TEM的三种像衬度
透射电镜(TEM)原理详解

• 除了电磁波谱外, 在物质波中, 电子波不仅具有短波长, 而且存在使之发生折射聚焦的物质。所以电子波可以作为 照明光源, 由此形成电子显微镜。
图为日立公司H800透射电子显微镜(镜筒)
高压系统
真空系统
操作控制系统
观察和记录系统
阴极透电射子电枪镜来, 获通得常工电采作子用原束热 理
作为照明源。 热阴极发射的电子, 在
阳极加速电压的作用下, 高速穿过阳极孔, 然后被 聚光镜会聚成具有一定直 径的束斑照到样品上。
具有一定能量的电子束 与样品发生作用, 产生反 映样品微区厚度、平均原
量决定于衬度
B
A
(像中各部分
的亮度差异)。
现在讨论的
这种差异是由
于相邻部位原
子对入射电子
散射能力不同, Aˊ
因而通过物镜
光阑参与成像
质厚衬度表达式 令N1为A区样品单位面积参与成像
的电子数,N2为B区样品单位面积参
与成像的电子数,则A.B两区的电子
衬G将度上GN式为1N展1N成2 级 1数,ex并p略N A去 二0M2级22及t2 其
• 正确分析透射电子像,需要了解图象衬度与以上这 些反映材料特征信息之间的关系。
• 透射电子像中,有三种衬度形成机制: • 质厚衬度 • 衍射衬度 • 相位衬度
透射经电典镜像理衬论形成认原为理(散一)射质是厚衬度
供入观察射形貌电结子构的在复型靶样物品和质非晶粒态物质样品的衬度是质厚衬度
1子转.原场。子中可核受采和力用核而散外发 射电生截子偏面对入射电子的散射
TEM明场像与暗场像

明场像和暗场像透射电子显微镜是一种具有高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器,被广泛应用于材料科学等研究领域。
透射电镜以波长极短的电子束作为光源,电子束经由聚光镜系统的电磁透镜将其聚焦成一束近似平行的光线穿透样品,再经成像系统的电磁透镜成像和放大,然后电子束投射到主镜简最下方的荧光屏上而形成所观察的图像。
在材料科学研究领域,透射电镜主要可用于材料微区的组织形貌观察、晶体缺陷分析和晶体结构测定。
明暗场成像原理:晶体薄膜样品明暗场像的衬度(即不同区域的亮暗差别),是由于样品相应的不同部位结构或取向的差别导致衍射强度的差异而形成的,因此称其为衍射衬度,以衍射衬度机制为主而形成的图像称为衍衬像。
如果只允许透射束通过物镜光栏成像,称其为明场像;如果只允许某支衍射束通过物镜光栏成像,则称为暗场像。
有关明暗场成像的光路原理参见图2-1。
就衍射衬度而言,样品中不同部位结构或取向的差别,实际上表现在满足或偏离布喇格条件程度上的差别。
满足布喇格条件的区域,衍射束强度较高,而透射束强度相对较弱,用透射束成明场像该区域呈暗衬度;反之,偏离布喇格条件的区域,衍射束强度较弱,透射束强度相对较高,该区域在明场像中显示亮衬度。
而暗场像中的衬度则与选择哪支衍射束成像有关。
如果在一个晶粒内,在双光束衍射条件下,明场像与暗场像的衬度恰好相反。
a) 明场成像 b) 中心暗场成像明暗场成像是透射电镜最基本也是最常用的技术方法,其操作比较容易,这里仅对暗场像操作及其要点简单介绍如下:(1) 在明场像下寻找感兴趣的视场。
(2) 插入选区光栏围住所选择的视场。
(3) 按“衍射”按钮转入衍射操作方式,取出物镜光栏,此时荧光屏上将显示选区域内晶体产生的衍射花样。
为获得较强的衍射束,可适当的倾转样品调整其取向。
(4) 倾斜入射电子束方向,使用于成像的衍射束与电镜光铀平行,此时该衍射斑点应位于荧光屏中心。
(5) 插入物镜光栏套住荧光屏中心的衍射斑点,转入成像操作方式,取出选区光栏。
TEM分析分析

透射电子显微镜在形貌分析上的 应用
基本知识 透射电镜原理 透射电镜的结构 电子衍射原理 高分辨透射电镜 样品制备 材料应用
基础知识
1924年,de Broglie提出波粒二象性 假说 1926年 ,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束 1933年 ,柏林大学研制出第一台电镜(点分辨率达到
