洁净室温湿度如何控制精编版
洁净区温度、湿度、压差监控规程
目的：建立洁净区温度、湿度、压差监控规程，使空调系统能够有效控制洁净区的温度、湿度、压差。
范围：适用于洁净区温度、湿度、压差的监测控制。
职责：QA质监员、工程部维修人员、生产部人员。
内容：
1．标准
1．1温度：空调系统在规定的运行期间和装有加热器的情况下，在全年温度变化的情况下，应能够将洁净车间温度维持在18-26℃。
1．2相对湿度：冷冻干燥工序、粉碎过筛工序、总混工序、充填抛光工序控制在30%以内，其他控制在45-65%。
1.1．3压差：不同洁净级别之间的静压差应≥5Pa（0.5mm水柱），洁净区与非洁净区之间的静压差应≥10Pa（1.0㎜水柱）。
静态或动态情况下，压差均应能始终维持设计规定的数值。
2．监测仪器：经计量检定过温度计、湿度计、微压表。
3．测试方法：测试空气平衡结束后进行，随时观察温度、湿度、压差变化情况，及时填写《洁净区压差、温湿度检测记录》（REC-QA-019-00）。
4．监测频率：每班检测不少于一次。
5．注意事项：
5．1 测试时所有的空调系统和层流系统应处于连续的运行状态。
5．2为避免压力出现不必要的变化，测试状态应固定，并应从平面上最里面的房间依次向外测定。
5．3洁净区所有的门应关闭，测试时不允许有人穿越房间。
6．在洁净车间温度、相对湿度和压差的监测过程中，如发现结果超出规定的范围，应及时通知工程部维修人员和生产车间检查原因并改正。
洁净车间温度、相对湿度和压差的检测及根据检测结果对空调系统进行的调整应记录归档。
如何对洁净室温湿度进行控制
如何对洁净室温湿度进行控制洁净室不同于一般的舒适性空调房间，室内的温湿度控制要求精度较高。
同时对空气的洁净度也有较高要求，使得换气次数较多，新风量大，甚至有直排系统。
例如，药厂的生产车间一般要求温度在22℃±2℃，相对湿度在55%±5%以内。
并且外界的温湿度变化对室内温湿度影响较大，所以需要选择合理的温湿度控制方案，才能确保室内的温湿度达到设计要求。
01为何洁净室需要温湿度控制进行？洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
一般来说，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um 线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温。
同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。
相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。
相对湿度在50%时易生锈。
此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。
相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产最佳温度范围为35-45%。
02温湿度控制的特性以及常见问题✍温湿度控制的特性对湿空气单纯地加热或制冷过程，是环境含湿量保持不变的过程，即绝对湿度保持不变的过程。
湿空气经过盘管加热，温度升高而相对湿度下降；相反，对冷却过程，温度下降而相对湿度相应升高。
因此，我们可以得出，温度和相对湿度是两个不同方向的控制量，要使温湿度同时向相同的趋势变化，单纯地靠加热/冷却过程是不能实现的。
洁净室温湿度如何控制
如何对洁净室温湿度进行控制洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100 um的硅片，温度洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。
随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。
相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。
相对湿度在50%时易生锈。
此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。
相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产最佳温度范围为35—45%。
洁净室中的气压规定对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。
压力差的维持一般应符合以下原则：1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
洁净车间温湿度标准
洁净车间温湿度标准
洁净车间是对空气洁净度要求较高的场所，通常用于生产电子元件、医药品、食品等对空气洁净度要求高的产品。
而车间的温湿度是影响产品质量的重要因素之一。
因此，制定合理的洁净车间温湿度标准对于保障产品质量和生产环境卫生非常重要。
首先，洁净车间的温度标准一般控制在20-24摄氏度之间。
