第5章固体中的缺陷 《材料科学与工程基础》

第5章固体中的缺陷    《材料科学与工程基础》
第5章固体中的缺陷    《材料科学与工程基础》

第5章固体中的缺陷

为什么要学习固体中的缺陷

某些材料的性质受到存在于材料中的缺陷的极大影响。因此、知道存在于材料中缺陷的类型,以及它们在影响材料性质中的作用是很重要的。例如、纯金属的力学性质经过合金化以后(即加入杂质原子)会发生很大变化——例如、标准银合金(含银92.5%,含铜7.5%)比纯银更硬更强(8.10节)。

而且,在我们的计算机、计算器和家用功能的集成微电子设备是通过在半导体材料上引入高度可控的杂质浓度和定域化掺杂获得的(12.11节)。

学过这一章后,你应当掌握以下内容:

1. 描述空位和自间隙晶体缺陷。

2. 已知相关常数,计算某特定温度下材料中的平衡空位数。

3. 两种类型的固溶体的书面定义和图示表达。

4. 陶瓷化合物中几种不同的点缺陷。

5. 已知合金中组元的质量和原子量,计算每种元素的质量百分浓度和原子百分浓度。

6. 对于刃型、螺型和混合型位错中的每一种:

(a ) 描述和画出位错;

(b ) 注意位错线的位置;

(c ) 指出位错线延伸的方向。

7. 描述(a )晶界和(b )孪生晶界附近的原子结构

5.1 引言

对于晶体固体材料,我们默认在材料内部原子级水平上排列完全有序。然而这种理想固体是不存在的;所有固体都存在大量的各种缺陷。事实上材料的许多性质都很深地受到材料中缺陷程度的影响;这种影响不总是有害的,人们常常通过有意识的引入缺陷和控制缺陷的量来获得特殊性质的材料,详细情况在下面的章节中要介绍。

“晶体缺陷”意味着在原子大小范围晶格不规则。晶体缺陷的分类通常按照缺陷区的几何形状和大小。这一章要讨论几种不同的缺陷,包括点缺陷(尺寸与一两个原子大小相近),线缺陷(一维缺陷),以及面缺陷,即界面,是二维缺陷。也要讨论如果在某一方向上缺陷区的尺寸可以与晶体或晶粒的线度相比拟,而在其它方向上的尺寸相对于晶体或晶粒线度可以忽略不计,那么这种缺陷就称为线缺陷或位错,这是本章要着重讨论的缺陷…

(3)面缺陷如果在共面的各方向上缺陷区的尺寸可与晶体或晶粒的线度相比固体中的杂质,因为杂质原子也可能以点缺陷的形式存在。{最后,简要叙述显微测量缺陷的技术和材料的结构。}

点缺陷

5.2 金属中的点缺陷

最简单的点缺陷是空位,即空的晶格位。通常在一个原子原来占据的地方变成了空位(图 5.1)。所有晶体固体都含有空位,事实上,不可能阻止材料中没有空位这种缺陷。空位存在的必然性可以用热力学原理来解释;实质上、空位的存在增加了晶体中的熵(无序性)。

一定量的材料中的平衡空位数Nv 随温度而增加,具有如下关系: )exp(kT

Q N N v v -= (5.1)

式中,N 是总的原子数,v Q 是形成空位所需要的能量,T 是绝对温度,k 是气体常数或波尔兹曼常数,取值取决于v Q 的单位。v Q 的单位为焦耳时,k 为

1.38*10-23J/atom-K,当v Q 的单位为电子伏特时,k 为8.62*10-5eV/atom-K 。因此,空位数随温度成指数增加。对大多数金属,空位分数N N v /在略低于熔点的时候是10-4数量级,也就是说,在10000个位置中有一个是空的。正如以上讨论指出的,其他材料的空位数也有类似于公式5.1的关系。

自间隙是晶体中的一个原子挤入到原来并没有原子占据的很小的间隙位置中去的情况。这种情况也表示在图5.1中。对于金属材料,自间隙会引起周围晶格的较大变形,因为原子比间隙的空间要大得多。因此这种情况并不多见,它仅仅以很小的浓度,即远低于空位的浓度出现。例5.1

5.3 陶瓷中的点缺陷

原子点缺陷

陶瓷化合物也存在点缺陷。象金属一样,空位和间隙都是可能的;可是由于陶瓷材料至少含有两类离子,每种离子都可能形成缺陷,例如在NaCl 中,Na 离子间隙和空位以及Cl 离子间隙和空位都可能存在。知道阴离子间隙的精确浓度不太可能。阴离子相对较大,要填入到较小的间隙中需要额外的应力排开周围的离子。图5.2画出了阴离子和阳离子空位,以及阳离子间隙。

陶瓷中缺陷的表示通常通过指定原子的类型和点缺陷浓度。由于原子以带电的离子出现,当考虑缺陷结构的时候,必须考虑电中性的要求。电中性是材料中离子所带的正负电荷总数相等。因此、陶瓷中的缺陷不会单独发生。一种缺陷类型是阳离子空位和阴离子间隙对。这种缺陷叫做弗兰克尔缺陷(图 5.3)。可以认为是阳离子离开它的晶格位置进入间隙位置形成的。电荷没有发生变化,因为阳离子在间隙中仍然带正电。

另一种类型的点缺陷是AX 型化合物中发现的阳离子空位-阴离子空位对,叫做肖特基缺陷,也画在图5.3中。认为这种缺陷是把材料内部的一个阳离子和一个阴离子移动到材料的外表面形成的。因为阳离子和阴离子有相等的电荷,有一个阴离子空位便存在一个阳离子空位,整个材料维持电中性的要求。

无论肖特基缺陷和弗兰克尔缺陷都不会改变阳离子与阴离子的比值。如果没有其他缺陷存在,这时材料为化学计量关系,化学计量是化合物中的阴阳离子精确按照化学式的比例关系取值。如NaCl 化学计量为:阴阳离子比为1:1,如果偏离这一比值,我们就把这种化合物称为非化学计量的。

非化学计量在某些陶瓷材料中是存在的,若材料中含有某种具有两种价态的离子时。氧化铁就是这样一种材料,因为铁可以二价和三价形式存在;这两种价态的任意一种离子的数量取决于温度和氧气压力。由于Fe 3+的形成引入多余的一个正电荷,破坏了原材料的电中性,必须由某种缺陷形式进行弥补。当每形成两个Fe 3+就可能形成一个Fe 2+空位(或移去两个正电荷)(图5.4)。晶体这时不再是化学计量的,因为有多余的一个氧离子,但是晶体保持电中性。这种现象在铁氧化物中非常普遍,事实上,它的化学式常写成Fe 1-x O(这里x 是小于1的可变的

分数。

5.4 固体中的杂质

金属中的杂质

自然界只由一种原子组成的纯金属是不存在的,杂质即外来原子总是有,一些以点缺陷的形式存在。事实上,即使采用相当复杂的技术,也很难把金属提纯到99.9999%以上,就是在这样高的纯度下,在一立方米材料中也含有1022-1023的杂质原子。工程上应用的大多数金属都不是高纯的,而是合金,人们有意加入一些杂质原子以改善金属的力学性质和耐腐蚀特性。例如Sterling银是含银92.5%,含铜7.5%的银合金。在通常情况下,高纯银耐腐蚀性好,但是很软。加入铜合金化以后大大改善了银的力学强度,也没有损害它的耐腐蚀性能。

杂质原子加入到金属中会导致固溶体和二次相的形成,这取决于杂质种类、它们的浓度和合金的温度。这里只讨论固溶体,新相放在第10章讨论。

一些有关杂质和固熔体的概念要说明。至于合金,通常用溶质和溶剂来表示量的关系,溶剂是大量存在的元素或化合物,溶剂原子也叫做主体原子。溶质则是以微量或少量存在的元素或化合物。

固溶体

固溶体是外来的溶质原子加入到溶剂材料中,晶体结构不变,没有新结构产生的一类物质。也许用液体溶液来说明是有助于理解。如果两种互相溶解的液体(例如水和酒精)混合,就会产生分子混合的完全均匀的一种液体。与溶液类似,固溶体中的杂质原子也随机均匀的分散在固体中。

固溶体中的杂质点缺陷有两种形式:即置换型和间隙型固溶体。置换型固溶体是杂质原子取代溶剂原子形成的(图 5.5)。溶质原子能否取代溶剂原子形成置换型固溶体具有以下规则:

1.原子大小因素

只有原子半径相近,即溶质和溶剂原子半径的差值不超过15%,才可能形成置换型固溶体,否则会产生额外的晶格缺陷或生成新相。

2.晶体结构

溶质和溶剂原子的金属晶体结构必须相同。

3.电负性

更为电负性的原子与更为电正性的原子很可能形成金属间化合物而不是置换型固溶体。

4.价态

其他因素相同,具有较高化合价的金属会溶解其他较高化合价的金属而不是较低化合价的金属。

置换型固溶体的一个典型例子是铜和镍形成的固溶体。这两种元素可以任意比例完全互溶。上面提到的规则也完全符合。铜和镍的原子半径分别为0.128和0.125nm,金属铜和镍都为面心立方结构,它们的电负性分别为1.9和1.8(图2.7);最后,铜的最常见化合价为+1(有时也可为+2),镍的化合价为+2。

间隙型固溶体杂质原子填充在主体原子的空隙中(见图 5.5)。对于金属材料具有相当高的致密度,间隙空间很小。因此间隙杂质原子的半径应比主体原子半径小。通常允许的间隙杂质原子浓度是较低的(小于10%)。即便是很小的间隙原子通常半径也大于间隙空位,因此它们会对相邻的主体原子施加晶格应力。(题5.9)

