集成电路版图设计

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“集成电路版图设计”教学探索与实践

“集成电路版图设计”教学探索与实践

“集成电路版图设计”教学探索与实践【摘要】本文围绕着集成电路版图设计的教学探索与实践展开讨论。

在我们探讨了研究背景和研究意义,引出了本文的主题。

正文部分分为教学内容设计、教学方法探索、案例分析、教学效果评估和教学改进建议。

通过对这些方面的分析和讨论,我们可以全面地了解集成电路版图设计教学的现状和挑战。

结论部分结合实践经验,提出了集成电路版图设计教学的未来发展方向,总结了本文的研究成果,并展望了未来的发展前景。

整个文章系统地探讨了集成电路版图设计教学的问题,为相关教学工作提供了有价值的借鉴和参考。

【关键词】集成电路版图设计, 教学探索与实践, 教学内容设计, 教学方法探索, 案例分析, 教学效果评估, 教学改进建议, 未来发展方向, 结论总结, 展望, 研究背景, 研究意义.1. 引言1.1 研究背景集成电路设计是电子信息工程领域中的重要组成部分,它涉及到电路设计、工艺制造、功能验证等多个方面,是电子科学技术领域中的前沿研究领域之一。

随着科技的不断进步和电子技术的快速发展,集成电路设计在各个领域的应用越来越广泛,尤其是在数字电路、通信系统、嵌入式系统等方面扮演着至关重要的角色。

在集成电路设计领域,尤其是在版图设计方面,由于其专业性和复杂性,很多学生在学习过程中往往会遇到困难和挑战。

教师在教学过程中也面临一些问题,比如如何提高学生的学习兴趣,如何培养学生的实际操作能力等。

对于集成电路版图设计教学的探索与实践显得尤为重要。

本文旨在通过对集成电路版图设计教学的探索与实践,提出一些有效的教学方法和改进建议,以期为今后的教学实践提供一定的借鉴和参考。

通过本文的研究,希望能够探讨出一套适合学生学习和成长的集成电路版图设计教学模式,为培养更多优秀的电子信息工程人才做出贡献。

1.2 研究意义集成电路版图设计作为现代物理电子学科的重要内容,对学生掌握集成电路设计和实现的基本原理和方法具有重要的意义。

通过集成电路版图设计教学,可以培养学生的创新思维能力、工程实践能力和团队合作精神,提高学生的设计能力和实践能力,为他们未来的工程实践奠定坚实的基础。

集成电路设计3-版图设计

集成电路设计3-版图设计
它涉及到将电路元件和连接线转化为 几何图形,这些图形定义了半导体制 造过程中需要制造的结构。
版图设计的重要性
1
版图设计是集成电路制造过程中的关键环节,它 决定了集成电路的性能、功能和可靠性。
2
通过版图设计,可以将电路设计转化为实际制造 的物理结构,从而实现电路设计的目标。
3
版图设计的精度和质量直接影响到集成电路的性 能和制造良率,因此需要高度的专业知识和技能。
在芯片内部加入自测试模块,实现自动测试和 故障诊断。
可测性增强
通过增加测试访问端口和测试控制逻辑,提高芯片的可测性。
05
集成电路版图设计的挑 战与解决方案
设计复杂度挑战
总结词
随着集成电路规模不断增大,设计复杂 度呈指数级增长,对设计效率提出巨大 挑战。
VS
详细描述
随着半导体工艺的不断进步,集成电路设 计的规模越来越大,晶体管数量成倍增加 ,导致设计复杂度急剧上升。这不仅增加 了设计时间和成本,还对设计精度和可靠 性提出了更高的要求。
03
还需要考虑存储器的功耗和散热问题,以确保在各种应用场景下的稳 定运行。
04
高密度存储器版图设计需要具备高容量、高速、低功耗和高可靠性等 特点,以满足大数据、云计算等领域的需求。
THANKS FOR WATCHING
感谢您的观看
04
还需要考虑散热设计,以确保在高负载情况下CPU的 稳定运行。
案例二:低功耗MCU版图设计
低功耗MCU版图设计需要重点 关注功耗优化,采用低功耗工 艺和电路技术,如CMOS工艺
、低功耗逻辑门等。
还需要考虑低电压供电和电源 管理设计,以确保MCU在各种 应用场景下的稳定运行。
设计过程中需要优化芯片内部 结构和电路布局,降低芯片的