铁红金圈结晶釉的表面形貌
②衍衬像
对薄晶体
①薄:可透过e ②晶体:可衍射
当薄晶体中各部位(晶粒)符合Bragg条件不同 时而产生的反差成为衍衬像。
各部位,即取向差:小角晶界,晶粒取向,缺 陷近旁取向及晶面间距差等。
取向差:e 束为λ短的德布罗意波,对晶体可衍 射,取向即为波与各位的θ差。
电子束散射能力强,所以ED强度>>XRD,几 个数量级,所以衬度大 。
50nm) 1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜
(点分辨率10nm) 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm,
晶格条纹分辨率由于0.14nm) 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开
创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
透射电镜的基本原理
阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。 不仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物 镜的后焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图
栏 栏
挡
去
②衍射衬度:透过试样不同部位时,
衍射与透射强度组成比例不同引起的 反差。
① 散射衬度
一次复型 (互补)
复型像 二次复型 (原貌) 一次复型
复型衬度:
试样
=
2
1,A2
A1 , 2
tem形成像衬度的原理及其应用

tem形成像衬度的原理及其应用1. 概述•TEM(Transmission Electron Microscopy),即透射电子显微镜,是一种利用电子作为探测器进行观察和分析材料微观结构的高分辨率显微镜技术。
•在TEM中,通过使电子束通过样品并收集透射的电子来观察和分析材料的内部结构,从而形成像衬度。
2. 形成像衬度的原理•TEM中形成像衬度的原理是基于电子束的散射和干涉现象。
•当电子束通过不同材料的界面时,由于材料的不均匀性会引起电子束的散射,这部分散射的电子将不参与形成像的过程,造成像上的浓度差异。
•同时,来自样品上下两个不透明层的电子波将会干涉,这个干涉现象将会进一步强调材料的界面和结构特征,形成像衬度。
3. 形成像衬度的应用•形成像衬度在TEM中具有广泛的应用价值,下面列举了几个重要的应用领域:3.1. 材料科学•形成像衬度可以帮助科学家们观察和研究材料的微观结构,包括晶格结构、晶界、晶体缺陷等。
通过形成像衬度的分析,可以揭示材料的性能和行为,并为材料科学的研究提供重要的参考。
3.2. 生物学•生物学研究中,TEM的应用十分广泛。
通过形成像衬度的观察,科学家们可以观察和分析细胞和组织的微观结构,如细胞器、细胞核和胞质等。
这对于研究细胞的结构、功能和病理变化具有重要意义。
3.3. 纳米科学•在纳米科学中,TEM常用于研究纳米材料的结构和性质。
形成像衬度可以帮助科学家们观察纳米粒子的形状、分布和排列等特征。
通过形成像衬度的分析,可以深入了解纳米材料的性能和应用潜力。
3.4. 材料失效分析•TEM的应用还扩展到材料失效分析领域。
形成像衬度能够帮助科学家们观察和分析材料中的缺陷、裂纹、断裂和疲劳等失效现象。
这对于提高材料的可靠性和耐久性具有重要意义。
4. 总结•TEM形成像衬度的原理是基于电子束的散射和干涉现象,在材料科学、生物学、纳米科学和材料失效分析等领域具有广泛的应用。
形成像衬度的分析可以揭示材料的微观结构和性质,并提供重要的科学参考。
透射电子显微镜(TEM)详解

(一)间接样品的制备(表面复型)
