JEOL2010透射电镜操作过程
透射电子显微镜使用流程
透射电子显微镜使用流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
文档下载后可定制随意修改，请根据实际需要进行相应的调整和使用，谢谢!并且，本店铺为大家提供各种各样类型的实用资料，如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等，如想了解不同资料格式和写法，敬请关注!Download tips: This document is carefully compiled by theeditor. I hope that after you download them,they can help yousolve practical problems. The document can be customized andmodified after downloading,please adjust and use it according toactual needs, thank you!In addition, our shop provides you with various types ofpractical materials,such as educational essays, diaryappreciation,sentence excerpts,ancient poems,classic articles,topic composition,work summary,word parsing,copy excerpts,other materials and so on,want to know different data formats andwriting methods,please pay attention!以下是透射电子显微镜的一般使用流程：1. 样品制备：将待观察的样品制备成薄片或粉末状。
透射电镜使用说明
透射电镜使用说明1、由管理员开启透射电镜，调好仪器状态，安装样品。
2、在荧光屏状态下观察样品，通过轨迹球选择观察区域，通过Brightness调节画面亮度（*逆时针旋转调亮，顺时针旋转调暗）。
3、选择好观察区域后，调弱光强，确保CCD界面上的光强度（screendensity(A/cm2)）在10-12数量级，然后切换到CCD模式进一步调整。
*一定记得调弱光（顺时针）后才能切换至CCD界面，否则会打坏CCD。
4、通过Mag旋钮进一步增大放大倍数，选定好拍照区域后通过Brightness调整光强，使CCD界面中的波峰在中部比较好。
*若要增大放大倍数，直接顺时针旋Mag；若要减小放大倍数，要先顺时针旋Brightness减弱光强，然后逆时针旋Mag，否则会打坏CCD。
5、点击面板上的Focus键自动聚焦，然后使用Focus旋钮将图像调整清晰。
如果肉眼不好判断是否聚好焦，可点面板上的WOB键，用Focus调至画面不晃动即可，关WOB，准备拍照。
6、在CCD 界面点击Freeze进行拍照之后点击Save进行存储图像。
*一定要点Save，否则图像不会自动保存。
7、切换至荧光屏状态，继续寻找观察区域，然后重复步骤2-6。
*若在小范围内继续观察，可以在步骤6后调弱光强（Brightness顺时针）后，直接点击Run打开CCD继续观察拍照。
8、一个样品观察完毕后，在Stage Operation中选择下一个样品，然后重复步骤2-6。
备注：请勿自行更改任何仪器设置和参数，如需换样或有任何疑问，请联系管理员：肖媛，135********。
谢谢！2013年10月15日。
透射电镜的使用
透射电镜的使用一、实验目的(1) 了解透射电镜的基本结构和工作原理；(2) 学习透射电镜的样品制备方法；(3) 学习透射电镜的操作；(4) 掌握透射电镜图像的分析二、透射电镜的基本结构和工作原理透射电镜主要作用是研究微米级到纳米级尺度上物质的微观形貌、晶体结构、成分分析，探索围观上比均匀性与物质性能的关系。
I ）固体表面形貌观察；II ）颗粒大小、形状、粒度分析；III）固体显微结构分析（形态、成分、物相）；IV ）原子排列、晶体缺陷分析。
2.1 概述在光学显微镜的完善和发展过程中，人们发现：不管如何完善光学显微镜的透镜和结构，其放大倍数和分辨率总是被限定在1000多倍和几百纳米的水平，不可能再有所新的突破。
