南大光电-半导体光刻胶行业投资分析

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宁波南大光电材料有限公司年产25吨ArF光刻胶产品的开发和产业化环境影响评价报告书

宁波南大光电材料有限公司年产25吨ArF光刻胶产品的开发和产业化环境影响评价报告书

宁波南大光电材料有限公司

年产25吨ArF(193nm)光刻胶产品

的开发和产业化

环境影响报告书

(征求意见稿)

浙江省工业环保设计研究院有限公司

Zhejiang Industrial Environmental Protection Design & Research Institute Co.,Ltd.

国环评证:甲字第2007号

2019年5月 1 一、 项目概况

1.1建设背景

为完善我国集成电路制造的产业链,打破高档光刻胶受制于人的局面,

为国内集成电路制造业提供合格的材料、优异的技术支持和客户服务,提高

我国集成电路产业的核心竞争力,为促进相关上游产业的发展,带动相关高

纯试剂及精细化工行业的发展,提高我国材料制造的整体水平,宁波南大光

电材料有限公司拟投资25000万元,设立“年产25吨ArF(193nm)光刻胶产品

的开发和产业化”项目。

1.2建设内容

本项目总占地面积33564平方米,建筑物占地面积为6285平方米,总建筑面

积为6891平方米。项目建设内容包括生产车间,仓库,生产辅助用房等,配套建

设给排水、供电系统等公用及辅助设施。本项目将会在北仑建立国内第一个ArF光

刻胶产业化基地,最终形成我国高档光刻胶的产业化平台。建成后形成年产ArF

(193nm)光刻胶产品25吨及光刻胶配套高纯试剂70吨的生产能力,其中光刻胶

产品包括年产5吨干式ArF光刻胶、年产20吨浸没式ArF光刻胶。

1.3原辅材料消耗情况

本项目原辅材料情况见表1-1。

表1-1 项目新增原辅料用量表 序号 名称 存储地点 年用量(吨)

1 丙二醇甲醚醋酸酯 原料库 30

2 丙二醇甲醚 原料库 20

3 环己酮 原料库 20

4 氯化钠 原料库 0.1

5 乙酸乙酯 原料库 2.12

6 甲苯 原料库 7.06

7 二氯甲烷 原料库 8.84

8 乙醚 原料库 8.2

9 盐酸(37%) 原料库二 0.095

10 AIBN 原料库 0.13

光刻胶卷土重来!盘点3只入选专精...

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先来看第一只,南大光电,目前市值272.35亿。

公司正在研发和产业化的是ArF光刻胶。长期以来,全球高端光刻胶市场被以日本合成橡胶、 东京应化、信越化学、富士电子材料等为代表的国外技术垄断,我国在该领域仍有大量品种短缺或空白。公司研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业客户认证,其余客户的认证工作正在积极推进。

大基金二期入股子公司宁波南大光电,投资款用于ArF光刻胶项目建设。

第二只,容大感光,目前市值,82.62亿。

公司一直致力于PCB感光油墨、光刻胶及配套化学品、特种油墨等感光电子化学品的研发、生产和销售。公司经过多年的自主研发和实践积累,掌握了树脂合成、光敏剂合成、配方设计及制造工艺控制等感光电子化学品核心技术。公司凭借先进的生产工艺、较为完整的产品系列及业界领先的产品性能确保了公司产品在市场竞争中保持领先地位。

容大感光的光刻胶应用领域目前主要包括:平板显示、发光二极管(LED)、集成电路芯片等领域。容大感光的光刻胶产品系列包括g/i线正性光刻胶、负性光刻胶及配套的化学品等。感

第三只,上海新阳,目前市值,151.18亿。

公司自主研发的KrF光刻胶产品已通过客户认证,并成功取得订单。公司承担的国家科技专项原创产品、用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已经取得批量化订单,累计收到订单3,000余万元,实现销售1350余万元,打破了该产品一直以来被国外公司垄断的状况,为我国发展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。