本科生课-集成电路版图设计-实验报告

本科生课-集成电路版图设计-实验报告

西安邮电大学集成电路版图设计实验报告学号:XXX姓名:XX班级:微电子XX日期:20XX目录实验一、反相器电路的版图验证1)反相器电路2)反相器电路前仿真3)反相器电路版图说明4)反相器电路版图DRC验证5)反相器电路版图LVS验证6)反相器电路版图提取寄生参数7)反相器电路版图后仿真8)小结实验二、电阻负载共源放大器版图验证9)电阻负载共源放大器电路10)电阻负载共源放大器电路前仿真11)电阻负载共源放大器电路版图说明12)电阻负载共源放大器电路版图DRC验证13)电阻负载共源放大器电路版图LVS验证14)电阻负载共源放大器电路版图提取寄生参数15)电阻负载共源放大器电路版图后仿真16)小结实验一、反相器电路的版图验证1、反相器电路反相器电路由一个PMOS、NPOS管,输入输出端、地、电源端和SUB 端构成,其中VDD接PMOS管源端和衬底,地接NMOS管的漏端,输入端接两MOS管栅极,输出端接两MOS管漏端,SUB端单独引出,搭建好的反相器电路如图1所示。

图1 反相器原理图2、反相器电路前仿真通过工具栏的Design-Create Cellview-From Cellview将反相器电路转化为symbol,和schemetic保存在相同的cell中。

然后重新创建一个cell,插入之前创建好的反相器symbol,插入电感、电容、信号源、地等搭建一个前仿真电路,此处最好在输入输出网络上打上text,以便显示波形时方便观察,如图2所示。

图2 前仿真电路图反相器的输入端设置为方波信号,设置合适的高低电平、脉冲周期、上升时间、下降时间,将频率设置为参数变量F,选择瞬态分析,设置变量值为100KHZ,仿真时间为20u,然后进行仿真,如果仿真结果很密集而不清晰可以右键框选图形放大,如图3所示。

图3 前仿真结果3、反相器电路版图说明打开之前搭建好的反相器电路,通过Tools-Design Synthesis-Laout XL新建一个同cell目录下的Laout文件,在原理图上选中两个MOS管后在Laout中选择Create-Pick From Schematic从原理图中调入两个器件的版图模型。

集成电路版图设计(适合微电子专业)

集成电路版图设计(适合微电子专业)

①了解工艺现状,确定工艺路线
确定选用标准pn结隔离或对通隔离工艺或等平面 隔离工艺。由此确定工艺路线及光刻掩膜版的块数。 由制版和光刻工艺水平确定最小接触孔的尺寸和 光刻套刻精度。光刻工艺的分辨率,即能刻蚀图形的 最小宽度,受到掩膜分辨率、光刻胶分辨率、胶膜厚 度、横向腐蚀等多因素的限制。套刻精度与光刻机的 精度和操作人员的熟练程度关系密切。
功能设计 设 计 逻辑设计 电路设计 功能图 逻辑图 电路图 符号式版图 , 版图

版图设计
12
举例:
功能描述 x=a’b+ab’ 的逻辑图
13
CMOS与非门的电路图
14
场SiO2
栅SiO2 栅SiO2
CMOS反相器的掩膜版图
15
版图设计就是按照线路的要求和一定 的工艺参数,设计出元件的图形并进行排 列互连,以设计出一套供IC制造工艺中使 用的光刻掩膜版的图形,称为版图或工艺 复合图。 版图设计是制造IC的基本条件,版图 设计是否合理对成品率、电路性能、可靠 性影响很大,版图设计错了,就一个电路 也做不出来。若设计不合理,则电路性能 和成品率将受到很大影响。版图设计必须 与线路设计、工艺设计、工艺水平适应。 版图设计者必须熟悉工艺条件、器件物理、 电路原理以及测试方法。 16
23
要了解采用的管壳和压焊工艺。封 装形式可分为金属圆筒塑(TO-5型)、扁 平封装型和双列直插型(DIP)等多种,管 芯压点分布必须和管壳外引脚排列相吻 合。当采用热压焊时,压焊点的面积只 需70μm×70μm,超声压焊需 100μm×100μm ~125μm×25μm,金丝 球焊需125μm ×125μm,金丝球焊牢固 程度高,金丝在靠近硅片压点处是垂直 的,可压到芯片纵深处(但必须使用温度 SiO2纯化层),使用起来很灵活。

