金、铜丝球键合焊点的可靠性对比研究

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我国电子封装行业主要有哪些类企业?

我国电子封装行业主要有哪些类企业?

我国电子封装行业主要有哪些类企业?现在我国电子封装电子产品元件企业主要以国有企业、合资企业、独立资产企业为主要,民营企业积极参与,发展势态不可言语。

但是这几种企业有什么区别之处呢,或者说从市场经济发展来看有什么长短呢?首先国有企业的生产电子封装产品的设备无论种类还是其他硬性条件相对齐全,因为毕竟是国家的企业。

其技术开发面宽,技术水平,工艺水平比较先进,紧跟国际水平。

电子产品市场发展比较快。

而合资企业和独立资本企业相对民营企业虽然硬性条件,技术水平不如国有企业,但是其销售产量相对很高。

其实国内的电子产品市场的发展这三种企业起着必不可少的重要性,如果没有这几种企业的支撑,那么整个电子产品行业市场将会很快跨掉。

/new_detail.php?id=37铜丝键合工艺在微电子封装中的应用赵钰1引言当今半导体行业的一些显著变化直接影响到IC互连技术,其中有3大因素推动着互连技术的发展。

第一是成本,也是主要因素,目前金丝键合长度超过5mm,引线数达到400以上,封装成本超过0.20美元。

而采用铜丝键合新工艺不但能降低器件制造成本,而且其互连强度比金丝还要好。

它推动了低成本、细间距、高引出端数器件封装的发展。

第二是晶片线条的尺寸在不断缩小,器件的密度增大、功能增强。

这就需要焊区焊点极小的细间距、高引出端数的封装来满足上述要求。

第三是器件的工作速度,出现了晶片铝金属化向铜金属化的转变。

因为晶片的铜金属化可以使电路密度更高、线条更细。

对于高速器件的新型封装设计来说,在封装市场上选择短铜丝键合并且间距小于50μm的铜焊区将成为倒装焊接工艺强有力的竞争对手。

表1列出铜作为键合材料用于IC封装中的发展趋势。

表1材料组合细引线晶片上的焊区金属化应用时间铜(Cu)Al 1989年金(Au) Cu+溅射铝(Al)的焊区2000年Au Cu+镀镍/金(Ni/Au)焊区2000年Au Cu+OP2(抗氧化工艺) 2001年Cu Cu 2002年~将来2铜丝键合工艺的发展早在10年前,铜丝球焊工艺就作为一种降低成本的方法应用于晶片上的铝焊区金属化。