公司的研发投入总额为7653.95万元,占本期营业收入的比重为17.50%,其中半导体业务研发投入占半导体业务营收的比重为32.54%。在产品研发方面主要集中于集成电路制造用光刻胶、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液等项目,其中集成电路制造用光刻胶、氮化硅蚀刻液项目都已取得销售订单。

以上就是3只入选专精特新小巨人的光刻胶龙头。

南大光电:围剿下的突破

南大光电:围剿下的突破

56

第346期 2023年3月31日,日本政府宣布将限制23种半导体制造设备的出口。在1月底时,美国商务部便证实美国与荷兰、日本就限制芯片出口签署相关秘密协议,但至今依旧对见不得人的协议内容遮遮掩掩,不敢披露,而这次日本为虎作伥的意图可谓是十分明显。中国目前已经提出质疑,并要求相关方对协议内容作出澄清。近些年来外围的穷追不舍、围追堵截情况愈发严重,让国内不得不加快“卡脖子”产业自主替代与突破。在国家引导与扶持下,南大光电(300346.SZ)依托“02专项”193nm光刻胶及配套材料的研发项目正式布局关键被“卡脖子”技术领域(02专项即“十二五”期间国家16个重大专项排名第2的《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》项目),并成功研发出首只通过客户验证的国产高端ArF光刻胶。南大光电成立于2000年,主要业务方向为国家指引的重点半导体研发领域,聚焦“863计划”(863计划即国家高技术研究发展计划,是中国1986年3月提出由政府主导的一项高技术发展计划),经过多年发展奠定了公司业务基础,2006年公司经过股份制改革由国有属性变更为民营属性,并于2012年在深圳证券交易所创业板上市,往后发展历程中,公司依靠“02专项”相关技术正式确立公司在半导体材料领域的地位以及今后的发展方向。2023年3月17日晚,南大光电发布2022年年度报告,该年度实现营业收入为15.81亿元,同比增长60.62%,近6年营业收入平均增幅高达59%,归母净利润为1.87亿元,同比增长37.07%,同时公司拟向全体股东每10股派发现金0.70元(含税)。参考东方财富证券研究所2023年3月24日盈利预测与估值,预计南大光电2023年至2025年营业收入分别为18.30亿元、22.00亿元、25.30亿元,归母净利润为2.94亿元、3.86亿元、4.60亿元,归母净利润增速为57.43%、31.29%、19.29%,当期股价对应的PE为68.12倍、51.88倍、43.49倍,PEG为1.19、1.66、2.25。南大光电属于半导体产业链上游材料环节,受国产替代影响,国内半导体材料需求增速居全球首位,也是最大潜在市场,但该领域长期被国外企业垄断,国产自给率不到15%,公司置身于优质行业赛道,利用自身技术优势,能够充分享受行业红利期。主要产品为前驱体材料、电子特气和光刻胶及其配套材料,应用于半导体晶圆制造环节。前驱体材料主要有MO源类产品和半导体前驱体材料。其中MO源类产品开发出集技术、研发、生产、销售一体化平台,产品纯度≥6N(99.9999%),全面达到国际先进水平,在国内市场份额第一、全球市场份额第二,市占率约30%。营业收入规模比去年1.66亿元提高了0.47亿元,同比增长28.31%,维持了较快增速,毛利率40.16%,变动幅度不大。电子特气主要分为氢类电子及含氟电子特气,在氢类电子特气领域,公司通过承担“02专项”相关项目实现了高纯砷烷、磷烷等特种电子气体的产业化,打破了国外技术垄断;在含氟电子特气方面通过收购国内头部互联网金融

江苏南大光电材料股份有限公司介绍企业发展分析报告模板

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Enterprise Development Analysis Report

企业发展分析报告

江苏南大光电材料股份有限公司 专业 品质 权威

免责声明:

本报告通过对该企业公开数据进行分析生成,并不完全代表我方对该企业的意见,如有错误请及时联系;本报告出于对企业发展研究目的产生,仅供参考,在任何情况下,使用本报告所引起的一切后果,我方不承担任何责任:本报告不得用于一切商业用途,如需引用或合作,请与我方联系:

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江苏南大光电材料股份有限公司

1 企业发展分析结果

1.1 企业发展指数得分

企业发展指数得分

江苏南大光电材料股份有限公司综合得分

说明:企业发展指数根据企业规模、企业创新、企业风险、企业活力四个维度对企业发展情况进行评价。该企业的综合评价得分需要您得到该公司授权后,我们将协助您分析给出。

1.2 企业画像

类别 内容

行业 空

资质 增值税一般纳税人

产品服务 光电子及微电子材料的研究、开发、生产、销售

1.3 发展历程

3 2 工商

2.1工商信息

企业基本信息

企业名称:江苏南大光电材料股份有限公司

法定代表人:冯剑松 注册资本:54370.255万人民币

工商注册号:320000000015519 统一社会信用代码:91320000724448484T

企业性质:股份有限公司(上市) 成立日期:2000-12-28

营业期限:2000-12-28至无固定期限 经营状态:存续

注册地址:苏州工业园区胜浦平胜路67号

组织机构代码:72444848-4

纳税人资质:增值税一般纳税人

联系电话:051XXXX5209 联系邮箱:natainfo*

公司行业 (所属行业 一级行业分类 二级行业分类 三级行业分类):

计算机、通信和其他电子设备制造业-制造业-计算机、通信和其他电子设备制造业-电子器件制造

公司网址:空

经营范围:

光刻胶行业深度:行业壁垒、前景分析、产业链及相关公司深度梳理

光刻胶行业深度:行业壁垒、前景分析、产业链及相关公司深度梳理

光刻胶发展至今已有百年历史,现已广泛用于集成电路、显示、PCB等领域,是光刻工艺的核心材料。高壁垒和高价值量是光刻胶的典型特征。光刻胶属于技术和资本密集型行业,全球供应市场高度集中。而目前,我国光刻胶自给率较低,生产也主要集中在中低端产品,国产替代的空间广阔。随着国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破,未来国产替代进程有望加速。

下面我们通过对光刻胶概述、发展壁垒、相关政策、产业链及相关公司等方面进行深度梳理,试图把握光刻胶未来发展。

01

光刻胶行业概述

1.光刻是光电信息产业链中核心环节

光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将图形传递到介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术,是光电信息产业链中的核心环节之一。以芯片制造为例,在晶圆清洗、热氧化后,需通过光刻和刻蚀工艺,将设计好的电路图案转移到晶圆表面上,实现电路布图,之后再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程,最终在晶圆上实现特定的集成电路结构。 2.光刻胶是光电工艺核心材料

光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,是光刻工艺中最核心的耗材,其性能决定着光刻质量。作为图像转移“中介”,光刻胶是通过曝光显影蚀刻工艺发挥转移作用,首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上,然后紫外光通过掩膜版进行曝光,在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应,选择性改变其在显影液中的溶解度,未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护作用,从而将掩模版上的图形转移到基底上。 3.光刻胶分类