这个温度范围是考虑到了人体的舒适度和产品的生产需要。
过高或过低的温度都会对员工的工作效率和产品的质量产生影响。
在这个温度范围内，员工的工作状态会更加稳定，产品的生产也会更加稳定可靠。
其次，洁净车间的湿度标准一般控制在45%-65%之间。
过高或过低的湿度都会对产品的生产和储存造成影响。
过高的湿度容易导致产品受潮发霉，过低的湿度则容易导致产品干燥开裂。
因此，控制在这个湿度范围内可以有效地保障产品的质量和生产环境的洁净度。
此外，洁净车间的温湿度标准也需要根据不同的产品和生产工艺进行调整。
对于一些特殊的产品，可能需要更高的温度或更低的湿度来保证其生产质量。
因此，在制定温湿度标准的时候，需要结合具体的生产情况进行调整，以保证产品的质量和生产的效率。
在实际操作中，我们可以通过安装温湿度监测设备来实时监测洁净车间的温湿度情况，并根据监测结果及时调整空调和加湿设备的工作模式，以保证车间内的温湿度处于合理的范围内。
总之，洁净车间的温湿度标准是保障产品质量和生产环境卫生的重要因素。
合理的温湿度标准可以保证产品的生产质量和员工的工作效率，因此在生产过程中，需要严格遵守相关的温湿度标准，并根据实际情况进行调整，以保证洁净车间的温湿度处于合理的范围内。
洁净室温湿度、静压差的监控标准操作规程
洁净室温湿度、静压差的监控标准操作规程1 目的建立洁净室温湿度、静压差的监控标准操作规程。
2 适用范围公司内所有生产洁净室和空调净化系统。
3编写依据《药品生产质量管理规范（GMP）》（2010年修订版）《医药工业洁净厂房设计规范》GB 50457-2008《洁净厂房设计规范》（GB50073-2013）4 职责4.1 生产车间负责洁净室内部的监控仪表的记录；4.2 工程设备部空调值班人员负责洁净室外部的监控仪表的记录。
5 内容5.1 仪表的设置5.1.1 在洁净室内不靠近冷热源的隔断或顶板上设置温湿度计或温湿度探头，温湿度计离地坪高1.4-1.7m，温湿度探头的设置应考虑方便布线。
5.1.2 在洁净室与室外之间、有可能产尘的洁净室与其相邻的洁净室之间以及洁净级别不同的相邻房间之间，设置微压差计，将微压差计高压接管上的胶管穿过隔断插入高静压房间，低压接管上的胶管穿过隔断插入低静压房间，将微压差计就近固定便于观察的隔墙上，微压差计离地坪高1.4-1.6m。
胶管穿隔断处做密封处理。
5.2 监控操作步骤5.2.1 监测记录前的准备工作5.2.1.1 操作人员应熟悉洁净室温湿度、静压差的控制标准：一般情况下，温度应控制在18-26℃，相对湿度应控制在30-65%，如果工艺有要求，则温湿度必须满足工艺需要；洁净室与室外大气的静压差不小于10Pa，洁净级别相同的不同功能区（操作间）与相邻洁净区应保持适当的压差梯度，且不小于5Pa。
5.2.2 监测程序5.2.2.1 逐个对各仪表读数并作记录，读数时若为指针指示须保持眼睛与指针为同一平面。
5.2.2.2 发现静压差未达标，首先检查房间密闭性，然后调节该洁净室内风口上调节阀的开度，直到静压差符合标准。
5.2.2.3 发现温湿度未达标，由值班人员对空调净化系统进行调节直到其符合标准。
5.2.2.4 对温湿度静压差的监控按照每班2次作记录。
当洁净室内不生产而空调净化系统值班运行时，不记录洁净室温湿度和洁净区内部的压差，但必须记录洁净室与室外的压差。
制药洁净室温湿度控制管理规程
目的：建立洁净区温湿度控制管理规程。
范围：洁净室的温度、湿度。
责任人：QA员、生产操作人员、空调工对本标准的实施负责。
内容：
1洁净室的温度和湿度应与药品生产工艺要求相适应，无特殊要求温度应控制在18～26℃，湿度控制在45～65％之间。
2洁净区内操作间等工作间应配备温度表和湿度表。
温湿度表应贴有校验合格证并应在校验有效期内。
3生产操作人员每工作日上午、下午各记录一次温度和相对湿度。
4当温度或相对湿度的变化可能对产品质量产生影响时，生产操作人员应及时通知空调工进行处理，对空气净化系统温湿度项进行重新测定。
5 QA员在洁净区巡视时应注意检查温度、湿度，超出控制范围时应及时通知空调工，对空气净化系统温湿度项进行重新设定。
洁净室温湿度监测方法标准
洁净室温湿度监测方法标准嘿，咱今儿就来说说这洁净室温湿度监测的事儿！你想想看啊，这洁净室就好比是一个特别精细的小世界，里面的温湿度那可得好好把控。
温湿度的重要性，那可真是不亚于一顿美味饭菜里的盐和调料呀！温度太高或者太低，湿度不合适，都可能会让这个小世界乱了套。
就好像你穿衣服，冬天穿短袖，夏天穿棉袄，那能舒服吗？同理，洁净室的温湿度不合适，会影响好多东西呢，比如设备的运行，产品的质量等等。
那怎么监测呢？首先得有靠谱的监测设备呀！这就好比你要去测量一个东西的长度，没有尺子怎么行呢？这些设备就像是洁净室的小卫士，时刻盯着温湿度的变化呢。
而且呀，这些设备得放在合适的位置，不能随随便便乱放。
这就像你把眼睛长在脚底板上，能看清路吗？肯定不行呀！然后呢，还得定期检查这些设备是不是好的，准不准确。
你想啊，如果尺子不准了，那量出来的尺寸不就全错啦？所以要时不时地给这些小卫士们做做“体检”，确保它们能好好工作。
监测的时候还得注意记录数据呢！这可不能马虎，就像你每天的日记一样，得认真写下来。