后来，人们终于发现：是显微镜所使用的光源限制了光学显微镜的放大倍数和分辨率的进一步发展。
因为，可见光的波长在390纳米到760纳米之间，而显微镜的分辨率最多也只能是其所使用光源的半波长的大小，所以光学显微镜的理论极限分辨本领也就在200纳米左右。
2.2 透射电镜的发展史1931年，第一台透射电镜在德国柏林诞生；1934年，电镜的分辨率可达50nm；1939年，西门子公司投放第一台商品电镜，分辨率优于10nm；60s、70s，提高分辨率，东京大学拍出第一张高分辨的原子像照片；80s，提高高压水平，100kv→200kv；90s，计算机技术，提高自动化程度，CCD成像，远程同步观察等。
目前世界主流的大型电镜，分辨本领为2~3 埃，电压为100～500kV，放大倍数50~1200,000倍。
由于材料研究强调综合分析，电镜逐渐增加了一些其它专门仪器附件，使其成为微观形貌观察、晶体结构分析和成分分析的综合性仪器，即分析电镜。
高分辨透射电子显微镜提高透射电子显微镜分辨率的关键在于物镜制造和上下极靴之间的间隙，舍弃各种分析附件可以使透射电子显微镜的分辨率进一步提高。
但是近年来随着电子显微镜制造技术的提高，高分辨透射电子显微镜也在增加各种分析附件，完善其分析功能。
JEM2010高分辨透射电镜
操作规程1.装入样品。
2.打开各附件电源开关。
3.检查电镜真空指示，真空度要求高于10-5Pa。
4.检查观察窗及双目镜上的保护盖是否盖好，缓慢向冷阱中加入液氮。
5.将各透镜开关逐一置于ON位置。
6.将高压初始值设置到120KV，按下HT键自动加高压至120KV，然后用HTS命令计算机程序加高压至200KV，稳定5分钟。
7.缓慢加灯丝电流至Stopper位置。
8.观察灯丝像，照明系统对中及消像散。
9.成像系统对中，调电压中心和电流中心。
10.观察样品，选择区域，调节样品取向，消物镜像散。
11.使用照相系统拍照，记录像。
12.工作完毕后，缓慢退灯丝电流，手动退高压至120KV后按动HT键关高压。
各透镜开关必须全部置于OFF。
13.样品平移及倾转全部回零后，取出样品台。
14.更换底片15.等样品室和照相室真空达到工作状态后，清除冷阱液氮。
z详细操作步骤请参阅JEM-2010 TEM操作说明书管理制度1.排班每周四预约下周使用时间，原则上每人每周预约一个单元，特殊情况另行安排。
2.早班人员要做好清扫工作，晚班人员要洗手套。
3.进入电镜室必须换拖鞋，不得将拖鞋穿出电镜室，不得在电镜室吃东西，喝水。
4.实验结束时，电镜暗盒内不得少于50张底片，预抽室暗盒也应及时补装至50张底片。
5.不得将电镜室工具拿出室外。
6.新用户须在考核合格后方能独立上机操作。
7.严格遵守操作规程，认真填写实验记录。
8.如果发现异常情况，应立即向有关人员汇报，不得自行处理。
9.不要变动BIAS值及束流值。
10.不得随意按动自己不知其功能或与正常操作无关的键。
11.认真进行交接班，做到责任明确。
12.使用完毕后，要对房间水、电等进行安全检查。
透射电镜样品的制作及观察
包埋块的制备（1）取材分别取在铅胁迫浓度为0μg/g、1 000μg/g时，接种AMF的玉米须根。
用镊子夹取玉米须根，并用蒸馏水冲洗干净后，用锋利的无油污双面刀片将其切成0.5 cm大小的根段。
（2）前固定将玉米根段放入装有3%戊二醛固定液的1 ml离心管中，并用真空泵抽去组织内部的气体，0-4℃下固定6 h或过夜。
（3）漂洗用0.1 ml/L PBS（pH7.2）漂洗4-6次，开始时间间隔较短，15~20 min换一次，最后1 h换1次。
（4）后固定1%锇酸4℃固定2 h。
（5）漂洗PBS缓冲液漂洗多次。
（6）丙酮脱水从低浓度脱水剂逐步过渡到高浓度脱水剂。
30%丙酮（20 min）→50%丙酮（30 min）→70%丙酮（30 min）→80%丙酮（30 min）→90%丙酮（30 min）→95%丙酮（30 min）→100%丙酮（30 min）→100%丙酮（30 min）→100%丙酮（30 min）。
（7）浸透浸透的目的是用包埋剂逐步取代植物组织中的脱水剂，使细胞内外空隙被包埋剂所填充。
按Epon812（9.5 ml）、DDSA（4.9 ml）、MNA（5.6 ml）、DMP-30（0.3ml）的比例配好包埋剂。
包埋剂：丙酮（1:3）浸透2~3 h→包埋剂：丙酮（1:1）浸透4~5 h→包埋剂：丙酮（3:1）浸透10~12 h→纯包埋剂浸透24 h→纯包埋剂浸透48 h。