25μm金丝球焊引线键合推拉力标准

25μm金丝球焊引线键合推拉力标准

25μm金丝球焊引线键合推拉力标准1. 引言在微电子行业中,25μm金丝球焊引线键合推拉力标准起着至关重要的作用。

作为一种关键的接线技术,金丝球键合是微电子器件封装中不可或缺的一环,其连接质量直接关系到器件的可靠性和性能。

为了确保键合连接的质量和可靠性,推拉力标准成为了微电子行业中必不可少的评估指标。

本文将深入探讨25μm金丝球焊引线键合推拉力标准,从简单的概念介绍到深入分析其标准的意义和影响。

2. 25μm金丝球焊引线键合的基本概念25μm金丝球焊引线键合是一种微电子器件封装过程中常见的焊接技术。

它通过将金丝球焊到芯片的金属化表面或引线焊盘上,然后通过热压力将金丝与焊盘或金属化表面连接起来,以实现器件内部的电气连接。

在这一过程中,金丝球焊引线的推拉力就显得至关重要。

推拉力是指在金丝引线焊接过程中,对金丝的推和拉的力量,其大小和稳定性直接关系到焊接的质量和可靠性。

3. 25μm金丝球焊引线键合推拉力标准的重要性推拉力标准是指对25μm金丝球焊引线键合过程中推拉力的规定和评估标准。

在微电子器件封装过程中,金丝球焊引线键合的推拉力标准对于保证焊接质量具有至关重要的作用。

通过推拉力标准的设定和执行,能够保证金丝焊接的牢固性和稳定性,提高器件的可靠性和性能。

25μm金丝球焊引线键合推拉力标准成为微电子行业中必不可少的质量控制指标。

4. 推拉力标准的影响因素及评估方法在确定25μm金丝球焊引线键合推拉力标准时,需要考虑多种因素,如金丝材料的特性、焊接设备的性能、环境条件等。

推拉力的评估方法一般包括使用拉力计或其他测试设备进行实验测量,以确定25μm金丝球焊引线键合推拉力的大小和稳定性。

还需要对推拉力的波动范围和变化趋势进行全面评估,以确保键合连接的质量和可靠性。

5. 总结与展望25μm金丝球焊引线键合推拉力标准在微电子行业中具有重要的意义。

通过对推拉力标准的严格执行和质量控制,可以有效提高金丝球焊引线键合的质量和可靠性,进而提升微电子器件的性能和可靠性。

焊点可靠性分析技术要点

焊点可靠性分析技术要点

焊点可靠性分析技术要点1. 可焊性的评估和测试可焊性一般指金属表面被熔融焊料润湿的能力,润湿的过程如上所述,在电子行业中,可焊性评估的目的是验证元器件引脚或焊端的可焊性是否满足规定的要求和判断存储对元器件焊接到单板上的能力是否产生了不良影响,可焊性测试主要是测试镀层可润湿能力的稳健性(robustness)。

可焊性测试通常用于判断元器件和PCB在组装前的可焊性是否满足要求。

焊料润湿性能的试验方法有很多种,包括静滴法(Sessile drop)、润湿称量法(Wetting balance也称润湿平衡法)、浸锡法等。

图1为静滴法的示意图,该法是将液体滴落在洁净光滑的试样表面上,待达到平衡稳定状态后,拍照放大,直接测出润湿角θ,并可通过θ角计算相应的液—固界面张力。

该法中接触角θ可用于表征润湿合格与否,θ≤90°,称为润湿,θ>90°,称为不润湿,θ=0°,称为完全润湿,θ=180°,为完全不润湿。

润湿称量法则是将试样浸入焊锡中,测量提升时的荷重曲线,然后根据该荷重曲线,得出对润湿时间以及浮力进行修正后的润湿力。

以上两种方法为定量的方法,浸锡法则是定性的方法,是将试样浸入熔融焊料炉,观察焊料在镀层上的爬锡情况,凭经验定性评估镀层对焊料润湿情况,从而得出可焊性结论。

这种方法具有快捷、方便和费用少等特点,但是它的重复性和再现性Gauge R&R差,两个人在不同时间进行同一测试可能会得出不同的结论。

可焊性的测试方法,代表性的标准为“IPC/EIA J-STD-003B印制板可焊性试验”和“IPC/EIA/JEDEC J-STD-002C元件引线、焊接端头、接线片及导线的可焊性测试”。

润湿称量法由于其具有良好的重复性和再现性,受到多个标准的推荐使用。

影响可焊性的因素很多,主要有:焊料的合金组成、表面镀层(或者表面处理)、温度、助焊剂和时间等。

目前用于电子装配的焊料合金,主要以锡添加其它金属组成,添加的金属类型和量的比例,对润湿性能有很大影响。

铜丝在引线键合技术的发展及其合金的应用

铜丝在引线键合技术的发展及其合金的应用

铜丝在引线键合技术的发展及其合金的应用一、简介目前超过90%的集成电路的封装是采用引线键合技术,引线键合,又称线焊。

即用金属细丝将裸芯片电极焊区与电子封装外壳的输入,输出引线或基板上的金属布线焊区连接起来。

连接过程一般通过加热、加压、超声等能量,借助键合工具“劈刀”实现。

按外加能量形式的不同,引线键合可分为热压键合、超声键合和热超声键合。

按劈刀的不同,可分为楔形键合和球形键合。

引线键合工艺中所用导电丝主要有金丝、铜丝和铝丝,由于金丝价格昂贵、成本高,并且Au/Al金属学系统易产生有害的金属间化合物,使键合处产生空腔,电阻急剧增大,导电性破坏甚至产生裂缝,严重影响接头性能。

因此人们一直尝试使用其它金属替代金,由于铜丝价格便宜、成本低、具有较高的导电导热性,并且Cu/Al金属间化合物生长速于Au/Al,不易形成有害的金属间化合物。

近年来,铜丝引线键合日益引起人们的兴趣。

二、铜丝键合的工艺当今,全球的IC制造商普遍采用3种金属互连工艺,即:铜丝与晶片铝金属化层的键合工艺,金丝与晶片铜金属化层的键合工艺以及铜丝与晶片铜金属化层的键合工艺。

