羟基的保护与去保护
羟基的保护与脱保护
HO 1
OH
i-Pr2NEt/t-BDPSiCl/CH2Cl2 TBDPSO 2 OH . Chem, 1992, 57, 1722
10
三异丙基硅醚保护 ---(TIPS-OR)
酸性水解时，有较大体积的TIPS醚比叔丁基二甲基硅醚要 更稳定些。但稳定性比叔丁基二苯基硅基差。TIPS基碱性 水解时比TBDMS基或TBDPS基稳定。相对于仲羟基，TIPS基 对伯羟基有更好的选择性。
易保护，也容易去保护
随着硅原子上的取代基的不同，保护和去保护的反应活 性均有较大的变化。当分子中有多官能团时，空间效应 及电子效应是影响反应的主要因素。 任何羟基硅醚都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除，其 主要原因是硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之 间的亲和性。
在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行保护
3.1 THP(2-四氢吡喃)保护羟基
THP醚引入到一个手性分子的结果是形成了一个非对映 体，因为在四氢吡喃环上新增了一个手性中心。（有时 它会使NMR谱的表达有点困难）。尽管如此， 它仍是有 机合成中一个非常有用的保护基团，它的成本低，易于 分离，对大多数非质子酸试剂有一定的稳定性，易于被 除去。通常，几乎任何酸性试剂或任何可以在原位产生 17 酸的试剂都可被用来引入THP基团。
羟基的保护与去保护
1
羟基的保护(前言)
羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中， 如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚 醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很 重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种 官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤 化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要 将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如 何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关 键所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应 的醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅 醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基 醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多 ，但在糖及核糖化学中较为多见。
羟基的保护与脱保护
TBS醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，因此常常用于
对多官能团，位阻不同的分子进行选择性保护。在伯、仲醇
中，TBS基相对来说较易于与伯醇反应。TBS醚的断裂除了
常用的四烷基氟化胺外，许多情况下也可用酸来断。当分子
内没有对强酸敏感的官能基存在时，可用 HCl-MeOH, HCl-
Dioxane 体系去除TBS，若有对强酸敏感的官能基存在时，
羟基的保护与去保护
1
羟基的保护(前言)
羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中， 如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚 醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很 重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种 官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤 化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要 将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如何 选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键 所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的 醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅醚 、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚 、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多， 但在糖及核糖化学中较为多见。
HO HO
HO BzO OAc
TMSCl, imdazole
AcO O OTES
TMSO HO
Me2HSiO BzO OAc
1
2
J. Org.Chem. 1996, 61, 2065 7
叔丁基二甲基硅醚 ---(TBDMS-OR or TBS-OR)
在化学合成中，采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲基硅
生酸的试剂都可被用来引入THP基团。
有机经典反应三(羟基的保护与脱保护)
羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护，这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护，希望大家补充与批评•羟基保护主要分为：硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类1. 硅醚保护和脱保护硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS特点：（1）易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除;（2）在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护；（3）硅醚对酸碱都敏感，不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性；（4）空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素；（5）对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇，- 般不用TMS保护，因为TMS在弱酸条件下极易脱除（硅胶柱）.硅醚的稳定性：在酸性条件下的稳定性：TMS(1) <tes(64)<tbs(20,000)vtips(700,000)vtbdps(5000,000) 碱性条件下的稳定性：TMS(1)<tes(10-100)<tbs~tbdps(20,000)vtips(100,000)硅醚的脱保护：硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护，或者可以用Bu4NF脱除；由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护，酚基硅醚在碱性条件下易去保护.2. 苄醚保护（苄基,对甲氧基苄基，三苯甲基）苄醚保护：烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱（NaH）,酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ,DMF丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3C丙酮,反应体系可以加Nal或者KI催化.苄基的脱除：一般情况用催化加氢的方法，也可以用Lewis酸脱出（TMSI）,催化加氢若分子中有非芳性的胺，会降低了催化剂的活性，阻碍了O-脱苄.在反应体系中加入Na2CO可以防止苄基脱除，而可以使双键还原.苄醚氢解溶剂影响:THF>Hexanol>MeOH>Toluene氢解反应速率大小顺序）PMB保护：PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出，PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ)3. 烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚常用的有THP, MOM, EE, SEM等,其中THP, EE, MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序：MOM>EE>THP, TH和EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM 对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM 一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF, 45度, 7h 可以脱除THP, EE和TBS,而SEM是稳定的).。
羟基的保护与去保护
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其他羟基保护基 4.2 酰化成酯保护
乙酰基保护常常用于天然产物结构鉴定中羟基 衍生化。一般上乙酰基方法较多，其中用乙酸酐在 吡啶中引入乙酰基最为常用，由于该方法不能乙酰 化位阻较大的叔醇，要想在叔醇引入乙酰基需要加 入酰化催化剂等，有时对位阻特别大的即使加入酰 化催化剂也无效时，可以考虑通过Lewis酸催化。
3.2 MOM保护羟基 MOM是一般是通过MOMCl-DIEA 引入；其对酸还是 较为稳定的，一般它的脱除需要在强酸条件下进行。 EE（CH3 CH2OCH3CH-OR）保护羟基
17
3.3
EE的性质和THP很相似。
应用事例 (THP and MOM)
DHP/PPTS TBDPSO HO 1 PPTS/EtOH/50oC C C C6H5 TBDPSO THPO 2 C C C6H5
O OAc
1
2 J. Org.Chem. 1996, 61, 2065
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叔丁基二甲基硅醚 ---(TBDMS-OR or TBS-OR)
在化学合成中，采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲 基硅基醚是应用较多的方法之一。生成的叔丁基二甲基醚在 多种有机反应中是相当稳定的，在一定条件下去保护时一般 不会影响其他官能团。它对碱稳定。相对来说对酸敏感些。 TBS醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，因此常常用于对 多官能团，位阻不同的分子进行选择性保护。在伯、仲醇中， TBS基相对来说较易于与伯醇反应。TBS醚的断裂除了常用的 四烷基氟化胺外，许多情况下也可用酸来断。
OH TIPSO O 8 CO 2CH 3
TIPSO
J. Org. Chem. 1995,60,7796
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应用事例(EE and SEM)
常见的羟基的保护与脱保护方法
常见的羟基的保护与脱保护方法保护羟基:羟基在许多有机合成反应中往往需要保护，以防止它们在反应条件下发生不需要的副反应。