集成电路版图设计

集成电路版图设计

02 集成电路版图设计基础
CHAPTER
电路设计基础
01
模拟电路设计
02
运算放大器
03
比较器
04
触发器
电路设计基础
01
数字电路设计
02
组合逻辑电路
时序逻辑电路
03
04
可编程逻辑电 路
版图设计基础
版图编辑软件 ICEDrawer
版图设计基础
01
Laker
02
P甩 Pro
版图设计规则
03
版图设计基础
管的形状和尺寸等。
案例二:低功耗模拟电路版图设计
总结词
通过优化模拟电路的版图设计,实现低功耗的目的, 以满足便携式电子设备和物联网等领域的需求。
详细描述
低功耗模拟电路版图设计需要考虑模拟电路的性能和 功耗等方面,同时还需要考虑噪声和失真等方面的因 素。为了实现低功耗的设计,需要采用优化的版图设 计方法,如使用低阻抗的走线、优化晶体管的形状和 尺寸等。
3
antenna effect simulation
物理验证基础 01
P/R/O/L/C分析
热学参数分析(T)
03
02
电学参数分析(P/R/O)
电磁兼容性分析(EMC)
04
03 集成电路版图设计技术
CHAPTER
逻辑电路版图设计
逻辑电路
逻辑电路是实现逻辑运算和逻辑控制的电路,分为组合逻 辑电路和时序逻辑电路。在版图设计中,需要考虑到电路 的复杂性、功耗、速度等因素。
提高芯片的可测试性。
可制造性版图设计实践
符合制造规范
遵循制造规范和流程,确保版图设计具有良好的可制 造性。

集成电路版图设计9——

集成电路版图设计9——

共用电源节点以节省面积; 确定源极连接和漏极连接所需接触孔的最小数目;
(栅长乘以栅宽,称为栅区),因为不能改变栅长 和栅宽,所以无法改变寄生电容。
但可以在不改变栅区大小的情况下减少寄生电阻—
—把晶体管分裂成小的晶体管,并将其并联,每个 晶体管的相同端必须被连接在一起,这样有效栅宽 没有改变,但寄生电阻减小了。
L
W



Ⅳ S G
D
源漏区共用
Ⅰ A B A Ⅱ B A Ⅲ B A Ⅳ B
KP KN
KN
n W
tox
W K L L
工艺设计规则
用特定工艺制造电路的物理掩膜版图都必须遵循一
系列几何图形排列的故则,这些规则称为版图设计 规则。
通过适度的图形排列可以得到较高的成品率,通过
将芯片上不同的器件进行高密度放置能得到更高的 面积利用率,但这两者常常是相互矛盾的。

接触和通孔:用于确定绝缘层上的切口(cut)。绝缘层用 于分隔导体层,并且允许上下层通过切口或“接触”孔进行 连接,像金属通孔或接触孔就是这类例子。在钝化层上为绑 定pad开孔则是接触层的另一种情况。
分层和连接(2)
注入层:这些层并不明确地规定一个新的分


层或者接触,而是去定制或改变已经存在的 导体层的性质。 绘图层:制版工艺所要求的最小数目的层 掩模层:生成光学掩膜 隔离层:隐含于掩模层之中 绘制的图形的方式——“多边形”(polygon) 和“线形”(path)
接口到该设计的各部分之间的电源电阻(电源线
的宽度、电源线网格); 与其他设计的接口(单元排列、与其他单元进行 无缝接合的单元设计); 阱接触孔和衬底接触孔通常都是连接到电源上的。

集成电路版图设计(反向提取与正向设计)

集成电路设计综合实验报告班级:微电子学1201班姓名:学号:日期:2016年元月13日一.实验目的1、培养从版图提取电路的能力2、学习版图设计的方法和技巧3、复习和巩固基本的数字单元电路设计4、学习并掌握集成电路设计流程二.实验内容1. 反向提取给定电路模块(如下图所示),要求画出电路原理图,分析出其所完成的逻辑功能,并进行仿真验证;再画出该电路的版图,完成DRC验证。

2. 设计一个CMOS结构的二选一选择器。

(1)根据二选一选择器功能,分析其逻辑关系。

(2)根据其逻辑关系,构建CMOS结构的电路图。

(3)利用EDA工具画出其相应版图。

(4)利用几何设计规则文件进行在线DRC验证并修改版图。

三.实验原理1. 反向提取给定电路模块方法一:直接将版图整体提取(如下图)。

其缺点:过程繁杂,所提取的电路不够直观,不易很快分析出其电路原理及实现功能。

直接提取的整体电路结构图方法二:将版图作模块化提取,所提取的各个模块再生成symbol,最后将symbol按版图连接方式组合成完整电路结构(如下图)。

其优点:使电路结构更简洁直观、结构严谨、层次清晰,更易于分析其原理及所实现的功能。

CMOS反相器模块CMOS反相器的symbolCMOS传输门模块 CMOS传输门的symbolCMOS三态门模块 CMOS三态门的symbolCMOS与非门模块 CMOS与非门的symbol各模块symbol按版图连接方式组合而成的整体电路经分析可知,其为一个带使能端的D锁存器,逻辑功能如下:①当A=1,CP=0时,Q=D,Q—=D—;②当A=1,CP=1时,Q、Q—保持;③当A=0,Q=0,Q—=1。