近年来第一种工艺用得最为广泛,后两者则是今后的发展方向。

1. 铜丝与晶片铝金属化层的键合工艺近年来,人们对铜丝焊、劈刀材料及新型的合金焊丝进行了一些新的工艺研究,克服了铜易氧化及难以焊接的缺陷。

采用铜丝键合不但使封装成本下降,更主要的是作为互连材料,铜的物理特性优于金。

特别是采用以下’3种新工艺,更能确保铜丝键合的稳定性。

(1)充惰性气体的EFO工艺:常规用于金丝球焊工艺中的EFO是在形成焊球过程中的一种电火花放电。

但对于铜丝球焊来说,在成球的瞬间,放电温度极高,由于剧烈膨胀,气氛瞬时呈真空状态,但这种气氛很快和周围的大气相混合,常造成焊球变形或氧化。

氧化的焊球比那些无氧化层的焊球明显坚硬,而且不易焊接。

新型EFO工艺是在成球过程中增加惰性气体保护功能,即在一个专利悬空管内充入氮气,确保在成球的一瞬间与周围的空气完全隔离,以防止焊球氧化,焊球质量极好,焊接工艺比较完善。

Al、Au、Cu焊丝在引线键合中的比较

Al、Au、Cu焊丝在引线键合中的比较

Al、Au、Cu焊丝在引线键合中的比较一.三种元素的优缺点Al:优点;三者中价格最低、资源丰富;缺点:电阻率高,热导性能差,机械强度低,难以适应中小功率器件小面积小焊位的生产需要,但可在铝成份中添加1%的硅,可增强铝线强度,适应于小直径;焊点大,需要Pad尺寸大,降低了芯片效率。

Au:优点:90%的封装企业使用金线键合,键合工艺成熟;具有良好的导电性能、可塑性;化学性质稳定,不易被氧化和腐蚀,确保在无尘室温条件下得到一个可靠的引线键合工艺。

缺点:资源有限,价格昂贵;金属间化合物生长速度快,老化较快;金丝还易造成塌丝现象和拖尾现象,严重影响了键合的质量。

Cu:优点:相比金线价格低;热导大,可适用于功率型器件;电导率大,相同直径可承受更大电流;高刚度,可适合更小直径引线;金属间化合物生长慢,老化现象慢。

缺点:易被氧化,焊接时需要加保护气体,因此需要改进焊线设备;硬度、屈服强度均高于金和铝,键合时需要更大的超声能量和键合压力,易对芯片造成破坏。

工艺不成熟,因此不适于大批、高可靠性生产。

二.两种引线键合技术:球形焊接和楔形焊接。

Au、Cu主要应用于球型焊接技术,采用热超声焊,金丝的一部分在高温下融化成金球,通过陶瓷材料的毛细管劈刀进行键合,在150°—240°条件下进行。

技术成熟。

因为单晶铝性质不稳定,高温下极易很快在表面形成一层氧化膜,有阻碍作用,不利于形成铝球,因此纯铝不适合丝球焊。

Al主要用于楔形焊接技术,采用超声焊,铝丝在楔形道具下通过压力进行键合。

该焊接在室温下进行,有利于一些厂家的生产。

但此工艺过程速度慢,所用时间是丝球焊的3倍以上。

结论:铝线键合适用于楔形焊接技术,可在室温下焊接,可得到高焊接质量的产品。

不过焊接速度慢,焊接效率比丝球焊低,并且需要更大尺寸焊盘和芯片电极。

铜键合丝文献综述

铜键合丝文献综述

铜键合丝摘要:简要介绍了目前市场中使用的各种键合丝,通过与键合金丝的对比,重点描述了键合铜丝在各方面的优势,以及制备铜丝的基本过程和影响因素、铜丝的织构等,并简要介绍了国内外关于键合铜丝的部分专利,最后对目前键合铜丝所面临的一些困难作了总结,并指出了今后研究的方向。