常见的羟基保护基包括醚、酯、酮、酚、酰胺、醛等。
以下是一些常用的羟基保护方法：1.醚保护：醚保护可以通过将羟基与醇反应得到，生成醚。
醚保护通常使用对应于醇的活化试剂进行，例如甲基化反应中使用碘甲烷或次氯酸盐。
醚保护可以在中性或碱性条件下进行，但不适合在酸性条件下进行。
2.酯保护：酯保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
常用的酸酐有酸氯和酸酐等。
酯保护通常在碱性条件下进行，并且在加热时通常反应速率更快。
3.酮保护：酮保护是通过将羟基与酮反应得到，生成酮。
酮保护也通常在碱性条件下进行，使用碱金属如钠作为催化剂。
4.酚保护：酚保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
酚保护与酯保护原理相同，但需要更强的碱性条件。
5.酰胺保护：酰胺保护是通过将羟基与酰胺反应得到，生成酮。
常用的酰胺有二甲基亚砜、二甲基甲酰胺等。
6.醛保护：醛保护是通过将羟基和醛反应得到，生成醇。
这种保护方法通常使用缩醛反应进行，输入多相催化剂。
脱保护羟基：羟基的脱保护常常需要特定的条件和试剂来进行，以下是一些常用的羟基脱保护方法：1.醚脱保护：醚脱保护通常使用酸性条件进行，例如使用浓硫酸或三氟化硼进行醚的酸性水解。
2.酯脱保护：酯脱保护可以通过酸催化的水解得到，常用的酸催化试剂包括浓硫酸，氢氯酸等。
3.酮脱保护：酮脱保护通常使用还原剂进行，最常用的是氢化钠或氢化钠铝合金。
4.酚脱保护：酚脱保护可以使用酸性条件下的水解反应，例如使用浓硫酸进行酚的酸性水解。
5.酰胺脱保护：酰胺脱保护可以通过酸或碱催化进行，例如使用浓碱水解。
6.醛脱保护：醛脱保护可以通过加热和蒸馏等方法进行，例如使用强酸、碱或硼氢化钠等试剂进行醛的脱保护。
总结：羟基的保护与脱保护方法在有机合成反应中扮演重要的角色，能够有效地保护或脱除羟基。
合理选择适当的保护基和脱保护试剂可以帮助实现合成目标化合物的高产率和高选择性。
羟基的保护与去保护
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叔丁基二苯基硅醚 ---(TBDPS-OR )
在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加
稳定（约100倍），而TBDPS保护基对碱的稳定性比
TBDMS要差。另外，TBDPS保护基对许多与TBDMS保 护基不相容的试剂显出比TBDMS基团更好的稳定性。 TBDMS基团在酸性条件下不易迁移。
R C C OH 3
C C C6H5 OTHP
R C C OH
C C C6H5 OH
4 .Chem.1977,42,3772
OPMB TBDPSO OH 5 OPMB OMOM CO 2CH 3 O 7
MOMCl,DIEA, CH 2Cl 2
OPMB TBDPSO OMOM 6 OPMB
HCl(gas)/iPrOH,55 oC
OMe Bn O H O 2 H MPM
Bn
DDQ O H O H 2 MPM CH2Cl2-H2O
Bn
O
H
O 1
H
OH
Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2459
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烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚在羟基保护中也 是较为多用的一类，常用的有THP (2-四氢吡喃)，MOM （甲氧基甲基），EE（2-乙氧基乙基），这类保护基都 对酸不稳定，因此一般都是在酸性条件下脱保护。它们 对酸的稳定性是MOM>EE>THP
Si OR' Si OR' Si OR' Si OR' Ph Si OR' Ph TBDPS-OR'
TMS-OR'
TES-OR'
TBDMS-OR' TBS-OR'
羟基的保护与去保护
羟基 的保护与去保 (qiǎngjī) 护
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羟基(qiǎngjī)化合物的重 要性
THF-45 oC-7 h)是稳定的。
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方法(fāngfǎ)2.3.1：苄醚
1. 苄醚类主要有苄基、对甲氧苄基及三苯甲基醚 ； 2. 苄基醚的裂解主要是通过催化加氢的方法，Pd是理想的催化剂，用Pt时会产生
(chǎnshēng)芳环上的氢化作用。 3. 甲氧基苄醚的合成与苄基醚相似。但甲氧基取代的苄基醚较未取代的苄基醚更容
手段(shǒuduàn)：TMS、TES、TIPS、TBDMS、TBDPS … 特性(tèxìng)与优势：
1. 在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行选择性保护
(硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上的氧原子结合 结合活性：ROH〉ArOH〉RCOOH〉NH〉CONH〉SH〉CH)
在碱中稳定性：
TMS (1)<TES (10-100)<TBDMS~TBDPS (20,000)< TIPS (100,000)
a. 硅原子上引入位阻增加有利于提升稳定性； b. 硅原子上引入吸电子取代基可以提高碱性条下水解反应的灵敏性，而对酸的敏感性降低
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方法(fāngfǎ)2.1.1：TMS保护
三甲基硅醚是常见的硅醚保护基，但极不稳定，遇水分解，制备时要严格无水操作 (cāozuò)，常用于羟基的暂时性保护。常用的包括：TMSCl、TMSOTf、三甲基硅咪 唑
羟基的保护与去保护