碳加入到铁当中会形成间隙型固溶体;碳的最大浓度为2%。碳的原子半径远小于铁,为0.071nm,而铁为0.124nm。

陶瓷中的杂质

象金属材料一样,杂质原子可在陶瓷材料中形成固溶体。间隙型和取代型两种固溶体都是可能的,对间隙型固溶体杂质离子的半径必须小于阴离子半径,对于置换型固溶体置换离子的电性质与被置换离子的电性质要相同,如果杂质原子是阳离子,它最可能占据阳离子空位。为了得到置换型固溶体,杂质离子的半径和电荷应与被置换的离子或空位尽量一致。例如钙和氧离子很可能分别取代钠离子和氯离子。图5.6中画出了阳离子和阴离子置换型和间隙型杂质。为了使置换型杂质原子获得一定的固溶度,离子大小和电荷应当与被置换的主体离子尽可能一致。如果杂质离子与被置换的主体离子电荷不同,晶体必须补偿这种差异以满足固体电中性的要求。正如上面讨论的,一种补偿方式是形成晶格缺陷——即上面谈到的离子型的间隙或空位。

聚合物中的点缺陷

应当注意由于聚合物的链状结构和结晶形态,聚合物中的缺陷与陶瓷和金属中的形式是不相同的。聚合物结晶区材料中的点缺陷类似于金属,包括空位和间隙原子或离子。链末端认为是一种缺陷,因为它们在化学上与单元链有所不同,空位也与链末端有关。杂质原子/离子或原子团/离子团可以作为中间杂质参与分子结构中,它们也可以主链和短支链形式进入聚合物的分子结构。

5.6成份的表示

常常有必要按照合金的元素组成表示成分(或浓度)。两种表示浓度最普通的形式是质量百分浓度和原子百分浓度。质量百分浓度(wt%)是某种金属元素的质量除以合金的总质量。如含有元素1和元素2的质量百分浓度表达式为:

(5.3)式中m1、m2分别表示两种元素的质量。元素2的浓度可以按照类似的方法计算。

原子百分浓度(at%)的计算是某种金属元素的摩尔数除以合金的总摩尔数。具有某特定质量的元素的摩尔数nm1可按下式计算:

(5.4)

式中m1’和A1分别为元素1的质量和原子量。

含有元素1和元素2的合金中元素1的原子百分浓度表达式为:

(5.5)以类似方法可以得到元素2的原子百分浓度。

原子百分浓度也可用原子数而不是摩尔数来计算,因为所有物质的每摩尔的原子数是相同的。

其他形式的缺陷

5.7 位错-线缺陷

位错是线缺陷即一维缺陷,在位错线附近原子发生错排。图5.7是一种形式的位错:一个多余的部分原子面,即半原子面,晶体内半原子面的边缘。这种位错是刃型位错;线缺陷的中心就是半原子面终端的线形区域。有时把它叫做位错线,图5.7中的刃型位错是垂直于书平面的。在位错线的附近会发生局部的晶格

变形。在图5.7位错线上部的原子受到挤压,原子键距缩短,而在下半部,受到张应力原子间距增大,当在晶体中多余了半个垂直插入的原子面导致晶面略有弯曲。离位错线越远,变形程度越小,直到恢复规则排列。有时用符号┴表示图5.7中的刃型位错,该符号也指出了位错线的位置。多余的半原子面在晶体下方也可以形成刃型位错,它的符号是┬。

另一种类型的位错叫螺型位错,它是由于受到剪切应力而形成的,如图5.8a 所示,晶体的上面靠前的区域相对下面部分滑移了一个原子距离。螺形位错也是沿图5.8b中的位错线AB产生的线缺陷。螺型位错的名称来自于位错线周围的原子是按螺旋形错排的。有时用符号?表示螺型位错。

在晶体材料中发现的大多数位错既不是纯的刃型位错,也不是纯的螺旋位错,而是两种位错的组合,也叫做混合型位错。这三种形式的位错画在图5.9中,来自两个面的晶格变形是混合形的,刃型位错和螺型位错的程度可变。

与位错有关的晶格变形的方向和大小用柏格斯矢量b来表示。图5.7和5.8分布画出了刃型位错和螺型位错的柏格斯矢量。而且、位错的性质(即刃型、螺型或混合型)是由位错线和柏格斯矢量的相对方向确定的。对于刃型位错是垂直的(图5.7),而对于螺型位错则是平行的(图5.8);对于混合型位错既不垂直也不平行。并且,晶体内的位错尽管改变方向和性质(例如从刃型变为螺型到混合型),柏格斯矢量沿着位错线所有点保持不变。例如,,图5.9中曲线型位错的所有位置具有相同的柏格斯矢量。对于金属材料,位错产生的柏格斯矢量方向在线密度最高的方向,大小等于原子间的距离。

晶体材料中的位错可以用电子显微镜观测。图5.10就是一个高放大倍数的扫描电镜照片,图中黑色的线就是位错线。

实际上所有晶体材料在固化的时候、在塑性变形时、在迅速冷却形成热应力情况下都会诱导产生位错缺陷。这些材料由于塑性变形引起的位错在第8章讨论。在聚合物材料中也观测到了位错,可是、聚合物中位错结构的性质以及聚合物塑性变形形成位错的机理仍然存在一些争论。

5.8面缺陷

面缺陷是具有二维方向的界面和能够把材料分成两种不同晶体结构、不同晶体取向的区域。面缺陷包括外表面、晶粒界、孪生晶界、堆垛层错和相界。

外表面

最明显的一种界面是沿晶体结构终端的外表面。表面原子与最近邻原子连接不服从最大原子配位数原理,因此表面原子比内部原子有较高的能量。没有得到饱和的表面原子的键能变成了表面能,它的单位以单位面积的能量表示(J/m2或erg/cm2)。为了减小表面能,材料将尽可能减小它的总表面积,例如液体会形成最小的表面积——变成球形。当然,固体材料因为比较硬,不可能变成球形。晶粒界

另一种面缺陷,即晶粒界面,在3.17节曾介绍过一个晶体分裂成两个小晶粒,或是在不同位向的多晶材料里会产生晶粒界。图5.11从原子的大小规模画出了晶粒界的形态。在晶粒界范围,约为几个原子距离大小,晶界的厚度只有3—4个原子距,晶界是取向不同的相邻晶粒之间的界面。

在相邻晶粒之间存在不同程度晶向错位是可能的(图5.11)。当这种错位如果很小,只有几度,我们称它为小(或低)角度晶界。这些晶面可以用位错排列来描述。当位错线以图5.12的形式排列是就可形成一种简单的小角度晶界。这种形式的晶界也叫倾侧边界;相邻晶粒的错排角度θ也表示在图中。当错排的

角度平行晶界的时候就会形成孪生晶界,它可以用螺型位错排列来描述。

在晶界附近的原子成键更不规则(如键角较长),因此、存在一种晶面能或上面描述的晶粒晶面能。能量的大小是错排程度的函数,大于大角度晶界的能量。由于存在晶界能,晶界化学性质比晶体内部的晶粒更活泼。而且由于晶界的高能量状态,杂质原子常常在晶界附近聚积。大颗粒即粗颗粒材料的总晶界能小于细颗粒材料的晶界能,因为前者具有较小的总表面积。在高温下的粒子长大会减小总的界面能,8.14节将介绍这一现象。

尽管沿着晶界原子发生错排和成键缺乏规则,多晶材料仍然是很强的;通过晶界的粘附力是存在的。而且多晶材料的密度实际上与同种单晶材料的密度相当。孪生晶界

孪生晶界是粒子界面的一种特殊形式,通过这一界面存在特殊的镜面对称晶格,也就是说在该界面的两边,原子的位置互为镜面对称(图5.13)。在该区域的材料界面通常称为孪生面。孪生是由施加剪切应力原子发生错排引起的(机械力孪生),也可能是在退火热处理时发生变型引起的(退火孪生)。孪生发生在特定的晶面和晶向上,两者均取决于晶体结构。退火孪生主要发生在具有面心立方结构的金属中,而机械力孪生则发生在体心和密排六方金属上。

其它形式的面缺陷

其它形式的面缺陷包括堆垛层错、相界和铁氧体磁畴壁。堆垛层错发生在面心立方金属中,当原子的面密堆积次序(节3.15)ABCABCABC――被打乱时。相界存在与多相材料中(10.3节),通过相界的时候材料的物理和化学性质会发生突然的改变。

有关聚合物材料,认为链-折叠层的表面(图4.14)以及两个相邻的结晶区的界面是面缺陷。

这一节讨论的每一种缺陷都存在界面能,它的大小取决于界面的形式以及材料的种类。通常外表面的界面能最大,磁畴壁界面能最小。

5.9块或体缺陷

体缺陷存在与所有固体材料中,比上面谈到的缺陷都大。这种缺陷包括空洞、裂纹、外来嵌镶块、和其它相等缺陷。体缺陷通常在材料的加工和制造过程中产生。其中一些缺陷和它们对材料性质的影响在后面的章节中要讨论。

5.10原子振动

固体材料中的每个原子都会在它的晶格位置附近作不停的迅速运动。从感觉上这种振动也可以认为是一种缺陷形式。任何时间,并非所有的原子都做同样频率、同样大小和同等能量的振动。在给定的温度下,存在原子振动的平均能量分布。任何特定的原子的振动能量将随时间而作随机的改变。随温度增加,平均能量也增加,事实上固体的温度是原子和分子平均振动能的量度。室温下,原子振动频率大致为每秒1013,而振动距离是几千分之一纳米。

固体中的许多性质和过程是固体中原子的振动运动的表现。例如,当原子的振动大到足以破坏大量的原子键的时候,固体就会融化。{17章将要详细讨论原子振动及它对材料性质的影响。}

显微测量

5.11概述

有必要检验影响材料性质的材料结构要素和缺陷。有些结构要素具有宏观尺度,大到足以用肉眼看到。例如、多晶材料的形状、大小即平均粒径是重要的结构参数。在铝制的街灯柱和垃圾箱上铝的宏观颗粒清晰可见。在图5.14中铅锭

的截面图表面可以清晰看到相对较大的不同组织的颗粒。可是、在大多数材料中,材料中的颗粒具有微观尺度,即粒径为微米数量级。其细节必须借助某种显微镜才能观测。粒径和形状仅仅是微结构特征中的两个。另外的结构要素将在以后的章节中讨论。

光学、电子和扫描探针显微镜常被用于显微分析中。这些仪器有助于研究所有材料的微结构特征。这些仪器有些与图像分析设备相连,构成图像微结构分析技术。此外、一些微结构图像还可以用计算机处理和放大。