(1)按反应机理可分为正性和负性光刻胶

根据化学反应机理不同,光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。

正性光刻胶受光照射后,感光部分发生分解反应,可溶于显影液,未感光部分显影后仍留在基底表面,形成的图形与掩膜版相同。

负性光刻胶正好相反,曝光后的部分形成交联网格结构,在显影液中不可溶,未感光部分溶解,形成的图形与掩膜版相反。 (2)按应用领域可分为PCB、LCD、半导体光刻胶

半导体材料行业动态跟踪:行业龙头单季度业绩创历史新高,国产半导体材料有望持续受益

半导体材料行业动态跟踪:行业龙头单季度业绩创历史新高,国产半导体材料有望持续受益

-1- 2021年8月6日

行业研究

行业龙头单季度业绩创历史新高,国产半导体材料有望持续受益 ——半导体材料行业动态跟踪 基础化工 增持(维持) 分析师:赵乃迪 执业证书编号:S0930517050005 分析师:吴裕 执业证书编号:S0930519050005 联系人:周家诺 300 -10%4%17%31%45%07/2010/2001/2105/21基础化工沪深300 资料来源:Wind 事件1:8月5日晚,晶瑞电材(原晶瑞股份)发布公告,公司全资子公司晶瑞新能源科技有限公司(原名载元派尔森新能源科技有限公司)拟投资3亿元建设1万吨γ-丁内酯(GBL)及5万吨电子半导体级N-甲基吡咯烷酮(NMP)扩建项目。 事件2:8月5日,南大光电发布《向特定对象发行股票发行情况报告书》,本次公司向特定对象发行股票共募集资金6.13亿元,拟投资建设“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”、“ArF光刻胶产品的开发和产业化”、“扩建2000吨/年三氟化氮生产装置项目”等项目。 事件3:8月5日,中芯国际发布2021Q2未经审核业绩,2021Q2中芯国际实现营收13.44亿美元,环比增长21.8%,同比增长43.2%;实现归母净利润6.88亿美元,同比大幅增长398.5%。同时中芯国际给予2021Q3业绩指引,预计2021Q3营收环比增加2%~4%,毛利率介于32%~34%之间。 点评: 晶瑞电材扩产NMP,深化“半导体+新能源”双轨道。晶瑞电材(原“晶瑞股份”)发布公告拟投资3亿元扩产5万吨电子半导体级NMP及1万吨GBL。NMP具有化学稳定性好、热稳定性好、沸点高、低粘度、无腐蚀、挥发性低等优点。在半导体应用方面,NMP广泛应用于光刻胶剥离液和有机物清洗液中;在锂电应用方面,NMP一般作为正极涂布溶剂或导电剂浆料。伴随着国内下游半导体和新能源行业的快速发展,相关产品对于NMP的需求量持续提升,然而受限于NMP产品的扩产周期较长,国内NMP供给中短期来看较为紧缺,促使近期NMP价格不断上行。在当前NMP供给短缺的情形下,公司进一步扩大产品产能,有利于巩固公司行业地位。同时,NMP产品与公司现有的高纯试剂产品存在一定技术协同,而与现有的光刻胶产品存在产业配套关系。公司沿着“半导体+新能源”双轨道不断向前发展,未来成长空间广阔。 南大光电定增落地,有望进一步突破ArF光刻胶行业壁垒。南大光电此次定向发行正式落地,募集资金6.13亿元推进公司高端半导体光刻胶和电子特气项目建设。其中“先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化”与“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目共投入资金6.6亿元,使用募集资金1.5亿元。作为国内唯一一家ArF光刻胶通过客户认证的光刻胶企业,凭借此次的高端半导体光刻胶募投项目,公司有望进一步突破ArF光刻胶领域的技术壁垒并实现ArF光刻胶的量产,真正意义上填补国产光刻胶产品在此领域内的空白,带动国内半导体材料行业整体向前发展。 中芯国际实现历史单季度最高利润,印证半导体行业高景气度。中芯国际2021Q2业绩大幅增长,单季度实现归母净利润6.88亿美元,为有史以来的单季度最高值。同时,中芯国际2021Q2单季度毛利率达到30.1%,相较于2021Q1提升7.4个百分点,相较于2020Q2提升3.6个百分点。中芯国际归母净利润和产品毛利率的大幅提升,体现了2021年以来半导体行业景气度的不断上行。在全球芯片供应短缺但下游需求持续旺盛的背景下,半导体产业链景气度不断上行同时也不断向上游原材料行业企业进行传导,助力部分半导体材料企业实现量价齐升。 半导体“卡脖子”痛点,激励强化国家战略科技力量。集成电路的产业发展一直是我国的“卡脖子”问题之一,集成电路的产业链中有众多材料、装备、工艺制造技术与全球最为领先的水平存在有相当的差距,部分领域存在有明显的“受制于人”的问题。而为了解决当前半导体产业链多层面技术被“卡脖子”的问题,国家在“十

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