透射电镜所用的试样既要薄又要小,这就大大限 制了它的应用领域,采用复型制样技术可以弥补 这一缺陷。复型是用能耐电子束辐照并对电子束 透明的材料对试样的表面进行复制,通过对这种 复制品的透射电镜观察,间接了解高聚物材料的 表面形貌。
蚀刻剂:高锰酸钾-浓 硫酸 将无定形部分腐蚀掉
八、透射电镜在聚合物研究中的应用
(一)结晶性聚合物的TEM照片
PE单晶及其电子衍射谱
Keller提出的PE折叠链模型
尼龙6 折叠链 片晶
单斜晶系 的PP单晶
2、树枝晶: 从较浓溶液(0.01~0.1%)结晶时,流动力 场存在,可形成树枝晶等。
PE的树枝状结晶
(3)染色:通常的聚合物由轻元素组成,在用厚 度衬度成像时图像的反差很弱,通过染色处理后 可改善。
所谓染色处理实质上就是用一种含重金属的试剂 对试样中的某一组分进行选择性化学处理,使其 结合上重金属,从而导致其对电子的散射能力增 强,以增强图像的衬度。
(a)OsO4染色,可染-C=C-双键、-OH基、-NH2基。 其染色反应是:
(二)直接样品的制备
1.粉末样品制备 粉末样品制备的关键是如何将超细粉的颗粒分散开来,
各自独立而不团聚。
胶粉混合法:在干净玻璃片上滴火棉胶溶液,然后在玻 璃片胶液上放少许粉末并搅匀,再将另一玻璃片压上, 两玻璃片对研并突然抽开,稍候,膜干。用刀片划成小 方格,将玻璃片斜插入水杯中,在水面上下空插,膜片 逐渐脱落,用铜网将方形膜捞出,待观察。
常见的聚合物制样技术
(1)超薄切片:超薄切片机将大试样切成50nm 左右的薄试样。
聚甲基丙烯酸丁酯将 聚四氟乙烯包埋后切 片,白色部分表示颗 粒形貌, 切片时,有颗粒的部 分掉了
专业TEM分享

专业TEM分享TEM(透射电子显微镜)是一种高分辨率的显微镜技术,被广泛应用于材料科学、纳米科学、生物科学等领域。
本文将分享一些专业的TEM知识,以帮助读者更好地了解和应用TEM技术。
一、TEM的基本原理TEM通过将电子束透射样品,利用电子与样品相互作用所产生的信号进行成像和分析。
电子束经过样品后,进入电子透镜系统,最后形成被称为“透射电子显微图像”的影像。
二、TEM的成像技术1. 常规TEM成像:常规TEM成像方式下,样品处于真空中,通过透射电子枪产生的电子束透射通过样品,形成影像。
这种成像方式可以获得高分辨率的纹理和结构信息。
2. 高角度偏转成像:高角度偏转成像是一种在低放大倍数下观察样品表面特征的方法。
通过调整透射电子束的角度与样品表面垂直,可以在低放大倍数下清晰地观察样品表面的形貌和微观结构。
3. 选区电子衍射成像:选区电子衍射技术是一种利用样品晶体的晶格衍射信息进行成像的方法。
通过调节透射电子束的入射角度和位置,可以获取样品的晶体学信息,如晶格常数、晶体结构等。
三、TEM的应用1. 材料科学中的应用:TEM可以用于研究材料的微观结构、相变过程、晶格缺陷等。
例如,可以通过TEM观察金属材料中的晶界、孪晶、位错等缺陷,并研究其对材料性能的影响。
2. 纳米科学中的应用:TEM是纳米尺度下研究材料结构和性能的重要工具。
通过TEM可以直接观察到纳米粒子的形貌、大小、分布以及纳米结构的有序性等信息,并且可以对纳米材料进行成分分析和晶格分析。
3. 生物科学中的应用:TEM在生物科学研究中起着关键作用。
它可以用于观察生物大分子的结构和形貌,如蛋白质、核酸等,从而揭示生物分子的功能和相互作用方式。
此外,TEM还可以用于细胞超微结构的观察和细胞器的定位。
四、TEM样品的制备TEM样品的制备对于获得高质量的TEM图像至关重要。
常见的TEM样品制备方法包括:1. 薄膜法:将样品切割成薄片,通过薄膜夹持在TEM网格上进行观察。
透射电镜衍衬图像

2、操作反射
• 在用双光束成像时,参与成像的衍射斑除了透射 斑以外,只有衍射斑hkl,因此无论是在明场成像 还是暗场成像时,如果该衍射斑参与了成像,则 图像上的衬度在理论上来讲就与该衍射斑有非常 密切的关系,所以我们经常将该衍射斑称为操作 反射,记为ghkl.