在材料的研究和分析中微观检测是极其有用的工具。微结构分析的几种重要的应用如下:了解材料的性质与结构(或缺陷)之间的关系,一旦建立材料的结构与性质的关系预测材料的性质,设计具有新的组合性质的合金材料,确定材料是否应当进行必要的热处理,查明材料力学断裂的方式。

5.12显微技术(CD-ROM)

5.13晶粒度测定

当考虑多晶材料的性质的时候经常要测量材料的粒径。测量粒径有许多种技术,粒径的表示方法也有平均体积粒径、平均直径和平均面积粒径。粒径可以用下面描述的截距法估计。在光学显微图片上画出所有同样长度的直线,数出每条直线与晶界相交时截取的线段数,以及量出其线长,算出平均值。平均粒径是由显微图片上晶界分割线段数的多少而决定的。

也许最常用的是美国试验及材料学会(简称ASTM)修订的晶粒测试方法。ASTM已经制备了几种具有不同平均粒径的标准比较图。每个图用数字表示,从1到10代表晶粒粒径级别(或晶粒度号数),数值越大,晶粒越小。样品必须制成可以识别晶粒结构的放大100倍的图片。然后与标准图进行比较,用最接近标准图的晶粒度号数来表示样品的粒径。因此、相对简单和方便的直观测量晶粒度号数是可能的。晶粒度号数广泛用于各种钢材的说明书中。

各种晶粒度号数图的基本原理如下。用n表示晶粒度号数,N为放大100倍的显微镜下1ft2(645.16mm2)内的平均晶粒数,两个参数服从以下表达式:

N=2n-1 (5.16)

本章总结

所有固体材料都存在大量的缺陷,即偏离完整晶体的结构形式。缺陷的几种形式可以按照它们的几何形状和大小进行分类。点缺陷的大小为一两个原子距离,包括空位(空的空间格子),自间隙(主体原子占据间隙位置)和杂质原子。

至于陶瓷中的原子点缺陷类型,对每种阳离子或阴离子间隙型和空位型都可能发生。这些缺陷常以肖特基和弗兰克尔缺陷成对出现,以确保材料的电中性。

当杂质原子加入到固体中时可以形成固溶体,这时原来的晶体结构不发生变化,没有新相生成。对于置换型固溶体,杂质原子取代主体原子的位置,只有当杂质原子与主体原子的原子半径、电负性差不多以及两种元素具有相同的晶体结构和价态时才会有相当的溶解度。间隙固溶体则是由相对较小的杂质原子进入主体原子的原子间的间隙位置形成的。

对于陶瓷材料,杂质原子的加入可以生成置换型和间隙型固溶体。由于杂质原子的加入引起的任何电荷不平衡,可以通过主相原子产生的空位和间隙得到补偿。

合金的成分可以按照重量百分浓度或原子百分浓度来表示。重量百分浓度是每种合金成分的重量除以合金的总重量得到的。原子百分浓度是每种组分的摩尔数除以合金中所有元素的总摩尔数得到的。

位错是一维晶体缺陷形式,有两种纯的线缺陷,一种是刃型位错,另一种是螺型位错。刃型位错可认为是沿着一个额外的半原子面的边沿的一种晶格缺陷。而螺型位错则是沿着一螺线型通道的一种晶格缺陷。混合型位错是纯的刃型位错和螺型位错组合。与位错有关的晶格缺陷的大小和方向可以用伯格斯矢量说明。伯格斯矢量和位错线的方向分别是:对于刃型位错垂直于位错线,对于螺型位错,平行于位错线。对混合型位错,既不平行也不垂直。

其他缺陷包括面缺陷(外表面,晶界(小角度和大角度晶界),孪生晶界等),体缺陷(裂纹、孔洞等),和原子振动。每种缺陷形式对材料的性质都会带来影响。

材料的许多重要缺陷和结构尺寸很小,只有通过显微镜才能看到。通常结合光学图像设备,光学和电子显微镜都要用到。对显微镜而言有透射和反射两种形式;采用什么手段观测样品取决于待测样品的性质和缺陷的结构大小。

多晶材料的粒度通常采用显微测量技术测定。常采用两种方法,一种是截面法,一种是标准图谱比较法。

第6章扩散

为什么要学习扩散

所有类型的材料通常要经过热处理来改善它们的性质。发生在热处理中的现象总是要涉及到扩散。通常需要增加扩散速度,偶尔也需要减少扩散速度。热处理温度和时间,以及冷却速度可以通过扩散数学和相应的扩散常数来预测。这一页显示的钢齿轮就是硬化的例子(9.14节);也就是通过在钢的外表面层扩散过量的碳或氮可以大大提高钢的硬度和抗断裂的能力。

学过这一章后,你应当掌握以下内容:

1.命名和描述固体材料中扩散的两种原子机制。

2.稳态扩散和非稳态扩散的的区别。

3.(a)写出菲克第一和第二定律的数学表达式和式中各参数的定义。

(b)注意每个方程适用于那种扩散类型。

4.写出菲克第二定律在半无限远固体中(即扩散物质在表面的浓度为常数)解的

形式,式中各参数的定义。

5.已知一些扩散常数,计算某些材料在特定温度下的扩散系数,

6.注意金属和离子型固体材料扩散机理的不同。

6.1引言

在处理材料的许多反应和过程中常常十分有赖于物质的传质,即固体中的传质(通常在微观尺度),或来自液体、气体、以及其他固体相材料的物质传递。扩散是材料中原子的运动引起的物质迁移的现象。本章将讨论扩散的原子机理,即扩散机制,以及温度和扩散条件对扩散速度的影响。

扩散现象可以用扩散偶来说明,扩散偶是用两根不同的金属棒的两个端面紧密联结在一起形成的。如图5.1所示是金属铜和镍形成的扩散偶,其中也画出了原子的位置和通过界面的成分。扩散偶被加热到一很高温度保温一段时间(温度低于两种金属的熔点),然后冷却到室温。样品的化学分析结果如图5.2所示,即在两个端头是纯铜和纯镍,被中间的合金区分开,两种金属的浓度与位置的关系如图5.2c所示。该结果指出铜原子已经迁移或扩散到了金属镍中,镍也扩散到了金属铜中。象这种由一种金属原子扩散到另一种金属原子中去的过程叫做互扩散,或杂质扩散。

互扩散可以通过显微成分分析不同时间浓度的变化进行观测,正如铜-镍扩散

偶的例子。原子从高浓度向低浓度有一个净的迁移。扩散现象也可发生在纯金属中,只是这时交换位置的原子都是同类型原子;这种扩散叫做自扩散。当然,自扩散观察不到金属浓度的变化。

6.2扩散机理

从原子的尺度看,扩散是原子从一个晶格位置到另一个晶格位置的过程。事实上,固体材料中的原子处在不停的运动之中,并迅速的改变位置。原子要发生移动必须满足两个条件:(1)邻近需有空位,(2)原子必须有足够的能量挣断与邻近原子形成的键,并且由于位置变化引起周围的晶格变形。这种能量是原子振动能(5.10节)。在特定的温度下,一部分原子会产生扩散运动,由于获得较大的振动能。随着温度增加,产生扩散运动的原子所占分数增加。

迄今为止已经提出多种原子运动扩散的模型,但是对于金属材料的扩散,两种机制起主要作用。

空位扩散

一种机理涉及原子从正常的晶格位置移向邻近空位,如图 6.3(a)所示。这种扩散机制称为空位机制。实现空位机制的条件是:扩散原子的近邻应当有空位,在高温下,金属内部存在大量空位(5.2)。由于扩散原子与空位交换位置,原子运动的方向与空位运动的方向相反。自扩散和互扩散都可以以这种形式发生,对于后者,杂质原子必须取代主体原子。

间隙扩散

第二种扩散机理涉及原子从间隙位置移向邻近的间隙空位。这种机制在杂质的互扩散中发现,如碳、氢、氮、氧的扩散,原子必须很小以能够进入间隙中去。主体和置换型杂质原子不能形成间隙间的扩散。 这种扩散叫做间隙扩散(图

6.3b )。

在大多数金属合金中,间隙扩散比空位扩散更快,因为间隙原子更小,更容易移动。而且、间隙浓度远高于空位浓度,因此、间隙原子运动的概率大于空位扩散。

6.3 稳态扩散

从宏观上看,扩散是与时间有关的,即原子从一个位置迁移到另一个位置是时间的函数。常常有必要知道扩散速度的大小。这种传质速度通常以扩散通量(J )表示, 扩散通量的定义为单位时间物质通过固体单位截面积的量。数学表达式为:

(6.1a )

这里A 为扩散通过的横截面积,t 为扩散时间。它的微分表达形式是

(6.1b )

J 的常用单位是kg /m 2s 或原子/m 2s 。

如果扩散通量不随时间变化,则稳态扩散条件成立。稳态扩散的一个普通实例是气体原子通过一块金属片的扩散,金属片两个表面保持一定的扩散物质浓度(或压力)。这种情况如图6.4a 所示。

当用浓度C 和固体内的位置x (或距离)作图,得到的曲线就是浓度分布曲线;在曲线上特定点的斜率就是浓度梯度: 浓度梯度=dx

dC (6.2a )

在该情况下,浓度分布曲线是线性的,如图6.4b 所示,即:

浓度梯度=B

A B A x x C C x C --=?? (6.2b ) 有时按照单位体积扩散的质量即浓度来表示扩散是更方便的。

在x 一维方向的稳态扩散数学是比较简单的,因为扩散通量与浓度梯度成正比, 即: dx

dC D J -= (6.3)

式中,比例常数D 称为扩散系数,单位为m 2/s 。负号是表示扩散方向与浓度降低的方向一致,浓度从高到低。方程6.3有时被称作菲克第一定律。 有时要用到迫使反应发生的驱动力这个词。对于扩散反应,几种驱动力是可能的;但是、当扩散服从方程6.3时,驱动力就是浓度梯度。

稳态扩散的一个实际例子是氢气的净化。薄的金属钯片的一边是不纯的气体,由含有氮气、氧气和水蒸气等其他气体的氢气组成。氢气能够选择性的扩散通过钯片到钯片的另一边,另一边则维持恒定的和较低的氢气压力。