1 键合丝键合丝主要应用与晶体管、集成电路等半导体器件和微电子封装的电极部位或芯片与外部引线的连接。

虽然现在有不用键合丝的键合方法,但目前90%的IC的产品仍以键合丝来封装。

键合丝焊接点的电阻,在芯片和晶片中所占用的空间,焊接所需要的间隙,单位体积的导电率,键合丝的延展率,化学性能,抗腐蚀性能和冶金特性等特性必须满足一定的要求才能得到良好的键合特性。

具体来说,用于键合的键合金属丝应该具有如下特性:尺寸精度要高且均匀、不弯曲;表面光洁,没有沾污,没有伤痕;具有规定的拉断力和延伸率;焊接时焊点没有波纹;球焊时熔球的正圆度要高[1]。

元素周期表中过渡族金属元素中,金银铜铝等四种金属元素具有较高的导电性能,同时兼有上述性能,可以做为集成电路微电子封装用的键合丝。

表1列出了这四种金属材料的基本性质,包括电导、热导、弹性模量等。

表1 金银铜铝基本性质比较。

超大规模集成电路引线键合,使用最多的导电丝材料是金丝。

键合金丝是指纯度为μ的高纯金合金丝,通常采用球焊-楔焊方式键合,并常用于塑料树99.99%,线径为18~50mμ之间,由于大部分使用在高速自动键合机上,最高脂封装。

键合金丝直径一般在20~50m速焊机每秒可完成7~10根键合线,因此要求金丝具有均匀稳定的机械性能和良好的键合性能。

为适应自动化规模生产,同时要求每轴丝的长度在300,500或1000m,国外的微细丝已达到2000m,甚至3000m。

国内主要的生产研制单位有4家:山东贺利氏招远贵金属材料有限公司,常熟特种电子材料厂,昆明贵金属研究所,北京有色金属与稀土应用研究所等,年供应金丝量约1800kg。

焊点可靠性研究

SMT焊点可靠性研究近几年,随着支配电子产品飞速发展的高新型微电子组装技术--表面组装技术(SMT)的飞速发展,SMT焊点可靠性问题成为普遍关注的焦点问题。

与通孔组装技术THT(Through Hole Technology)相比,SMT在焊点结构特征上存在着很大的差异。

THT焊点因为镀通孔内引线和导体铅焊后,填缝铅料为焊点提供了主要的机械强度和可靠性,镀通孔外缘的铅焊圆角形态不是影响焊点可靠性的主要因素,一般只需具有润湿良好的特征就可以被接受。

但在表面组装技术中,铅料的填缝尺寸相对较小,铅料的圆角(或称边堡)部分在焊点的电气和机械连接中起主要作用,焊点的可靠性与THT焊点相比要低得多,铅料圆角的凹凸形态将对焊点的可靠性产生重要影响。

另外,表面组装技术中大尺寸组件(如陶瓷芯片载体)与印制线路板的热膨胀系数相差较大,当温度升高时,这种热膨胀差必须全部由焊点来吸收。

如果温度超过铅料的使用温度范围,则在焊点处会产生很大的应力最终导致产品失效。

对于小尺寸组件,虽然因材料的CTE 失配而引起的焊点应力水平较低,但由于SnPb铅料在热循环条件下的粘性行为(蠕变和应力松弛)存在着蠕变损伤失效。

因此,焊点可靠性问题尤其是焊点的热循环失效问题是表面组装技术中丞待解决的重大课题。

80年代以来,随着电子产品集成水平的提高,各种形式、各种尺寸的电子封装器件不断推出,使得电子封装产品在设计、生产过程中,面临如何合理地选择焊盘图形、焊点铅料量以及如何保证焊点质量等问题。

同时,迅速变化的市场需求要求封装工艺的设计者们能快速对新产品的性能做出判断、对工艺参数的设置做出决策。

目前,在表面组装组件的封装和引线设计、焊盘图形设计、焊点铅料量的选择、焊点形态评定等方面尚未能形成合理统一的标准或规则,对工艺参数的选择、焊点性能的评价局限于通过大量的实验估测。