羟基的保护与去保护集团文件版本号：（M928-T898-M248-WU2669-I2896-DQ586-M1988）羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评.羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.1.硅醚保护和脱保护:硅醚保护基:TMS,TES,TBS,TIPS,TBDPS特点:(1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除;(2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护;(3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性;(4)空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素;(5)对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇,一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).硅醚的稳定性:在酸性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(64)<TBS(20,000)<TIPS(700,000)<TBDPS(5000,000)碱性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(10-100)<TBS~TBDPS(20,000)<TIPS(100,000)硅醚的脱保护:硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护,酚基硅醚在碱性条件下易去保护.2.苄醚保护(苄基,对甲氧基苄基,三苯甲基)苄醚保护:烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱(NaH),酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN,DMF,丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3CN>丙酮,反应体系可以加NaI或者KI催化.苄基的脱除:一般情况用催化加氢的方法,也可以用Lewis酸脱出(TMSI),催化加氢若分子中有非芳性的胺,会降低了催化剂的活性,阻碍了O-脱苄.在反应体系中加入Na2CO3可以防止苄基脱除,而可以使双键还原.苄醚氢解溶剂影响:THF>Hexanol>MeOH>Toluene(氢解反应速率大小顺序)PMB保护:PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出,PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ)3.烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚常用的有THP,MOM,EE,SEM等,其中THP,EE,MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序:MOM>EE>THP,THP和EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF,45度,7h可以脱除THP,EE和TBS,而SEM是稳定的).。
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实施：
1. 保护：酰氯 or 酸酐/吡啶回流，有时也用到酰化催化剂DMAP、4-PPY 2. 去保护：碱性水解
方法2.1：硅醚保护
手段：TMS、TES、TIPS、TBDMS、TBDPS …
特性与优势：
1. 在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行选择性保护
Deprotection: Hydrolysis was carried out under aprotic condition-anhydrous tetrabutylammonium fluoride
in THF solution.
方法2.1.2：TBDMS保护
1. TBS醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，常用于对多官能团、位 阻不同的分子进行选择性保护。 (在伯、仲醇中，TBS 基相对来说较易 于与伯醇反应)
？
羟基的常见保护策略
转化为酯：糖、核苷、多酚
转化为醚
硅醚
三甲基硅醚 (TMS-OR) 叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR) …
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
烷基醚
苄醚 甲基醚 烯丙基醚、叔丁基醚 …
方法1：酰化为酯
手段：乙酰化(Ac)、苯甲酰化(Bz)、特戊酰化(Pv)…
方法2.2.1：THP
1. THP醚引入形成了一个非对映体，使NMR谱的表达有点困难。 2. 成本低，易于分离，对大多数非质子酸试剂有一定的稳定性，易于除去。 3. 引入THP常用三氟化硼醚化物（BF3.Et2O），对甲苯磺酸（TsOH），吡
啶对甲苯磺酸盐（PPTs）作催化剂。 4. 几乎任何酸性试剂或任何可以在原位产生酸的试剂都可被用来引入THP
a. 硅原子上引入位阻增加有利于提升稳定性； b. 硅原子上引入吸电子取代基可以提高碱性条下水解反应的灵敏性，而 对酸的敏感性降低
方法2.1.1：TMS保护
三甲基硅醚是常见的硅醚保护基，但极不稳定，遇水分解，制备时要严格 无水操作，常用于羟基的暂时性保护。常用的包括：TMSCl、TMSOTf、 三甲基硅咪唑
(硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上的氧原子结合 结合活性：ROH〉ArOH〉RCOOH〉NH〉CONH〉SH〉CH)
2. 随着硅原子上的取代基的不同（空间效应与电子效应），保护和去 保护的反应活性均有较大的变化，具有广泛的选择余地