例6.1

6.4非稳态扩散

实际上大多数扩散都属于非稳态扩散。也就是说,在固体中某一特定点的浓度梯度和扩散通量随时间而变,扩散会产生净的累积和耗空现象。图6.5是三个不同时间扩散距离与扩散样品浓度的关系。当扩散处于非稳态,即各点的浓度随时间而改变时,公式( 6.3 )不再有效;此时要用到菲克第二定律的偏微分方程:

(6.4a )

如果扩散系数与组分无关(对于每个特定的位置应该是改变的),方程 6.4a 可以简化为:

(6.4b )

解这个方程(就是求出浓度与位置和时间的关系式)当具有物理意义的边界条件确定后是完全可能的。一个实际重要的解是半无限固体,表面浓度为常数。通常扩散样品源是气相,它的分压维持不变。还有以下假设:

1)扩散前在固体中的溶质原子均匀分布,具有浓度值Co 。

2)表面x 值为零,距离随进入固体的多少而增加。

3)扩散开始时的时间为零。

这些边界条件可以简单表示为:

对于t=0,C=C 。在 0≤x ≤∞

对于t>0,C=Cs (表面浓度一定)在 x=0 处

C=C 。在x=∞

应用这些边界条件,方程6.4b 可以产生解: (6.5)

式中Cx 表示时间为t,距离为x 时的浓度。表达式)2/(Dt x erf 是高斯误差函数,它的值与Dt x 2/的关系以数学表格的方式给出,部分值列在表6.1中。在方程6.5中出现的浓度值在特定时间与扩散距离的关系画在图6.6中。于是,方程6.5证明了浓度、位置和时间的关系,既Cx 是无因次变量Dt x 2/的函数,如果已知Co,Cs,D 就可以确定任何时间任何位置时的Cx 值。

假定在合金中存在一特定的浓度C1,方程6.5的左边可以表示为:

=--0

01C C C C s 常数 在这种情况下方程的右边同样是常数,因此:式6.6a 和6.6b 成立。

一些扩散计算是根据这种关系得到的,正如例题6.3证明的那样。

6.5影响扩散的因素

扩散系数D 的大小是原子扩散速度的量度,对于几种金属的自扩散和互扩散系数值列于表 6.2。扩散样品和主体元素都会影响扩散系数。例如,500℃时,碳和铁在α-Fe 中的扩散,自扩散和互扩散系数大为不同,前者D 为3.0*10-21,后者为2.4*10-12,远大于前者。这也提供了前面讨论的空位模型和间隙模型的对比差异。自扩散通过空位扩散机理进行,而碳在铁中的扩散服从间隙机理。

扩散速度和方向受诸多因素影响。由D=D o e -Q /RT 可知,凡对D 有影响的因素

都影响扩散过程。现择主要的分析如下。

温度

温度对扩散系数和扩散速度有最大的影响。例如、铁在α-铁中的自扩散,温度从500℃升到900℃(表6.2),扩散系数增加了6个数量级(从3.0×10-21到1.8×10-15 m 2/s )。扩散系数D 与温度T 的关系都服从下式:

(6.8)

式中Do 是与温度无关的常数(m 2/s );Qd 是扩散活化能(J/mol, cal/mol, 或 eV/atom );R 是气体常数(8.31 J/mol-K, 1.987 cal/mol-K, 或 8.62×10-5 eV/atom-K );T 是绝对温度(K )。

活化能是每摩尔原子扩散运动所需要的能量。大的扩散活化能导致相对较小的扩散系数。表6.2也列出了一些体系的Do 和Qd 值。

如果把方程6.8取自然对数,即:

(6.9a )

或取常用对数: (6.9b) 因为Do 、Qd 和R 都是常数,方程6.9b 可以化为直线形式:

y=b+mx

这里y 和x 分别代表变量logD 和1/T 。因此、如果用logD 和绝对温度的倒数作图,就可得到一条直线,直线的斜率和截距分别是-Qd /2.3R 和 log D 0。事实上,

Do、Qd可以通过实验测定。从几种合金的这种关系图(图6.7),可以看出它们都符合这种线性关系。

6.6 其他扩散途径

原子迁移实际上还可以沿着位错、晶粒界和外表面进行。有时把这些扩散叫做“短路扩散”,因为它们比前面讲的体扩散要快得多。可是、在大多数情况下,短路扩散在整个扩散通量中所占的份额是很小的,因为这些通道的截面是极小的。

6.7 在离子和聚合物材料中的扩散

现在我们来推断一下在离子和聚合物中扩散的原理。

离子材料

对于离子型化合物扩散的情况比金属更复杂,因为必须考虑带有两种相反电荷的离子的扩散运动。这些材料中的扩散通常按照空位扩散机理进行(图6.3a)。正如在5.3节中已经注意到,为了维持离子材料的电中性,离子空位具有以下方式:(1)离子空位成对出现(图5.3中的肖特基缺陷);(2)形成非计量化合物(图5.4);(3)具有不同电荷的杂质离子取代本体原子形成空位(例5.2)。在任何情况下、单个离子的扩散运动都与电荷的运动有关。为了使运动离子的附近的局部电中性要求,必须伴随有一个等量的带相反电荷样品的扩散运动出现。带这种电荷的样品可以是空位、杂质离子和电子载流子(自由电子或空穴(12.6节))。这些带电样品的扩散速度受到移动最慢的样品扩散的限制。

当在离子固体外部施加一个电场的时候,带电离子的运动(或扩散)受到电场力的影响。如12.15节所讨论的,离子扩散速度随电流增加而加快。而且,导电率是扩散系数的函数(方程12.26)。因此、离子型固体的许多扩散数据来自电导率的测量。

聚合物材料

对于聚合物材料,我们更感兴趣的是外来分子(如氧、水、二氧化碳、甲烷)在分子之间的扩散运动。聚合物的渗透性和吸附性与外来物质扩散进入聚合物的程度有关。外来物质的进入会导致聚合物的溶胀和与聚合物化学反应的发生,也会导致材料的力学和物理性质的恶化。

聚合物中的扩散速度在无定型区比结晶区更快,由于在无定型区,材料的结构更“松散”。聚合物中的扩散机理类似于金属中的间隙扩散机理,即在聚合物中,扩散运动从一个开放的无定型区走向另一个开放的无定型区。

外来的分子大小也会影响扩散速度;分子越小扩散速度越快。而且,那些化学惰性的分子比化学性质活泼(可能与聚合物发生反应)的分子扩散速度更快。

对于某些应用而言,期望物质通过聚合物的扩散速度较慢,因为聚合物材料常被用作食品、饮料包装袋和汽车的内外轮胎。聚合物膜材料常被用作过滤用的隔膜材料和选择性的分离某些化学物质的材料(例如水的脱盐)。在这种情况下,通常过滤去掉的物质的扩散速度远大于其他物质的扩散速度。

本章总结

固态扩散是原子在固体材料中迁移传质的一种方式。自扩散是主体原子之间发生的迁移,而互扩散是杂质原子与主体原子发生相对位移的一种传质方式。空位和间隙扩散两种机理都可能存在。对于给定的金属,一般间隙原子的扩散速度更快。

对于稳态扩散,扩散样品的浓度分布曲线与时间无关,扩散通量即扩散速度与浓度梯度的负值成正比,服从菲克第一定律。非稳态扩散可以用菲克第二定律偏微分方程描述。它的数值解要用到边界条件和高斯误差函数。

扩散系数的大小反映了原子运动速度的高低,受温度影响极大,随着温度升高成指数增加。

离子材料中的扩散按照空位扩散机理,由于成对的带电空位和带电单元同时进行扩散运动,材料中局部电中性得以维持。在聚合物中,外来的小分子在聚合物链之间的扩散服从间隙扩散机理,分子从一个无定型区走向相邻的另一个无定型区。

晶体缺陷习题与答案

晶体缺陷习题与答案 1 解释以下基本概念 肖脱基空位、弗仑克尔空位、刃型位错、螺型位错、混合位错、柏氏矢量、位错密度、位错的滑移、位错的攀移、弗兰克—瑞德源、派—纳力、单位位错、不全位错、堆垛层错、汤普森四面体、位错反应、扩展位错、表面能、界面能、对称倾侧晶界、重合位置点阵、共格界面、失配度、非共格界面、内吸附。 2 指出图中各段位错的性质,并说明刃型位错部分的多余半原子面。 3 如图,某晶体的滑移面上有一柏氏矢量为b 的位错环,并受到一均匀切应力τ。(1)分析该位错环各段位错的结构类型。(2)求各段位错线所受的力的大小及方向。(3)在τ的作用下,该位错环将如何运动?(4)在τ的作用下,若使此位错环在晶体中稳定不动,其最小半径应为多大? 4 面心立方晶体中,在(111)面上的单位位错]101[2a b =,在(111)面上分解为两个肖克莱不全位错,请写出该位错反应,并证明所形成的扩展位错的宽度由下式给出πγ242Gb s d ≈ (G 切变 模量,γ层错能)。 5 已知单位位错]011[2a 能与肖克莱不全位错]112[6 a 相结合形成弗兰克不全位错,试说明:(1)新生成的弗兰克不全位错的柏氏矢量。(2)判定此位错反应能否进行?(3)这个位错为什么称固定位错? 6 判定下列位错反应能否进行?若能进行,试在晶胞上作出矢量图。 (1)]001[]111[]111[2 2a a a →+ (2)]211[]112[]110[662a a a +→ (3)]111[]111[]112[263a a a →+ 7 试分析在(111)面上运动的柏氏矢量为]101[2a b =的螺位错受阻时,能否通过交滑移转移