假设样品中A部分完全 不满足衍射条件,而样 品B只有(hkl)面满足衍 射条件(双光束条件)
在明场下,A部分的像的 单位强度为:IA=I0,而B 部分的像的单位强度则为: IB=I0-Ihkl. 以A晶粒的亮度为背景强 度,则B晶粒的衬度可以 表示为
对于暗场像来讲,双光束 条件下A晶粒的强度为0, 而B晶粒的强度为Ihkl, 以 亮的晶粒B为背景时A晶 粒的衬度为:
暗场成像时的衬度要比明场成像时要好得多
Images in TEM
一、什么是衬度:
所谓衬度,即是像面上相邻部份间的黑白对比度 或颜色差 。 衬度大小可以用下式表示
表示以B部分的亮度为背景强 度,A部分的衬度
二、TEM中电子显微像的衬度类型及定
衬度
义
质量厚度衬度本质上是一种散射吸收
质量厚度衬度
振 幅 衬 度
衍射衬度
衬度,即衬度是由散射物不同部位对
②衍衬成像对晶体的不完整性非常敏感; ③衍衬成像所显示的材料结构的细节,对取向也是
敏感的; ④衍衬成像反映的是晶体内部的组织结构特征,而
质量厚度衬度反映的基本上是样品的形貌特征。
五、衍射衬度成像方式的分类
明场像示意图
让透射束通过物镜光 阑所成的像为明场像
普通暗场像示意图
中心暗场像示意图
仅让衍射束通过光阑所成的像为暗场像;为了 消除物镜球差的影响,借助于偏转线圈倾转入 射束,使衍射束与光轴平行,这样的暗场像称
9-透射电子显微镜TEM和扫描电子显微镜SEM

物质波既不是机械波,也不是电磁波,而是几率波 德布罗意波的统计解释:物质波是一种几率波,物 质波在某处的强度与粒子在该处出现的几率成正比
电子显微镜历史
1954年诺贝尔物理学奖
Max Born (1882~1970)
电子显微镜历史
1926年Busch发现磁场的透镜行为
高速运动的电子在电场或磁场作用下会发生折射,而且能被聚 焦,如同可见光通过光学透镜时被折射和聚焦一样 1931年Ruska与Knoll用磁场透镜制成了二级电子光学系统,实 现了电子显微镜的技术原理 1938年Ruska和Knoll研制成功第一台实验室电子显微镜 (TEM);1939年Ruska在西门子公司研制成功分辨率优于 10nm的第一台商用透射电镜 1935年Knoll 在设计透射电镜的同时提出了扫描电镜的原理及设 计思想;1940年英国剑桥大学首次试制成功扫描电镜,但到 1965年才开始生产商用扫描电镜
非弹性碰撞:电子损失能量,改变方向 非弹性散射:背散射电子、绕散射电子 激发二次电子、俄歇电子、特征X射线等
散射电子与入射电子的能量、样品厚度、密度、晶格排列、表面形貌 等有关-电子显微镜信号
电子显微镜的信号来源
入射电子 背散射电子(弹性,非弹性)
特征X射线 SEM 俄歇电子
荧光 二次电子
TEM光学系统
透射电子显微镜TEM Transmission electron microscopy
显微术
纳米尺度:1nm~100nm 人眼观察能力:0.1mm 显微镜的作用:分辨,放大,显示
光学显微镜
理想光学系统:物点-像点 实际光学系统:物点-像斑
像差:近轴条件不满足 衍射:光瞳对光束的限制作用
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第5章透射电镜的图像衬度及其应用透射电镜的图像衬度是指荧光屏或照相底板上图像的明暗程度. 又叫黑白反差, 或叫对比度。
由于图像上不同区域衬度的差别,才使得材料微观组织分析成为可能。
只有了解图像衬度的形成机制,才能对各种图像给予正确解释。
透射电子显微像有三种衬度类型,分别为质厚衬度,衍射衬度和相位衬度。