因此,迫切需要寻找一条方便有效的分析焊点可靠性的途径,有效地提高表面组装技术的设计、工艺水平。

Au线改Cu线的新发展及可靠性研究

Au线改Cu线的新发展及可靠性研究崔晓英【摘要】Au线作为内引线一直占据着键合的主导地位,而由于Cu线具有优良的电性能和价格优势,随着键合技术的发展,以Cu丝代替Au丝作为键合用内引线已经成为现在的主要趋势.介绍了Cu线相对于Au线的优势、存在的可靠性问题,并对Cu引线键合新的发展趋势、如何进行可靠性验证等问题进行了研究.【期刊名称】《电子产品可靠性与环境试验》【年(卷),期】2012(030)003【总页数】6页(P29-34)【关键词】引线键合;金属间化合物;镍基焊盘【作者】崔晓英【作者单位】中兴通讯股份有限公司,广东深圳51805【正文语种】中文【中图分类】TN305.960 引言键合线焊接点的电阻以及它在芯片和晶片中所占用的空间,焊接所需要的间隙,单位体积导电率,以及化学性能、抗腐蚀性能等特性必须满足一定的要求才能得到良好的键合特性。

在元素周期表的过渡金属元素中,银、铜、金和铝等4种金属元素具有较高的导电性能,同时兼有上述性能,常用作集成电路的键合线。

近几年芯片密度更高,功能更复杂,价格更低廉,功耗更低,这都使得封装向着细间距、多引脚、小焊盘和小键合点的方向发展,因此越来越多的厂家进行了金线改铜线的PCN变更,这也是因为铜作为键合线比金、铝有更多的优良特性。

1 为什么要Au改Cu,Cu键合的优势在哪里?1.1 降低成本金比铜贵3~10倍,最初用铜线键合铝金属化层是在十多年前,近年来黄金价格不断攀升,现在已经达到$1400/盎司(盎司为欧美黄金计量单位,1盎司=31.1034768克),目前金线键合长度超过5 mm,引线数达到400以上,封装成本粗略估计已经超过0.40美元。

对于1 mil焊线(1 mil=0.0254 mm),成本可以降低75%,因此,用铜线代替金线可为封装公司节省不少的成本。

近10年的黄金价格走势和Au线换Cu线的成本优势对比见图1、 2。

图1 近10年的黄金价格走势图2 Au线换Cu线的成本优势对比1.2 更好的电学性能铜线具有优良的电性能,其电阻率较低,为1.6 μΩ/cm,铜和金的电阻率对比如图3所示。

芯片铝焊盘上不同金属丝键合质量研究


在 导 电 性 上 ,银 丝 比 其 他 的 金 属 丝 都 要 好 ,在相
同 直 径 的 条 件 下,银 丝 能 够 承 受 更 大 的 电 流 ,对于低
电 流 器 件 ,承 载 相 同 电流时银丝丝径可以更细,以满
足更加Байду номын сангаас集的键合设
芯片铝焊盘
引出端
。在 导 性 上 ,银丝比其他的金属丝要好,这
银丝可以在更大程度上导 量,提升器件的散
性 ,对于高功耗器件,银 丝 于 其 他 金 属 丝 。常用的
4 金属丝的电性能和热性能 1
,其金丝
为 4 ( 金 丝 (金 量 99.99%),银 丝 为 银 含 量 于 9 5 %
的合金丝。 表 1 25! - 金属丝材的特性对比
Abstract: Bonding w ire is a c ritic a l m aterial in semiconductor package,it effects the bonding performance and re lia b ility d ire ctly.The study is the d ifferent w ires bond on die alum inum pad,w ires include gold (A u ) w ire , palladium coated copper(PdCu)w ire ,gold and palladium coated copper(AuPdCu)w ire and silver(A g)w ire ,find a ll wires meet the bonding requirem ent base on the study o f w ires properties, firs t bond performance and re lia b ility .The re lia b ility test shows the IM C (interm etallic compound)grows is d ifferent,but it is no correlation w ith re lia b ility failure and a ll failures cause by the firs t bond lift,use d ifferent w ires can meet the d ifferent bonding re lia b ility requirem ent. Keywords: w ire bonding;PdCu w ire ;AuPdCu w ire ;A g w ire ;IM C ;re lia b ility