固体物理中的晶体缺陷讲解

固体物理中的晶体缺陷 学院:化学化工与生物工程学院 班级:生物1301 学号: 131030114 姓名:李丹丹

固体物理中的晶体缺陷 1.国内外进展及研究意义 1.1 国内外对晶体缺陷的研究现状和发展动态 19世纪中叶布拉非发展了空间点阵,概括了点阵周期性的特征,1912年劳厄的晶体X 射线衍射实验成功后,证实了晶体中原子作规则排列,从理想晶体结构出发,人们发展了离子晶体的点阵理论和金属的电子理论,成功的计算了离子晶体的结合能,对于金属晶体的原子键能也有了初步了了解,并很好的解释了金属的电学性质。随后人们又认识到了晶体中原子并非静止排列,它在晶体中的平衡阵点位置作震动,甚至在绝对零度也不是凝固不动的,即还有所谓零点能的作用,从这个理论出发建立了点阵震动理论,从而建立了固体的比热理论。在20世纪20年代以后人们就发现晶体的许多性质很难用理想晶体结构来解释,提出晶体中有许多原子可能偏离规则排列,即存在有缺陷,并企图用此来解释许多用理想晶体结构无法解释的晶体性质。W.Schottky为了解释离子晶体的电介电导率问题,提出在晶体中可能由于热起伏而产生填隙离子和空位,而且发现食盐的电介导电率与这些缺陷的数目有关。随后为了解决晶体屈服强度的实验数据值与理论估计之间的巨大差别,又引进了位错这一晶体缺陷。今年来人们对晶体中各种缺陷有了更深刻的认识,建立了晶体缺陷理论。 理想晶体在实际中并不存在。实际晶体或多或少存在各种杂质和缺陷。国内外学者通过使用显微镜的对物质性能与缺陷的关系研究得相当多,也在一定意义上取得了可喜的进展。 1.2 晶体缺陷的研究意义 在晶体的生长及形成过程中,由于温度、压力、介质组分浓度等外界环境中各种复杂因素变化及质点热运动或受应力作用等其他条件的不同程度的影响会使粒子的排列并不完整和规则,可能存在空位、间隙粒子、位错、镶嵌结构等而偏离完整周期性点阵结构,形成偏离理想晶体结构的区域,我们称这样的区域为晶体缺陷,它们可以在晶格内迁移,以至消失,同时也可产生新的晶体缺陷。本文就晶体中所存在的各类缺陷做了详细说明,并且重点介绍了各类缺陷的成因及其特征。 偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,在晶体中缺陷并不是静止地、稳定不变地存在着,而是随着各种条件的改变而不断变动的。它们可以产生、发展、运动和交互

二晶体结构缺陷

1、说明下列符号的含义: V Na,V Na’,V Cl?,.(V Na’V Cl?),CaK?,CaCa,Cai?? 2、写出下列缺陷反应式: (1)NaCl溶入CaCl2中形成空位型固溶体; (2)CaCl2溶人NaC1中形成空位型固溶体; (3)NaCl形成肖脱基缺陷; (4)AgI形成弗仑克尔缺陷(Ag+进入间隙)。 3、MgO的密度是3.58克/厘米3,其晶格参数是0.42nm,计算单位晶胞MgO的肖脱基缺陷数。 4、(a)MgO晶体中,肖脱基缺陷的生成能为6eV,计算在25℃和1600℃时热缺陷的浓度。 (b)如果MgO晶体中,含有百万分之一摩尔的A12O3杂质,则在1600℃时,MgO晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势,说明原因。 5、MgO晶体的肖特基缺陷生成能为84kJ/mol,计算该晶体在1000K和1500K的缺陷浓度。 6、非化学计量化合物FexO中,Fe3+/Fe2+=0.1,求Fe x O中的空位浓度及x值。 7、非化学计量缺陷的浓度与周围气氛的性质、压力大小相关,如果增大周围氧气的分压,非化学计量化合物Fe1-X O及Zn1+X O的密度将发生怎么样的变化?增大还是减小?为什么? 8、对于刃位错和螺位错,区别其位错线方向、柏氏矢量和位错运动方向的特点。 9、图2.1是晶体二维图形,内含有一个正刃位错和一个负刃位错。 (a)围绕两个位错柏格斯回路,最后得柏格斯矢量若干? (b)围绕每个位错分别作柏氏回路,其结果又怎样? 10、有两个相同符号的刃位错,在同一滑移面上相遇,它们将是排斥还是吸引? 11、晶界对位错的运动将发生怎么样的影响?能预计吗? 12、晶界有小角度晶界与大角度晶界之分,大角度晶界能用位错的阵列来描述吗? 13、试述影响置换型固溶体的固溶度的条件。

材料科学基础-晶体缺陷

材料科学基础-晶体缺陷 (总分:430.00,做题时间:90分钟) 一、论述题(总题数:43,分数:430.00) 1.设Cu中空位周围原子的振动频率为1013S-1,△E v为0.15×10-18J,exp(△S m/k)约为1,试计算在700K和室温(27℃)时空位的迁移频率。 (分数:10.00) __________________________________________________________________________________________ 正确答案:(空位的迁移频率 [*] [*]) 解析: 2.Nb的晶体结构为bcc,其晶格常数为0.3294nm,密度为8.57g/cm3,试求每106Nb中所含的空位数目。 (分数:10.00) __________________________________________________________________________________________ 正确答案:(设空位之粒子数分数为x, [*] 106×7.1766×10-3=7176.6(个) 所以,106个Nb中有7176.6个空位。) 解析: 3.Pt的晶体结构为fcc,其晶格常数为0.3923nm,密度为21.45g/cm3,试计算其空位粒子数分数。 (分数:10.00) __________________________________________________________________________________________ 正确答案:(设空位所占粒子数分数为x, [*]) 解析: 4.若fcc的Cu中每500个原子会失去1个,其晶格常数为0.3615nm,试求Cu的密度。 (分数:10.00) __________________________________________________________________________________________ 正确答案:( [*]) 解析: 5.由于H原子可填入α-Fe的间隙位置,若每200个铁原子伴随着1个H原子,试求α-Fe理论的和实际的密度与致密度(已知α-Fe的a=0.286nm,r Fe=0.1241nm,r H=0.036nm)。 (分数:10.00) __________________________________________________________________________________________ 正确答案:( [*])

第二章 晶体结构与晶体缺陷

2-1 (a )MgO 具有NaCl 结构。根据O 2-半径为0.140nm 和Mg 2+半径为0.072nm ,计算球状离子所占有的空间分数(堆积系数)。 (b )计算MgO 的密度。 解:(a )MgO 具有NaCl 型结构,即属面心立方,每个晶胞中含有4个Mg 2+和4个O 2-,故Mg 所占有体积为: 2233MgO Mg O 334 4()34 4(0.0720.140) 3 0.0522nm V R R ππ+- ?+?+=== 因为Mg 2+和O 2-离子在面心立方的棱边上接触: 22Mg O 2()20.0720.1400.424nm a R R +-++==()=() 堆积系数=%=)(=5.68424.00522 .033 MgO a V (b ) 37233 )10424.0(1002.6) 0.163.24(4·0MgO -???+?= = a N M n D =3.51g/cm 3 2-2 Si 和Al 原子的相对质量非常接近(分别为28.09和26.98),但SiO 2和Al 2O 3的密度相差很大(分别为2.65g/cm 3和3.96g/cm 3)。试计算SiO 2和Al 2O 3的堆积密度,并用晶体结构及鲍林规则说明密度相差大的原因。 解: 首先计算SiO 2堆积系数。每cm 3中含SiO 2分子数为: 3223 22343223 2322223 2.65SiO /cm 2.6410/cm (28.0932.0)/(6.0310) Si /cm 2.6410/cm O /cm 2.64102 5.2810/cm +-?+?????= =个=个==个 每cm 3 中Si 4+ 和O 2- 所占体积为: 2-32273 Si432273 O 4 /cm 2.6410(0.02610)3 0.001954 /cm 5.2810(0.13810)3 0.5809V V ππ-+-????????==== Si 2O 3晶体中离子堆积系数=000195+0.5809=0.5829或58.29% Al 2O 3堆积系数计算如下:

第一章 晶体结构缺陷习题及解答

第一章 晶体结构缺陷习题与解答 1.1 名词解释(a )弗伦克尔缺陷与肖特基缺陷;(b )刃型位错和螺型位错 解:(a )当晶体热振动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的 间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗伦克尔缺陷。如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。(b )滑移方向与位错线垂直的位错称为刃型位错。位错线与滑移方向相互平行的位错称为螺型位错。 1.2试述晶体结构中点缺陷的类型。以通用的表示法写出晶体中各种点缺陷的表示符号。试举例写出CaCl 2中Ca 2+置换KCl 中K +或进入到KCl 间隙中去的两种点缺陷反应表示式。 解:晶体结构中的点缺陷类型共分:间隙原子、空位和杂质原子等三种。在MX 晶体中,间隙原子的表示符号为M I 或X I ;空位缺陷的表示符号为:V M 或V X 。如果进入MX 晶体的杂质原子是A ,则其表示符号可写成:A M 或A X (取代式)以及A i (间隙式)。 当CaCl 2中Ca 2+置换KCl 中K +而出现点缺陷,其缺陷反应式如下: CaCl 2?→?KCl ?K Ca +' k V +2Cl Cl CaCl 2中Ca 2+进入到KCl 间隙中而形成点缺陷的反应式为: CaCl 2?→?KCl ??i Ca +2'k V +2Cl Cl 1.3在缺陷反应方程式中,所谓位置平衡、电中性、质量平衡是指什么? 解:位置平衡是指在化合物M a X b 中,M 格点数与X 格点数保持正确的比例 关系,即M :X=a :b 。电中性是指在方程式两边应具有相同的有效电荷。质量平衡是指方程式两边应保持物质质量的守恒。 1.4(a )在MgO 晶体中,肖特基缺陷的生成能为6ev ,计算在25℃和1600℃时热缺陷的浓度。 (b )如果MgO 晶体中,含有百万分之一mol 的Al 2O 3杂质,则在1600℃时,MgO 晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势?说明原因。 解:(a )根据热缺陷浓度公式: =N n exp (- kT 2G ?) 由题意 △G=6ev=6×1.602×10-19=9.612×10-19J K=1.38×10-23 J/K T 1=25+273=298K T 2=1600+273=1873K 298K : =N n exp ??? ? ??????---2981038.1210612.92319=1.92×10-51