（8）包埋先加一滴包埋剂在包埋板孔前端，再用牙签把组织块送入包埋板孔最前端的中部后，将写好的标签放在后端的中间，最后用纯包埋剂加满包埋孔，不能产生气泡。
（9）聚合将含有包埋好样品的包埋板放入烘箱内，30℃下放置48 h，60℃放置48 h。
组织块从烘箱中取出后，放在干燥器中保存。
3.2.8.2修整包埋块（1）用样品夹夹紧包埋块，放于双目显微镜下。
（2）先用单面刀片将包埋块修成金字塔形，顶面修成大约1 mm2的长方形或梯形。
JEOL-2010操作
JEOL JEM-2000EXII 操作步骤一.开机1.机械房冰水机循环帮浦开启(注意：冰水机内水须盖过冷凝管)2. 显微镜左上方面板，钥匙顺时针转动开启电子显微镜OFF→ON→至START(停留约5秒后放开) →跳回ON3. 至少2 小时后才可观察二.使用前1. 确认真空度(1) 以按压方式打开左中面板，右边有机器真空位置指示灯，其中V12，V5，V4，V6B、V2、V3、V13、V15 等8 个绿灯必须全亮(2) 左边真空压力计PEG 真空度在绿色区域范围内2. 打开LENS POWER SUPPL Y(左下方面板)3. 确定显微镜左上方面板ACCEL VOTEAGE 及FILAMENT 两个绿灯都亮(READY)4. 打开显微镜右上方小屏幕电源5. 按下HT 键至ON (在显微镜左上方面板上，红色、有护盖)，待BEAM CURRENT 稳定(100KV时为50±2uA)6. 放入样品(1) 将Specimen holder 慢慢拉出至有阻力时，逆时针转至C，停留约5 秒，再轻轻拉出(2) 用镊子打开铜网夹(靠近尖端为1号，靠近把手为2号)，放入铜网，盖好铜网夹(注意：holder 握把以外勿以手碰触)(3) 将holder 上的螺丝对准机器上的缺口，轻压，红灯亮起(红灯亮时表示正在抽真空，勿在此时将holder 转入)(4) 在第二次红灯熄灭后，将holder 顺时针转至O ，紧握holder 轻轻放入(注意：此时有吸力，要注意握好holder 避免快速吸入，造成损坏)(注意：若此时BEAM CURRENT 降至0，重按HT 键至ON)(5) 等5分钟7. 慢慢转动左上方面板FILAMENT 钮(至指标1、2、3 时各等1 分钟至指标3.5 时静待5 分钟)至STOPPER 的位置( BEAM CURRENT 勿超过65 uA)，在荧光板上看见亮光，即可观察。
(注意：此时若无亮光，可能因为：1. 电子束被铜网格遮住，2. 电子束偏了，3.倍率太高使亮度变暗)8. 若BEAM CURRENT 未上升，表示Filament 断了三、观察样品1. 当亮光不在中心时，用左上方面板BRIGHTNESS 钮集中亮光，并用SHIFT 的X 及Y(在左上方及右上方面板) 调整亮光至中心点(荧光板中央的黑色小点)2. 左上方面板的CRS键灯亮时表示BRIGHTNESS及SHIFT钮为粗调3. 转动荧光板两侧的X、Y 轴移动样品4. 用右上方面板SELECTOR 键选择倍率(向右拨为放大，向左拨缩小)5. 对焦时先将小荧光板向前下压(操纵杆在荧光板右边)，调整目镜所见之小荧光板上黑点至清晰。
透射电子显微镜的使用教程
透射电子显微镜的使用教程透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种高分辨率的显微镜，它能够通过电子束穿透样品，观察样品内部的结构和成分。
本文将介绍透射电子显微镜的使用教程，让读者了解如何正确操作这一仪器。
1. 仪器准备使用透射电子显微镜前，首先需要进行仪器的准备工作。
确保仪器处于良好的工作状态，例如检查电源、真空系统等。
同时，还应检查样品台、样品支架等配件是否完好。
此外，为了获得更好的成像效果，还需准备适当尺寸的透射电镜样品。
2. 样品制备将待观察的样品制备成符合要求的样品是使用透射电子显微镜的重要一步。
通常情况下，需要将样品制备成薄片，以保证电子束能够穿透样品。
这可以通过机械剥离、石墨化学剥离等方式实现。
制备好的样品应该放置在电镜网格上，并确保样品无尘、无气泡等。
同时，样品可以根据需要进行涂覆、染色等处理，以突出样品的特定结构。
3. 调试仪器参数在开始观察之前，需要根据样品的特点和使用需求调试透射电子显微镜的参数。
首先，根据样品的特性选择合适的加速电压和操作模式。
其次，通过调整透射电子显微镜的对焦系统和磁镜，确保电子束可以准确地聚焦在样品上。
此外，还需要适当调整透射电镜的亮度和对比度，以获得清晰的图像。