铜线键合的优势与局限

铜线键合的优势与局限发布时间:2009-07-12铜线的优势随着金价的持续上涨(目前每盎司已超过800美元),金线的价格也不断高升。

虽然采用金线和铜线的制造成本基本是一样的,但是金线的材料成本却要高得多。

根据市场的行情,1mil 铜线能够节省成本高达75%,2mil 的铜线高达90%。

在功率封装中,要求使用大直径导线来达到电力负荷,这样铜线就可以为半导体封装公司节约相当可观的成本费用。

即使对于具有多达1000根(每根长达6 米)的某些精确节距封装,采用铜线也可以明显降低成本。

例如,一个精确节距QFP 或BGA 封装可能需要5 米多长的导线,而采用铜线来代替金线就可以降低大量的成本。

除了较低的成本外,铜线优良的机械和电学特性使它可以用在具有更高引线数和更小焊盘尺寸的各种高端精确节距器件中。

由于铜比金和铝的强度高50%,刚度高30%,所以它能提高优良球颈的抗拉强度,并在低长环的塑膜或封装期间能更好的控制环。

更高的抗拉强度使在精确节距应用中的一些操用于精确节距工艺的作变得更加容易。

在导线直径相同的情况下,铜的导电性要高出23%,这样在获得同等的导电性时,可采用更细的铜线。

所以,更细的铜导线可以取代更粗直径的金线功率器件,铜线的这部分提高的导电性具有明显优势。

在精确节距封装中,采用铜就可以使用更细的导线而不会影响电学性能。

在铜线键合中金属间的生长也比在金线键合中的生长慢得多,这样,在IC 寿命周期内,可以增加键合稳定性和器件性能。

铜- 铝金属间也会形成化合物,但比形成金- 铝金属间化合物所需的温度高。

随着目前器件工作温度变得更高,更慢的金属间化合物生长速率、更高的强度和更优良的电和热传导性这些优势结合起来,就为超精确节距、高可靠性线键合提供了一种效果优异,成本低廉的方法。

克服铜的局限性虽然铜有着许多优势,但它本身也有两个值得注意的局限点:硬度大和易被腐蚀。

由于铜本身的硬度比金大(纯度99.99% 的退火过的铜要比纯度99.99% 的掺杂金的硬度大很多),所以铜更容易损坏微芯片的表面。

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金、铜丝球键合焊点的可靠性对比研究
1 引言
丝球焊是引线键合中最具代表性的焊接技术,它是在一定的温度下,作用键合工具劈刀的压力,并加载超声振动,将引线一端键合在IC芯片的金属法层上,另一端键合到引线框架上或PCB便的焊盘上,实现芯片内部电路与外围电路的电连接,由于丝球焊操作方便、灵活、而且焊点牢固,压点面积大(为金属丝直径的2.5-3倍),又无方向性,故可实现高速自动化焊接[1]。

丝球焊广泛采用金引线,金丝具有电导率大、耐腐蚀、韧性好等优点,广泛应用于集成电路,铝丝由于存在形球非常困难等问题,只能采用楔键合,主要应用在功率器件、微波器件和光电器件,随着高密度封装的发展,金丝球焊的缺点将日益突出,同时微电子行业为降低成本、提高可靠性,必将寻求工艺性能好、价格低廉的金属材料来代替价格昂贵的金,众多研究结果表明铜是金的最佳替代品[2-6]。

铜丝球焊具有很多优势:
(1)价格优势:引线键合中使用的各种规格的铜丝,其成本只有金丝的1/3-1/10。

(2)电学性能和热学性能:铜的电导率为0.62(μΩ/cm)-1,比金的电导率[0.42(μΩ/cm)-1]大,同时铜的热导率也高于金,因此在直径相同的条件下铜丝可以承载更大电流,使得铜引线不仅用于功率器件中,也应用于更小直径引线以适应高密度集成电路封装;
(3)机械性能:铜引线相对金引线的高刚度使得其更适合细小引线键合;
(4)焊点金属间化合物:对于金引线键合到铝金属化焊盘,对界面组织的显微结构及界面氧化过程研究较多,其中最让人们关心的是"紫斑"(AuAl2)和"白斑"(Au2Al)问题,并且因Au和Al两种元素的扩散速率不同,导致界面处形成柯肯德尔孔洞以及裂纹。