第一章 晶体结构与晶体中的缺陷

第一章晶体结构与晶体中的缺陷 一、名词解释 1.正尖晶石与反尖晶石;2.弗伦克尔缺陷与肖特基缺陷; 3.刃位错与螺位错;4.固溶体;5.非化学计量化合物: 二、填空与选择 2.在硅酸盐结构分类中,下列矿物Ca[Al2Si2O8];CaMg[Si2O6];β-Ca2SiO4和Mg3[Si4O10](OH)2,分别属于;;;和四类。 3.在负离子作立方密堆的晶体中,为获得稳定的晶体结构,正离子将所有八面体空隙位置填满的晶体有,所有四面体空隙均填满的晶体有,填满一半八面体空隙的晶体有,填满一半四面体空隙的晶体有。 4.在尖晶石(MgAl2O4)型晶体中,O2-作面心立方最紧密堆积,Mg2+填入了;金红石晶体中,所有O2-作稍有变形的六方密堆,Ti4+填充了。(A全部四面体空隙;B 全部八面体空隙;C四面体空隙的半数;D八面体空隙的半数;E四面体空隙的八分之一;F八面体空隙的八分之一) 5.构成层状硅酸盐的[Si2O5]片中的Si4+,通常被一定数量的Al3+所取代,为满足鲍林第二规则(静电价规则),在层状结构中结合有(OH)-离子和各种二价正离子或三价正离子。这种以Al3+取代Si4+的现象,称为。( A同质多晶(同质多象);B类质同晶;C有序-无序转化;D同晶置换(同晶取代)) 6.高岭石与蒙脱石属于层状硅酸盐结构,前者的结构特征是,后者的结构特征是。(A二层型三八面体结构;B三层型三八面体结构;C二层型二八面体结构;D 三层型二八面体结构) 7.在石英的相变中,属于重建型相变的是,属于位移式相变的是。(A α-石英→α-鳞石英;B α-石英→β-石英;C α-鳞石英→α-方石英;D α方石英→β-方石英) 8.晶体结构中的热缺陷有和二类。 9.CaO掺杂到ZrO2中,其中置换了。由于电中性的要求,在上述置换同时产生一个空位。以上置换过程可用方程式表示。10.由于的结果,必然会在晶体结构中产生"组分缺陷",组分缺陷的浓度主要取决于:和。 11.晶体线缺陷中,位错线与和垂直的是位错;位错线与二者平行的是位错。

第5章固体中的缺陷 《材料科学与工程基础》

第5章固体中的缺陷 为什么要学习固体中的缺陷 某些材料的性质受到存在于材料中的缺陷的极大影响。因此、知道存在于材料中缺陷的类型,以及它们在影响材料性质中的作用是很重要的。例如、纯金属的力学性质经过合金化以后(即加入杂质原子)会发生很大变化——例如、标准银合金(含银92.5%,含铜7.5%)比纯银更硬更强(8.10节)。 而且,在我们的计算机、计算器和家用功能的集成微电子设备是通过在半导体材料上引入高度可控的杂质浓度和定域化掺杂获得的(12.11节)。 学过这一章后,你应当掌握以下内容: 1. 描述空位和自间隙晶体缺陷。 2. 已知相关常数,计算某特定温度下材料中的平衡空位数。 3. 两种类型的固溶体的书面定义和图示表达。 4. 陶瓷化合物中几种不同的点缺陷。 5. 已知合金中组元的质量和原子量,计算每种元素的质量百分浓度和原子百分浓度。 6. 对于刃型、螺型和混合型位错中的每一种: (a ) 描述和画出位错; (b ) 注意位错线的位置; (c ) 指出位错线延伸的方向。 7. 描述(a )晶界和(b )孪生晶界附近的原子结构 5.1 引言 对于晶体固体材料,我们默认在材料内部原子级水平上排列完全有序。然而这种理想固体是不存在的;所有固体都存在大量的各种缺陷。事实上材料的许多性质都很深地受到材料中缺陷程度的影响;这种影响不总是有害的,人们常常通过有意识的引入缺陷和控制缺陷的量来获得特殊性质的材料,详细情况在下面的章节中要介绍。 “晶体缺陷”意味着在原子大小范围晶格不规则。晶体缺陷的分类通常按照缺陷区的几何形状和大小。这一章要讨论几种不同的缺陷,包括点缺陷(尺寸与一两个原子大小相近),线缺陷(一维缺陷),以及面缺陷,即界面,是二维缺陷。也要讨论如果在某一方向上缺陷区的尺寸可以与晶体或晶粒的线度相比拟,而在其它方向上的尺寸相对于晶体或晶粒线度可以忽略不计,那么这种缺陷就称为线缺陷或位错,这是本章要着重讨论的缺陷… (3)面缺陷如果在共面的各方向上缺陷区的尺寸可与晶体或晶粒的线度相比固体中的杂质,因为杂质原子也可能以点缺陷的形式存在。{最后,简要叙述显微测量缺陷的技术和材料的结构。} 点缺陷 5.2 金属中的点缺陷 最简单的点缺陷是空位,即空的晶格位。通常在一个原子原来占据的地方变成了空位(图 5.1)。所有晶体固体都含有空位,事实上,不可能阻止材料中没有空位这种缺陷。空位存在的必然性可以用热力学原理来解释;实质上、空位的存在增加了晶体中的熵(无序性)。 一定量的材料中的平衡空位数Nv 随温度而增加,具有如下关系: )exp(kT Q N N v v -= (5.1)

浅谈晶体缺陷及其应用

浅谈晶体缺陷及其应用 1103011036 周康粉体一班 摘要:晶体缺陷对晶体的力学性能既有有利的方面,也有不利的方面。少量晶体缺陷对于晶体的物理性能能够产生重要影响,所以可以根据不同的晶体缺陷,开发利用其产生的影响,充分发挥可能产生的作用,研究并制备具有不同性能的材料,以适应人们不同的实际需要和时代的发展需求。 关键词:晶体缺陷; 性能; 铁磁性; 电阻; 半导体材料;杂质 引言:在讨论晶体结构时,我们认为晶体的结构是三维空间周期有序的,其部质点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具有重要的理论研究意义和实际应用价值。所有的天然和人工晶体都不是理想的完整晶体,它们的许多性质往往并不决定于原子的规则排列,而决定于不规则排列的晶体缺陷。 晶体缺陷对晶体生长、晶体的力学性能、电学性能、磁学性能和光学性能等均有着极大影响,在生产上和科研中都非常重要,是固体物理、固体化学、材料科学等领域的重要基础容。研究晶体缺陷因此具有了尤其重要的意义。本文着重对晶体缺陷及其对晶体的影响和应用进行阐述。 1.晶体缺陷的定义和分类 1.1 晶体缺陷的定义 在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置上,也就是平衡位置上。1926 年弗仑克尔l首先指出,在任一温度

下,实际晶体的原子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷. 1.2 晶体缺陷的分类 1.2.1、按缺陷的几何形态分类可分为四类:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷。 1.点缺陷(零维缺陷):缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,即三维方向上缺陷的尺寸都很小。包括:空位(vacancy)、间隙原子(interstitial particle)、异类原子(foreign particle)。 点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。2..线缺陷(一维缺陷):指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。 3.面缺陷:面缺陷又称为二维缺陷,是指在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。如晶界、相界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。 固体材料中最基本和最重要的晶体缺陷是点缺陷,包括本征缺陷和杂质缺陷等。 1.2.2、按缺陷产生的原因分类: 热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷、其它原因(如电荷缺陷,辐照缺陷等)。

晶体结构和晶体缺陷

第一部分晶体结构和晶体缺陷 1.原子的负电性的定义和物理意义是什么? 2.共价键的定义和特点是什么? 3.金刚石结构为什么要提出杂化轨道的概念? 4.V、VI、VII族元素仅靠共价键能否形成三维晶体? 5.晶体结构,空间点阵,基元,B格子、单式格子和复式格子之间的关系和区别。 6.W-S元胞的主要优点,缺点各是什么? 7.配位数的定义是什么? 8.晶体中有哪几种密堆积,密堆积的配位数是多少? 9.晶向指数,晶面指数是如何定义的? 10.点对称操作的基本操作是哪几个? 11.群的定义是什么?讨论晶体结构时引入群的目的是什么? 12.晶体结构、B格子、所属群之间的关系如何? 13.七种晶系和十四种B格子是根据什么划分的? 14.肖特基缺陷、费仑克尔缺陷、点缺陷、色心、F心是如何定义的? 15.棱(刃)位错和螺位错分别与位错线的关系如何? 16.位错线的定义和特征如何? 17.影响晶体中杂质替位几率的主要因素有哪些? 18.晶体中原子空位扩散系数D与哪些因素有关? 19.解理面是面指数低的晶面还是面指数高的晶面?为什么? 20.为什么要提出布拉菲格子的概念? 21.对六角晶系的晶面指数和晶向指数使用四指标表示有什么利弊? 第二部分倒格子 1.倒格子基矢是如何定义的? 2. 正、倒格子之间有哪些关系? 3.原子散射因子是如何表示的,它的物理意义如何? 4. 几何结构因子是如何表示的,它的物理意义如何? 5. 几何结构因子S h与哪些元素有关? 6.衍射极大的必要条件如何? 7.什么叫消光条件? 8.反射球是在哪个空间画的,反射球能起到什么作用,如何画反射球? 9.常用的X光衍射方法有哪几种,各有什么基本特点? 10.为什么要使用“倒空间”的概念?