2.CMOS结构的二选一选择器二选一选择器(mux2)的电路如图所示,它的逻辑功能是:①当sel=1时,选择输入A通过,Y=A;②当sel=0时,选择输入B通过,Y=B。

二选一选择器(mux2)由三个与非门(nand)和一个反相器(inv)构成(利用实验1 的与非门和反相器symbol即可)。

集成电路版图设计岗位职责职位要求

集成电路版图设计岗位职责职位要求(实用版)编制人:______审核人:______审批人:______编制单位:______编制时间:__年__月__日序言下载提示:该文档是本店铺精心编制而成的,希望大家下载后,能够帮助大家解决实际问题。

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第14章集成电路版图设计PPT课件


• 完成一个反相器的版图设计
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版图设计中的相关主题
1. Antenna Effect 2. Dummy 的设计 3. Guard Ring 保护环的设计 4. Match的设计
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层次表示 含义
Nwell
N阱层
Active
N+或P+有源 区层
Poly 多晶硅层
Contact 接触孔层
Metal Pad
金属层
焊盘钝化 层
标示图
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2020/9/21
17
2020/9/21
Hale Waihona Puke N阱设计规则编 描 述尺
目的与作用


1.1 N阱最小宽 (1μ0m.) 保证光刻精度和器
• 设计规则是各集成电路制造厂家根据本身的工艺特点和技术水平而制定的。 因此不同的工艺,就有不同的设计规则。
• 掩膜上的图形决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。因此版图上的几何图
形尺寸与芯片上物理层的尺寸直接相关。
2020/9/21
13
版图几何设计规则
• 版图设计规则:是指为了保证电路的功能和一定的成品率而提出的一 组最小尺寸,如最小线宽、最小可开孔、线条之间的最小间距。
• 1.设计规则检查(DRC) • 2.版图寄生参数提取(LPE) • 3.寄生电阻提取(PRE) • 4.电气规则检查(ERC) • 5.版图与线路图比较程序(LVS)

《基于Tanner的集成电路版图设计技术》课件第一章 集成电路设计前沿技术

围绕移动互联网、信息家电、物联网、云计算、智能电网、智能监 控等战略性新兴产业和重点领域的应用需求,集成电路涵盖了智能终端 芯片、网络通信芯片、信息安全芯片、视频监控设备芯片、数字电视芯 片等类型芯片。
1.2集成电路设计行业概况
1.2.3 我国集成电路设计行业发展情况
我国集成电路设计行业的起步较晚,但是发展速度很快,过去10年 的年复合增长率达到了29%。2004~2014年中国集成电路设计企业销售额 及增速,如图1.2所示。
1.2集成电路设计行业概况
1.2.1 集成电路设计行业概况
集成电路设计行业是集成电路行业的子行业,集成电路行业包括集 成电路设计业、集成电路制造业、集成电路封装业、集成电路测试业、 集成电路加工设备制造业、集成电路材料业等子行业。集成电路设计行 业处于产业链的上游,主要根据终端市场的需求设计开发各类芯片产品, 兼具技术密集型和资金密集型等特征,对企业的研发水平、技术积累、 研发投入、资金实力及产业链整合运作能力等均有较高的要求。
1.2集成电路设计行业概况
1.2.3 我国集成电路设计行业发展情况
2015年排名 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10
厂商 Qualcomm OSR Avago/Broadcom
MTK Nvidia AMD Hisilicon(海思) Apple/TSMC Marvell Xilinx Spreadtrum(紫光展讯) 合计
1.2集成电路设计行业概况
1.2.2 集成电路设计行业的市场分类
集成电路按照应用领域大致分为标准通用集成电路和专用集成电路。 其中标准集成电路是指应用领域比较广泛、标准型的通用电路,如存储 器(DRAM)、微处理器(MPU)及微控制器(MCU)等;专用集成电 路是指某一领域会某一专门用途而设计的电路,系统集成电路(SoC) 属于专用集成电路。
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《集成电路版图设计》
课内实验
学院:信息学院
专业班级:
学号:
学生姓名:
指导教师:
模拟集成电路版图设计
集成电路版图是电路系统与集成电路工艺之间的中间环节,是一个不可少的重要环节。