降低了焊点力学性能和电学性能[7,8],对于铜引线键合到铝金属化焊盘,研究的相对较少,Hyoung-Joon Kim等人[9]认为在同等条件下,Cu/Al界面的金属间化合物生长速度比Au/Al界面的慢10倍,因此,铜丝球焊焊点的可靠性要高于金丝球焊焊点。

1992年8月,美国国家半导体公司开始将铜丝球焊技术正式运用在实际生产中去,但目前铜丝球焊所占引线键合的比例依然很少,主要是因此铜丝球焊技术面临着一些难点:
(1)铜容易被氧化,键合工艺不稳定,
(2)铜的硬度、屈服强度等物理参数高于金和铝。

键合时需要施加更大的超声能量和键合压力,因此容易对硅芯片造成损伤甚至是破坏。

本文采用热压超声键合的方法,分别实现Au引线和Cu引线键合到Al-1%Si-0.5%Cu金属化焊盘,对比考察两种焊点在200℃老化过程中的界面组织演变情况,焊点力学性能变化规律,焊点剪切失效模式和拉伸失效模式,分析了焊点不同失效模式产生的原因及其和力学性能的相关关系。

2 试验材料及方法
键合设备采用K&S公司生产的Nu-Tek丝球焊机,超声频率为120m赫兹,铜丝球焊时,增加了一套Copper Kit防氧化保护装置,为烧球过程和键合过程提供可靠的还原性气体保护(95%N25%H2),芯片焊盘为Al+1%Si+0.5%Cu金属化层,厚度为3μm。

引线性能如表1所示。

采用DOE实验对键合参数(主要为超声功率、键合时间、键合压力和预热温度四个参数)进行了优化,同时把能量施加方式做了改进,采用两阶段能量施加方法进行键合,首先在接触阶段(第一阶段),以较大的键合压力和较低的超声功率共同作用于金属球(FAB),使其发生较大的塑性变形,形成焊点的初步形貌;随之用较低的键合压力和较高超声功率来完成最后的连接过程(第二阶段),焊点界面结合强度主要取决于第二阶段,本文所采用的键合参数,如表2所示。

为加速焊点界面组织演变,在200℃下采用恒温老化炉进行老化实验,老化时间分别为n2天(n=1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11)。

为防止焊点在老化过程中被氧化,需要在老化过程中进行氮气保护。

焊点的横截面按照标准的制样过程进行制备。

但由于焊点的尺寸原因需要特别精心,首先采用树脂进行密封,在水砂纸上掩模到2000号精度,保证横截面在焊点正中,再采用1.0μm粒度的金刚石掩模剂在金丝绒专用布上抛光,HITACHIS-4700扫描电镜抓取了试样表面的被散射电子像,EDX分析界面组成成分。

剪切实验和拉伸实验是研究焊点力学性能和失效模式的主要实验方法,采用Royce 580测试仪对各种老化条件下的焊点进行剪切实验和拉伸实验,记录焊点的剪切断裂载荷和拉伸断裂载荷,剪切实验时,劈刀距离焊盘表面4μm,以5μm/s的速度沿水平方向推动焊点,Olympus STM6光学显微镜观察记录焊点失效模式,对于每个老化条件,分别48个焊点用于剪切实验和拉伸实验,以满足正态分布。

3 试验结果与分析
3.1 金、铜丝球焊焊点金属间化合物成长
丝球焊是在一定的温度和压力下,超声作用很短时间内(一般为几十毫秒)完成,而且键合温度远没有达到金属熔点,原子互扩散来不及进行,因此在键合刚结束时很难
形成金属间化合物,对焊点进行200℃老化,如图1所示。

金丝球焊焊点老化1天形成了约8μm厚的金属间化合物层,EDX成分分析表明生成的金属间化合物为Au4Al为和Au5AL2,老化时间4天时出现了明显的Kirkendall空洞,铜丝球焊焊点生成金属间化合物的速率要比金丝球焊慢很多,如图2所示,在老化9天后没有发现明显的金属间化合物,在老化16天时,发现了很薄的Cu/Al金属间化合物层(由于Cu和Al在300℃以下固溶度非常小,因此认为生成的Cu/Al相是金属间化合物),图3显示了老化121天时其厚度也不超过1μm,没有出现kirkendall空洞。