5.1 质厚衬度原理试样各部分质量与厚度不同造成的显微像上的明暗差别叫质厚衬度。
复型和非晶态物质试样的衬度是质厚衬度.质厚衬度的基础:1.试样原子对入射电子的散射2.小孔径角成象。
把散射角大于α的电子挡掉,只允许散射角小于α的电子通过物镜光阑参与成象。
相位衬度衍射衬度是一种振幅衬度,它是电子波在样品下表面强度(振幅)差异的反映,衬度来源主要有以下几种:1.两个晶粒的取向差异使它们偏离布拉格衍射的程度不同而形成的衬度;2.缺陷或应变场的存在,使晶体的局部产生畸变,从而使其布拉格条件改变而形成的衬度;3.微区元素的富集或第二相粒子的存在,有可能使其晶面间距发生变化,导致布拉格条件的改变从而形成衬度,还包括第二相由于结构因子的变化而显示衬度;4.等厚条纹,完整晶体中随厚度的变化而显示出来的衬度;5.等倾条纹,在完整晶体中,由于弯曲程度不同(偏离矢量不同)而引起的衬度. 1.3 衍射衬度成像的特点1.衍衬成像是单束、无干涉成像,得到的并不是样品的真实像,但是,衍射衬度像上衬度分布反映了样品出射面各点处成像束的强度分布,它是入射电子波与样品的物质波交互作用后的结果,携带了晶体散射体内部的结构信息,特别是缺陷引起的衬度;2.衍衬成像对晶体的不完整性非常敏感;3.衍衬成像所显示的材料结构的细节,对取向也是敏感的;4.衍衬成像反映的是晶体内部的组织结构特征,而质量厚度衬度反映的基本上是样品的形貌特征。
2.1 明场像让透射束通过物镜光阑所成的像就是明场像。
成明场像时,我们可以只让透射束通过物镜光阑,而使其它衍射束都被物镜光阑挡住,这样的明场像一般比较暗,但往往会有比较好的衍射衬度;也可以使在成明场像时,除了使透射束通过以外,也可以让部分靠近中间的衍射束也通过光阑,这样得到的明场像背景比较明亮衍射衬度样品微区晶体取向或者晶体结构不同,满足布拉格衍射条件的程度不同,使得在样品下表面形成一个随位置不同而变化的衍射振幅分布,所以像的强度随衍射条件的不同发生相应的变化,称为衍射衬度。
⏹衍射衬度对晶体结构和取向十分敏感,当样品中存在有晶体缺陷时,该处相对于周围完整晶体发生了微小的取向变化,导致缺陷处和周围完整晶体有不同的衍射条件,形成不同的衬度,将缺陷显示出来。
这个特点在研究晶体内部缺陷时很有用.所以广泛地用于晶体结构研究。
⏹晶体样品,薄膜样品(金属,陶瓷)的衬度来源于衍射衬度。
⏹衍射衬度通常是单束成像衬度.成像时用透射束或者用衍射束⏹相位衬度除透射束外,还同时让一束或多束的衍射束参与成象。
由于各束的相位相干作用而得到晶格(条纹)像或晶体结构(原子)像。
用来成象的衍射束(透射束可视为零级衍射束)愈多,得到的晶体结构细节愈丰富。
相位衬度原理1. 电子束通过试样,相位受到晶体势场的调制,在试样下表面处得到带有晶体结构信息的物面波φ0(r).2. 物面波φ0(r)经过物镜的作用,在后焦面上得到衍射束,用衍射波函数Q(g)表示。
物镜好象起了频谱分析器的作用,把物面波中的透射波和各级衍射波分开了。
从数学上讲,物镜对φ0(r)进行了一次富氏变换。
记作Q(g)=Fφ0(r)3. 透射束与衍射束相互干涉后,在像面上成像得到与所选衍射束相对应的晶格条纹象。
这个过程,可理解为Q(g)乘上相位因子exp(-iX(g))后的富氏逆变换, 其结果是衍射波还原成放大了的物面波,即像面波Φ(r)。
相位衬度像成象全过程包含了两次富氏变换. 第一次,物镜将物面波分解成各级衍射波,在物镜后焦面上得到衍射谱。
第二次各级衍射波相互干涉,重新组合,得到保留原有相位关系的像面波,在像平面处得到晶格条纹像。