通过集成电路的版图设计,可以将立体的电路系统变为一个二维的平面图形,再经过工艺加工还原于基于硅材料的立体结构。

因此,版图设计是一个上承的电路系统,下接集成电路芯片制造的中间桥梁,其重要性可见一斑。

但是,集成电路版图设计是一个令设计者感到困惑的一个环节,我们常常感到版图设计似乎没有什么规矩,设计的经验性往往掩盖了设计的科学性,即使是许多多年版设计经验的人有时候也说不清楚为何要这样或者那样设计。

在此,集成电路版图设计是一门技术,它需要设计者具有电路系统原理与工艺制造方面的基础知识。

但它更需要设计者的创造性,空间想象力和耐性,需要设计者长期工作的经验和知识的积累,需要设计者对日异月新的集成电路发展密切关注和探索。

一个优秀的版图设计者对于开发超性能的集成电路是极其关键的。

在版图的设计和学习中,我们一直会面临
匹配技术
降低寄生参数技术
熟悉电路作用(功能,频率)
电流密度的计算(大电流和小电流的电流路径以及电流流向)
等这些基本,它们也是最重要的问题。

版图的设计,从半导体制造工艺,到最后的后模拟过程都是非常关键
的,里面所涉及的规则有1500——2000条,一些基本问题的解决方法和设计的调理化都将在下面提及。

模拟集成电路版图设计流程:
阅读研究报告
理解电路原理图
了解电路的作用
熟悉电流路径晶大小
知道匹配器件
明白电路中寄生,匹配,噪声的产生及解决方案
对版图模块进行平面布局
对整个版图进行平面布局
熟练运用cadence软件进行版图绘制
Esd的保护设计
进行drc与lvs检查
整理整个过程中的信息时刻做记录
注意在设计过程中的交流
集成电路制造工艺双极工艺:
Cmos(p阱)工艺:
版图设计经验总结:
1 查看捕捉点设置是否正确.08工艺为0.1,06工艺为0.05,05工艺为0.025.
2 Cell名称不能以数字开头.否则无法做DRACULA检查.
3 布局前考虑好出PIN的方向和位置
4 布局前分析电路,完成同一功能的MOS管画在一起
5 对两层金属走向预先订好。

一个图中栅的走向尽量一致,不要有横有竖。

6 对pin分类,vdd,vddx注意不要混淆,不同电位(衬底接不同电压)的n 井分开.混合信号的
路尤其注意这点.
7 在正确的路径下(一般是进到~/opus)打开icfb.
8 更改cell时查看路径,一定要在正确的library下更改,以防copy过来的cell是在其他
library下,被改错.
9 将不同电位的N井找出来.
10更改原理图后一定记得check and save
11完成每个cell后要归原点
12 DEVICE的个数是否和原理图一至(有并联的管子时注意);各DEVICE的尺寸是否和原理图一至。

一般在拿到原理图之后,会对布局有大概的规划,先画DEVICE,(DIVECE之间不必用最小间距,根据经验考虑连线空间留出空隙)再连线。

画DEVICE后从
EXTRACTED中看参数检验对错。

对每个device器件的各端从什么方向,什么位置与其他物体连线必须先有考虑(与经验及floorplan的水平有关).
13如果一个cell调用其它cell,被调用的cell的vssx,vddx,vssb,vddb 如果没有和外层cell连起来,要打上PIN,否则通不过diva检查.尽量在布局低层cell时就连起来
14尽量用最上层金属接出PIN。

15接出去的线拉到cell边缘,布局时记得留出走线空间.
16金属连线不宜过长;
17电容一般最后画,在空档处拼凑。

18小尺寸的mos管孔可以少打一点.
19 LABEL标识元件时不要用y0层,mapfile不认。

20管子的沟道上尽量不要走线;M2的影响比M1小.
21电容上下级板的电压注意要均匀分布;电容的长宽不宜相差过大。

可以多个电阻并联.
22多晶硅栅不能两端都打孔连接金属。

23栅上的孔最好打在栅的中间位置.
24U形的mos管用整片方形的栅覆盖diff层,不要用layer generation 的方法生成U形栅.
25一般打孔最少打两个
26Contact面积允许的情况下,能打越多越好,尤其是input/output部分,因为电流较大.但如果contact阻值远大于diffusion则不适用.传导线越宽越好,因为可以减少电阻值,但也增加了电容值.
27薄氧化层是否有对应的植入层
28金属连接孔可以嵌在diffusion的孔中间.
29两段金属连接处重叠的地方注意金属线最小宽度
30连线接头处一定要重叠,画的时候将该区域放大可避免此错误。

附图:
参考文献:
1.《cmos模拟集成电路版图设计》
2.《半导体制造技术》
3.《集成电路版图基础》
4.《cmos circuit design,layout and simulation》
5.《the art of analog layout》。

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