4. 开始观察调试好仪器参数后，就可以开始观察样品了。
将样品放置在样品台上，确保样品与电子束之间的距离适当。
随后，可以通过透射电子显微镜的视野调整系统选择感兴趣区域进行观察。
可以使用不同的放大倍数和透射电子干涉仪等设备来进一步细分样品，探寻内部结构和成分。
观察过程中，可以使用仪器自带的捕捉功能，记录感兴趣区域的图像和视频。
5. 数据处理和分析观察完成后，可以进行数据处理和分析。
透射电子显微镜通常配备了一些图像处理工具，可以进行图像的增强、滤波等操作。
此外，还可以使用电子衍射、原子能谱等技术，对样品进行更深入的分析。
通过数据处理和分析，可以得到关于样品结构、成分和性质的详细信息。
JEM2010型透射电镜详细操作步骤
JEM2010型透射电镜开机操作：MAG 放大倍数Current density 束斑电子密度Exp time 曝光时间Specimen 样品位置，尽量让X Y接近0，但在+/- 100均可以。
Brightness 束斑大小（旧：condenser）Shift 光斑平移（旧：Aignment-trans）Spot size 1—4 或1—5 合轴（旧：1—3 合轴）Object focus 物镜聚焦1.开循环水。
由于新电镜循环水不关，这步可省。
但要注意水温是否正常。
2.打开电源开关。
IN/OUT。
从来都是开着的，这步也可省。
3.打开荧屏电源；检查荧屏第一页：确认①电压是否在120KV；如不是，请联系值班老师；②确认样品位置“specimen position”为原点：<x，y，z>=0，0，0，如果不是原点，使用观察窗左侧“SPEC CONTROLLER”控制面板上的N键复原（注意在没有插入样品杆时，严禁使用“N”键！，所以每次推出样品杆之前应该复位）；③α-selector 为24.用键盘键入P3，使荧屏显示第三页，检查P1－至P5的电流值，正常情况下：p1:25,p2:25,p3:29,p4,28,p5,100，观察阀V1，V2和V4, V5B, V8, V13,V17和V 21共8个阀处于打开状态。
5.察看右下方的真空面板，确定真空进入10-5Pa量程，理想的状态的是指针居中，在灌入液氮的情况下应该更低；如没达到这个范围，请联系值班老师；6.灯丝处于关闭状态（filament的开关ON没亮）7.检查聚光镜光栏是否全打开，物镜光栏是否全打开，如不是请打开全部光栏。
检查右侧面板，观察电镜是否处于MAG1（此灯亮）8.打开左侧门，将“lens”开关打到ON的位置（请一定要非常小心，确认是lens开关，不要开错开关。
即开灯丝，将开关稍向外拉再抬上即开。
）。
9.再次观察荧屏，电压是否在120KV，如果不是，严禁进行下面操作。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
JEM-2010 例行簡易操作步驟TEM 例行操作(JEOL 2010 Alignment )儀器及真空狀態之準備動作1. 確定SIP VACUUM < 5 X 10-5 Pa2. 確定 SF6氣壓3. FILAMENT ON4. 升壓加200KV5. 檢查試片位置是否歸零6. 確定D V值為 +0(一) 電子槍線圈傾斜校準(Gun tilt, 在FEG 時為Anode wobbler)1.試片移開螢幕，倍率調至15K。
2.Spot size 選用1，調整brightness鈕，將電子束縮為最小亮點，以Gun shift X,Y將亮點移至螢幕中央。
(二) 電子槍偏移校準(Beam shift)1.倍率仍設為15K ，Spot size換至3(or 5)。
2.以brightness鈕將電子束縮至最小，以Beam shift 將電子束移至正中心。
3. Spot size換回1 ,以Gun shift X,Y調整，將電子束移至正中心。
4.重覆1、2、3 步驟，直到不論Spot size 1或Spot size 3(或5)之電子束皆在螢幕正中心為止。
(三) 飽和電流校準(Current density saturation, 建議以法2及法3作校正)法1：(正規但不建議：一般初學者常會因為不正常操作，導致電流值過大而減短燈絲壽命)1. 先將Filament值降到零，從小Filament值開始調起，再慢慢加大電流值。
2. 當螢幕上有不對稱的燈絲投影形狀時，調整bias使燈絲在螢幕上呈現對稱的形狀，此時燈絲之電流為趨近飽和狀態。