()()r g Q r F F φφ−→−−→−-1)(0 相位衬度像的种类原子像:像点与原子柱的投影对应,可以用原子分布进行解释。
结构像:像点与原子团或原子围成的通道对应,可以用结构进行直接解释。
点阵像:像点与晶面间距对应,与原子排列无关。
高分辨像:分辨率很高的像,但不能用原子分布及 晶体结构进行解释。
3.1 运动学理论假设当晶体中存在缺陷或者第二相时,衍射衬度像中会出现和它们对应的衬度,即使是在完整晶体中,也会出现等厚条纹和等倾条纹;晶体中缺陷和衍射衬度之间在尺度和位置上具有怎样的对应性,完整晶体中的衬度又是怎样来的?要回答这些问题,必须从理论上来予以解释。
要解释清楚TEM下观察到的电子显微像,最理想、也是最直接的方法就是直接算出样品下表面处的电子波分布函数,得出每一点的强度,则无论是衍射衬度还是相位衬度都不再成为问题。
但是我们知道对于求电子束与样品相互作用后的电子波函数的表达式这样一个实践的问题,根本就不可能解出来。
因此,我们必须对问题进行简化。
衍射衬度的运动学和动力学理论就是基于这样思想提出的用以解释衍射衬度的两种理论。
其中衍射衬度的运动学理论是在以下近似的基础上提出来的:双束近似倾转晶体选择合适的晶体位向,使得只有一组晶面(hkl)接近布拉格衍射位置,所有其它晶面都远离各自的衍射位置;运动学近似又称为一级Born近似或单散射近似,认为衍射波的振幅远小于入射波的振幅,因而在试样内各处入射电子波振幅和强度都保持不变(常设为单位1),只需计算衍射波的振幅和强度变化;柱体近似假设晶体在理论上可以分割成平行于电子波传播方向的一个个小柱体,这些小柱体在衍射过程中相互独立,电子波在小柱体内传播时,不受周围晶柱的影响,即入射到小晶柱内的电子波不会被散射到相邻的晶柱上去,相邻晶柱内的电子波也不会散射到所考虑的晶柱上来,柱体出射面处衍射强度只与所考虑的柱体内的结构内容和衍射强度有关,一个像点对应一个小晶柱下表面;除了以上近似外,运动学和动力学还涉及到一些近似处理,如:向前散射近似和高压近似等。
3.2 运动学公式的推导在以上假设的基础上,如果我们能够求出每个小柱体下表面的电子波振幅,则整个像的衬度应该就能表示出来。
由于衍射衬度主要用来解释大于1nm的显微组织结构,而我们选取的小晶柱的尺度大约是纳米级,因此我们在求下表面的电子波振幅时可以将整个下表面当成一个点来处理。
经过详细地推导后可以得出,如果将每个小晶柱分成无数个小的薄层,则每一个小薄层对下表面的衍射波函数的总的贡献可以表示成:Ψ0是入射波函数的振幅,在运动学理论中,它总为单位1;λ:衍射波的波长;Fg:晶体单胞的结构因子;Vc:晶体单胞的体积;θ:衍射波波矢与水平小薄层之间的夹角。
3.3 消光距离的导出:引入消光距离这一物理参量实际上已经属于动力学衍射理论范畴了。
它是指由于透射束与衍射束之间不可避免地存在动力学交互作用,透射振幅及透射束强度并不是不变的。
衍射束和透射束的强度是互相影响的,当衍射束的强度达到最大时,透射束的强度最小。
而且动力学理论认为,当电子束达到晶体的某个深度位置时,衍射束的强度会达到最大,此时它透射束的强度为0,衍射束的强度为1.所谓消光距离,是指衍射束的强度从0逐渐增加到最大,接着又变为0时在晶体中经过的距离。
这个距离可以从理论上推导出来。
上式中,Ψ0是入射束的振幅,取单位1,所以衍射束每穿过一个晶柱的小薄层dz,对P点衍射贡献的振幅就可以写为:那么每穿过一个单胞的厚度振幅可以写成:可以将上面的振幅值设为常数q。
由上面的结果可以知道,衍射波函数对小晶柱下表面的贡献,每穿过一个单胞的厚度,都可以用dΨg表达出来,每两个单胞厚度之间,振幅是相同的,但相位存在一个很小的差别,那个经过n个单胞厚度以后,电子波函数对下表面总的衍射波振幅的贡献我们可以用振幅相位图表示出来,如下图所示。
