光学光刻技术的发展历程及趋势

王相森

【期刊名称】《微处理机》

【年(卷),期】2002(000)004

【摘要】简述了IC生产加工中光学光刻技术的重要性,发展历程以及发展趋势,对非光学光刻技术的应用作了描述.

【总页数】2页(1-2)

【关键词】光刻技术;光学分辨率;准分子激光器;电子束曝光

【作者】王相森

【作者单位】东北微电子研究所,沈阳,110032

【正文语种】中文

【中图分类】TN4

【相关文献】

1.光学光刻技术现状及发展趋势 [J], 童志义

2.光学光刻和射线光刻技术的发展——参加ICO—17述评 [J], 冯伯儒

3.新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势 [J], 苏雪莲

4.从光刻机市场变化看光刻技术的发展趋势 [J], 莫大康

5.光学光刻仍是下一代ULS工规模生产的主导光刻技术 [J], 刘文辉

以上内容为文献基本信息，获取文献全文请下载