3. 稍微加大電流值，使對稱的形狀消失而呈單一的亮點。
4. 固定Filament scale的stopper。
法2：調Gun tilt，注意小螢幕上之current density值，當達到最大值時，此時得到最大亮度，意即達到飽和電流。
法3：調Gun tilt，目視螢幕上之spot亮度，當達到最大亮度時即為飽和電流。
(四) 聚焦鏡孔徑調整(Condenser aperture)1.倍率調至15K ，Spot size 調至1或3(或5)。
2.電子束縮至最小並調至中心。
3.調brightness鈕將電子束重複放大縮小，同時調整Condenser Aperture位置使spot不隨電子束放大縮小而偏離圓心。
(五) 聚焦鏡像差調整(Condenser Stigmatism)1.倍率調至15K，Spot size 調至3。
2.調brightness鈕將電子束縮至最小，以beam shift移亮點至中心。
3.順時針及逆時針地旋轉brightness，此時亮點若呈橢圓展開時，則按下Cond Stig 鍵，一邊旋轉brightness一邊調整DEF X,Y鈕直到亮點呈圓狀。
4.調整完後按Cond Stig 鍵還原。
(六) a.影像搖擺調整(Wobbler,功能在使調beam tilt時影像不會shift)1.倍率調至15K，調整focus 使影像在in focus狀態。
2.以brightness將spot縮成直徑約5mm 之亮點，切Image wobbler switch 至X，按右下鍵盤TILT鈕, 調Image wobbler adj X(左邊兩個) 使兩亮點重疊在中央，切Image wobbler switch 至Y，調Image wobbler adj Y(右邊兩個) 使兩亮點重疊在中央。
3.將Tilt 鈕及Image wobbler switch 還原。
b.繞射點搖擺調整(Wobbler, 功能在使調beam shift時影像不會tilt;此部分之操作條件不易變化)1.倍率調至15K。
2.以brightness右轉到底，此時會聽到”嗶”一聲(代表已超越儀器之過焦狀態極限)，調Diff focus使呈caustic spot亮點(一般為逆時針方向)，此時caustic spot呈現一類似Benzu的mark形狀，切COND DEF ADJ 至X,按右下鍵盤SHIFT鈕，調Image wobbler adj X(左邊兩個, shift之X及DEF之X) 使caustic spot亮點重疊，切COND DEF ADJ 至Y，按右下鍵盤SHIFT鈕，調Image wobbler adj Y(右邊兩個, shift之Y及DEF之Y) 使caustic spot重疊。
3.將Diff focus, Brightness, SHIFT 鈕及COND DEF ADJ X, Y還原。
(七) 電流中心調整(Current center)1.選擇試片緣尖端處，將最尖點移至中央，按下Imag X或 Imag Y，此時會見到影像成雙影，是為defocus狀態，以Z-∇及Z-Δ調整stage高度，使雙影之影像重疊成單一影像，此時試片影像為in-focus狀態，以上為試片聚焦動作。
2.按WOBBLER-OBJ後，再按brightness tilt 鍵，調整Bright tilt-Def X,Y 使尖端置於中央且最不易晃動的狀態。
（八）中間鏡、投影鏡校準(INT stig and Project alignment)1. 調Brightness 將spot散開，試片移開。
2.壓DIF 鈕，調整DIF focus使繞射點變小(可加入Obj Aperture輔助聚焦)。
3.壓STIGMATOR-INT，調整Gun Shift之DEF X,Y鈕，使繞射點成正圓。
4.壓DEFLECTOR-PROJ，調整Gun Shift之SHIFT X,Y鈕，移動繞射點至正中心。
(九) 電壓中心校準(Voltage center)1. 如步驟(七)-1先將影像聚焦。
2. 倍率調至100K ，調整影像在in focus狀態。
3.在試片上找一處尖銳處，將其尖端移至螢幕中央。
4.按下HT鍵(wobbler) ，觀察影像閃動時該尖端是否離開中心點。
5.若是，則按下brightness tilt 鍵，調整DEF X,Y鈕使尖端在閃動時仍不偏離中心點。
6.調整電子束至最小亮點，並將亮點移至中心。
(十) 物鏡像差調整(OBJ Stig)1. 如步驟(七)-1先將影像聚焦。