3. 易脱保护: 羟基硅醚都可以通过四烷基氟化胺（如TBAF）脱除
（BBr3对空气敏感，使用时会冒出大量气雾；加水后处理时常出现大量 的络合物，导致后处理艰难，收率下降。）
ROH
NaOH,Me2SO4
Me3SiI ,CHCl3
ROCH3
1. 苄醚类主要有苄基、对甲氧苄基及三苯甲基醚 ；
2. 苄基醚的裂解主要是通过催化加氢的方法，Pd是理想的催化剂，用Pt时 会产生芳环上的氢化作用。
3. 甲氧基苄醚的合成与苄基醚相似。但甲氧基取代的苄基醚较未取代的苄 基醚更容易通过氧化去保护。
方法2.3.2：甲基醚
1. Protection: 用碱脱去醇ROH质子，再与合成子 ＋CH3作用。如： NaH/Me2SO4, Ag2O/MeI, CH2N2/BF3.Et2O
(硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之间的亲和性)
4. 硅醚稳定性规律:
在酸中的稳定性： TMS (1)<TES (64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000)； 在碱中稳定性： TMS (1)<TES (10-100)<TBDMS~TBDPS (20,000)< TIPS (100,000)
2. 在分子中羟基位阻不大时,主要通过TBSCl 对羟基进行保护；当羟基位 阻较大时,则采用较强的硅醚化试剂TBSOTf 来实现。
3. 相对来说，产物醚对于碱性水解更稳定，对酸性水解更敏感。醚的断 裂除了常用的四烷基氟化胺外，许多情况下也可用酸。（当分子内没 有对强酸敏感的官能基存在时，可用 HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系去 除TBS，若有对强酸敏感的官能基存在时，则可选用AcOH-THF 体系去 除。)
3. TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂显出比TBDMS基 团更好的稳定性。
方法2.2： 烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
1. 常用的有THP (2-四氢吡喃)，MOM（甲氧基甲机基），EE（-乙氧 基乙基），SEM-Cl。
2. 保护基形成的化合物都对酸不稳定，一般在酸性条件下脱保护。其对 酸的稳定性是 MOM > EE > THP
羟基的保护与去保护
羟基化合物的重要性
天然产物中广泛存在，如：核苷、碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化 合物、聚醚、某些氨基酸的侧链 羟基是有机合成中一个很重要的过渡官能团，其可转变为卤素、氨基、羰基、 羧基等
含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护 羟基和脱保护往往是许多新化合物合成的关键所在
基团。
方法2.2.2：MOM
对酸还是较为稳定的，一般它的脱除需要在强酸条件下进行。
方法2.2.3：SEM-Cl
1. 脱保护可以通过四烷基氟化胺来脱去。 2. SEM醚对分解四氢吡喃基(THP)和叔丁基二甲基硅醚(TBS)的酸性条件
(AcOH-H2O, THF-45 oC-7 h)是稳定的。
方法2.3.1：苄醚
2. Deprotection: 对强酸稳定的甲基芳基醚，可使用过量的浓HI 酸回流， 或者大大过量的48% HBr 或37% HCl 在HOAc 或Ac2O 中回流。
一般使用Lewis酸，如BBr3及Me3SiI，利用软硬酸碱原理（hard-soft acids and bases principle），使氧原子与硼或硅原子结合，而以溴离子或 碘离子与甲基结合除去。
J. Org.Chem.1996, 61, 2065)
Protection: Compound 1 (3.00g, 4.286mmol) was dissolved in dry DMF (17 mL). To this solution at 0 oC was
added imidazole (874.3 mg, 12.86mmol), followed by TMSCl (1.63 mL, 12.86 mmol). After stirring at 0 oC for 1.5 h, the reaction mixture was diluted with EtOAc (300 mL) and washed with water (3 × 20 mL) and then brine (30 mL). The organic layer was dried and concentrated in vacuo. The resulting material was then dissolved in dry DMF (20 mL) and treated at 0 oC with imidazole (816 mg, 12.00 mmol), followed by chlorodimethylsilane (1.135g, 12.00mmol). The reaction mixture was stirred for 1h at 0oC and then diluted with EtOAc (200mL). The organic layer was washed with water and brine. Upon silica gel chromatography (10% ethyl acetate in hexane), 3.197 g (90%) of the desired product 2 was obtained.
方法2.1.3：TBDPS保护
1. 酸性水解条件下，TBDPS 保护基比TBDMS 更加稳定(约100 倍)。 (80%乙酸能够水解TBDMSOR，却无法水解TBDPSOR)
2. TBDPS 保护基对碱的稳定性比TBDMS 要差。(仍然对K2CO3/CH3OH、9M 氨水-60℃-2h、MeONa(cat.)/CH3OH-25℃-24h 稳定。)