expression for Stretch”内填
入”width”， 在”Reference Dimension”内填入”0.9” ，再点选OK，如图十一。

图八
图九
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点选Layout Editing窗口中的Pcell=>Repetition=>Repeat in X and Y…后，点选左右两边的
contact层，如图十二，点选完后，在contact层上连续点两下，之后会出现Repeat in X and Y
窗口，在Repeat in X and Y窗口中，于”X Stepping Distance”中填入(length + 1)，代表每向
右间隔(length + 1)，重复所选的Layer，length为一欲输入变量，于”Y Stepping Distance”
中填入1，代表每向上间隔1，重复所选的Layer，于”Number of X Repetitions”中填入gate，
代表向右重复gate次所选的Layer，gate为一欲输入变量，于”Number of Y Repetitions”中
填入(fix((width – 0.9) / 1) + 1)，代表向上重复gate次所选的Layer，width为一欲输入变量，
fix代表取整数，再点选OK，如图十三。
P.S.切记，在步骤7中，所有的运算是，如 “+” 、 “-“ 、 “*” 、 “/”之前后，
都要有一个空白。

图十
图十一
11. 开启一个新layout，呼叫刚刚建立的Pcell则会出现图十二的画面，此时我们可填入想要
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的size ，按下Hide 则会得到如图十三的结果。
图十二
图十三