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=,6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r 查表知Li r + +=0.68>0.301,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -),a=4.665;(3)ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙 28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg 2[SiO 4],K[AISi 3O 8],CaMg[Si 2O 6], Mg 3[Si 4O 10](OH)2,Ca 2Al[AlSiO 7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca 2Mg 5[Si 4O 11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg 2[Si 4O 10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O 键要比链5的Ca-O 、Mg-O 键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个 [SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。

第一章 金属的晶体结构习题答案

第一章 金属的晶体结构 (一)填空题 3.金属晶体中常见的点缺陷是 空位、间隙原子和置换原子 ,最主要的面缺陷是 。 4.位错密度是指 单位体积中所包含的位错线的总长度 ,其数学表达式为V L =ρ。 5.表示晶体中原子排列形式的空间格子叫做 晶格 ,而晶胞是指 从晶格中选取一个能够完全反应晶格特征的最小几何单元 。 6.在常见金属晶格中,原子排列最密的晶向,体心立方晶格是 [111] ,而面心立方 晶格是 [110] 。 7 晶体在不同晶向上的性能是 不同的 ,这就是单晶体的 各向异性现象。一般结构用金属 为 多 晶体,在各个方向上性能 相同 ,这就是实际金属的 伪等向性 现象。 8 实际金属存在有 点缺陷 、 线缺陷 和 面缺陷 三种缺陷。位错是 线 缺陷。 9.常温下使用的金属材料以 细 晶粒为好。而高温下使用的金属材料在一定范围内以粗 晶粒为好。 10.金属常见的晶格类型是 面心立方、 体心立方 、 密排六方 。 11.在立方晶格中,各点坐标为:A (1,0,1),B (0,1,1),C (1,1,1/2),D(1/2,1,1/2), 那么AB 晶向指数为10]1[- ,OC 晶向指数为[221] ,OD 晶向指数为 [121] 。 12.铜是 面心 结构的金属,它的最密排面是 {111} ,若铜的晶格常数a=0.36nm, 那么最密排面上原子间距为 0.509nm 。 13 α-Fe 、γ-Fe 、Al 、Cu 、Ni 、Cr 、V 、Mg 、Zn 中属于体心立方晶格的有 α-Fe 、Cr 、 V ,属于面心立方晶格的有 γ-Fe 、Al 、Cu 、Ni 、 ,属于密排六方晶格的有 Mg 、 Zn 。 14.已知Cu 的原子直径为0.256nm ,那么铜的晶格常数为 。1mm 3Cu 中的原子数 为 。 15.晶面通过(0,0,0)、(1/2、1/4、0)和(1/2,0,1/2)三点,这个晶面的晶面指数为 . 16.在立方晶系中,某晶面在x 轴上的截距为2,在y 轴上的截距为1/2;与z 轴平行,则 该晶面指数为 (140) . 17.金属具有良好的导电性、导热性、塑性和金属光泽主要是因为金属原子具有 金属键 的 结合方式。 18.同素异构转变是指 当外部条件(如温度和压强)改变时,金属内部由一种金属内部由 一种晶体结构向另一种晶体结构的转变 。纯铁在 温度发生 和 多晶型转变。 19.在常温下铁的原子直径为0.256nm ,那么铁的晶格常数为 。 20.金属原子结构的特点是 。 21.物质的原子间结合键主要包括 离子键 、 共价键 和 金属键 三种。 (二)判断题 1.因为单晶体具有各向异性的特征,所以实际应用的金属晶体在各个方向上的性能也是不 相同的。 (N) 2.金属多晶体是由许多结晶位向相同的单晶体所构成。 ( N) 3.因为面心立方晶体与密排六方晶体的配位数相同,所以它们的原子排列密集程度也相同 4.体心立方晶格中最密原子面是{111}。 Y 5.金属理想晶体的强度比实际晶体的强度高得多。N 6.金属面心立方晶格的致密度比体心立方晶格的致密度高。 7.实际金属在不同方向上的性能是不一样的。N 8.纯铁加热到912℃时将发生α-Fe 向γ-Fe 的转变。 ( Y ) 9.面心立方晶格中最密的原子面是111},原子排列最密的方向也是<111>。 ( N ) 10.在室温下,金属的晶粒越细,则其强度愈高和塑性愈低。 ( Y ) 11.纯铁只可能是体心立方结构,而铜只可能是面心立方结构。 ( N ) 12.实际金属中存在着点、线和面缺陷,从而使得金属的强度和硬度均下降。 ( Y ) 13.金属具有美丽的金属光泽,而非金属则无此光泽,这是金属与非金属的根本区别。N

第三章 晶体结构缺陷

第三章晶体结构缺陷 【例3-1】写出MgO形成肖特基缺陷的反应方程式。 【解】MgO形成肖特基缺陷时,表面的Mg2+和O2-离子迁到表面新位置上,在晶体内部留下空位,用方程式表示为: 该方程式中的表面位置与新表面位置无本质区别,故可以从方程两边消掉,以零O(naught)代表无缺陷状态,则肖特基缺陷方程式可简化为: 【例3-2】写出AgBr形成弗伦克尔缺陷的反应方程式。 【解】AgBr中半径小的Ag+离子进入晶格间隙,在其格点上留下空位,方程式为: 【提示】一般规律:当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗伦克尔缺陷。 【例3-3】写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程式。 【解】首先以正离子为基准,Na+离子占据Y3+位置,该位置带有2个单位负电荷,同时,引入的1个F -离子位于基质晶体中F-离子的位置上。按照位置关系,基质YF3中正负离子格点数之比为1/3,现在只引入了1个F-离子,所以还有2个F-离子位置空着。反应方程式为: 可以验证该方程式符合上述3个原则。 再以负离子为基准,假设引入3个F-离子位于基质中的F-离子位置上,与此同时,引入了3个Na+离子。根据基质晶体中的位置关系,只能有1个Na+离子占据Y3+离子位置,其余2个Na+位于晶格间隙,方程式为:

此方程亦满足上述3个原则。当然,也可以写出其他形式的缺陷反应方程式,但上述2个方程所代表的缺陷是最可能出现的。 【例3-4】写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程式。 【解】以正离子为基准,缺陷反应方程式为: 以负离子为基准,则缺陷反应方程式为: 这也是2个典型的缺陷反应方程式,与后边将要介绍的固溶体类型相对应。 【提示】通过上述2个实例,可以得出2条基本规律: (1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷。为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。 (2)高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷。为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。 【例3-5】TiO2在还原气氛下失去部分氧,生成非化学计量化合物TiO2-x,写出缺陷反应方程式。 【解】非化学计量缺陷的形成与浓度取决于气氛性质及其分压大小,即在一定气氛性质和压力下到达平衡。该过程的缺陷反应可用 或 方程式表示,晶体中的氧以电中性的氧分子的形式从TiO2中逸出,同时在晶体中产生带正电荷的氧空位和与其符号相反的带负电荷的来保持电中性,方程两边总有效电荷都等于零。可以看成是Ti4+被还原为Ti3+,三价Ti占据了四价Ti的位置,因而带一个单位有效负电荷。而二个Ti3+替代了二个Ti4+,

第一章 金属的晶体结构作业 答案

第一章金属的晶体结构 1、试用金属键的结合方式,解释金属具有良好的导电性、正的电阻温度系数、导热性、塑性和金属光泽等基本特性. 答:(1)导电性:在外电场的作用下,自由电子沿电场方向作定向运动。 (2)正的电阻温度系数:随着温度升高,正离子振动的振幅要加大,对自由电子通过的阻碍作用也加大,即金属的电阻是随温度的升高而增加的。 (3)导热性:自由电子的运动和正离子的振动可以传递热能。 (4) 延展性:金属键没有饱和性和方向性,经变形不断裂。 (5)金属光泽:自由电子易吸收可见光能量,被激发到较高能量级,当跳回到原位时辐射所吸收能量,从而使金属不透明具有金属光泽。 2、填空: 1)金属常见的晶格类型是面心立方、体心立方、密排六方。 2)金属具有良好的导电性、导热性、塑性和金属光泽主要是因为金属原子具有金属键的结合方式。 3)物质的原子间结合键主要包括金属键、离子键和共价键三种。 4)大部分陶瓷材料的结合键为共价键。 5)高分子材料的结合键是范德瓦尔键。 6)在立方晶系中,某晶面在x轴上的截距为2,在y轴上的截距为1/2;与z轴平行,则该晶面指数为(( 140 )). 7)在立方晶格中,各点坐标为:A (1,0,1),B (0,1,1),C (1,1,1/2),D(1/2,1,1/2),那么AB晶向指数为(ī10),OC晶向指数为(221),OD晶向指数为(121)。 8)铜是(面心)结构的金属,它的最密排面是(111 )。 9) α-Fe、γ-Fe、Al、Cu、Ni、Cr、V、Mg、Zn中属于体心立方晶格的有(α-Fe 、 Cr、V ),属于面心立方晶格的有(γ-Fe、Al、Cu、Ni ),属于密排六方晶格的有( Mg、Zn )。 3、判断 1)正的电阻温度系数就是指电阻随温度的升高而增大。(√) 2)金属具有美丽的金属光泽,而非金属则无此光泽,这是金属与非金属的根本区别。(×) 3) 晶体中原子偏离平衡位置,就会使晶体的能量升高,因此能增加晶体的强度。(× ) 4) 在室温下,金属的晶粒越细,则其强度愈高和塑性愈低。(×) 5) 实际金属中存在着点、线和面缺陷,从而使得金属的强度和硬度均下降。 (×) 6)体心立方晶格中最密原子面是{110},原子排列最密的方向也是<111> .(对) 7)面心立方晶格中最密的原子面是{111},原子排列最密的方向是<110>。 ( 对 ) 8)纯铁加热到912℃时将发生α-Fe向γ-Fe的转变,体积会发生膨胀。 ( 错 ) 9)晶胞是从晶格中任意截取的一个小单元。(错) 10)纯铁只可能是体心立方结构,而铜只可能是面心立方结构。 (错) 4、选择题 1)金属原子的结合方式是( C )