上图中,L是经过n个单胞后总的振幅,由前面的动力学讨论,衍射束的强度最大只能等于入射束的强度(1),而上图中衍射束的总的结构振幅最大时是圆的直径,假设衍射波函数经过m个单胞厚度后它对晶柱下表面的贡献值达到最大,也就是说它的总的振幅达到最大,那么此时它应该等于上面圆的直径,由前面的讨论可知,直径的大小应该等于1.由于q的值非常小,每个q值接近等于上图中对应的圆弧,因此有:mq=π*1/2(半径)。
代入q的值马上可以得到m的值,所以消光距离就等于2m个单胞的长度,所以消光距离可以表示成:3.4 衍射衬度运动学理论推导过程中存在的问题:上式中,其相位因子(Kg-K0).r一般表示两束波的程差,很容易让人误以为衍衬成像是一个干涉成像过程,但事实并非如此,衍衬成像是一个非相干的单束成像过程;在衍衬运动学的推导过程中,f和Fg都是表示单位体积的散射因子(结构因子),实际上暗示着薄层中每一处的散射因子都是相同的,这与事实是不相符的,实际上晶体中只有有原子的地方才有散射;在衍衬运动学的推导过程当中,实际上是假设右图中小晶柱中的小薄层的面积是无穷大的,因为只有这样,这一薄层对P点的总的散射振幅贡献才能等于第一半波带的一半,这一假设显然是不合理的;在衍衬运动学理论的推导过程中,实际上是把小晶柱的下表面当成一个点P来处理的,看起来很不合理,但考虑到衍衬成像的分辨率极限是1.5nm,而小晶柱的尺度在1nm以内,因而这样处理还是可以的.第四节完整晶体的衍衬运动学分析4.1 完整晶体的衍衬运动学公式推导由电子衍射的几何关系有:Kg-K0=g+s,因此小晶柱里每个薄层对下表面的散射贡献又可以表示成:对于完整晶体而言,每个薄层的厚度可以取成一个单胞的厚度,而位置矢r的位置可以取在单胞的平移矢处,这时有g.r=整数,这时上式等于:为了积分出整个晶柱对下表面的散射贡献,先将s和r写成标量的形式,由图可知,s 总是平行小晶柱,并指向下,所以一般取正值(为了积分方便,一般取向下为正);对于r来讲,由于它是由P点指向小薄层的位矢,方向向上,所以一般取负值,又因为r 与厚度方向基本平行,可以将其写成-z;这时的散射波函数公式可写为:对整个小晶柱积分,最柱体下表面处总的散射波函数为:积分后得到:因此理想晶体中,电子波与小晶柱相互作用后,对下表面总的散射强度可以表示为:4.2 等厚条纹产生的原理将上式稍微变形可以得到:由上式可知,在理想晶体中,当偏离矢量为常数时,电子衍射衬度的强度随厚度t而变化,这就是等厚条件产生的理论依据。
由上式我们可以得到等厚条纹应该具有如下特点:等厚条纹是当偏离矢量为恒定值时,衍射强度随传播深度的变化而按余弦函数周期的变化,在衬度像上观察到的明暗相间的条纹,同一条纹对应的厚度是相同的,条纹的深度周期为1/s ;衍衬像中的等厚条纹与可见光中的等厚干涉条纹的形成原理是完全不同的;可见光中的等厚干涉条纹是由楔形样品的上下表面的反射波互相干涉而形成的,其衬度来自于两束波的相位差角,而电子衍衬像中的等厚条纹则是单束、无干涉成像,其衬度来自于衍射波的振幅;等厚条件形成的示意图及实例等厚条件形成的示意图等厚条纹明场像等厚条纹暗场像4.3 等倾条纹产生的原理当衍衬成像时,如果试样的厚度基本不变,而晶体的取向由于变形等原因而有微小的变化时,相当于偏离矢量s有微小的变化,这时衍射波对小晶柱下表面的强度贡献公式可写为:这时电子衍射衬度的表达式是偏离矢量的函数,随着偏离矢量的改变,衬度改变,这是等倾条纹产生的原因。