哪天温度高了，哪天湿度低了，都得清楚明白地记着。
这样以后要是出了问题，一翻记录就能找到原因啦。
还有啊，不能只监测一次就不管啦！这就像你每天只吃一顿饭，能饱吗？得经常去看看，随时掌握温湿度的动态变化。
而且不同的季节，不同的时间段，温湿度可能都会不一样呢。
咱再打个比方，这洁净室就像一个娇贵的小公主，得精心呵护着。
温湿度就是她的心情和状态，咱得时刻关注着，让她一直开开心心，舒舒服服的。
要是没照顾好，她发脾气了，那可就麻烦啦！总之呢，这洁净室温湿度监测可真是个细致活，一点都不能马虎。
咱得像爱护自己的宝贝一样爱护这个小世界，让它一直保持在最佳状态。
这样才能保证里面的一切都顺顺利利的，咱也才能放心呀！所以说呀，大家可都得重视起来，别不当回事儿哦！这可不是闹着玩的，这关系到好多重要的事情呢！你说是不是这个理儿？。
(完整word版)10、洁净厂房温湿度监控规程
(完整word版)10、洁净厂房温湿度监控规程一、目的：建立洁净厂房温湿度监测控制规程。
使空调系统能够有效控制
洁净厂房的温湿度。
二、范围：适用于洁净厂房温湿度的监测控制。
三、责任人：质量管理部部长、生产技术部部长、车间主任、岗位负责人.
四、内容:
1.应根据产品特性及工艺条件要求设计，确定洁净厂房温湿度控制标准
及检测点。
2。
温度监测仪器:温度计。
3。
相对湿度监测仪器：湿度计。
4.测试方法：将温、湿度计安装在洁净区需温、湿控制房间的墙壁上,
待空气净化系统运行30—40分钟后，可随时观察该房间的温湿度变化，需
要时可记录。
5。
监测频率:每日监测一次。
6.标准:空调系统在规定的运行期间和装有加热器及在全年温度变化的
情况下，应能够将洁净厂房温度维持在18～26℃，相对湿度控制在45～65％，
或根据产品需要指定的温度范围.
7。
在洁净厂房温度和相对湿度的监测过程中,若发现结果接近规定的范
围,应时对组合式空调柜内的功能段进行调整。
8。
洁净厂房温湿度的检测以及根据检测结果对空调系统进行的调整应
记录归档。
9.生产过程温湿度若发现异常现象，应及时向质量管理部报告及时处
理。
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如何对洁净室温湿度进行控制
提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了线性膨胀，所以必须有±度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。
相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。
相对湿度在50%时易生锈。
此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。
相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。
对于硅片生产最佳温度范围为35—45%。
洁净室中的气压规定
对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。
压力差的维持一般应符合以下原则：
1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
3.相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。
压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。
所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
洁净室中的气流速度规定
这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。
对于乱流洁净室由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，不过对室内气流速度也有如下要求；
(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。
(2)吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干s。
对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室），由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。
过去都参考美国20gB标准，采用s．但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低速一风速的可行性。
在我国，《空气洁净技术措施》和<洁净厂房设计规范））都是这样规定的
垂直平行流（层流）洁净室≥s
水平平行流（层流）洁净室≥ m/s
研究表明以上规定基本上满足控制污染的要求，但认为应区别不同情况分出不同的档别，更能体现节能的目的。