材料微观缺陷对材料性能的影响教学提纲

材料微观缺陷对材料性能的影响 随着社会的发展、时代的进步,人们的生活水平不断提高,生活品质也进一步提升,这对于材料的要求也不断地提高。这促使人们不断的深入研究材料的微观晶体结构,通过各种手段改善材料的各个方面的性能。晶体的生长、性能以及加工等无一不与缺陷紧密相关。因为正是这千分之一、万分之一的缺陷,对晶体的性能产生了不容小视的作用。这种影响无论在微观或宏观上都具有相当的重要性。 研究人员希望材料的晶体是理想的完整晶体,但是所有的自然和人工晶体不是理想晶体完整的,他们的许多特性并非由规则的原子排列决定,而是由不规则排列的晶体缺陷而决定。金属物理学家在研究金属的加工变形时就发现了晶体缺陷与金属的变形行为及力学性质有密切的关系。后来,材料科学家发现这类缺陷不仅控制着材料的力学性状,而且对材料的若干物理性质(如导电性、导热性等)有直接的影响,材料科学领域里逐渐发展了晶体缺陷理论,近10多年来人们开始认识到晶体的塑性变形完全取决于晶体缺陷。这些都是重要的生产、研究内容。那么材料的微观结构缺陷究竟对于材料的性能有哪些影响呢?本文将围绕此问题进行阐述。 一、什么是晶体缺陷? 大多数固体是晶体,晶体正是以其特殊的构型被人们最早认识。人们理解的“固体物理”主要是指晶体。在空间点阵中,用几何上规则的点来描述晶体中的原子排列,并连成格子,这些点被称为格点,格子被称为点阵,这就是空间点阵的基本思想,它是对晶体原子排列的抽象。空间点阵在晶体学理论的发展中起到了重要作用。可以说,它是晶体学理论的基础。现代的晶体理论基于晶体具有宏观平移对称性,并因此发展了空间点阵学说。严格地说对称性是一种数学上的操作,它与“空间群”的概念相联系,所谓平移对称性就是指对一空间点阵,任选一个最小基本单元,在空间三维方向进行平移,这个单元能够无一遗漏的完全复制所有空间格点。 在我们讨论晶体结构时,认为晶体的结构是三维空间内周期有序的,其内部质点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具有重要的理论研究意义和实际应用价值。在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置上,也就是平衡位置上。1926 年Frenkel 首先指出,在任一温度下,实际晶体的原子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷。 二、晶体中有哪些常见的缺陷类型? 缺陷是一种局部原子排列的破坏。按照破坏区域的几何形状,缺陷可以分为四类点缺陷、缺陷、面缺陷和体缺陷。 点缺陷:又称零维缺陷,缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,在三维方向上尺寸都很小(远小于晶体或晶粒的线度),典型代表有空位、间隙原子等。点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。 线缺陷:又称一维缺陷,指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生

第二章晶体结构与晶体中的缺陷

内容提要:通过讨论有代表性的氧化物、化合物和硅酸盐晶体结构, 用以掌握与本专业有关的各种晶体结构类型。介绍了实际晶体中点缺陷分 类;缺陷符号和反应平衡。固熔体分类和各类固熔体、非化学计量化学化 合物的形成条件。简述了刃位错和螺位错。 硅酸盐晶体结构是按晶体中硅氧四面体在空间的排列方式为孤岛状、组群状、链状、层装和架状五类。这五类的[SiO4]四面体中,桥氧的数目也依次由0增加到4, 非桥氧数由4减至0。硅离子是高点价低配位的阳离子。因此在硅酸盐晶体中,[SiO4] 只能以共顶方式相连,而不能以共棱或共面方式相连。表2-1列出硅酸盐晶体结构类型及实例。 表2-1 Array硅酸 盐晶 体的 结构 类型

真实晶体在高于0K的任何温度下,都或多或少地存在着对理想晶体结构的偏离,即存在着结构缺陷。晶体中的结构缺陷有点缺陷、线缺陷、面缺陷和复合缺陷之分,在无机材料中最基本和最重要的是点缺陷。 点缺陷根据产生缺陷的原因分类,可分为下列三类: (1)热缺陷(又称本征缺陷) 热缺陷有弗仑克儿缺陷和肖特基缺陷两种基本形式。 弗仑克儿缺陷是指当晶格热震动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗仑克儿缺陷。 肖特基缺陷是指如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,而在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。 (2)杂质缺陷(非本征缺陷) (3)非化学计量化学化合物 为了便于讨论缺陷反应,目前广泛采用克罗格-明克(Kroger-Vink)的点缺陷符号(见表2-2)。 表2-2 Kroger-Vink缺陷符号(以M2+X2-为例)

材料的晶体缺陷与力学性能

《材料的晶体缺陷与力学性能》课程教学大纲 课程英文名称:Defects of crystal and mechanical properties of materal 课程编号:0332292002 课程计划学时:32 学分:2 课程简介: 材料的组织、结构、性能及加工使用状况是现代材料科学与工程的四要素,在四要素关系中最基本的是结构和性能的关系。本课程就是研究各种晶体缺陷与力学性能之间的关系。它是材料物理专业学生必须掌握的一门基础课程。它的研究途径一是通过实验,二是总结生产实践的经验,三是建立材料基础理论,从理论上预计材料的结构和性能。该课程的实践性较强,而且随着新材料、新工艺的发展及新的研究方法和手段的拓展而不断发展,是与时俱进不断创新的。 一、课程教学内容及教学基本要求 第一章基础知识回顾 第一节引言 第二节晶体学的基础知识。 本节要求掌握晶体学的基础知识。主要内容:空间点阵、晶面指数和晶向指数、晶体结构及其几何特征。(考核概率50%)。 第二章晶体中的点缺陷与位错 本章重点是: 1.点缺陷的形成与平衡浓度; 2.柏氏矢量的确定,物理意义及守恒性; 3.位错的基本类型和特征; 4.分析归纳位错运动的两种基本形式:滑移和攀移的特点; 5.分析运动位错的交割 及其所形成的扭折或割阶不同情况;6.比较螺型位错与刃型位错二者应力场畸变能的异同点;7.作用于位错的组态力、位错的线张力、外加切应力、位错附近原子实际所受的力、 以及位错间的交互作用力相互之间的关系与区别;8.位错的增值机制;9.堆垛层错与不全 位错; 10.位错反应的条件; 11. Thompson四面体;12. 扩展位错的生成、宽度和运动;第一节点缺陷(考核概率30%) 第二节位错的基本类型和特征。(考核概率70%) 第三节位错运动的两种基本形式:滑移和攀移(考核概率70%) 第四节位错的增值机制(考核概率70%) 第五节堆垛层错与不全位错(考核概率70%) 第六节位错反应的条件;. 扩展位错的生成、宽度和运动(考核概率70%) 点缺陷的平衡浓度:

第二章 晶格振动和晶格缺陷

第二章 晶格振动和晶格缺陷 上一章里,把组成晶体的原子或离子看成是固定不动的,都处在其平衡位置上。实际晶体中的原子却是不停地在其平衡位置附近做热振动的,并且随着温度的升高,振动会不断加剧。这种热振动也称晶格振动,它会破坏晶格的周期性,在晶格中造成缺陷,从而对半导体的性质产生重要影响。实际三维晶体中原子的振动现象很复杂,我们只分析一维晶体(单原子和双原子链)的振动,然后将所得到的规律和结论推广到三维晶体中。 §2-1 一维均匀线的振动 为研究一维原子链的振动,首先复习一下一维均匀线中弹性波(纵波)的传播现象。设均匀线的质量密度为ρ,弹性模量为K ,又设线上每一点只能沿线本身的方向运动,如图2-1所示。 若在线段x ?上施加一作用力,它将引起x 点的纵向位移u (x )。此时在x 处的 相对伸长,即形变为x u x e ??=)(,在x x ?+处的形变则为x x u x e x x e ???+=?+22)()(。 因此在线元x ?上的作用力 []x x u K x e x x e K F x ???=-?+=?22)()( (2-1) 此作用力还可表示为线元质量x ?ρ乘上加速度22t u ??,即 22t u x F x ???=?ρ (2-2) 从而有 22t u ??=22 222x u x u K ??=??υρ (2-3) 式中,ρ υK = 是弹性波的传播速度(声波速度),与振动频率无关。(2-3)式 称线性振动方程,其解为具有如下形式的简谐波 [ ])(e x p ),(t qx i A t x u ω-= (2-4) 式中,A 为振幅,πνω2=为角频率,ν为振动频率,λ π 2=q 为波矢(波数 λ 1 π2?), λνυ=为波速,从而有 q υλπυπνω===/22 (2-5)

第一章晶体结构习题

第一章晶体结构习题 1、概念: 晶体,晶体结构,空间点阵,离子半径,离子极化,配位数,固溶体,合金 2、在正交简单点阵、底心点阵、体心点阵、面心点阵中分别画出(110)、(001两组晶面,并指出每个晶面上的结点数? 3、设有某一晶面在x、y、z三个坐标轴上的截距分别为1a,2b,3c,求该晶面符号? 4、在立方晶系中,一晶面在x轴的截距为1,在y轴的截距为1/2,且平行于z 轴,一晶向上某点坐标为x=1/2,y=0,z=1,求出其晶面指数和晶向指数,并绘图示之? 答:根据晶面和晶向指数的标定方法可知,题中晶面指数为(120),如图中ABCD,晶向指数为[102]如图中OP。 6、画出立方晶系中下列晶面和晶向:(010),(011),(111),(231),(321),[010],[011], [111],[231],[321]

7、什么叫离子极化?极化对晶体结构有什么影响? 在离子紧密堆积时,带电荷的离子所产生的电场必然要对另一离子的电子云发生作用(吸引或排斥),因而使这个离子的大小和形状发生了改变,这种现象叫离子极化。 极化会对晶体结构产生显著影响,主要表现为极化会导致离子间距离缩短,离子配位数降低,同时变形的电子云相互重叠,使键性由离子键向共价键过渡,最终使晶体结构类型发生变化. 8、氧化镁(MgO )与氯化钠(NaCl )具有相同结构。 求(1) MgO 的晶格常数;(2) MgO 的密度?(Ar(Mg)=24, Ar(O)=16) 解:(1) (2)每一个单位晶胞中含有4个Mg 2+及4个O 2-,1mol 的Mg 2+具有24g 的质量,1mol 的O 2-具有16g 的质量。 9、已知MgO 晶体中Mg 2+和O 2-在三维空间有规律地相间排列,其晶体结构相当于两套面心立方点阵互相套叠在一起,晶胞常数a=b=c=4.20, α=β=γ=90℃,请回 20.078Mg r nm +=20.132O r nm -=222()2(0.0780.132)0.396Mg O a r r nm +-=+=+=23233 3 7323 24164()4(2416) 6.0210 6.0210 4.28/(0.39610) 6.0210g g g cm a ρ-++??= = =???

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