2. 倍率調在200K。
3. 在試片上選擇一處邊緣厚度較均勻處，再搜尋一小洞或小突起物做為成像標的物。
4. 初步調整Focus 鈕，使小洞或突起物影像一半在under focus狀態另一半在overfocus狀態，注意：此時小洞或突起物之邊緣在underfocus邊會產生一道亮（白）線，而在overfocus邊會產生一道暗（黑）線。
5. 按下OBJ STIG鍵，旋轉DEF X,Y鈕，使小洞或突起物邊緣均轉為亮線或均轉為暗線，再調整Brigh-Focus使小洞或突起物邊緣之明線或暗線同時消失，此時影像是在in-focus狀態。
6. 按除OBJ STIG鍵，去除Objective stigmator校正功能。
備註1. 本機型之Condenser aperture size除全開外共有五種，每置換一個Condenser aperture後必需重新alignment。
2. 不同之spot size校正情況略有差別，一旦選定某一spot size做校正後，若需換另一spot size觀察時，需將alignment做微調。
3. 視使用者之需要條件而定，若觀察影像倍率不大，可忽略”(十) 物鏡像差調整”之校正。
4. 於上述每一步驟完成之後，需再回頭反覆確定之前校正的每一步驟之校正情況。
5. 拍照有兩種模式供應用 a.自動模式：此時AUTO燈亮 b.手動模式：由使用者自訂曝光時間，此時AUTO燈不亮﹔拍照之程序必須按AUTO鍵兩次(第一次進片，第二次才是曝光) ，建議調整降Beam Current以增加曝光時間為2~5分鐘(注意：Beam Current與Exp Time之乘績為常數)。
Micro-area illumination mode(EDS, NBD, CBD) alignment :a.TEM mode alignment 做完b.押CBD, spot size 最大, α 角順時針調最大c.用shift(Bright tilt) 將beam 調中d. Mag 50Ke.押HT wobbler, 調DEF(Bright tilt), 使beam 均勻收放f.HT wobbler offNote: a. 上述alignment 調好後, 變動spot size 時, beam center無太大變化, 但變化a 角則可能有較大變動b. EDS, NBD, CBD 均有 image mode 及 Diffraction mode. 且這三種通常在image mode alignment 好之後, 在diffraction mode 下得到 dataz EDS mode 操作:1. 執行micro-area illumination alignment2. Focus image, 選擇spot size3. 切至diffraction mode, 調INT stig & project center4. 選camera length5. 調brightness, 利用shadow image 使target 最大(Ronchigram 單眼), 此時beam 為最小(可用EDS 打Au/C film, 可確認是否打在Au 上)6. 可用Image shift+ Def or Shift 來微調sample 位置7. EELS 的單點分析亦可用EDS diffraction mode 來作1. General Column Alignment (2010F)（1）In [TEM] mode，將倍率放大至40K，選擇SPOT SIZE 1-3，用[BRIGHT TILT]-SHIFT X、Y，將光束移到螢幕中央。
（2）SPOT SIZE 5-3，用[BRIGHT TILT]-SHIFT X、Y；SPOT SIZE 1-3，用[GUN]-SHIFT X、Y，將光束移到螢幕中央；反覆調整直到切換此2種SOPT SIZE，光束都在螢幕中央。
（3）[ANODE WOBB]，調整[GUN]-DEF X、Y，直到光束在螢幕中心做同心橢圓縮放。
（4）Check，DV=0、OL=5.83、O-Stig. Current~2.00及-0.90。
調Z-Control聚焦。
（5）左右轉動BRIGHTNESS，調[COND STIG]-DEF X、Y，校正CL Stigma。
將光束調至同心圓放大縮小。
（6）CL Aperture Centering。
左右轉動BRIGHTNESS，並調整CL Aperture上的旋鈕，直到光束同心圓不會甩動。