在温度、压力等外界因素一定的情况下,影响两种元素生成金属间化合物速率的主要因素有晶格类型、原子尺寸、电负性、原子序数和结合能。

Cu和Au都是面心立方晶格,都为第IB族元素,而且结合能相近,但是Cu与Al原子尺寸差比Au与AL原子尺寸差大,Cu和AL电负性差较小,导致Cu/Al生成金属间化合物比Au/Al生成金属间化合物慢。

3.2 金、铜丝球焊焊点剪切断裂载荷和失效模式
图4显示了金、铜丝球焊第一焊点(球焊点)剪切断裂载荷老化时间的变化,可以看到,无论对于金球焊点还是铜球焊点,其剪切断裂载荷在很长一段时间内随老化时间增加而增加,随后剪切断裂载荷下降,这主要与不同老化阶段剪切失效模式不同有关,同时可以发现,铜球焊点具有比金球焊点更稳定的剪切断裂载荷,并且在未老化及老化
一定时间内,铜球焊点的剪切断裂载荷比金球焊点好,老化时间增长后,铜球焊点剪切断裂载荷不如金球焊点,但此时金球焊点内部出现大量Kirkendall空洞及裂纹,导致其电气性能急剧下降,而铜球焊点没有出现空洞及裂纹,其电气性能较好。

对于金球焊点,剪切实验共发现了5种失效模式:完全剥离(沿球与铝层界面剥离)、金球残留、铝层断裂、球内断裂和弹坑,图5显示了金球焊点剪切失效模式随老化时间的变化,未老化时,Au/Al为还没有形成金属间化合物,剪切失效模式为完全剥离,由于Au/Al老化过程中很快生成金属间化合物,失效模式在老化初期马上发展为以铝层剥离为主:随后,铝层消耗完毕,老化中期失效模式以金球残留为主,此时断裂发生在金属间化合物与金球界面;老化100天以后金球内部断裂急剧增加,成为主要失效模式,导致剪切断裂载荷降低。

对于铜球焊点,剪切实验共发现了4种失效模式:完全剥离、铜球残留、铝层断裂和弹坑。

图6显示了铜球焊点剪切失效模式随老化时间的变化,由于铜球焊点200℃时生成金属间化合物很慢,因此其剪切失效模式在老化较长时间内以完全剥离为主:弹坑随老化进行逐渐增多,尤其老化81天后,应力型弹坑大量增加,导致剪切断裂载荷下降,图7所示为弹坑数量随老化时间变化,需要说明的是弹坑包括应力型弹坑和剪切性弹坑,应力型弹坑为剪切实验之前就已经存在的缺陷,而剪切型弹坑是由于接头连接强度高,在剪切实验过程中产生,因此只有应力型弹坑是导致剪切断裂载荷下降的原因,相对金球焊点,铜球焊点剪切出现弹坑较多,主要是因为铜丝球焊键合压力比金丝球焊大。

2.3 金、铜丝球焊拉伸断裂载荷和失效模式
图8显示了金、铜丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间的变化,金丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间变化不大,拉伸断裂模式以第一焊点和中间引线断裂为主。

铜丝球焊拉伸断裂载荷随老化时间不断下降,由于铜的塑性比金差,而且铜丝球焊第二焊点键合压力比金丝球焊大很多,因此铜丝球焊第二焊点比金丝球焊变形损伤大,铜丝球焊拉伸时容易发生第二焊点断裂,第二焊点断裂又分为鱼尾处断裂(根部断裂)和焊点剥离(引线和焊盘界面剥离),如图9所示,铜丝球焊拉伸在老化初期为鱼尾处断裂,老化16天以后焊点剥离逐渐增多,主要是因为铜丝球焊老化过程中第二焊点被氧化,从而也导致拉伸断裂载荷下降。

4 结论
(1)铜丝球焊焊点的金属间化合物生长速率比金丝球焊焊点慢得多,认为Cu与Al原子尺寸差Au与Al原子尺寸差大,Cu和Al电负性差较小是其本质原因。

(2)铜丝球焊焊点具有比金丝球焊焊点更稳定的剪切断裂载荷,并且在老化一定时间内铜丝球焊焊点表现出更好的力学性能。

(3)铜丝球焊焊点和金丝球焊焊点老化后的失效模式有较大差别。

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